TW202334782A - 可折疊顯示裝置之可撓性多層覆蓋透鏡堆疊 - Google Patents

Abstract

本揭露實施例涉及可撓性或可折疊的顯示設備，且更特別地關於可撓性覆蓋透鏡組件。在一個或多個實施例中，可撓性覆蓋透鏡組件包括：玻璃層、配置在玻璃層上的衝擊吸收層、配置在衝擊吸收層上的防潮層、配置在防潮層上的基板、具有介於約0.4 GPa至約1.5 GPa之奈米壓痕硬度且配置在基板上的濕硬塗層、配置在濕硬塗層上的黏性促進層、配置在黏性促進層上的抗反射層、具有介於約1GPa至約5GPa之奈米壓痕硬度且配置在抗反射層上的乾硬塗層，以及配置在乾硬塗層上的抗指紋塗層。

Description

可折疊顯示裝置之可撓性多層覆蓋透鏡堆疊

本發明是有關於一種可撓性或可折疊的顯示裝置，且特別是有關於一種可撓性或可折疊的覆蓋透鏡。

電子裝置通常具有諸如液晶顯示器（liquid crystal displays , LCDs）、有機發光二極管（organic light emitting-diode , OLED）顯示器及量子點（quantum dot , QD）顯示器的顯示裝置。這樣的顯示裝置可能是易碎的且對水分、壓力或顆粒污染敏感。通常來說，顯示裝置使用多層光學裝置使來自照明源的光上色(colorize)、偏振及遮擋。為了防止損壞下方的膜，以剛性的顯示裝置覆蓋透鏡(COVER LEN)層安裝在其它層上，以防止損壞下方的層。剛性顯示器覆蓋透鏡層會給電子裝置增加非預期的重量。雖然可省略覆蓋透鏡以減小裝置的尺寸及重量，但省略覆蓋透鏡會使顯示裝置容易受到刮損。

對於產品的新功能的日益增長的需求及開發新的且廣泛的應用，要求具有例如是可撓的新特性之更薄且更輕的透鏡基板。對於這些新的可撓或可折疊顯示裝置，覆蓋透鏡期望具有三個主要特性：(1）光學性能、(2）高硬度及(3）可撓性。良好的光學性能可確保良好的透光率及低的霧化程度(或混濁度，haze)。高硬度與耐刮性及耐磨性有關。覆蓋透鏡的可折疊性（例如，相對高的可撓性）是指具有足夠高的臨界應變(critical strain)，從而避免了在反覆彎曲及折疊時由於裂紋或分層(delamination)引起的失效。

傳統上，儘管覆蓋透鏡在應對前二種特性（例如，光學性能及硬度）方面表現優異，但是由於覆蓋透鏡的脆性，覆蓋透鏡在第三種特性（例如，可撓性或可折疊性）表現較差。為了提高可撓性，主要是通過減小玻璃的厚度或對材料進行化學改性來增加玻璃失效時的臨界應變。然而，已發現玻璃可作為覆蓋透鏡的材料，使得當玻璃失效時，必須更換整個覆蓋透鏡。覆蓋透鏡的替代解決方案可帶來優良的光學性能及可撓性，但通常容易磨損及刮損。一旦被刮損，則必須更換整個覆蓋透鏡。更換覆蓋透鏡需要特殊的專業知識、時間，且費用很高。

因此，需要用於可撓性或可折疊顯示器的改進的顯示器蓋透鏡。

本揭露實施例總體上涉及可撓性或可折疊的顯示裝置，且特別是有關於可撓性覆蓋透鏡組件。 在一個或多個實施例中，可撓性覆蓋透鏡組件包含玻璃層、配置在玻璃層上的黏性促進層、配置在黏性促進層上的抗反射層、具有介於約1 GPa至約5 GPa的奈米壓痕硬度且配置在抗反射層上的乾硬塗層，以及配置在乾硬塗層上的抗指紋塗層。

在一些實施例中，可撓性覆蓋透鏡組件包含玻璃層、配置在玻璃層上的基板、配置在基板上的黏性促進層、配置在黏性促進層上的抗反射層、具有介於約1 %至約7 %的孔隙率且配置在抗反射層上的乾硬塗層，以及配置在乾硬塗層上的抗指紋塗層。

在其它實施例中，可撓性覆蓋透鏡組件包含玻璃層、配置在玻璃層上的基板、具有介於約0.4 GPa至約1.5 GPa之間的奈米壓痕硬度且配置在基板上的濕硬塗層、配置在濕硬塗層上的抗反射層、配置在抗反射層上的黏性促進層，以及配置在黏性促進層上的抗指紋塗層。

一個或多個實施例中，可撓性覆蓋透鏡組件包含玻璃層、配置在玻璃層上的黏性促進層、具有介於約1 GPa至約5 GPa之間的奈米壓痕硬度且配置在黏性促進層的乾硬塗層，以及配置在乾硬塗層上的抗指紋塗層。

在一些實施例中，可撓性覆蓋透鏡組件包含玻璃層、配置在玻璃層上的基板、配置在基板上的黏性促進層、具有介於約1 %至約7 %的孔隙率且配置在黏性促進層上的乾硬塗層，以及配置在乾硬塗層上的抗指紋塗層。

在其它實施例中，可撓性覆蓋透鏡組件包括玻璃層、配置在玻璃層上的基板、具有介於約0.4 GPa至約1.5 Gpa之間的奈米壓痕硬度且配置在基板上的濕硬塗層、配置在濕硬塗層上的黏性促進層、具有介於約1  GPa至約5 GPa的奈米壓痕硬度且配置在黏性促進層上的乾硬塗層，以及配置在乾硬塗層上的抗指紋塗層。

在一個或多個實施例中，可撓性覆蓋透鏡組件包括基板、抗指紋塗層及配置在基板與抗指紋塗層之間的黏性促進層。

在一些實施例中，可撓性覆蓋透鏡組件包含基板、配置在基板上的黏性促進層、配置在黏性促進層上並且具有介於約1 %至約7%的孔隙率及介於約1GPa至約5GPa的奈米壓痕硬度的乾硬塗層，以及配置在乾燥硬塗層上的抗指紋塗層。

其它實施例中，可撓性覆蓋透鏡組件包括一基板、具有介於約0.4 GPa至約1.5 GPa之間的奈米壓痕硬度且配置在基板上的濕硬塗層、其配置在基板上；配置在濕硬塗層上的黏性促進層、具有介於約1 GPa至約5 GPa的奈米壓痕硬度且配置在黏性促進層上的乾硬塗層，以及配置在乾硬塗層上的抗指紋塗層。

在一個或多個實施例中，一種可撓性覆蓋透鏡組件，其包含玻璃層、配置在玻璃層上的衝擊吸收層、配置在衝擊吸收層上的防潮層、配置在防潮層上的基板、具有介於約0.4 GPa至約1.5 GPa之奈米壓痕硬度且配置在基板上的濕硬塗層、配置在濕硬塗層上的黏性促進層、配置在黏性促進層上的抗反射層、具有介於約1 GPa至約5 GPa之奈米壓痕硬度且配置在抗反射層上的乾硬塗層，以及配置在乾硬塗層上的抗指紋塗層。

在一些實施例中，可撓性覆蓋透鏡組件包含玻璃層、配置在玻璃層上的第一黏性促進層、具有介於約0.4 GPa至約1.5 GPa之奈米壓痕硬度且配置在第一黏性促進層上的的濕硬塗層、配置在濕硬塗層上的第二黏性促進層、具有介於約1 GPa至約5 GPa之奈米壓痕硬度且配置在第二黏性促進層上的乾硬塗層，以及配置在乾硬塗層上的抗指紋塗層。

在其它實施例中，可撓性覆蓋透鏡組件包含玻璃層；配置在玻璃層上的第一黏性促進層、具有約6 %至約10 %的孔隙率且配置在第一黏性促進層上的濕硬塗層、配置在濕硬塗層上的第二黏性促進層、具有介於約1 %至約7 %的孔隙率且配置在第二黏性促進層上的乾硬塗層、配置在乾硬塗層上的抗指紋塗層，其中可撓性覆蓋透鏡組件的臨界應變大於1 %至約15 %。

在一些實施例中，可撓性覆蓋透鏡組件包含基板、抗指紋塗層及配置在基板與抗指紋塗層之間的黏性促進層。在一些示例中，可撓性覆蓋透鏡組件更包括配置在黏性促進層與抗指紋塗層之間的乾硬塗層。在其它實施例中，可撓性覆蓋透鏡組件包括抗指紋塗層，黏性促進層和配置在黏性促進層與抗指紋塗層之間的乾硬塗層。

在一個或多個實施例中，可撓性覆蓋透鏡組件包括基板、配置在基板上的濕硬塗層、配置在濕硬塗層上的黏性促進層、配置在黏性促進層上的乾硬塗層，以及配置在乾硬塗層上的抗指紋塗層。

在其它實施例中，可撓性覆蓋透鏡組件包括玻璃層、配置在玻璃層上的黏性促進層、配置在黏性促進層上的第二或乾硬塗層，以及配置在乾硬塗層上的抗指紋塗層。在一個或多個示例中，可撓性覆蓋透鏡組件更包括配置在玻璃層與黏性促進層之間的基板。在其它示例中，可撓性覆蓋透鏡組件包括配置在基板與黏性促進層之間的濕硬塗層。

在一些實施例中，可撓性覆蓋透鏡組件包括黏性促進層、配置在黏性促進層上的抗反射層，配置在抗反射層上的乾硬塗層和佈置的抗指紋塗層在乾硬塗層上。在一些示例中，可撓性覆蓋透鏡組件還包括配置在黏性促進層上的玻璃層，其中黏性促進層配置在玻璃層與抗反射層之間。在其它示例中，可撓性覆蓋透鏡組件更包含配置在玻璃層與黏性促進層之間的基板。

在一個或多個實施例中，可撓性覆蓋透鏡組件包含玻璃層、配置在玻璃層上的基板、配置在基板上的濕硬塗層、配置在濕硬塗層上的抗反射層、配置在抗反射層上的黏性促進層，以及配置在黏性促進層上的抗指紋塗層。

在其它實施例中，可撓性覆蓋透鏡組件包含基板、配置在基板上的濕硬塗層、配置在濕硬塗層上的黏性促進層、配置在黏性促進層上的抗反射層、配置在抗反射層上的乾硬塗層，以及配置在乾硬塗層上的抗指紋塗層。

在一些實施例中，可撓性覆蓋透鏡組件包含玻璃層、配置在玻璃層上的基板、配置在基板上的濕硬塗層、配置在濕硬塗層上的黏性促進層、配置在黏性促進層上的抗反射層、配置在抗反射層上的乾硬塗層，以及配置在乾硬塗層上的抗指紋塗層。

在一個或多個實施例中，可撓性覆蓋透鏡組件包含玻璃層、配置在玻璃層上的衝擊吸收層、配置在衝擊吸收層上的基板、配置在基板上的黏性促進層、配置在黏性促進層上的抗反射層、配置在抗反射層上的乾硬塗層以及配置在乾硬塗層上的抗指紋塗層。在一些示例中，可撓性覆蓋透鏡組件更包括配置在基板與黏性促進層之間的濕硬塗層。

在其它實施例中，可撓性覆蓋透鏡組件包含衝擊吸收層、配置在衝擊吸收層上的基板、配置在基板上的濕硬塗層、配置在濕硬塗層上的黏性促進層、配置在黏性促進層上的抗反射層、配置在抗反射層上的乾硬塗層以及配置在乾硬層上的抗指紋塗層。在一個或多個示例中，可撓性覆蓋透鏡組件更包括配置在衝擊吸收層與基板之間的玻璃層。

在一些實施例中，可撓性覆蓋透鏡組件包含防潮層、配置在防潮層上的基板、配置在基板上的濕硬塗層、配置在濕硬塗層上的黏性促進層、配置在在黏性促進層上的抗反射層、配置在抗反射層上的乾硬塗層，以及配置在乾硬層上的抗指紋塗層。在一些示例中，可撓性覆蓋透鏡組件包含配置在防潮層和基板之間的衝擊吸收層。

在一個或多個實施例中，可撓性覆蓋透鏡組件包括防潮層、配置在防潮層上的衝擊吸收層、配置在衝擊吸收層上的基板、配置在基板上的黏性促進層、配置在黏性促進層上的抗反射層、配置在抗反射層上的乾硬塗層，以及配置在乾硬塗層上的抗指紋塗層。

在一個或多個實施例中，可撓且可更換的覆蓋透鏡堆疊包括第一可撓性覆蓋透鏡、第二可撓性覆蓋透鏡及配置在第一可撓性覆蓋透鏡與第二可撓性覆蓋透鏡之間的犧牲黏合層。第一可撓性覆蓋透鏡與第二可撓性覆蓋透鏡中各者是或包括本揭露的數個可撓性覆蓋透鏡組件中的任何一者，其中第一覆蓋透鏡與第二覆蓋透鏡是不同的。

在其它實施例中，顯示裝置包括本揭露的數個可撓性覆蓋透鏡組件的任一者及可撓性顯示結構，例如OLED顯示器或LCD顯示器。

為了對本發明之上述及其它方面有更佳的瞭解，下文特舉實施例，並配合所附圖式詳細說明如下：

本揭露實施例總體上涉及可撓性顯示裝置，且更特別地涉及包含具有多層膜堆疊的可撓性覆蓋透鏡的覆蓋透鏡組件。

第1圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的顯示裝置100的剖面圖。顯示裝置100包括配置在可撓性顯示結構或可撓性顯示堆疊（flexible display stack , FDS）104上的可撓性覆蓋透鏡組件102。可撓性覆蓋透鏡組件102包括玻璃層110、配置在玻璃層110上的衝擊吸收層（impact absorption layer , IAL）120、配置在衝擊吸收層120上的防潮層（moisture barrier layer）130、配置在防潮層130上的基板140、配置在基板140上的第一或濕硬塗層（wet hardcoat , HC）150、配置在濕硬塗層150上的黏性促進層（adhesion promotion layer , APL）160、配置在黏性促進層160上的抗反射（anti-reflectance , ARF）層170、配置在抗反射層170上的第二或乾硬塗（dry hardcoat, HC）層180及配置在乾硬塗層180上的抗指紋塗（anti-fingerprint coating, AFC）層190。在一個或多個示例中，濕硬塗層150可具有一介於約2H至約9H的鉛筆硬度範圍內、一介於約0.4GPa至約1.5GPa的奈米壓痕硬度（nano-indentation hardness）範圍內及一介於約6 %至約10 %的孔隙率（porosity），而乾硬塗層180具有一介於約2H至大約9H的鉛筆硬度範圍內及一介於約1GPa至約5GPa的的奈米壓痕硬度範圍及一介於約1 %至約7 %的孔隙率。

可撓性顯示結構（ Flexible Display Structure, FDS ）和玻璃層（ Glass Layer ）

FDS 104是一種可撓性顯示器結構或可撓性顯示器堆疊，其可以是或包括一個或多個發光二極體（LED）顯示器，一個或多個有機發光二極管（OLED）顯示器、一個或多個液晶顯示器（ LCD）、一個或多個量子點（QD）顯示器及其它類型顯示器。FDS 104可以是或包括一個或多個可撓性顯示器及/或一個或多個剛性顯示器。FDS 104可以是或包括其它類型的裝置，且可包含在監視器、顯示器、螢幕、電視、電話（例如，移動電話、智能電話（smart phone）或蜂巢式電話(cellular phone)）、電腦或筆記型電腦、平板電腦、手錶或或其它電子裝置。 在一些示例中，FDS 104可以是或包括在可折疊或可翻蓋式(flip)電話上的可折疊屏幕或可折疊顯示器。 在其它示例中，FDS 104可以是或包括可折疊筆記本電腦或可折疊平板電腦上的可折疊屏幕或可折疊顯示器。

在一個或多個實施例中，FDS 104可具有或可不具有做為作為上表面之顯示器玻璃層。在一些示例中，FDS 104不具有顯示器玻璃層作為上表面，而是包括玻璃層110。在其它示例中，FDS 104具有顯示器玻璃層（未繪示）作為上表面，且本文中所描述的可撓性覆蓋透鏡組件102或其它可撓性覆蓋透鏡組件中可省略了玻璃層110。在一些示例中，FDS 104具有顯示器玻璃層（未示出）作為上表面，且玻璃層110配置在FDS 104的顯示玻璃層上，此FDS 104位於本文所描述之可撓性覆蓋透鏡組件102或其它可撓性覆蓋透鏡組件中。

玻璃層110是或包括一層或多層，其包含光學透明或透明的玻璃。在一些示例中，玻璃層110包含一個或多個超薄玻璃層。玻璃層110具有大約5 、大約10 、大約15 、大約20 、大約30μm至大約40μm、大約50μm、大約60μm、大約70μm、大約80μm、大約70μm、大約90μm、大約100μm、大約120μm、大約150μm、約200μm或更大的厚度。例如，玻璃層110具有大約5μm至大約200μm、大約100μm至大約200μm、大約200μm至大約200μm、大約500μm至大約200μm、大約800μm至大約200μm、大約100μm至大約200μm、大約150μm至大約200μm、大約5μm至大約100μm、大約10μm至大約100μm、大約20μm至大約100μm、大約50μm至大約100μm、大約80μm至大約100μm、大約100μm至大約120μm、大約5μm至約80μm、約10μm至約80μm、大約20μm至大約80μm或大約50μm至大約80μm 的厚度。

衝擊吸收層（ IAL ）

衝擊吸收層120可以是或包括一層或多層，其是可彎曲的，可撓性的及/或可折疊的且用於吸收搖晃（shock）或衝擊（impact）。衝擊吸收層120包含一種或多種材料，所述材料可以是或包括醚氨基甲酸酯（ether urethane）、酯氨基甲酸酯（ester urethane）、脂肪族氨基甲酸酯（aliphatic urethane）、脂肪族聚氨酯（aliphatic polyurethane）、脂肪族聚酯氨基甲酸酯（aliphatic polyester urethane）、多硫化物熱固性（polysulfide thermoset）、聚酰胺（poly amide）、其共聚物（copolymers thereof）、其彈性體（elastomers thereof）或其組合。在一些示例中，衝擊吸收層120可以通過溶液（solution）沉積或以其它方式形成，且包括使用例如是棒塗（bar-coater），狹縫模具（slot-die）或其它方法的技術。在一個或多個實施例中，衝擊吸收層120可在一片對片處理系統（sheet-to-sheet processing system）或卷對卷處理系統（roll-to-roll processing system）中加工、形成及/或處理。例如，衝擊吸收層120可以通過一種或多種片對片或卷對卷製程技術沉積，塗覆或以其它方式形成在下方的表面、層或裝置上。

衝擊吸收層120在可見光範圍內具有約82%、約85%、約86%、約88%或約90%至約92%、約94%， 95%、約96%、約97%、約98%或約99%的光學透射率（optical transmission）。例如，衝擊吸收層120在可見光範圍內具有在約82%至約99%、約85%至約99%、約88%至約99%、約90%至約99%、約92%至約99%、約95%至約99%、約97%至約99%、約82%至約98%、約85%至約98%、約88%至約98%、約90%至約98%、約92%至約98%、約95%至約98%、約97%至約98%、約82%至約96%、約85%至約96%、約88% %至約96%、約90%至約96%、約92%至約96%、或約95%至約96%的光學透射率。

衝擊吸收層120的厚度為大約0.5μm、大約1μm、大約2μm、大約5μm、大約10μm、大約15μm、大約20μm或大約25μm至大約30μm、大約40μm、約50μm、約60μm、約70μm、約80μm、約90μm、約100μm、約120μm、約150μm、約200μm或更大。例如，衝擊吸收層120的厚度為大約0.5μm至大約200μm、大約1μm至大約200μm、大約5μm至大約200μm、大約10μm至大約200μm、大約20μm 至大約200μm、約35μm 至約200μm、約50μm至約200μm、約80μm至約200μm、約100μm至約200μm、約150μm至約200μm、約0.5μm至約150μm、大約1μm至大約150μm、大約5μm至大約150μm、大約10μm至大約150μm、大約20μm至大約150μm、大約35μm至大約150μm、大約50μm至大約150μm、大約80μm至約150μm、約100μm至約150μm、約125μm至約150μm、約0.5μm至約100μm、約10μm至約100μm、約5μm至約100μm、約10μm至約100μm、約20μm至約100μm、約35μm至約100μm、約50μm至約100μm或約80μm至約100μm。

在一個或多個示例中，衝擊吸收層120可以包括厚度小於100括厚的彈性體層，例如，大約是75μm或更小。 在一些示例中，衝擊吸收層120可以是狹縫模具塗覆（slot die coated）的模塑（cast）。

防潮層（ MBL ）

防潮層130可以是本質上（intrinsic）具有防潮性或防水性且是可彎曲的、可撓性的及/或可折疊的一層或多層薄膜、塗層或其它層。 在一些實施例中，防潮層130包含一個或多個一層或多層，例如濕氣及/或水氣阻擋層、高表面能層（例如，親水性）、平坦化層、封裝層（encapsulation layer）、 其數層的數個部分或其組合。 在一個或多個實施例中，防潮層130包含一種或多種材料，其可以是或包括氧化矽（silicon oxide）、氮化矽（silicon nitride）、氮氧化矽（silicon oxynitride）、其摻雜劑（dopant thereof）或其任意組合。

在一些實施例中，防潮層130包含單層，但也可以包括多層，例如2、3、4、5、6、7、8、9或更多數量子層。例如，防潮層130可包括多個包含於其中的子層，例如從大約2個子層到大約5個子層。在一個或多個示例中，防潮層130包含具有三個或更多個子層的膜堆疊，例如第一子層、第二子層和第三子層，其中第二子層配置在第一與第二子層之間。在一個示例中，膜堆疊是SiN / SiO / SiN堆疊，其中第一子層可以是或包括氮化矽，第二子層可以是或包括氧化矽，且第三子層包含氮化矽。防潮層130由一種或多種氣相沉積製程沉積或以其它方式產生，所述氣相沉積製程可以是或包括物理氣相沉積（PVD）、化學氣相沉積（CVD）、等離子體增強CVD（PE-CVD）、高密度等離子體CVD（HDP-CVD）、原子層沉積（ALD）、等離子體增強的ALD（PE-ALD）、其它真空或氣相沉積製程或其任意組合。在一個或多個實施例中，可以在片對片處理系統或卷對卷處理系統中形成、處理及/或以其它方式處理防潮層130。例如，防潮層130可通過一種或多種片對片或卷對卷製程技術沉積、塗覆或以其它方式形成在下面的表面、層或裝置上。

防潮層130具有大約5 nm、大約10 nm、大約20 nm、大約30 nm、大約40 nm或大約50 nm至大約60 nm、大約80 nm、大約100 nm、大約150 nm、約150 nm、約200nm、約250nm、約300nm、約400nm、約500nm、約600nm、約700nm或更大的厚度。例如，防潮層130具有約5nm至約700nm、約5nm至約500nm、約5nm至約400nm、約5nm至約350nm、約5nm至約300的厚度。 nm、約5 nm至約250 nm、約5 nm至約200 nm、約5 nm至約150 nm、約5 nm至約100 nm、約5 nm至約80 nm、約5 nm至約50 nm、約5 nm至約30 nm、約20 nm至約500 nm、約20 nm至約400 nm、約20 nm至約350 nm、約20 nm至約300 nm、約20 nm至約250 nm、約20約200nm至約200nm、約20nm至約150nm、約20nm至約100nm、約20nm至約80nm、約20nm至約50nm、約20nm至約30nm、約50nm至約500 nm、約50 nm至約400 nm、約50 nm至約350 nm、約50 nm至約300 nm、約50 nm至約250 nm、約50 nm至約200 nm、約50 nm至約150大約50nm至大約100nm、或大約50nm至大約80nm的厚度。

防潮層130具有約1有約0 ^-6g/m ²/天、約1g約0 ^-5g/m ²/天、約1// ^-4g/m ²/天、或約1約TR ^-3g/m ²/天至約1至約R ^-2g/m ²/天、約0.1 g/m ²/天、約0.5 g/m ²/天、約1 g/m ²/天、約5 g/m ²/天、或約10 g/m ²/天的水蒸氣傳送率（water vapor transport rate, WVTR）。例如、防潮層130的WVTR在約1約TR ^-6g/m ²/天至約10 g/m ²/天、約1/10 ^-5g/m ²/天至約10 g/m ²/天、約1/ m ^-4g/m ²/天至約10 g/m ²/天、約1g / ^-3g/m ²/天至約1 g/m ²/天、約1/g ^{- 2}g/m ²/天至約10 g/m ²/天、約0.1 g/m ²/天至約10 g/m ²/天、約0.5 g/m ²/天至約10 g/m ²/天、約g/m ²/天至約10 g/m ²/天、約1/ / ^-6g/m ²/天至約1 g/m ²/天、約1/ / ^-5g/m ²/天至約1 g/m ²/天、約1/ / ^-4g/m ²/天至約1 g/m ²/天、約1/ / ^-3g/m ²/天至約1 g/m ²/天、約1/10 ^-2g/m ²/天至約1 g/m ²/天、約0.1 g/m ²/天至約1 g/m ²/天、或約0.5 g/m ²/天至約1 g/m ²/天。

防潮層130在可見光範圍內具有約82%、約85%、約86%、約88%或約90%至約92%、約94%、 95%、約96%、約97%、約98%或約99%的光學透射率。例如、防潮層130在可見光範圍內的光學透射率是大約82%至大約99%、大約85%至大約99%、大約88%至大約99%、大約90%至大約99、約92%至約99%、約95%至約99%、約97%至約99%、約82%至約98%、約85%至約98%、約88%至約98%、約90%至約98%、約92%至約98%、約95%至約98%、約97%至約98%、約82%至約96%、約85%至約96%、約88% %至約96%、約90%至約96%、約92%至約96%、或約95%至約96%。

基板

基板140可以是或包括一個或多個可撓性塑料或聚合物基板。基板140可以是透明的和/或無色的（colorless）。基板140包含一種或多種材料，其可以是或包括聚對苯二甲酸乙二酯（polyethylene terephthalates, PET）、三乙酰纖維素（triacetylcelluloses、聚碳酸酯（polycarbonates）、聚酰亞胺（polyimides）、無色聚酰亞胺（polyimides, colorless polyimides, CPI）、聚酰胺（polyamides）、聚硫化物（polysulfides）、聚甲基丙烯酸甲酯（polymethacrylic acid methyl esters）、聚醚醚酮（polyether ether ketones）、聚芳基醚酮（polyaryletherketones）、透明導電聚酯（transparent conductive polyesters）、其共聚物（copolymers thereof）、其彈性體（elastomers thereof）或它們的任何組合。

基板140具有大約1有大、大約2約大、大約5約大、大約10大約、大約15大約、大約20大約或大約25約約至大約30約約、大約40約約、大約50約約、大約60度約、大約70度約、大約80度約、大約90度約、大約100約2、大約120約2、大約150約2、大約200約2或更大的厚度。例如，基板140具有大約5有大至大約200約2、大約100約至大約200約2、大約200約至大約200約2、大約500約至大約200約2、大約800約至大約200約2的厚度、約5厚度至約100約2、約100約至約100約2、約200約至約100約2、約300約至約100約2、約500約至約100約2、約800約至約100約2、約5 0約至約800約、約100約至約800約、約200約至約800約、約300約至約800約、約500約至約800約、約600約至約800約、約500至約500約、約100約至約500約、約200約至約500約或約300約至約500約的厚度。

第一或濕硬塗層（ WHC ）

在一個或多個實施例中，濕硬塗層150可以是或包括一個或多個濕硬塗層。濕硬塗層150可以是或包括一種或多種丙烯酸酯（acrylates）、一種或多種溶膠凝膠（solgels）、一種或多種矽氧烷（siloxanes）、其一種或多種共聚物、一種或多種彈性體或其任何組合。在一個或多個實施例中，濕硬塗層150包含或為丙烯酸酯，其可以為或包括可輻射固化的丙烯酸酯、脂肪族氨基甲酸酯丙烯酸酯（aliphatic urethane acrylate）、其共聚物、其彈性體或其任何組合。例如，濕​​硬塗層150包含或為熱固化的丙烯酸酯和/或UV（紫外光）固化的丙烯酸酯。

濕硬塗層150由於透過使用液體型介質（liquid-type media）或起始材料（starting material）的一種液體沉積製程沉積或以其它方式形成而獲得了其名稱的「濕」部分。一旦沉積或以其它方式形成，濕硬塗層150是完全乾燥或基本上乾燥的固體層。濕硬塗層150可以由凝膠（gel）、旋塗（spin-coating），溶液（solution），懸浮液（suspension）或其任何組合製成。在一些實施例中，凝膠、溶液或懸浮液包含一種或多種溶劑，在其它實施例中，凝膠，溶液或懸浮液不包含溶劑，例如完全或基本上不含溶劑。在一個或多個實施例中，濕硬塗層150可以在片對片處理系統或卷對卷處理系統中形成、處理和/或以其它方式處理。例如，濕​​硬塗層150可以通過一種或多種片對片或卷對卷製程技術沉積、塗覆或以其它方式形成在下方的表面，層或裝置上。

在一個或多個實施例中，濕硬塗層150包含在有機基質（organic matrix）或無機基質（inorganic matrix）內放置或以其它方式配置的多個無機奈米顆粒（inorganic nanoparticles）或其它顆粒。在一些示例中，濕硬塗層150包含熱固化（thermally-cured）或UV固化（or UV-cured s）的丙烯酸酯（acrylates）或溶膠-凝膠（sol-gels），其中有機基質散佈或分佈有無機奈米顆粒，作為填充物嵌入或共價鍵結至有機基質。示例的無機顆粒可以是或包括二氧化矽、氧化鋁、氧化鈦、氧化鋯、氧化鉿（ hafnium oxide）或其任何組合。無機顆粒可以是奈米顆粒，且具有約1 nm至約500 nm、約5nm至約100nm或約10nm至約50nm的粒徑。濕硬塗層150可包括約40重量百分比(wt %)、約45 wt %或約50 wt %至約55 wt %、約60 wt %、約65 wt %、約70 wt %或約75 wt %的無機顆粒或其它顆粒。例如，濕​​硬塗層150可包含約40 wt %至約75 wt %、約40 wt %至約70 wt %或約45 wt %至約65 wt %的無機顆粒或其它顆粒。

濕硬塗層150具有約1.40、約1.42、約1.43、約1.45或約1.46至約1.48、約1.50、約1.51、約1.52、約1.54、約1.55或更大的折射率。例如，濕​​硬塗層150的折射率為約1.40至約1.55、約1.40至約1.53、約1.40至約1.51、約1.40至約1.50、約1.40至約1.48、約1.40至約1.46、 1.40至約1.45、約1.40至約1.43、約1.43至約1.55、約1.43至約1.53、約1.43至約1.51、約1.43至約1.50、約1.43至約1.48、約1.43至約1.46、約1.43至約1.45、約1.45至約1.55、約1.45至約1.53、約1.45至約1.51、約1.45至約1.50、約1.45至約1.48或約1.45至約1.46。在一些示例中，濕硬塗層150具有約1.40至約1.55、或約1.43至約1.51的折射率。

濕硬塗層150可以具有約0.1 、約0.2 、約0.5 、約0.6 、約0.8 、約1 、約1.2 、約1.5 、約1.8 、約1 、2μm、約3 、約5 、約10 、約15 或約20 至約25 、約30 、約35 、約40 、約50 或更厚的厚度。例如，濕​​硬塗層150的厚度可為約0.1 至約50 、約0.1 至約40 、約0.1 至約35 、約0.1 至約30 、約0.1 至約 25 、約0.1 至約20 、約0.1 至約15 、約0.1 至約10 、約0.1 至約5 、約0.1 至約2 、約0.1 至約1 、大約0.5 至大約50 、大約0.5 至大約40 、大約0.5 至大約35 、大約0.5 至大約30 、大約0.5 至大約25 、大約0.5 至大約20 、大約0.5mm至約10 、約0.5 至約5 、約0.5 至約2 、約1 至約50 、約1 至約40 、約1 至約35 、約1 至約30 、約1 至約25 、約1 至約20 、約1 至約10 、約1 至約5 、約1 至約3 、約5 至約50 、約5 至約40 、約5 至約35 、約5m至約30 、約5 至約25 、約5至約20 、約10 至約50 、約10 至約40 、約10 至約35 、約10 至約30 、約10 至約25 、或大約10 至大約20 。在一個或多個實施例中、濕硬塗層150的厚度在約0.5在約 至約40 在的範圍內。

濕硬塗層150具有大約5%、大約6%、大約6.5%、大約7%或大約7.5%至大約8%、大約8.5%、大約9%、大約9.5%、大約5%、約10%、約11%、約12%或約15%的孔隙率，其使用橢偏儀(Ellipsometry)測得。例如、濕​​硬塗層150具有大約5%至大約12%、大約6%至大約12%、大約6%至大約11%、大約6%至大約10.5%、大約6%至大約10、約6%至約9.5%、約6%至約9%、約6%至約8.5%、約6%至約8%、約6%至約7.5%、約6%至約7%、約7%至約12%、約7%至約11%、約7%至約10.5%、約7%至約10%、約7%至約9.5%、約7%至約9%、約7 %至約8.5%、約7%至約8%、約7%至約7.5%、約8%至約12%、約8%至約11%、約8%至約10.5%、約8%至約10%、約8%至約9.5%、約8%至約9%或約8%至約8.5%的孔隙率，其使用橢偏儀測得。

濕硬塗層150可具有基於鉛筆硬度等級的約2H、約3H、約4H、約5H、或約6H至約7H、約8H或約9H的鉛筆硬度。例如，濕​​硬塗層150可以具有基於鉛筆硬度等級的約2H至大約9H、大約3H至大約9H、大約4H至大約9H、大約5H至大約9H、大約6H至大約9H、大約7H至大約9H、約2H至約8H、約3H至約8H、約4H至約8H、約5H至約8H、約6H至約8H、約7H至約8H、約2H至約7H、約3H至約7H、約4H至約7H、約5H至約7H、約6H至約7H、約6H至約9H、約7H至約9H、約8H至約9H、約6H至約8H或約7H至約8H的鉛筆硬度標尺。在一或多個實施例中，濕硬塗層150具有約6H至約9H的鉛筆硬度。

在一個或多個實施例中，濕硬塗層150在濕硬塗層150之跨厚度(across a thickness)上具有奈米壓痕硬度，其範圍為約0.1Gpa、約0.5GPa、約0.8GPa、約1GPa、大約1.2 GPa、大約1.5 GPa或大約1.8 GPa至大約2 GPa、大約2.2 GPa、大約2.5 GPa、大約2.8 GPa、大約3 GPa、大約3.5 GPa、大約4 GPa、大約4.5 GPa、大約5 GPa或更大，其使用奈米壓痕技術（nano-indentation technique）測得、該技術依循針對材料的機械性特徵的Oliver-Pharr壓痕方法。在一些示例中、濕硬塗層150在濕硬塗層150的跨厚度上具有奈米壓痕硬度，範圍為約0.1GPa至約5GPa、約0.5GPa至約5GPa、約1GPa至約5GPa、約1.5 GPa至約5 GPa、約2 GPa至約5 GPa、約2.5 GPa至約5 GPa、約3 GPa至約5 GPa、約3.5 GPa至約5 GPa、約4 GPa至約5 GPa、大約4.5 GPa至大約5 GPa、大約1.5 GPa至大約5 GPa、大約1.5 GPa至大約4.5 GPa、大約1.5 GPa至大約4 GPa、大約1.5 GPa至大約3.5 GPa、大約1.5 GPa至大約3 GPa、大約0.1 GPa至約4 GPa、約0.5 GPa至約4 GPa、約1 GPa至約4 GPa、約1.5 GPa至約4 GPa、約2 GPa至約4 GPa、約2.5 GPa至約4 GPa、約3 GPa至約4 GPa、約3.5 GPa至約4 GPa、約0.1 GPa至約3 GPa、約0.5 GPa至約3 GPa、約1 GPa至約3 GPa、約1.5 GPa至約3 GPa、約2 GPa至約3 GPa、約2.5 GPa至約3 GPa或約1 GPa至約2 GPa，其可使用奈米壓痕技術測得。

濕硬塗層150具有大約1mm至大約5mm的彎曲內半徑、大約5mm至大約20mm的彎曲外半徑，及大約85%至大約98%、大約88%、約95%或約90%至約92%的的透射率（transmittance），以及約-20 至約80 的熱阻（thermal resistance）。在一個或多個示例中，濕硬塗層150可以使用紫外線輻射、熱固化製程、電子束製程和/或具有等離子體的真空沉積製程來固化。濕硬塗層150可具有約90%至約99.99%的ASTM D1003的透射率、小於1%的ASTM D10003的霧度（haze）及小於0.5%的ASTM D1044的砂紙磨耗（sandpaper abrasion）。

黏性促進層（ APL ）

黏性促進層160可以是或可以包括單層或可以包括多層。在黏性促進層160包含二層或更多層的實施例中，黏性促進層160以在層在跨厚度上具有一致的組成，或者可以在厚度具有梯度組成。跨厚度上的梯度組成（gradient composition）在黏性促進層160的跨厚度上提供梯度性質（例如，硬度、彈性模數（elastic modulus）或碳濃度）。在一個或多個示例中，黏性促進層160的硬度值為黏性促進層160的彈性模數值（elastic modulus value）的約10%~約15%。

黏性促進層160包含一種或多種材料，其可以是或包括氧化矽（silicon oxide）、碳化矽（silicon carbide）、碳氧化矽（silicon oxycarbide）、氮化矽（silicon nitride）、氮氧化矽（silicon oxynitride）、碳氧化矽氮化物（silicon oxycarbide nitride）、其摻雜劑或其任意組合。黏性促進層160可以通過一種或多種氣相沉積製程沉積或以其它方式產生，所述氣相沉積製程可以是或包括PVD、濺鍍、CVD、PE-CVD、HDP-CVD、ALD、PE-ALD、其它真空或氣相沉積製程，或其任何組合。在一個或多個實施例中，可在片對片處理系統或卷對卷處理系統中形成、處理及/或以其它方式處理黏性促進層160。例如，黏性促進層160可以通過一種或多種片對片或卷對卷製程技術沉積、塗覆或以其它方式形成在下方的表面、層或裝置上。

在一個或多個示例中，可以在氣相沉積製程中由一種或多種矽前驅物（silicon precursor）及一種或多種氧化劑沉積或以其它方式產生黏性促進層160。在沉積出一堆疊的各子層後，於氣相沉積製程中可調整矽前驅物與氧化劑的比例。這些調整用於控制所需的提度（gradient）屬性。矽前驅物可以是或包括一種或多種烷基矽烷（alkylsilanes）、烷氧基矽烷（alkoxysilanes）、烷基矽氧烷（alkylsiloxanes）、烷基矽氮烷（alkylsilazanes）或其任何組合。氧化劑可以是或包括氧、臭氧（ozone）、等離子體氧（plasma oxygen）、原子氧（oxygen）、水或蒸氣、一氧化二氮（nitrous oxide）、過氧化物（peroxide）或其任何組合。

在一個或多個示例中，黏性促進層160可以是非梯度層（non-gradient layer）或膜。在其它示例中，黏性促進層160可以是其中包含2個或更多個子層的梯度層或膜。例如，黏性促進層160可以包含2、3、4或5個子層至6、7、8、9、10或更多個子層。在一些示例中，黏性促進層160可以包含2個子層至10個子層、2個子層至8個子層、2個子層至7個子層、2個子層至6個子層、2個子層至5個子層、2個子層至4個子層、2個子層至3個子層、3個子層至10個子層、3個子層至8個子層、3個子層至7個子層、3個子層至6個子層、3個子層至5個子層、3個子層至4個子層、4個子層至10個子層、4個子層至8個子層、4個子層至7個子層、4個子層至6個子層或4個子層至5個子層。

在一些實施例中，黏性促進層160在黏性促進層160的跨厚度上具有碳濃度的梯度。黏性促進層160包含其中的多個子層。黏性促進層160可包括2、3、4或5個子層至6、7、8、9、10、12或更多個子層。在一些示例中，多個子層包含在黏性促進層160之跨厚度上具有碳濃度梯度，及/或在黏性促進層160之跨厚度具有硬度梯度，及/或在黏性促進層160之跨厚度上具有彈性模數梯度。

在一個或多個示例中，黏性促進層160包含五個具有不同硬度（H）的子層，以在黏性促進層160之跨厚度上產生梯度變化。在一個或多個示例中，這五個子層包括：第一層： H =約0.5~0.9 GPa;第2層：H =約0.8~1.3 GPa；第三層H =約1.2~2.4 GPa;第四層H ＝約2.0~2.8GPa；第五層H ＝約2.0~2.9GPa。在其它示例中，五個子層包括：第一層：H =大約0.7~0.9 GPa；第二層：H =約1.1~1.3 GPa；第三層H ＝約1.9~2.4GPa（另一個例子H ＝約2.2~2.4GPa）；第四層H =約2.6~2.8 GPa;第五層H ＝約2.7~2.9GPa。

在一個或多個實施例中，多個子層中的各子層可以在，如通過奈米壓痕技術所測得，大約0.1 Gpa、大約0.5 GPa、大約0.8 Gpa、1 GPa至約1.5 GPa、約2 GPa、約2.5 GPa、約3 GPa、約3.5 GPa、約4 GPa、約4.5 GPa、約5 GPa或更高大的範圍內，獨立地具有黏性促進層160在跨厚度上的奈米壓痕硬度，該奈米壓痕技術依循針對材料的機械性特徵的Oliver-Pharr壓痕方法。在一些示例中，多個子層中的各子層可以在，如通過奈米壓痕技術測得，大約0.1GPa至大約5Gpa、大約0.1GPa至大約4GPa、約0.1 Gpa至約3 GPa、約0.1 GPa至約2 GPa、約0.1 GPa至約1 GPa、約0.1 GPa至約5 GPa、約0.5 GPa至約4.5 GPa、約0.5 GPa至約4 Gpa、約0.5 GPa至約3.5 GPa、約0.5 GPa至約3 GPa、約0.5 GPa至約2.5 GPa、約0.5 GPa至約2 GPa、約0.5 GPa至約1.5 GPa、約0.5 GPa至約1 GPa、約1 GPa至約5 Gpa、約1GPa至約4GPa，約1GPa至約3GPa或約1GPa至約2GPa的範圍內，獨立地具有黏性促進層160在跨厚度上的奈米壓痕硬度。

黏性促進層160具有約1.35、約1.38、約1.40、約1.42、約1.43、約1.45或約1.46至約1.48、約1.50、約1.51、約1.52、約1.54、約為1.55或更高的折射率（refractive index）。例如，黏性促進層160具有約1.40至約1.55、約1.40至約1.53、約1.40至約1.51、約1.40至約1.50、約1.40至約1.48、約1.40至約1.46、約1.40至約1.45、約1.40至約1.43、約1.43至約1.55、約1.43至約1.53、約1.43至約1.51、約1.43至約1.50、約1.43至約1.48、約1.43至約1.46、約1.43至約1.45、約1.45至約1.55、約1.45至約1.53、約1.45至約1.51、約1.45至約1.50、約1.45至約1.48或約1.45至約1.46的折射率。在一些示例中、黏性促進層160具有約1.40至約1.55或約1.43至約1.51的折射率。

黏性促進層160的厚度為約0.01 、約0.02 、約0.04 、約0.08 、約0.1 、約0.2 、約0.5 ，約0.8 或約1 至約1.5 、大約2 、大約5 、大約8 、大約10 、大約15 、大約20 、大約25 、大約30 、大約35 、大約40 、大約50 或更大。黏性促進層160的厚度在大約0.01 至大約50 ，大約0.04 至大約50 ，大約0.04 至大約30 、大約0.04 至大約20 、大約0.04 至大約10 、大約0.04 至大約8 、大約0.04 至大約5 、大約0.04 至大約1 、大約0.04 至大約0.1 、大約0.1 至大約30 、大約0.1 至大約20 、大約0.1 至大約10 、大約0.1 至大約8 、大約0.1 至大約5 、大約0.1 至大約1 、大約1 至大約30 、大約1 至大約20 、大約1 至大約10 、大約1 至大約8 、大約1 至大約5 或大約1 至大約3 的範圍內。

第24圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包含多個子層210、212、214、216、218、220、222、224、226及228的黏性促進層（APL）260的剖面圖。在一個或多個實施例中，黏性促進層260可以取代黏性促進層160。儘管黏性促進層260繪示具有十個子層（子層210、212、214、216、218、220、222、224、226和228），但是黏性促進層260可以包括2、3、4或5子層至6、7、8、9、10、12或更多子層。在一些示例中，多個子層包含在黏性促進層260之跨厚度上的碳濃度梯度及/或在黏性促進層260之跨厚度上的硬度梯度。藉由降低多個子層中從底層或最低層至頂層或最高層的碳含量，可改變黏性促進層260在跨厚度上碳濃度。

在黏性促進層260的一些示例中，底層或最低層的碳含量可以為約20原子百分比（atomic percent, at%）至約65 at%，且頂層或最高層的碳含量可以為約5 at%至約15 at%。在包含五個子層（分別是從下到上的層1~5）的黏性促進層260的一個或多個示例中，多個子層包括以下碳濃度：層1為約20 at%至約65 at%（另一個例如約20 at%至約43 at%）;第2層約15 at%至約35 at%；第3層約10 at%至約30 at%；第4層約7 at%至約20 at%；及，第5層約5 at%至約15 at%。碳含量可以使用X射線光電子能譜（X-ray Photoelectron Spectroscopy, XPS）元素分析技術進行測量。

抗反射層

抗反射層170包含用以減少或禁止光反射的一層或多層。抗反射層170包含一種或多種材料，其可以是或包括氮化矽（silicon nitride）、氧氮化矽（silicon oxynitride）、碳化矽氮化物（silicon carbide nitride）、碳氧化矽氮化物（silicon oxycarbide nitride）、其摻雜劑或其任意組合。可以通過一種或多種氣相沉積製程來沉積抗反射層170或以其它方式產生抗反射層170。例如，抗反射層170是通過氣相沉積製程沉積或產生，其中氣相沉積製程可以是或包括濺鍍、PVD、CVD、PE-CVD、HDP-CVD、ALD、PE-ALD、其它真空或氣相沉積製程，或其任何組合。在一個或多個示例中，抗反射層170包括藉由一種或多種氣相沉積製程沉積的氮化矽。在一個或多個實施例中，抗反射層170可以在片對片處理系統或卷對卷處理系統中形成、處理及/或以其它方式處理。例如，抗反射層170可以透過一種或多種片對片或卷對卷製程技術沉積、塗覆或以其它方式形成在下方的表面，層或裝置上。

在一些示例中，使用一種或多種以下前驅物通過氣相沉積製程形成或以其它方式沉積抗反射層170：一種或多種有機聚合物（organic polymer）前驅物（液體和/或氣體）、六甲基二矽氧烷（hexamethyldisiloxane, HMDSO）、ppHMDSO、四甲基環四矽氧烷（tetramethyl cyclotetrasiloxane, TOMCAT）、六甲基二矽氮烷（hexamethyldisilazane, HMDSN）、原矽酸四乙酯（tetraethyl orthosilicate, TEOS）、矽烷（silane）、乙矽烷（disilane）、丙矽烷（trisilane）或其任意組合。在其它示例中，抗反射層170藉由使用二氧化矽或石英的濺鍍製程形成或以其它方式沉積。

抗反射層170具有大約1.5、大約1.7、大約1.8、大約1.9，或大約2.0至大約2.1、大約2.2、大約2.3、大約2.4或大約2.5的折射率。例如，抗反射層170具有約1.5至約2.5、約1.5至約2.3、約1.5至約2.1、約1.5至約2.0、約1.5至約1.8、約1.5至約1.7、約1.7至約2.5、約1.7至約2.3、約1.7至約2.1、約1.7至約2.0、約1.8至約2.5、約1.8至約2.3、約1.8至約2.1、約1.8至約2.0、約2.0至約2.5或約2.0至約2.3的折射率。

抗反射層170的厚度為約0.5nm、約1nm、約2nm、約3nm、約4nm、約5nm、約8nm、約10nm、約20nm、約30nm、約40nm或約50nm至約60nm、約80nm、約100nm、約120nm、約150nm、約180nm、約200nm、約250nm或更大。例如、抗反射層170具有大約2nm至大約250nm、大約2nm至大約200nm、大約2nm至大約150nm、大約2nm至大約100nm、大約2nm至大約80nm、約2 nm至約50 nm、約2 nm至約30 nm、約2 nm至約25 nm、約2 nm至約20 nm、約2 nm至約15 nm、約2 nm至約10 nm大約2nm至大約8nm、大約5nm至大約250nm、大約5nm至大約200nm、大約5nm至大約150nm、大約5nm至大約100nm、大約5nm至大約80nm、大約5 nm至約50 nm、約5 nm至約30 nm、約5 nm至約25 nm、約5 nm至約20 nm、約5 nm至約15 nm、約5 nm至約10 nm、約5 nm至約8 nm、約20 nm至約250 nm、約20 nm至約200 nm、約20 nm至約150 nm、約20 nm至約100 nm、約20 nm至約80 nm、約20 nm至約50 nm、約20 nm至約30 nm、約50 nm至約250 nm、約50 nm至約200 nm、約50 nm至約150、大約50nm至大約100nm或大約50nm至大約80nm的厚度。

抗反射層170在可見光範圍內的光學透射率是大約82%、大約85%、大約86%、大約88%或大約90%至大約92%、大約94%、約95%、約96%、約97%、約98%或約99%。例如、抗反射層170在可見光範圍內的光學透射率為大約82%至大約99%、大約85%至大約99%、大約88%至大約99%、大約90%至大約99%、約92%至約99%、約95%至約99%、約97%至約99%、約82%至約98%、約85%至約98%、約88%至約98%、約90%至約98%、約92%至約98%、約95%至約98%、約97%至約98%、約82%至約96%、約85%至約96%、約88%至約96%、約90%至約96%、約92%至約96%或約95%至約96%。

第二層或乾硬塗（ dHC ）層

在一個或多個實施例中，乾硬塗層180可以是或包括一個或多個乾硬塗層。乾硬塗層180包含一種或多種材料，其可以是或包括氧化矽、碳化矽、碳氧化矽、氮化矽、氮氧化矽、碳氧化矽氮化物、其摻雜劑或其任意組合。在包含碳的乾硬塗層180的一些實施例中，碳含量（carbon content）可以為約1 at%、約2 at%、約3 at%、約4 at%、約5 at%或約6 at%至約7 at%、約8 at%、約10 at%、約12 at%、約15 at%、約18 at%或約20 at%。例如、乾硬塗層180可具有約1 at%至約20 at%、約5 at%至約15 at%、約5 at%至約10 at%、約8 at%至約20%或約8 at%至約12 at%的碳含量。碳含量可以使用X射線光電子能譜（XPS）元素分析技術進行測量。

由於乾硬塗層180藉由一種或多種類型的氣相沉積製程而形成，因而獲得其名稱的「乾燥」部分。一旦沉積或以其它方式形成，乾硬塗層180是完全乾燥或實質上乾燥的固體層。乾硬塗層180透過氣相沉積製程沉積、形成或以其它方式產生，此氣相沉積製程可以是或包括PVD、CVD、PE-CVD、HDP-CVD、ALD、PE-ALD、其它真空或氣相沉積製程或其任何意組合。在一些示例中，藉由真空處理（vacuum processing）、常壓處理（atmospheric processing），溶液處理（solution processing）或其它沉積或塗覆技術（coating techniques）來生產、沉積塗覆或以其它方式形成乾硬塗層180，然後選擇性地藉由熱及/或UV曝光對其進行處理或固化 。在一個或多個實施例中，乾硬塗層180可以在片對片處理系統或卷對卷處理系統中形成、處理和/或以其它方式處理。例如，可以通過一種或多種片對片或卷對卷製程技術將乾硬塗層180沉積、塗覆或以其它方式形成在下方的表面，層或裝置上。

乾硬塗層180具有約1.40、約1.42、約1.43、約1.45或約1.46至約1.48、約1.50、約1.51、約1.52、約1.54、約1.55或更大的折射率。例如、乾硬塗層180的折射率為約1.40至約1.55、約1.40至約1.53、約1.40至約1.51、約1.40至約1.50、約1.40至約1.48、約1.40至約1.46、 1.40至約1.45、約1.40至約1.43、約1.43至約1.55、約1.43至約1.53、約1.43至約1.51、約1.43至約1.50、約1.43至約1.48、約1.43至約1.46、約1.43至約1.45、約1.45至約1.55、約1.45至約1.53、約1.45至約1.51、約1.45至約1.50、約1.45至約1.48或約1.45至約1.46。在一些示例中、乾硬塗層180具有約1.42至約1.55或約1.45至約1.51的折射率。

乾硬塗層180可以具有大約0.1µm、大約0.2µm、大約0.5 、大約0.6 、大約0.8µm、大約1 、大約1.2 、大約1.5 、大約1.8 、大約2 、 約3 、約5 、約10 、約15 、或約20 至約25 、約30 、約35 、約40 、約50 或更厚的厚度。例如、乾硬塗層180的厚度可為約0.1 至約50 、約0.1 至約40 、約0.1 至約35 、約0.1 至約30 、約0.1 至約25 、約0.1 至約20 、約0.1 至約15 、約0.1 至約10 、約0.1 至約5 、約0.1 至約2 、約0.1 至約1 、大約0.5 至大約50 、大約0.5 至大約40 、大約0.5 至大約35 、大約0.5 至大約30 、大約0.5 至大約25 、大約0.5 至大約20 、大約0.5 至約10 、約0.5 至約5 、約0.5 至約2 、約1 至約50 、約1 至約40 、約1 至約35 、約1 至約30 、約1 至約25 、約1 至約20 、約1 至約10 、約1 至約5µm、約1 至約3 、約5 至約50 、約5 至約40 、約5 至約35 、約5 至約30 、約5 可為約25 、約5 至約20 、約10 至約50 、約10 至約40 、約10 至約35 、約10 至約30 、約10 至約25 或大約10 至大約20 。在一個或多個示例中、乾硬塗層180的厚度在約0.5 至約40 的範圍內。

乾硬塗層180具有約0.5%、約1%、約1.5%、約2%、約2.5%或約3%至約3.5%、約4%、約4.5%、約5%、約5.5%、約6%、約6.5%、約7%或約8%的孔隙率，其使用橢偏儀測得。例如，乾硬塗層180具有約0.5%至約8%、約1%至約8%、約1%至約7%、約1%至約6.5%、約1%至約6%、約1%至約5.5%、約1%至約5%、約1%至約4.5%、約1%至約4%、約1%至約3.5%、約1%至約3%、約1%至約2.5%、約1%至約2%、約2%至約8%、約2%至約7%、約2%至約6.5%、約2%至約6%、約2 %至約5.5%、約2%至約5%、約2%至約4.5%、約2%至約4%、約2%至約3.5%、約2%至約3%、約2%至約2.5%、約3%至約8%、約3%至約7%、約3%至約6.5%、約3%至約6%、約3%至約5.5%、約3%至約4.5%、約3%至約4%或約3%至約3.5%，其使用橢偏儀測得。

在一個或多個示例中、乾硬塗層180具有約0.5%至小於7%的孔隙率，並且濕硬塗層150具有7%至約12%的孔隙率。在其它示例中，乾硬塗層180具有約0.5%至小於6%的孔隙率，並且濕硬塗層150具有6%至約12%的孔隙率。在一些示例中，乾硬塗層180具有約1%至小於7%的孔隙率，並且濕硬塗層150具有7%至約10%的孔隙率。在其它示例中，乾硬塗層180的孔隙率約為1%至小於6%，而濕硬塗層150的孔隙率約為6%至約10%。

乾硬塗層180可具有基於鉛筆硬度等級的約2H、約3H、約4H、約5H或約6H至約7H、約8H或約9H的鉛筆硬度。例如，乾硬塗層180可以具有基於鉛筆硬度等級的大約2H至大約9H、大約3H至大約9H、大約4H至大約9H、大約5H至大約9H、大約6H至大約9H、大約7H至大約9H、約2H至約8H、約3H至約8H、約4H至約8H、約5H至約8H、約6H至約8H、約7H至約8H、約2H至約7H、約3H至約7H、約4H約7H、約5H至約7H、約6H至約7H、約6H至約9H、約7H至約9H、約8H至約9H、約6H至約8H或約7H至約8H鉛筆硬度。在一個或多個實施例中、乾硬塗層180具有約6H至約9H的鉛筆硬度。

在一個或多個實施例中、乾硬塗層180可在乾硬塗層180的跨厚度上具有約0.1GPa、約0.5GPa、約0.8GPa、約1GPa、 約1.2 GPa、約1.5 GPa或約1.8 GPa至約2 GPa、約2.2 GPa、約2.5 GPa、約2.8 GPa、約3 GPa、約3.5 GPa、約4 GPa、約4.5 GPa、約5 GPa或更大的奈米壓痕硬度，其使用奈米壓痕技術測得、該技術依循針對材料的機械性特徵的Oliver-Pharr壓痕方法。在一些示例中、乾硬塗層180在乾硬塗層180的跨厚度上具有奈米壓痕硬度，範圍為約為約0.1 GPa至約5 GPa、約0.5 GPa至約5 GPa、約1 GPa至約5 GPa、約1.5 GPa至約5 GPa、約2 GPa至約5 GPa、約2.5 GPa至約5 GPa、約3 GPa 至約5 GPa、約3.5 GPa至約5 GPa、約4 GPa至約5 GPa、約4.5 GPa至約5 GPa、約0.1 GPa至約4 GPa、約0.5 GPa至約4 GPa、約1 GPa至約 4 GPa、約1.5 GPa至約4 GPa、約2 GPa至約4 GPa、約2.5 GPa至約4 GPa、約3 GPa至約4 GPa、約3.5 GPa至約4 GPa、約0.1 GPa至約3 GPa 約0.5 GPa至約3 GPa、約1 GPa至約3 GPa、約1.5 GPa至約3 GPa、約2 GPa至約3 GPa、約2.5 GPa至約3 GPa、約1 GPa至約2 GPa、約 0.4 GPa至約3 GPa、約0.4 GPa至約1.5 GPa、約0.4 GPa至約1.2 GPa、約0.5 GPa至約2 GPa、約0.5 GPa至約1.2 GPa或約0.5 GPa至約1 Gpa，其可使用奈米壓痕技術測得。

乾硬塗層180具有約1mm至約5mm的彎曲內半徑、約5mm至約20mm的彎曲外半徑、約85%至約98%、約88%、約95%、或約90%至約92%的透射率、約-20°C至約80°C 的熱阻。在一個或多個示例中、可使用紫外線輻射、電子束製程及/或等離子體的真空沉積製程來固化乾硬塗層180。乾硬塗層180可具有約90%至約99.99%的ASTM D1003的透射率、小於1%的ASTM D10003的霧度和小於0.5%的ASTM D1044的砂紙磨耗。

抗指紋塗層（ AFC ）

抗指紋塗層190，也稱為防污層（anti-smudge layer），其包含一層或多層、薄膜或塗層，並提供可撓性覆蓋透鏡組件202或本文所述其它可撓性覆蓋透鏡組件一整個上表面。抗指紋塗層190減少或防止在抗指紋塗層190的外表面及/或上表面上的指紋、污跡、划痕及其它污染物。抗指紋塗層190包含一種或多種材料，這些材料可以氟矽烷（fluorosilane）、含全氟聚醚的矽烷聚合物（perfluoropolyether-containing silane polymer）、氯矽烷（chlorosilane）、氧基矽烷（oxysilane）、氟乙烯（fluoroethylene）、全氟聚醚（perfluoropolyether）、氟化氮（nitrogen fluoride）或氮氟化合物（nitrogen-fluorine containing compound）、其聚合物（polymer thereof）、其摻雜劑（dopant thereof）或其任意組合。

通過一種或多種沉積製程來沉積或以其它方式產生抗指紋塗層190，該沉積製程可以是或包括PVD、離子束蒸發、CVD、旋塗、噴塗、浸塗、熱固化或其任意組合。 在一個或多個實施例中，抗指紋塗層190可以在片對片處理系統或卷對卷處理系統中形成、處理及/或以其它方式處理。例如，抗指紋塗層190可以通過一種或多種片對片或卷對卷製程技術沉積、塗覆或以其它方式形成在下方的表面，層或裝置上。

抗指紋塗層190的表面能為約5達因/厘米、約10達因/厘米（dyne/cm）、約15 dyne/cm，約18 dyne/cm或約20 dyne/cm至約25 dyne/cm、約30 dyne/cm、約40 dyne/cm、約50 dyne/cm、約60 dyne/cm、約70 dyne/cm、約80 dyne/cm或約100 dyne/cm。例如，抗指紋塗層190的表面能（surface energy）在約5 dyne/cm至約100 dyne/cm、約5 dyne/cm至約80 dyne/cm、約5 dyne/cm至約70 dyne/cm、約5 dyne/cm至約50 dyne/cm、約5 dyne/cm至約40 dyne/cm、約5 dyne/cm至約30 dyne/cm、約5 dyne/cm至約20 dyne/cm、約10 dyne/cm 至約100 dyne/cm、約10 dyne/cm至約80 dyne/cm、約10 dyne/cm至約70 dyne/cm、約10 dyne/cm至約50 dyne/cm、約10 dyne/cm至約40 dyne/cm、約10 dyne/cm至約30 dyne/cm、約10 dyne/cm至約20 dyne/cm、約30 dyne/cm至約100 dyne/cm、約30 dyne/cm至約80 dyne/cm、約30 dyne/cm至約70 dyne/cm、約30 dyne/cm至約50 dyne/cm或約30 dyne/cm至約40dyne/cm。

抗指紋塗層190的厚度為大約0.5nm、大約1nm、大約2nm、大約3nm、大約4nm、大約5nm、大約8nm或大約10nm至大約12nm、約15nm、約18nm、約20nm、約25nm、約30nm、約35nm、約40nm、約50nm、約60nm、約80nm、約100nm或更大。例如，抗指紋塗層190具有約1nm至約100nm、約1nm至約80nm、約1nm至約50nm、約1nm至約40nm、約1nm至約35 nm、約1 nm至約30 nm、約1 nm至約25 nm、約1 nm至約20 nm、約1 nm至約15 nm、約1 nm至約10 nm、約1 nm至約8 nm約1 nm至約5 nm、約3 nm至約100 nm、約3 nm至約80 nm、約3 nm至約50 nm、約3 nm至約40 nm、約3 nm至約35 nm、約3 nm至約30 nm、約3 nm至約25 nm、約3 nm至約20 nm、約3 nm至約15 nm、約3 nm至約10 nm、約3 nm至約8 nm、約3 nm約5nm至約5nm、約5nm至約100nm、約5nm至約80nm、約5nm至約50nm、約5nm至約40nm、約5nm至約35nm、約5nm至約30 nm、約5 nm至約25 nm、約5 nm至約20 nm、約5 nm至約15 nm、約5 nm至約10 nm、約5 nm約8 nm、約10 nm至約100 nm、約10 nm至約80 nm、約10 nm至約50 nm、約10 nm至約40 nm、約10 nm至約35 nm、約10 nm至約30 nm、約10 nm至約25 nm、約10 nm至約20 nm、約10 nm至約15 nm、約20 nm至約50 nm、約20 nm至約30 nm、約50 nm至約250 nm約50nm至約200nm、約50nm至約150nm、約50nm至約100nm或約50 nm至約80 nm。

第2圖繪示依據本發明實施例的一個或多個實施例的包含配置在FDS 104上的可撓性覆蓋透鏡組件202的顯示裝置200的剖面圖。可撓性覆蓋透鏡組件202包括防潮層130，配置在防潮層130上的衝擊吸收層120、配置在衝擊吸收層120上的基板140以及配置在基板140上的濕硬塗層150。可撓性覆蓋透鏡組件202還包含配置在濕硬塗層150上的黏性促進層160、配置在黏性促進層160上的抗反射層170、配置在抗反射層170上的乾硬塗層180及配置在乾硬塗層180上的抗指紋塗層190。在一些示例中，衝擊吸收層120配置在防潮層130與基板140之間並與防潮層130及基板140接觸。

第3圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包含配置在FDS 104上的可撓性覆蓋透鏡組件302的顯示裝置300的剖面圖。可撓性覆蓋透鏡組件302包括防潮層130、配置在防潮層130上的衝擊吸收層120、配置在衝擊吸收層120上的基板140及配置在基板140上的黏性促進層160。可撓性覆蓋透鏡組件302更包括配置在黏性促進層160上的抗反射層170、配置在抗反射層170上的乾硬塗層180及配置在乾硬塗層180上的抗指紋塗層190。

第4圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包括配置在FDS 104上的可撓性覆蓋透鏡組件402的顯示設備400的剖面圖。可撓性覆蓋透鏡組件402包含防潮層130，配置在防潮層130上的基板140及配置在基板140上的濕硬塗層150。可撓性覆蓋透鏡組件402更包含配置在濕硬塗層150上的黏性促進層160、配置抗反射層170上的黏性促進層160、配置乾硬塗層180上的抗反射層170及配置在抗指紋塗層190上的乾硬塗層180上。

第5圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包含配置在FDS 104上的可撓性覆蓋透鏡組件502的顯示裝置500的剖面圖。可撓性覆蓋透鏡組件502包括玻璃層110、配置在玻璃層110上的衝擊吸收層120、配置在衝擊吸收層120上的基板140及配置在基板140上的濕硬塗層150。透鏡組件502還包括配置在濕硬塗層150上的黏性促進層160、配置在黏性促進層160上的抗反射層170、配置在抗反射層170上的乾硬塗層180及配置在乾硬塗層180上的抗指紋塗層190。在一些示例中，濕硬塗層150配置在基板140及黏性促進層160之間並與基板140及黏性促進層160接觸。

第6圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包含配置在FDS 104上的可撓性覆蓋透鏡組件602的顯示裝置600的剖面圖。可撓性覆蓋透鏡組件602包括衝擊吸收層120、配置在衝擊吸收層120上的玻璃層110、配置在玻璃層110上的基板140及配置在基板140上的濕硬塗層150。透鏡組件602還包含配置在濕硬塗層150上的黏性促進層160、配置在黏性促進層160上的抗反射層170、配置在抗反射層170上的乾硬塗層180及配置在乾硬塗層180上的抗指紋塗層190。在一個或多個示例中，玻璃層110配置在衝擊吸收層120及基板140之間並與衝擊吸收層120及基板140接觸。

第7圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包含配置在FDS 104上的可撓性覆蓋透鏡組件702的顯示裝置700的剖面圖。可撓性覆蓋透鏡組件702包括玻璃層110、配置在玻璃層110上的衝擊吸收層120、配置在衝擊吸收層120上的基板140及配置在基板140上的黏性促進層160。透鏡組件702還包括配置在黏性促進層160上的抗反射層170、配置在抗反射層170上的乾硬塗層180及配置在乾硬塗層180上的抗指紋塗層190。

第8圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包含配置在FDS 104上的可撓性覆蓋透鏡組件802的顯示裝置800的剖面圖。可撓性覆蓋透鏡組件802包括衝擊吸收層120、配置在衝擊吸收層120上的基板140、配置在基板140上的濕硬塗層150及配置在濕硬塗層150上的黏性促進層160。可撓性覆蓋透鏡組件802還包括配置在黏性促進層160上的抗反射層170、配置在抗反射層170上的乾硬塗層180及配置在乾硬塗層180上的抗指紋塗層190 。

第9圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包含配置在FDS 104上的可撓性覆蓋透鏡組件902的顯示裝置900的剖面圖。可撓性覆蓋透鏡組件902包含玻璃層110、配置在襯底140上的基板140、配置在基板140上的濕硬塗層150及配置在濕硬塗層150上的黏性促進層160。可撓性覆蓋透鏡組件902還包含配置在黏性促進層160上的抗反射層170、配置在抗反射層170上的乾硬塗層180及配置在乾硬塗層180上的抗指紋塗層190。

第10圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包含配置在FDS 104上的可撓性覆蓋透鏡組件1002的顯示裝置1000的剖面圖。可撓性覆蓋透鏡組件1002包含基板140、配置在基板140上的濕硬塗層150及配置在濕硬塗層150上的黏性促進層160。可撓性覆蓋透鏡組件1002更包含配置在黏性促進層160上的抗反射層170、配置在抗反射層170上的乾硬塗層180及配置在乾硬塗層180上的抗指紋塗層190。

第11圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包含配置在FDS 104上的可撓性覆蓋透鏡組件1102的顯示裝置1100的剖面圖。可撓性覆蓋透鏡組件1102包含玻璃層110、配置在玻璃層110上的基板140及配置在基板140上的黏性促進層160。可撓性覆蓋透鏡組件1102更包括配置黏性促進層160上的抗反射層170、配置在抗反射層170上的乾硬塗層180及配置在乾硬塗層180上的抗指紋塗層190。在一些示例中，基板140配置在玻璃層110與黏性促進層160之間並與玻璃層110及黏性促進層160接觸。

第12圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包含配置在FDS 104上的可撓性覆蓋透鏡組件1202的顯示裝置1200的剖面圖。可撓性覆蓋透鏡組件1202包含玻璃層110、配置在玻璃層110上的基板140及配置在基板140上的濕硬塗層150。可撓性覆蓋透鏡組件1202更包含配置在濕硬塗層150上的抗反射層170、配置在抗反射層170上的黏性促進層160及配置在黏性促進層160上的抗指紋塗層190。

第13圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包含配置在FDS 104上的可撓性覆蓋透鏡組件1302的顯示裝置1300的剖面圖。可撓性覆蓋透鏡組件1302包括玻璃層110、配置在玻璃層110上的黏性促進層160、配置在黏性促進層160上的抗反射層170、配置在抗反射層上的乾硬塗層180及配置在抗指紋塗層190上的乾硬塗層180。在一些示例中，黏性促進層160配置在玻璃層110及抗反射層170之間並與玻璃層110及抗反射層170接觸。

第14圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包含配置在FDS 104上的可撓性覆蓋透鏡組件1402的顯示裝置1400的剖面圖。可撓性覆蓋透鏡組件1402包括黏性促進層160、配置在黏性促進層160上的抗反射層170、配置在抗反射層170上的乾硬塗層180及配置在乾硬塗層180上的抗指紋塗層190。

第15圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包含配置在FDS 104上的可撓性覆蓋透鏡組件1502的顯示裝置1500的剖面圖。可撓性覆蓋透鏡組件1502包括玻璃層110、配置在玻璃層110上的基板140、配置在基板140上的濕硬塗層150及配置在濕硬塗層150上的黏性促進層160。可撓性覆蓋透鏡組件1502更包含配置在黏性促進層160上的乾硬塗層180及配置在乾硬塗層180上的抗指紋塗層190。在一個或多個示例中，濕硬塗層150配置在基板140與黏性促進層160之間且與基板140及黏性促進層160接觸。

第16圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包含配置在FDS 104上的可撓性覆蓋透鏡組件1602的顯示裝置1600的剖面圖。可撓性覆蓋透鏡組件1602包括玻璃層110、配置在玻璃層110上的基板140、配置在基板140上的黏性促進層160、配置在黏性促進層160上的乾硬塗層180及配置在乾硬塗層180上的指紋塗層190。在一個或多個示例中，基板140配置在玻璃層110與黏性促進層160之間且與玻璃層110及黏性促進層160接觸。

第17圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包含配置在FDS 104上的可撓性覆蓋透鏡組件1702的顯示裝置1700的剖面圖。可撓性覆蓋透鏡組件1702包括玻璃層110、配置在玻璃層110上的黏性促進層160、配置在黏性促進層160上的乾硬塗層180及配置在乾硬塗層180上的抗指紋塗層190。

第18圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包含配置在FDS 104上的可撓性覆蓋透鏡組件1802的顯示裝置1800的剖面圖。可撓性覆蓋透鏡組件1802包括基板140、配置在基板140上的濕硬塗層150、配置在濕硬塗層150上的黏性促進層160、配置在黏性促進層160上的乾硬塗層180及配置在乾硬塗層180上的抗指紋塗層190。

第19圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包含配置在FDS 104上的可撓性覆蓋透鏡組件1902的顯示裝置1900的剖面圖。可撓性覆蓋透鏡組件1902包含基板140、抗指紋塗層190及配置在基板140與抗指紋塗層190之間的黏性促進層160。

第20圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包含配置在FDS 104上的可撓性覆蓋透鏡組件2002的顯示裝置2000的剖面圖。可撓性覆蓋透鏡組件2002包括基板140、配置在基板140上的黏性促進層160、配置在黏性促進層160上的乾硬塗層180及配置在乾硬塗層180上的抗指紋塗層190。在一些示例中，黏性促進層160及/或乾硬塗層180配置在基板140與抗指紋塗層190之間。另外，乾硬塗層180配置在黏性促進層160與抗指紋塗層190之間且與黏性促進層160及抗指紋塗層190接觸。

第21圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包含配置在FDS 104上的可撓性覆蓋透鏡組件2102的顯示裝置2100的剖面圖。可撓性覆蓋透鏡組件2002包含抗指紋塗層190、黏性促進層160及乾硬塗層180。第二硬塗層或乾硬塗層180配置在黏性促進層160與抗指紋塗層190之間並與黏性促進層160及抗指紋塗層190接觸。

在一個或多個實施例中，FDS 104、玻璃層110、衝擊吸收層120、防潮層130、基板140、濕硬塗層150、黏性促進層160、抗反射層170、乾硬塗層180與/或抗指紋塗層190中的任二個、三個或更多個可通過一個或多個黏合層（adhesive layer）（未繪示）耦接（couple）、連接（connect）、黏接（adhere）、結合（bond）、貼合（attach）或以其它方式保持在一起。各黏合層可以獨立地是或包括一種或多種光學透明黏合膠（optically clear adhesive, OCA）及/或壓敏黏合劑（pressure-sensitive adhesive, PSA）。在一個或多個示例中，各黏合層被應用為液體基的黏合劑，其將二個相鄰表面乾燥且黏合在一起。在一些示例中，各黏合層是將二個相鄰表面黏合在一起的OCA雙面膠帶。

在其它實施例中，FDS 104、玻璃層110、衝擊吸收層120、防潮層130、基板140、濕硬塗層150、黏性促進層160、抗反射層170、乾硬塗層180與/或抗指紋塗層190中的任二個、三個或更多個可在不使用黏合層下耦接、連接、黏接、結合、貼合或以其它方式保持在一起。如此，可以排除任何或所有黏合層，且利用固有的黏合力將相鄰的組件或層保持在一起。例如，FDS 104、玻璃層110、衝擊吸收層120、防潮層130、基板140、濕硬塗層150、黏性促進層160、抗反射層170、乾硬塗層180與/或抗指紋塗層190中的任二個、三個或更多個可以耦接、連接、黏接、結合、貼合或以其它方式保持到相鄰的層、膜或裝置上，且沒有黏合層配置於它們之間的界面。任何相鄰的層、膜或裝置可以沉積或以其它方式直接形成在另一相鄰的層、膜或裝置上。

第22圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包含配置在FDS 104上的可撓性覆蓋透鏡組件2202的顯示裝置2200的剖面圖。可撓性覆蓋透鏡組件2202包括玻璃層110、配置在玻璃層110上的第一黏性促進層160、配置在第一黏性促進層160上的濕硬塗層150及配置在濕硬塗層150上的第二黏性促進層160。可撓性覆蓋透鏡組件2202更包含配置在第二黏性促進層160上的乾硬塗層180及配置在乾硬塗層180上的抗指紋塗層190。在一些示例中，第一黏性促進層160與第二黏性促進層160中各者可個別彼此不同。在其它示例中，第一和第二黏性促進層160彼此相同。在一或多個實施例中，抗指紋塗層190可具有無機-有機-無機層堆疊。

第23圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包含配置在FDS 104上的可撓性且可更換的覆蓋透鏡堆疊2302的顯示裝置2300的剖面圖。可撓性且可更換的覆蓋透鏡堆疊2302包含第一可撓性覆蓋透鏡組件2310、第二可撓性覆蓋透鏡組件2330及配置在第一可撓性覆蓋透鏡組件2310與第二可撓性覆蓋透鏡組件2330之間的犧牲黏合層2320。第一可撓性覆蓋透鏡組件2310與第二可撓性覆蓋透鏡組件2330中的一個可以獨立地是或包括在本揭露的任何可撓性覆蓋透鏡組件（例如，可撓性覆蓋透鏡組件102、202、302、402、502 ，602、702、802、902、1002、1102、1202、1302、1402、1502、1602、1702、1802、1902、2002、2102或2202），其中第一可撓性覆蓋透鏡組件2310與第二可撓性覆蓋透鏡組件2330彼此不同。

在一個或多個實施例中，若期望移除並替換第一可撓性覆蓋透鏡組件2310（例如，由於刮損或受到其它損壞），則犧牲黏合層2320可以被選擇性地降解（degraded）、破壞（destroyed）或其它為了分離第一可撓性覆蓋透鏡組件2310與第二可撓性覆蓋透鏡組件2330的方法或分離第一可撓性覆蓋透鏡組件2310與其它顯示結構的方法。藉由將犧牲黏合層2320暴露於預定溫度、預定波長及/或紫外線（UV）劑量及/或預定機械強度，以將第一可撓性覆蓋透鏡組件2310與第二可撓性覆蓋透鏡組件2330分離，如下文進一步描述。

犧牲黏合層2320包含一種或多種聚合物材料（polymeric material）或低聚合物材料（oligomeric material），其可以是或包括丙烯酸酯（acrylate）、矽樹脂（silicone）、熱塑性黏合劑（thermoplastic adhesive）、彈性體黏合劑（elastomeric adhesive）及其組合。犧牲黏合層2320在約60°C 至約120°C 的溫度下可降解。當犧牲黏合層2320在暴露於具有約350 nm至約375 nm的波長的紫外線約0.5秒至約30秒時，犧牲黏合層2320是可降解的。

在一些示例中，犧牲黏合層2320包括一個或多個OCA。犧牲黏合層2320可以是或包括一種或多種聚合物材料或低聚合物材料，例如一種或多種丙烯酸酯、矽酮、熱塑性黏合劑、彈性體黏合劑或其任意組合。犧牲黏合層2320提供一低的剪切模數（shear modulus），並允許犧牲黏合層2320頂部的層相對於犧牲黏合層2320下方的層剪切或滑動。在一個或多個示例中，犧牲黏合層2320可以是由液態光學透明黏合膠（liquid optically clear adhesive, LOCA）製成，其可透過多種方式分配並透過UV曝光或加熱、濕氣及/或壓敏固化，且透過調節或控制前述製程進行固化。在一些示例中，犧牲黏合層2320在預定溫度下可降解。例如，犧牲黏合層2320可在約40°C、約50°C或約60°C至約80°C、約100°C 或約120°C 的溫度下降解。在其它示例中，當犧牲黏合層2320暴露於預定波長及/或預定劑量的UV光時是可降解的。例如，當犧牲黏合層2320暴露於具有約350 nm至約375 nm的波長，例如約365 nm的UV光時是可降解的。犧牲黏合層2320可透過將黏合劑暴露於UV光約0.5秒、約1秒或約5秒至約30秒、約60秒或約90秒的時間降解。

犧牲黏合層2320包含的黏合劑不同於在可撓性且可替換的覆蓋透鏡堆疊2302中包含的任何其它黏合層中的黏合劑，若有的話。犧牲黏合層2320中的黏合劑具有不同於第一可撓性覆蓋透鏡組件2310及第二可撓性覆蓋透鏡組件2330中包含的黏合層的組成，若有的話。犧牲性黏合層2320中的黏合劑暴露於預定溫度或紫外線波長時，會降解或破壞。如此，第一可撓性覆蓋透鏡組件2310與第二可撓性覆蓋透鏡組件2330之間的黏合或結合被破壞，然後第一可撓性覆蓋透鏡組件2310與第二可撓性覆蓋透鏡組件2330可彼此分離。在相同時間週期內，當暴露於相同預定溫度或紫外光波長時，第一可撓性覆蓋透鏡組件2310及第二可撓性覆蓋透鏡組件2330內的任何黏合層中的黏合劑（若有的話），都不會降解或破壞，且可保留第一可撓性覆蓋透鏡組件2310及第二可撓性覆蓋透鏡組件2330內的成分（component）之間的黏合或結合。

在一個或多個實施例中，第一可撓性覆蓋透鏡組件2310及第二可撓性覆蓋透鏡組件2330可在重複週期上個別地具有可撓性，而彎曲至低至1mm的內曲率半徑或低至4mm的外曲率半徑。在一些實施例中，在顯示裝置2300的彎曲操作過程中，第一可撓性覆蓋透鏡組件2310可透過由犧牲黏合層2320提供的滑移（slipping）、剪切（shearing）及/或滑動（sliding）機構相對於第二可撓性覆蓋透鏡組件2330個別地移動。此分離第一可撓性覆蓋透鏡組件2310與第二可撓性覆蓋透鏡組件2330的滑移、剪切及/或滑動平面，可結合於犧牲黏合層2320的材料。第一可撓性覆蓋透鏡組件2310與第二可撓性覆蓋透鏡組件2330在具有或不具有衝擊吸收層下個別地具備耐衝擊（impact resistance），如通過標準落球試驗（standard ball drop test）所測得），表現了從100公分（cm）高墜落最多130公克鋼球的抵抗能力，且在一些示例中，高度大於100 cm，例如120cm至約150cm。在一些示例中，第一可撓性覆蓋透鏡組件2310及第二可撓性覆蓋透鏡組件2330可以個別地具有耐刮性（scratch resistance），例如透過加載至多1 kg的標準鋼絲棉測試（standard steel wool test）測量的耐刮性並且能夠承受大量循環（cycle），例如，大約100個循環到大約4,000個循環。第一可撓性覆蓋透鏡組件2310及第二可撓性覆蓋透鏡組件2330可個別地具有介於約85%至約95%的總透射率（total transmission）、小於1%的霧度、黃變指數（yellow index）B* ＜1及高破壞韌性（fracture toughness）。

第25圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例中可做為包含在顯示裝置100、200、300、400、500、600、700、800、900、1000、1100、1200、1300、1400、1500、1600、1700、1800、1900、2000，2100、2200及2300（第1~23圖）中的可撓性顯示結構104的可撓性顯示結構304的剖面圖。可撓性顯示器結構104、304可以是或包括可撓性顯示器、剛性顯示器或其它裝置，且，且可包含在監視器、顯示器、螢幕、電視、電話（例如，移動電話、智能電話或蜂巢式電話）、電腦或筆記型電腦、平板電腦、手錶或或其它電子裝置。 在一些示例中，可撓性顯示器結構304包括對比度增強層（contrast enhancing layer）或偏振層（polarizer layer）320、觸控面板330、顯示層340，基板350及背後膜（backing film）360。偏振層320是或包括：包含偏振膜的多功能膜層（multi-function film layer）。偏振層320用於減少由於構成可撓性顯示結構304內的電極線或金屬結構的反射金屬所引起的不想要的反射（unwanted reflection）。偏振層320可以包括四分之一波長延遲器（quarter-wave retarder）及由厚度小於0.2 mm的可撓性透鏡膜（flexible lens film）形成的線性偏振器。

觸控面板330可以包括觸控感知器IC板及觸控感知器（未示出）。在一個或多個示例中，觸控感知器IC板是可撓性的且金屬基（metal based）的印刷電路板。顯示層340可以是或包括一個或多個發光二極管（LED）顯示器、一個或多個液晶顯示器（LCD）或其它合適的顯示裝置。在一些示例中，顯示層340是有機發光二極管（OLED）顯示器。在一些示例中，顯示層340是量子點（QD）顯示器。在一個或多個示例中，顯示層340可以包括薄膜封裝（Thin Film Encapsulation, TFE）、有機發光層、驅動器IC板及薄膜晶體管（Thin Film Transistor, TFT）。

基板350可以是或包括可撓性塑料或聚合物基板。基板350可以是透明的且/或無色的，並在一些示例中可以是導電的。基板350可以是或包括一種或多種聚酰亞胺（polyimide）材料、聚酯對苯二甲酸酯（polyester terephthalates）、聚醚醚酮（polyether ether ketones）、透明導電聚酯（transparent conductive polyesters）、聚碳酸酯（polycarbonates）、聚芳基醚酮（polyaryletherketones）或其任何組合。背後膜360可以是或包括一個或多個散熱鰭片層（heat sink layer）及/或一個或多個保護性阻障層（protective barrier layer）。

可撓性顯示結構104的各組件可以通過一種或多種黏合劑黏合、結合或以其它方式保持在一起。例如，偏振層320與觸控面板330透過配置在其間的黏合層325黏合在一起。觸控面板330與顯示層340透過配置在其間的黏合層335黏合在一起。顯示層340與基板350通過配置在其間的黏合層345黏合在一起。基板350與背後膜360通過配置在其間的黏合層355黏合在一起。各黏合層325、335、345、355可以個自地包括一個或多個OCA。在一個或多個示例中，各黏合層325、335、345、355被應用為一液體基的（liquid-based）黏合劑，其將二相鄰表面乾燥且黏合在一起。在一些示例中，各黏合層325、335、345、355是OCA雙面膠帶，其將二相鄰表面黏合在一起。在其它實施例中，各黏合層325、335、345、355個自地不配置在透過其它結合方式保持在一起的該些各自相鄰層之間。例如，可將可撓性顯示結構104內的任何層或元件沉積或以其它方式形成在相鄰層或元件上。

可撓性覆蓋透鏡組件102、202、302、402、502、602、702、802、902、1002、1102、1202、1302、1402、1502、1602、1702、1802、1902、2002、2102、2202、2310及/或2330、顯示裝置100、200、300、400、500、600、700、800、900、1000、1100、1200、1300、1400、1500、1600、1700、1800、1900、2000、2100、2200及/或2300（第1~23圖）、可撓性顯示結構104、304及其任何層、膜或塗層，可以使用化學氣相沉積（CVD）、等離子增強CVD（PE-CVD）、原子層沉積（ALD）、等離子增強ALD（PE-ALD）、物理氣相沉積（PVD）或濺鍍、片對片製程、 卷對卷製程、顯影製程（photo-lithography）、蝕刻、其它薄膜塗佈及固化過程及/或其它合適的製程。可以從加利福尼亞州聖克拉拉的應用材料公司（Applied Materials, Inc. of Santa Clara, CA）購買合適的製造裝置。

可撓性覆蓋透鏡組件（包括可撓性覆蓋透鏡組件102、202、302、402、502、602、702、802、902、1002、1102、1202、1302、1402、1502、1602、1702、1802、1902、2002、2102、2202、2310及/或2330、顯示裝置100、200、300、400、500、600、700、800、900、1000、1100、1200、1300、1400、1500、1600、1700， 1800、1900、2000、2100、2200及/或2300（第1~23圖）、可撓性顯示結構（包括可撓性顯示結構104、304）及/或其任何層、膜或塗層可以具有大於1%的臨界應變（critical strain），例如約1.5%、約2%、約2.5%、約3%、約4%或約5%至約5.5%、約6%、約7%、約8%、大約9%、大約10%、大約11%、大約12%、大約15%或更高。例如，可撓性覆蓋透鏡組件、可撓性顯示器結構和/或其任何層、膜或塗層可以具有大於1%至大約15%、大約2%至大約15%、大約1%、3%至約15%、約5%至約15%、約6%至約15%、約8%至約15%、約10%至約15%、約2%至約12%、約3%至約12%、約5%至約12%、約6%至約12%、約8%至約12%、約10%至約12%、約2%至約10%、約3%至約10%、約5%至約10%、約6%至約10%、約8%至約10%、約2%至約7%、約3%至約7%、約4%至約7%或大約5%到大約7%的臨界應變。臨界應變是使用極限拉伸試驗機（Ultimate Tensile Testing Machine）在規定的可撓性覆蓋透鏡組件或其它層堆疊的伸長率（elongation）下所測量。由可撓性覆蓋透鏡組件或其它層堆疊在沒有裂紋破壞（crack failure）下的最大拉伸伸長率（maximum tensile elongation）被定義為可撓性覆蓋透鏡組件或其它層狀堆疊體的臨界應變。

本揭露之可撓性覆蓋透鏡及可撓性覆蓋透鏡組件可以使用於任何類型的顯示裝置中。可撓性覆蓋透鏡及可撓性覆蓋透鏡組件具有強的強度、可撓性、彈性、光學透射率（optical transmission）、耐磨性（wear resistance）及/或熱穩定性（thermostability）。通過在第一可撓性覆蓋透鏡與第二可撓性覆蓋透鏡之間或者在第一可撓性覆蓋透鏡與顯示結構或顯示裝置之間利用包含可降解的光學透明黏合膠的犧牲黏合層，若發生損壞，可在不損壞下方結構或裝置的情況下，第一可撓性覆蓋透鏡可以容易被移除（並用新的覆蓋透鏡更換）。

在一個或多個實施例中，儘管靈活性要求取決於特定的可折疊顯示器設計及產品配置，一般而言，本揭露的可折疊覆蓋透鏡具有足夠的靈活性以維持重複的彎曲循環（bend cycle），其中每個循環折疊可撓性覆蓋鏡的曲率半徑為5 mm或更小。就臨界應變而言，覆蓋透鏡的可撓性可以覆蓋透鏡能承受大於1%的臨界應變表示。

本揭露實施例還涉及以下第1~93點中的任何一點或多點：

1. 一種可撓性覆蓋透鏡組件，包括：玻璃層；以及玻璃層上的黏性促進層；配置在黏性促進層上的抗反射層；配置在抗反射層上的奈米壓痕硬度為約1GPa~約5GPa的乾硬塗層；及，配置在乾硬塗層上的抗指紋塗層。

2. 一種可撓性覆蓋透鏡組件，包括：玻璃層；配置在玻璃層上的基板；配置在基板上的黏性促進層；配置在黏性促進層上的抗反射層； 配置在抗反射層上的具有約1%至約7%之孔隙率的乾硬塗層；以及，配置在乾硬塗層上的抗指紋塗層。

3. 一種可撓性覆蓋透鏡組件，包括：玻璃層；配置在玻璃層上的基板；配置在基板上的奈米壓痕硬度為約0.4GPa至約1.5GPa的濕硬塗層；配置在濕硬塗層上的抗反射層；配置在抗反射層上的黏性促進層；配置在黏性促進層上的抗指紋塗層。

4.一種可撓性覆蓋透鏡組件，包括：玻璃層；配置在玻璃層上的黏性促進層；配置在所述黏性促進層上的具有在約1GPa至約5GPa的奈米壓痕硬度的乾硬塗層；以及，配置在乾硬塗層上的抗指紋塗層。

5. 一種可撓性覆蓋透鏡組件，包括：玻璃層；配置在玻璃層上的基板；配置在基板上的黏性促進層；配置在黏性促進層上的具有為約1%至約7%之孔隙率的乾硬塗層；配置在乾硬塗層上的抗指紋塗層。

6. 一種可撓性覆蓋透鏡組件，包括：玻璃層；配置在玻璃層上的基板；配置在基板上的具有為約0.4GPa至約1.5GPa的奈米壓痕硬度的濕硬塗層；配置在濕硬塗層上的黏性促進層；配置在黏性促進層上的具有為約1GPa至約5GPa的奈米壓痕硬度及為約1%至約7%的孔隙率的乾硬塗層；以及，配置在乾硬塗層上的抗指紋塗層。

7. 一種可撓性覆蓋透鏡組件，包括：基板；抗指紋塗層；配置在基板與抗指紋塗層之間的黏性促進層。

8. 一種可撓性覆蓋透鏡組件，包括：基板；配置在基板上的黏性促進層；配置在黏性促進層上且具有約1%至約7%的孔隙率及約1GPa至約5GPa的奈米壓痕硬度的乾硬塗層；配置在乾硬塗層上的抗指紋塗層。

9. 一種可撓性覆蓋透鏡組件，包括：基板；配置在基板上的具有為約0.4GPa至約1.5GPa的奈米壓痕硬度的濕硬塗層。配置在濕硬塗層上的黏性促進層；具有在約1GPa至約5GPa的奈米壓痕硬度且配置在黏性促進層上的乾硬塗層；以及，配置在乾硬塗層上的抗指紋塗層。

10. 一種可撓性覆蓋透鏡組件，包括：玻璃層；配置在玻璃層上的衝擊吸收層；配置在衝擊吸收層上的防潮層。配置在防潮層上的基板；配置在基板上且具有奈米壓痕硬度為約0.4GPa至約1.5GPa的濕硬塗層；配置在濕硬塗層上的黏性促進層；配置在黏性促進層上的有抗反射層；配置在抗反射層上且具有奈米壓痕硬度為約1GPa至約5GPa的乾硬塗層；以及，配置在乾硬塗層上的抗指紋塗層。

11. 一種可撓性覆蓋透鏡組件，其包括：玻璃層；配置在玻璃層上的第一黏性促進層；配置在第一黏性促進層上的奈米壓痕硬度為約0.4GPa至約1.5GPa的濕硬塗層；配置在濕硬塗層上的第二黏性促進層；配置在第二黏性促進層上且具有約1GPa至約5GPa的奈米壓痕硬度的乾硬塗層；配置在乾硬塗層上的抗指紋塗層。

12. 一種可撓性覆蓋透鏡組件，其包括：玻璃層；配置在玻璃層上的第一黏性促進層；配置在第一黏性促進層上且孔隙率為約6%至約10%的濕硬塗層。配置在濕硬塗層上的第二黏性促進層；配置在第二黏性促進層上且孔隙率約為1%至7%的乾硬塗層；以及，配置在乾硬塗層上的抗指紋塗層，其中可撓性覆蓋透鏡組件的臨界應變大於1%至大約15%。

13. 一種可撓性覆蓋透鏡組件，其包括：抗指紋塗層；以及黏性促進層；以及，乾硬塗層，其中乾硬塗層配置在黏性促進層與抗指紋塗層之間。

14. 一種可撓性覆蓋透鏡組件，包括：基板；配置在基板上的濕硬塗層；配置在濕硬塗層上的黏性促進層；配置在黏性促進層上的抗反射層；配置在抗反射層上的乾硬塗層；以及，配置在乾硬塗層上的抗指紋塗層。

15. 一種可撓性覆蓋透鏡組件，包括：玻璃層；配置在玻璃層上的基板；配置在基板上的濕硬塗層；配置在濕硬塗層上的黏性促進層；配置在黏性促進層上的抗反射層；配置在抗反射層上的乾硬塗層；以及，配置在乾硬塗層上的抗指紋塗層。

16. 一種可撓性覆蓋透鏡組件，包括：玻璃層；配置在玻璃層上的衝擊吸收層；配置在衝擊吸收層上的基板；配置在基板上的黏性促進層；配置在黏性促進層上的抗反射層；配置在抗反射層上的乾硬塗層；以及，配置在乾硬塗層上的抗指紋塗層。

17. 第16的可撓性覆蓋透鏡組件，更包括濕硬塗層，其中，濕硬塗層配置在基板與黏性促進層之間。

18. 一種可撓性覆蓋透鏡組件，包括：衝擊吸收層；配置在衝擊吸收層上的基板；配置在基板上的濕硬塗層；配置在濕硬塗層上的黏性促進層；配置在黏性促進層上的抗反射層；配置在抗反射層上的乾硬塗層；以及，配置在乾硬塗層上的抗指紋塗層。

19. 第18的可撓性覆蓋透鏡組件，更包括配置在衝擊吸收層與基板之間的玻璃層。

20. 一種可撓性覆蓋透鏡組件，包括：防潮層；配置在防潮層上的基板；配置在基板上的濕硬塗層；配置在濕硬塗層上的黏性促進層；配置在黏性促進層上的抗反射層；配置在抗反射層上的乾硬塗層；以及，配置在乾硬塗層上的抗指紋塗層。

21. 第20的可撓性覆蓋透鏡組件，更包括配置在防潮層與基板之間的衝擊吸收層。

22. 一種可撓性覆蓋透鏡組件，包括：防潮層；配置在防潮層上的衝擊吸收層；配置在衝擊吸收層上的基板；配置在基板上的黏性促進層；配置在黏性促進層上的抗反射層；配置在抗反射層上的乾硬塗層；以及，配置在乾硬塗層上的抗指紋塗層。

23. 依據第1~22之任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中，其中可撓性覆蓋透鏡組件具有大於1%至約15%的臨界應變。

24. 依據第1~23之任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中可撓性覆蓋透鏡組件具有大約2%至大約12%的臨界應變。

25. 依據第1~24之任一者所述的可撓性覆蓋透鏡組件，更包括配置在玻璃層與黏性促進層之間的基板。

26. 依據段落1~25中的任一項所述的可撓性覆蓋透鏡組件，其中玻璃層是超薄玻璃層（ultra-thin glass layer），且具有介於約20微米至約100微米的厚度。

27. 依據段落1~26中的任一項所述的可撓性覆蓋透鏡組件，其中乾硬塗層的材料包括選自由氧化矽、碳化矽、碳氧化矽、氮化矽、氧氮化矽（silicon oxynitride）、碳氧化矽氮化物（silicon oxycarbide nitride）、其摻雜劑及其任意組合所構成的群組。

28. 依據段落1~27中的任一項所述的可撓性覆蓋透鏡組件，其中，乾硬塗層是透過氣相沉積製程所製造，且具有介於約1.5 GPa至約4.5 GPa的奈米壓痕硬度。

29. 依據段落1~28中的任一項所述的可撓性覆蓋透鏡組件，其中乾硬塗層具有約1%至約7%的孔隙率。

30. 依據段落1~29中的任一項所述的可撓性覆蓋透鏡組件，其中，乾硬塗層的折射率為大約1.42至大約1.55。

31. 依據段落1~30中的任一項所述的可撓性覆蓋透鏡組件，其中，乾硬塗層的折射率為大約1.45至大約1.51。

32. 依據段落1~31中的任一項所述的可撓性覆蓋透鏡組件，其中乾硬塗層具有介於約0.5微米至約40微米的厚度。

33. 依據段落1~32中的任一項所述的可撓性覆蓋透鏡組件，其中乾硬塗層是透過氣相沉積製程所製成。

34. 依據段落1~33中的任一項所述的可撓性覆蓋透鏡組件，其中乾硬塗層是透過選自PVD、CVD、PE-CVD、HDP-CVD、 ALD、PE-ALD及其任何組合所製成。

35. 依據段落1~34中的任一項所述的可撓性覆蓋透鏡組件，其中濕硬塗層包括丙烯酸酯、溶膠凝膠、矽氧烷、其共聚物、其彈性體或其任意組合。

36. 依據段落1~35中的任一項所述的可撓性覆蓋透鏡組件，其中濕硬塗層包括丙烯酸酯，其中丙烯酸酯包括可輻射固化的丙烯酸酯、脂肪族氨基甲酸酯丙烯酸酯（aliphatic urethane acrylate）、其共聚物、其彈性體或其任意組合。

37. 依據段落1~36中的任一項所述的可撓性覆蓋透鏡組件，其中濕硬塗層是由凝膠、旋塗、溶液、懸浮液或其任意組合製成的。

38. 依據段落1~37中的任一項所述的可撓性覆蓋透鏡組件，其中濕硬塗層的孔隙率為約6%至約10%。

39. 依據段落1~38中的任一項所述的可撓性覆蓋透鏡組件，其中濕硬塗層的折射率為大約1.40至大約1.55。

40. 依據段落1~39中的任一項所述的可撓性覆蓋透鏡組件，其中濕硬塗層具有約1.43至約1.51的折射率。

41. 第1~40中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中濕硬塗層具有介約0.5GPa至約1.2GPa的奈米壓痕硬度。

42. 第1~41中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中濕硬塗層具有介於約0.5微米至約40微米的的厚度。

43. 第1~42中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，更包括配置在玻璃層與黏性促進層之間的基板。

44. 第1~43中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，更包括具有奈米壓痕硬度介於約0.4GPa至約1.5GPa的濕硬塗層，其中濕硬塗層配置在基板與黏性促進層之間。

45. 第1~44中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，還包括具有奈米壓痕硬度介於約1 GPa至約5 GPa的乾硬塗層，其中乾硬塗層配置在黏性促進層與抗指紋塗層之間。

46. 第1~45中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中黏性促進層的材料包括選自由氧化矽、碳化矽、碳氧化矽、氮化矽、氧氮化矽、碳氧化矽氮化物、其摻雜劑及其任意組合所構成的群組。

47. 第1~46中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中黏性促進層在黏性促進層的跨厚度上具有碳濃度的梯度。

48. 第1~47中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中黏性促進層包括介於約2個子層到約10個子層。

49. 第1~48中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中黏性促進層包括包含於其中的多個子層，其中多個子層在黏性促進層的跨厚度上具有碳濃度梯度。

50. 第1~49中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中黏性促進層包括包含於其中多個子層，其中多個子層包括在黏性促進層的跨厚度上具有硬度梯度。

51. 第1~50中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中黏性促進層包括包含其中的多個子層，其中多個子層在黏性促進層的跨厚度上具有介於約0.1GPa至約5GPa的奈米壓痕硬度，如透過奈米壓痕技術測量所量測。

52. 第51的可撓性覆蓋透鏡組件，其中硬度介於約0.5 GPa至約3.5 GPa之間，如通過奈米壓痕技術測量的。

53. 第1~52中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中黏性促進層是透過氣相沉積製程所製成。

54. 第1~53中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中黏性促進層是由選自PVD、濺鍍、CVD、PE-CVD、HDP-CVD，ALD、PE-ALD及其任何組合所製成。

55. 第1~54中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中黏性促進層由矽前驅物和氧化劑所製成。

56. 第55的可撓性覆蓋透鏡組件，其中矽前驅物包括烷基矽烷、烷氧基矽烷、烷基矽氧烷、烷基矽氮烷或其任何組合。

57. 第1~56中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中黏性促進層的折射率為大約1.40至大約1.55。

58. 第1~57中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中黏性促進層的折射率為大約1.43至大約1.51。

59. 第1~58中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中黏性促進層具有介於約0.04微米至約30微米的厚度。

60. 第1~59中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中防潮層的材料包括選自由氧化矽、氮化矽、氮氧化矽、其摻雜劑及其任意組合所構成的群組。

61. 第1~60中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中防潮層包括約2個子層到約5個子層。

62. 第1~61中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中防潮層包括容納在其中的多個子層。

63. 第1~62中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中防潮層包括一膜堆疊（film stack），膜堆疊包括配置在第一子層與第三子層之間的第二子層，其中第一子層包括氮化矽，第二子層包括氧化矽，第三子層包括氮化矽。

64. 第1~63中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中防潮層是透過氣相沉積製程所製成。

65. 第1~64中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中防潮層是透過選自PVD、CVD、PE-CVD、HDP-CVD、 ALD、PE-ALD及其任何組合所製成。

66. 第1~65中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中防潮層的水蒸氣傳送率介於約1×10 ^-6g/m ²/天~約10 g/m ²/天。

67. 第1~66中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中防潮層的厚度介於約20 nm至大約500nm之間。

68. 第1~67中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中防潮層在可見光範圍內的光學透射率介於約85%至約98%之間。

69. 第1~68中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中衝擊吸收層包括選自以下的材料：醚氨基甲酸酯（ether urethane）、酯氨基甲酸酯（ester urethane）、脂肪族氨基甲酸酯（aliphatic urethane）、脂肪族聚氨酯（aliphatic polyurethane）、脂肪族聚酯氨基甲酸酯（aliphatic polyester urethane）、聚硫化物熱固性材料（polysulfide thermoset）、聚酰胺（poly amide）、其共聚物、其彈性體及其任意組合。

70. 第1~69中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中衝擊吸收層的厚度介於約1微米至約150微米的厚度。

71. 第1~70中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中衝擊吸收層在可見光範圍內的光學透射率介於約85%至約98%之間。

72. 第1~71中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中抗指紋塗層包括選自由含全氟聚醚的矽烷聚合物（perfluoropolyether-containing silane polymer）、氯矽烷（chlorosilane）、氧基矽烷（oxysilane）、氟乙烯（fluoroethylene）、全氟聚醚（perfluoropolyether）、其摻雜劑及其任意組合。

73. 第1~72中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中抗指紋塗層是透過氣相沉積製程所製成。

74. 第1~73中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中抗指紋塗層是由選自PVD、離子束蒸鍍（ion beam evaporation）、CVD、旋塗（spin coating）、噴塗（spray coating）、浸塗（dip coating）、熱固化（thermal curing）及其任何組合所製成。

75. 第1~74中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中抗指紋塗層的表面能介於約10  dyne/cm至約80 dyne/cm之間。

76. 第1~75中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中抗指紋塗層的表面能在大約30 dyne/cm至大約50 dyne/cm之間。

77. 第1~76中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中抗指紋塗層的厚度在大約3 nm至大約50 nm之間。

78. 第1~77中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中抗反射層具有介於大約1.7至大約2.3之間的折射率。

79. 第1~78中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中抗反射層的折射率介於約1.8至約2.1之間。

80. 第1~79中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中抗反射層在可見光範圍內的光學透射率介於約85%至約98%之間。

81. 第1~80中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中抗反射層的厚度介於約2 nm至約150 nm之間。

82. 第1~81中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中抗反射層的材料包括選自由氮化矽、氮氧化矽、氮化矽、碳氮化矽氮化物、其摻雜劑及其任何組合所構成群組。

83. 第1~82中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中抗反射層包括氮化矽。

84. 第1~83中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中抗反射層是由氣相沉積製程所製成。

85. 第1~84中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中抗反射層是由選自濺鍍、PVD、CVD、PE-CVD、HDP-CVD、ALD、PE-ALD及其任何組合所製成。

86. 第1~85中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中基板的厚度在大約5微米至約100微米之間。

87. 第1~86中任一者的可撓性覆蓋透鏡組件，其中基板包括選自由以下組成的組的材料：聚對苯二甲酸乙二酯（polyethylene terephthalate）、三乙酰纖維素（triacetylcellulose）、聚碳酸酯（polycarbonate）、聚酰亞胺（polyimide）、聚酰胺（polyamide）、多硫化物（polysulfide）、聚甲基丙烯酸甲酯（polymethacrylic acid methyl ester）、其共聚物、其彈性體及其任何組合。

88.一種可撓且可更換的覆蓋透鏡堆疊，包括：第一可撓性覆蓋透鏡，其包括依據第1~87中任一者所述的可撓性覆蓋透鏡組件；以及第二可撓性覆蓋透鏡，其包括依據第1~87中任一者所述的可撓性覆蓋透鏡組件，其中第一可撓性覆蓋透鏡和第二可撓性覆蓋透鏡不同；以及，犧牲黏合層，其配置在第一可撓性覆蓋透鏡和第二可撓性覆蓋透鏡之間。

89. 第88的可撓且可更換的覆蓋透鏡堆疊，其中犧牲黏合層包括選自丙烯酸酯（acrylate）、矽樹脂（silicone）、熱塑性黏合劑（thermoplastic adhesive）、彈性體黏合劑及其組合的聚合物材料或低聚合物材料。

90. 第88的可撓且可更換的覆蓋透鏡堆疊，其中犧牲黏合層在約60°C至約120°C的溫度下可降解。

91. 第88的可撓且可更換的覆蓋透鏡堆疊，其中，當犧牲黏合層暴露於具有大約350 nm至大約375 nm之間的波長的紫外光約0.5秒至約30秒的時間時，係可降解的。

92. 一種顯示裝置，包括：依據第1~91中的任一者所述的可撓且可更換的覆蓋透鏡堆疊；以及，可撓性顯示結構。

93. 依據第92所述的顯示裝置，其中可撓性顯示結構包括OLED顯示器或LCD顯示器。

儘管前述內容針對本揭露的實施例，但是在不脫離本發明的基本範圍下，可設計其它實施例，且其範圍依照申請專利範圍而定。本揭露所有文件均引用於此，包括與本文不矛盾的任何優先權文件及/或測試程序。從前述的一般描述及特定實施例中可明顯看出，儘管圖示及描述本揭露的外貌，然在不脫離本揭露精神和範圍下可進行各式修改。因此，不受本揭露所限制。同樣，出於美國法律的目的，術語“包含（comprising）”被認為與術語“包括（including）”同義。同樣地，每當在一個組合物、一個元素或一組元素的前面加上過渡連接詞“包含”時，可理解的是，在列舉組合物、元素或多種元素之前，也可考慮使用過渡連接詞“基本上由…組成（consisting essentially of）”，“由…組成（consisting of）”、“選自…所構成的群組（selected from the group of consisting of）”或“是（is）”；反之亦然。

已經使用一組數字上限和一組數字下限描述了某些實施例及特徵。 應當理解的是，除非另外指出，否則包括任何二個數值的組合，例如，任何較低的值與任何較高的值的組合，任何二個較低的值的組合和/或任何二個較高的值的組合的範圍是可以預期的。  某些下限、上限及範圍出現在下述的一項或多項請求項中。

綜上所述，雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明。本發明所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾。因此，本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

100,200,300,400,500,600,700,800,900,1000,1100,1200,1300,1400,1500,1600,1700,1800,1900,2000,2100,2200,2300:顯示裝置 102,202,302,402,502,602,702,802,902,1002,1102,1202,1302,1402,1502,1602,1702,1802,1902,2002,2102,2202:可撓性覆蓋透鏡組件 104:可撓性顯示堆疊 110:玻璃層 120:衝擊吸收層 130:防潮層 140,350:基板 150:濕硬塗層 160,260:黏性促進層 170:抗反射層 180:乾硬塗層 190:抗指紋塗層 210,212,214,216,218,220,222, 224,226,228:子層 304:可撓性顯示結構 320:偏振層 330:觸控面板 340:顯示層 360:背後膜 325,335,345:黏合層 2302:可更換的覆蓋透鏡堆疊 2310:第一可撓性覆蓋透鏡組件 2320:犧牲黏合層 2330:第二可撓性覆蓋透鏡組件

為了可以詳細地理解本揭露的上述特徵的方式，通過參考實施例來獲得以上簡要概述的本發明更具體的描述，其中一些實施例在所附圖中示出。 而，應當注意，附圖僅示出了本揭露的典型實施例，因此不應被認為是對範圍的限制，因為本揭露可以允許它等效的實施例。 第1圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的顯示裝置的剖面圖。 第2圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包含另一個可撓性覆蓋透鏡組件的顯示裝置的剖面圖。 第3圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包含另一個可撓性覆蓋透鏡組件的顯示裝置的剖面圖。 第4圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包括另一個可撓性覆蓋透鏡組件的顯示設備的剖面圖。 第5圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包含另一個可撓性覆蓋透鏡組件的顯示裝置的剖面圖。 第6圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包另一個可撓性覆蓋透鏡組件的顯示裝置的剖面圖。 第7圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包含另一個可撓性覆蓋透鏡組件的顯示裝置的剖面圖。 第8圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包含另一個可撓性覆蓋透鏡組件的顯示裝置的剖面圖。 第9圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包含另一個可撓性覆蓋透鏡組件的顯示裝置的剖面圖。 第10圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包含另一個可撓性覆蓋透鏡組件的顯示裝置的剖面圖。 第11圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包含另一個可撓性覆蓋透鏡組件的顯示裝置的剖面圖。 第12圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包含另一個可撓性覆蓋透鏡組件的顯示裝置的剖面圖。 第13圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包含另一個可撓性覆蓋透鏡組件的顯示裝置的剖面圖。 第14圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包含另一個可撓性覆蓋透鏡組件的顯示裝置的剖面圖。 第15圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包含另一個可撓性覆蓋透鏡組件的顯示裝置的剖面圖。 第16圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包含另一個可撓性覆蓋透鏡組件的顯示裝置的剖面圖。 第17圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包含另一個可撓性覆蓋透鏡組件的顯示裝置的剖面圖。 第18圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包含另一個可撓性覆蓋透鏡組件的顯示裝置的剖面圖。 第19圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包含另一個可撓性覆蓋透鏡組件的顯示裝置的剖面圖。 第20圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包含另一個可撓性覆蓋透鏡組件的顯示裝置的剖面圖。 第21圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包含另一個可撓性覆蓋透鏡組件的顯示裝置的剖面圖。 第22圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包含另一個可撓性覆蓋透鏡組件的顯示裝置的剖面圖。 第23圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例之可撓且可更換的覆蓋透鏡堆疊的剖面圖。 第24圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例的包含多個子層的黏性促進層的剖面圖。 第25圖繪示依據本揭露實施例一個或多個實施例之顯示結構的剖面圖。

100:顯示裝置

102:可撓性覆蓋透鏡組件

104:可撓性顯示堆疊

110:玻璃層

120:衝擊吸收層

130:防潮層

140:基板

150:濕硬塗層

160:黏性促進層

170:抗反射層

180:乾硬塗層

190:抗指紋塗層

Claims (20)

1. 一種可撓性覆蓋透鏡組件，包括： 一玻璃層； 一基板，直接配置在該玻璃層上； 一黏性促進層，直接配置在該基板上，其中該黏性促進層的材料包括選自由氧化矽（silicon oxide）、碳化矽（ silicon carbide）、碳氧化矽（silicon oxycarbide）、氮化矽（silicon nitride）、氧氮化矽（silicon oxynitride）、碳氮化矽氮化物（silicon oxycarbide nitride）、其摻雜劑及其任何組合所構成群組； 一乾硬塗層，配置在該黏性促進層上； 一抗指紋塗層，配置在該乾硬塗層上；以及 其中，該可撓性覆蓋透鏡組件具有大於1 %至約15 %的臨界應變。
2. 如請求項1所述之可撓性覆蓋透鏡組件，其中該可撓性覆蓋透鏡組件具有介於約1.5 %至約10 %的臨界應變。
3. 如請求項1所述之可撓性覆蓋透鏡組件，其中該玻璃層具有介於約20微米至約100微米之間的厚度。
4. 一種可撓性覆蓋透鏡組件，包括： 一玻璃層； 一基板，直接配置在該玻璃層上； 一濕硬塗層，直接配置在該基板上； 一黏性促進層，配置在該濕硬塗層上，其中該黏性促進層的材料包括選自由氧化矽、碳化矽、碳氧化矽、氮化矽、氧氮化矽、碳氮化矽氮化物、其摻雜劑及其任何組合所構成群組，且該黏性促進層具有介於約1.40至約1.55的折射率； 一乾硬塗層，直接配置在該黏性促進層上；以及 一抗指紋塗層，配置在該乾硬塗層上。
5. 如請求項4所述之可撓性覆蓋透鏡組件，其中該可撓性覆蓋透鏡組件具有介於約1.5 %至約15 %的臨界應變。
6. 如請求項4所述之可撓性覆蓋透鏡組件，其中該乾硬塗層的材料包括選自由氧化矽、碳化矽、碳氧化矽、氮化矽、氮氧化矽、碳氧化矽氮化物、其摻雜劑及其任意組合所構成的群組。
7. 如請求項4所述之可撓性覆蓋透鏡組件，其中該濕硬塗層包括丙烯酸酯（acrylate）、溶膠凝膠（solgels）、矽氧烷（siloxanes）、其共聚物（copolymer thereof）、其彈性體（elastomer thereof）或其任意組合。
8. 如請求項4所述之可撓性覆蓋透鏡組件，其中該濕硬塗層包括丙烯酸酯，其中該丙烯酸酯包括可輻射固化的丙烯酸酯（radiation curable acrylate）、脂肪族氨基甲酸酯丙烯酸酯（aliphatic urethane acrylate）、其共聚物（copolymer thereof）、其彈性體（elastomer thereof）或其任意組合。
9. 如請求項4所述之可撓性覆蓋透鏡組件，其中該濕硬塗層具有約6 %至約10 %的孔隙率（porosity）。
10. 如請求項4所述之可撓性覆蓋透鏡組件，其中該濕塗層具有介於約1.40至約1.55的折射率。
11. 如請求項4所述之可撓性覆蓋透鏡組件，其中該濕硬塗層具有介於約0.5 GPa至約1.2 GPa之間的奈米壓痕硬度（nano-indentation hardness），且該濕硬塗層具有介於約0.5 至約40 之間的厚度。
12. 如請求項4所述之可撓性覆蓋透鏡組件，其中該玻璃層具有介於約20微米至約100微米之間的厚度。
13. 一種可撓性覆蓋透鏡組件，包括： 一玻璃層； 一黏性促進層，直接配置在該玻璃層上，其中該黏性促進層的材料包括選自由氧化矽、碳化矽、碳氧化矽、氮化矽、氧氮化矽、碳氮化矽氮化物、其摻雜劑及其任何組合所構成群組，且該黏性促進層具有介於約1.40至約1.55的折射率； 一乾硬塗層，配置在該黏性促進層上； 一抗指紋塗層，配置在該乾硬塗層上； 其中，該可撓性覆蓋透鏡組件具有大於1 %至約15 %的臨界應變。
14. 如請求項13所述之可撓性覆蓋透鏡組件，其中該可撓性覆蓋透鏡組件具有介於約1.5 %至約10 %的臨界應變。
15. 如請求項13所述之可撓性覆蓋透鏡組件，其中該玻璃層為一該超薄玻璃層（ultra-thin glass layer），且具有介於約20微米至約100微米的厚度。
16. 如請求項13所述之可撓性覆蓋透鏡組件，其中該乾硬塗層的材料包括選自由氧化矽、碳化矽、碳氧化矽、氮化矽、氮氧化矽、碳氧化矽氮化物、其摻雜劑及其任意組合所構成的群組。
17. 如請求項13所述之可撓性覆蓋透鏡組件，其中該濕硬塗層由氣相沉積製程（vapor deposition process）所製成，且具有介於約1.5 GPa至約4.5 GPa之間的奈米壓痕硬度。
18. 如請求項13所述之可撓性覆蓋透鏡組件，其中該乾硬塗層具有約1 %至約7 %的孔隙率。
19. 如請求項13所述之可撓性覆蓋透鏡組件，其中該乾硬塗層具有介於約1.42至約1.55的折射率。
20. 如請求項13所述之可撓性覆蓋透鏡組件，其中該乾硬塗層具有介於約0.5 至約40 的厚度。