CN108139837B - 导电性薄膜及具备该导电性薄膜的显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种导电性薄膜及具备该导电性薄膜的显示装置。本发明的导电性薄膜中，在构成不规则配线图案的1个以上的金属细线的沿显示机构的子像素的长度方向延伸的可视为1条的连续的1条线段在长度方向上纵断1个以上的子像素的情况下，将由1条线段纵断的1个以上的纵断子像素在长度方向上的合计长度设为1条线段的长度Lμm，将1条线段覆盖1个以上的纵断子像素的覆盖率设为C％时，在显示机构的像素排列图案上重叠的不规则配线图案的1条线段的长度L及覆盖率C包括在下述式所表示的线以下的区域内。当0＜x≤168时，y＝6.7；当168＜x≤252时，y＝‑0.00595x+7.7；当252＜x≤378时，y＝‑0.00476x+7.4；当378＜x≤504时，y＝‑0.02143x+13.7；当504＜x≤756时，y＝2.9。

Description

导电性薄膜及具备该导电性薄膜的显示装置
技术领域
本发明涉及一种导电性薄膜及具备该导电性薄膜的显示装置，详细而言，涉及一种抑制由与显示装置的干渉所引起的干扰且具有可见性优异的网格状配线图案的导电性薄膜及显示装置。
背景技术
作为设置于显示装置(以下，也称为显示器)的显示机构上的导电性薄膜，例如可以举出具有如下导电膜的触摸面板用的导电性薄膜或电磁波屏蔽用的导电性薄膜等，该导电膜由具有网格状配线图案(以下，也称为网格图案)的金属细线构成。
在这种网格图案中，由与显示器的像素排列图案(例如，可称为RGB滤色器的排列图案或作为其反转图案的黑矩阵(Black Matrix：以下，也称为BM)图案)的干渉所引起的莫尔纹的视觉辨认成为问题，因此提出了多种莫尔纹不被视觉辨认或难以被视觉辨认的随机的网格图案(例如，参考专利文献1)。
例如，专利文献1中公开有由金属制作，且具备具有由不规则多边形构成的随机的不规则网格的透明电极区域的金属网格导电层，并且公开有即使由不规则网格构成的透明电极区域重叠于液晶显示器的表面也可防止莫尔纹的产生。
如此，以沃罗诺伊多边形、德洛内三角形为代表的随机的网格图案具有抑制与显示器重叠时所产生的莫尔纹且不依赖于显示器分辨率而提高可见性的效果，这是周知的事实。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2014-519129号公报
发明内容
发明要解决的技术课题
继而，在专利文献1中提出有为了改善透明电极区域的可见性而由随机的不规则网格构成金属制电极来制成随机的网格图案。
然而，随机的网格图案因与显示器的重叠而产生多种干扰，存在难以以图案单体来提高其可见性的问题。
并且，以上述专利文献1中所公开的随机的不规则网格为首，为了使随机的网格图案作为触摸面板发挥功能，需要以随机的网格图案的电子数据为基础制作传感器薄膜的工艺。例如，读入利用CAD(computer aided design：计算机辅助设计)或Illustrator(注册商标)制作的随机的图案信息，通过曝光、光刻、印刷工艺来制作传感器薄膜。当以矢量数据具有随机的网格图案时，所适用的显示器的尺寸越大，电子数据的容量越增加，存在难以处理数据的情况。因此，可以举出通过在小区域制作随机的网格图案并重复该图案来抑制数据容量的增加的对策。
然而，可知在这种情况下存在重复结构成为原因而可见性恶化的问题。作为由该随机的网格图案小片的重复所引起的可见性恶化的例子，在图25中示出重复模样被视觉辨认的例子。例如，在以随机图案的小片制作的情况下，若不设定若干限制条件，则存在如图25所示的重复模样显眼，容易被视觉辨认的问题。在此，图25是随机的网格图案的拍摄图像，重复的可见性局部恶化部分被圆圈记号围住。在该被圆圈记号围住的可见性局部恶化部分中，相连的黑点为恶化的部位，剩余的部位表示均匀的干扰。
因此，为了防止由随机的网格图案小片的重复所引起的可见性恶化，在制作随机的网格图案电子数据时，需要设定限制。即，规定用于提高可见性的显示器与随机图案的组合变得重要。
本发明的目的在于解决上述现有技术的问题点，并提供一种具有能够抑制在与显示机构(显示器)的组合中被视觉辨认的干扰的产生并提高可见性的随机(不规则)的网格状配线图案(网格图案)的导电性薄膜及具备该导电性薄膜的显示装置。
本发明的目的尤其在于提供一种具有如下随机的网格图案的导电性薄膜及具备该导电性薄膜的显示装置，所述随机的网格图案在显示器的红(R)、绿(G)、蓝(B)子像素的开口分别具有不同的频率/强度时的随机的网格图案的设计中能够设为能够提供不仅是莫尔纹、干扰也不被视觉辨认或难以被视觉辨认的最优画质的显示器与网格图案的组合。
用于解决技术课题的手段
为了实现上述目的，本发明的第1方式所涉及的导电性薄膜，其设置于显示装置的显示机构上，所述导电性薄膜的特征在于，具有：透明基体；及在透明基体的至少一侧的面上具有的由多个金属细线构成的导电部，导电部具有不规则配线图案，所述不规则配线图案为由多个金属细线构成的网格状且具备具有不同的开口形状的多个开口部，显示机构具有像素排列图案，所述像素排列图案由包含射出至少3色的多色光的多个子像素的像素排列而成，导电性薄膜以不规则配线图案和显示机构的像素排列图案重叠的方式设置于显示机构，在构成不规则配线图案的1个以上的金属细线由沿显示机构的子像素的长度方向延伸的可视为1条的连续的1条线段构成，且1条线段在长度方向上纵断沿长度方向排列的1个以上的子像素的情况下，将由1条线段纵断的1个以上的纵断子像素在长度方向上的合计长度设为1条线段的长度Lμm，将1个以上的纵断子像素的合计面积设为S，并且将在1个以上的纵断子像素内1条线段所占的面积的合计设为线宽面积SL，以下述式(1)表示覆盖率C％时，
C＝100×SL/S……(1)，
不规则配线图案由如下1个以上的金属细线构成，所述1个以上的金属细线由在将1条线段的长度L设为成为x坐标的横轴、将覆盖率C设为成为y坐标的纵轴的xy二维坐标中包括在下述式(2)所表示的线以下的区域内的1条线段构成。
当0＜x≤168时，y＝6.7、
当168＜x≤252时，y＝-0.00595x+7.7、
当252＜x≤378时，y＝-0.00476x+7.4、
当378＜x≤504时，y＝-0.02143x+13.7、
当504＜x≤756时，y＝2.9……(2)
即，不规则配线图案由如下1个以上的金属细线构成，所述1个以上的金属细线由在xy二维坐标中包括在连结6个坐标(84、6.7)、坐标(168、6.7)、坐标(252、6.2)、坐标(378、5.6)、坐标(504、2.9)及坐标(756、2.9)的线以下的区域、及1条线段的长度L为84μm以下且覆盖率C为6.7％以下的区域内的1条线段构成。
并且，为了实现上述目的，本发明的第2方式所涉及的显示装置的特征在于，具备：显示机构，以具备多个子像素的像素在一个方向及与一个方向垂直的方向上重复的像素排列图案排列而成，所述子像素射出互不相同的多色光；及上述第1方式的导电性薄膜，设置于该显示机构上。
发明效果
如以上说明，根据本发明，能够提供一种具有在与显示机构(显示器)的组合中能够抑制被视觉辨认的干扰的产生并提高可见性的随机(不规则)的网格状配线图案(网格图案)的导电性薄膜及具备该导电性薄膜的显示装置。
并且，根据本发明，尤其能够提供一种具有如下随机的网格图案的导电性薄膜及具备该导电性薄膜的显示装置，所述随机的网格图案在显示器的红(R)、绿(G)、蓝(B)子像素的开口分别具有不同的频率/强度时的随机的网格图案的设计中能够设为能够提供不仅是莫尔纹、干扰也不被视觉辨认或难以被视觉辨认的最优画质的显示器与网格图案的组合。
附图说明
图1是示意地表示本发明的第1实施方式所涉及的导电性薄膜的一例的局部剖视图。
图2是示意地表示图1所示的导电性薄膜的配线部的由沃罗诺伊多边形构成的随机的网格状配线图案的一例的俯视图。
图3是表示为了生成形成图2所示的随机网格图案的沃罗诺伊多边形而在1个平面区域内以任意的间隔产生的种子点(点)的点切出图像的一例的概略说明图。
图4是示意地表示本发明的导电性薄膜的配线部的随机的网格状配线图案的其他一例的俯视图。
图5A是表示为了生成形成图4所示的随机的网格状配线图案的多边形而在1个平面区域内以任意的间隔产生的种子点(点)的点切出图像的一例的概略说明图。
图5B是在图5A所示的点切出图像的点的位置处折叠菱形图案的菱形图案图像的一例的概略说明图。
图6A是示意地表示本发明的导电性薄膜的配线部的随机的网格状配线图案的其他一例的俯视图。
图6B是示意地表示本发明的导电性薄膜的配线部的随机的网格状配线图案的其他一例的俯视图。
图6C是示意地表示本发明的导电性薄膜的配线部的随机的网格状配线图案的其他一例的俯视图。
图7是示意地表示图1所示的导电性薄膜的上侧及下侧的配线部的配线图案的重叠而形成的合成配线图案的一例的俯视图。
图8是示意地表示本发明的其他实施方式所涉及的导电性薄膜的上侧及下侧的配线部的配线图案的重叠而形成的合成配线图案的一例的俯视图。
图9是示意地表示本发明的其他实施方式所涉及的导电性薄膜的上侧的配线部的配线图案的一例的俯视图。
图10是本发明的第2实施方式所涉及的导电性薄膜的一例的示意性局部剖视图。
图11是本发明的第3实施方式所涉及的导电性薄膜的一例的示意性局部剖视图。
图12是本发明的第4实施方式所涉及的导电性薄膜的一例的示意性局部剖视图。
图13是表示适用本发明所涉及的导电性薄膜的显示机构的一部分的像素排列图案的一例的概略说明图。
图14是安装有图1所示的导电性薄膜的显示装置的一实施例的概略剖视图。
图15A是表示适用本发明所涉及的导电性薄膜的显示机构的一部分的像素排列图案的一例的概略说明图。
图15B是图15A的像素排列图案的局部放大图。
图16A是表示适用于本发明的3个子像素的样式及周期中的至少1个不同的像素排列图案的构成单元的一例的概略说明图。
图16B是表示适用于本发明的3个子像素的样式及周期中的至少1个不同的像素排列图案的构成单元的其他一例的概略说明图。
图16C是表示适用于本发明的3个子像素的样式及周期中的至少1个不同的像素排列图案的构成单元的其他一例的概略说明图。
图17A是示意地表示图13所示的显示机构的像素排列图案的像素中的3个子像素的强度偏差的一例的说明图。
图17B是示意地表示图13所示的显示机构的像素排列图案的像素中的3个子像素的强度偏差的其他一例的说明图。
图18A是表示分辨率、形状及强度不同的显示机构的像素排列图案的代表子像素的2×2像素的重复单元的一例的示意图。
图18B是表示分辨率、形状及强度不同的显示机构的像素排列图案的代表子像素的2×2像素的重复单元的其他一例的示意图。
图18C是表示分辨率、形状及强度不同的显示机构的像素排列图案的代表子像素的2×2像素的重复单元的其他一例的示意图。
图18D是表示分辨率、形状及强度不同的显示机构的像素排列图案的代表子像素的2×2像素的重复单元的其他一例的示意图。
图18E是表示分辨率、形状及强度不同的显示机构的像素排列图案的代表子像素的2×2像素的重复单元的其他一例的示意图。
图18F是表示分辨率、形状及强度不同的显示机构的像素排列图案的代表子像素的2×2像素的重复单元的其他一例的示意图。
图18G是表示分辨率、形状及强度不同的显示机构的像素排列图案的代表子像素的2×2像素的重复单元的其他一例的示意图。
图18H是表示分辨率、形状及强度不同的显示机构的像素排列图案的代表子像素的2×2像素的重复单元的其他一例的示意图。
图18I是表示分辨率、形状及强度不同的显示机构的像素排列图案的代表子像素的2×2像素的重复单元的其他一例的示意图。
图18J是表示分辨率、形状及强度不同的显示机构的像素排列图案的代表子像素的2×2像素的重复单元的其他一例的示意图。
图18K是表示分辨率、形状及强度不同的显示机构的像素排列图案的代表子像素的2×2像素的重复单元的其他一例的示意图。
图18L是表示分辨率、形状及强度不同的显示机构的像素排列图案的代表子像素的2×2像素的重复单元的其他一例的示意图。
图18M是表示分辨率、形状及强度不同的显示机构的像素排列图案的代表子像素的2×2像素的重复单元的其他一例的示意图。
图18N是表示分辨率、形状及强度不同的显示机构的像素排列图案的代表子像素的2×2像素的重复单元的其他一例的示意图。
图18O是表示分辨率、形状及强度不同的显示机构的像素排列图案的代表子像素的2×2像素的重复单元的其他一例的示意图。
图18P是表示分辨率、形状及强度不同的显示机构的像素排列图案的代表子像素的2×2像素的重复单元的其他一例的示意图。
图19是表示划分由构成本发明的导电性薄膜的随机的网格状配线图案的金属细线的连续的1条线段纵断显示机构的像素排列图案的1个以上的子像素时的1条线段的合计长度L及覆盖率C的干扰不被视觉辨认的区域的线的曲线图。
图20A是表示构成导电性薄膜的随机的网格状配线图案的金属细线的连续的1条线段通过显示机构的像素排列图案的1个以上的子像素上的状态的一例的示意图。
图20B是表示构成导电性薄膜的随机的网格状配线图案的金属细线的连续的1条线段通过显示机构的像素排列图案的1个以上的子像素上的状态的其他一例的示意图。
图20C是表示构成导电性薄膜的随机的网格状配线图案的金属细线的连续的1条线段通过显示机构的像素排列图案的1个以上的子像素上的状态的其他一例的示意图。
图20D是表示构成导电性薄膜的随机的网格状配线图案的金属细线的连续的1条线段通过显示机构的像素排列图案的1个以上的子像素上的状态的其他一例的示意图。
图21A是表示本发明中的模拟实验中所使用的显示机构的像素排列图案的一例的概略说明图。
图21B是表示本发明中的模拟实验中所使用的显示机构的像素排列图案的其他一例的概略说明图。
图22是将本发明中的模拟实验的结果标绘于长度L、覆盖率C及劣化尺度的三维坐标的立体图。
图23是以长度L及覆盖率C表示本发明中的模拟实验的结果的二维曲线图。
图24是表示根据本发明中的模拟实验的结果求出的近似公式的曲线图。
图25是表示在现有技术中被视觉辨认的重复模样的概略说明图。
具体实施方式
以下，参考附图所示的优选实施方式，对本发明所涉及的导电性薄膜及具备该导电性薄膜的显示装置进行详细说明。
本发明为了抑制在不规则的网格状的随机图案(以下，称为随机网格图案)与显示器像素排列(BM)图案的重叠中被视觉辨认的干扰而提供一种具有用于与显示器组合的随机网格图案的导电性薄膜。
在此，作为本发明中所使用的随机网格图案，可以说是具备以下条件的不规则的网格图案；对显示器像素排列(BM)图案构成网格，构成随机网格图案的1个以上的金属细线由沿显示器的像素内的子像素(subpixel)的长度方向延伸的可视为1条的连续的1条线段构成，由该1条线段在长度方向上纵断沿长度方向排列的1个以上的子像素的情况下，将纵断1个以上的子像素的连续的金属细线的1条线段的合计长度设为L(μm)及将在1个以上的纵断子像素内1条线段所占的面积的合计设为线宽面积(合计面积)SL时，作为纵断1个以上的子像素的线段的合计面积SL与1个以上的子像素的合计面积S之比(百分比)，受到下述式(1)所表示的覆盖率C(％)的限制。
C＝100×SL/S……(1)
继而，在显示装置(显示器)与随机网格图案的组合中，如图19中实线所示，线段的长度L(μm)与覆盖率C(％)在将长度L(μm)设为x轴、将覆盖率C(％)设为y轴的xy二维坐标中为存在于图19中实线所示的规定的线以下的区域内的组合时，将随机网格图案的电子数据作为规定的小片的随机网格图案的重复电子数据而实现降低设计时的存储成本(memorycost)，制作出将整体的随机网格图案作为小片的随机网格图案的重复图案的本发明的导电性薄膜，即使重叠显示器的BM图案与本发明的导电性薄膜的随机网格图案，干扰也不会被视觉辨认。因此，在本发明中，作为随机网格图案，能够如上述那样下定义，但为了使因将显示器的BM图案的1个以上的子像素纵断的随机网格图案的金属细线的连续的线段而产生的重复模样不被视觉辨认，需要对前述连续的线段的长度L(μm)和覆盖率C(％)设定限制。
在此，重复模样依赖于成为模样的长度的纵断1个以上的子像素的金属细线的连续的1条线段的长度L(μm)及成为模样的强度的覆盖率C(％)而被视觉辨认。因此，设想随机网格图案与显示器重叠的情况，需要将随机图案定义为不产生规定的数值以上的重复模样。
因此，在本发明中，在随机网格图案与显示器的BM图案的组合中，成为模样的长度的上述线段的长度L(μm)和成为模样的强度的覆盖率C(％)需要在干扰不被视觉辨认的规定的范围或区域内。另外，为了明确该规定范围，通过模拟而计算其数值范围。
在本发明中，这种干扰不被视觉辨认的随机网格图案的上述1条线段的长度L(μm)及覆盖率C(％)的规定范围是图19中实线所示的曲线图的线以下的区域。即，是如图19中实线所示的在xy二维坐标中比下述式(2)所表示的线更靠下侧的区域。
当0＜x≤168时，y＝6.7、
当168＜x≤252时，y＝-0.00595x+7.7、
当252＜x≤378时，y＝-0.00476x+7.4、
当378＜x≤504时，y＝-0.02143x+13.7、
当504＜x≤756时，y＝2.9……(2)
另外，该区域可以说是如后述的表4中作为最大值所示那样，在图19所示的xy二维坐标中，连结6个坐标(84、6.7)、坐标(168、6.7)、坐标(252、6.2)、坐标(378、5.6)、坐标(504、2.9)及坐标(756、2.9)的线以下的区域及1条线段的长度L为84μm以下且覆盖率C为6.7％以下的区域。
另外，关于干扰不被视觉辨认的随机网格图案的上述1条线段的长度L(μm)及覆盖率C(％)的数值范围的详细内容及用于计算该数值范围的模拟的详细内容，将进行后述。
以下，对于本发明所涉及的导电性薄膜，以触摸面板用的导电性薄膜为代表例进行说明。本发明并不限定于此，只要是具有随机的网格状配线图案(随机网格图案)的配线部，且设置于显示装置的各种发光强度的显示机构上的导电性薄膜，则可以是任意导电性薄膜，所述随机的网格状配线图案为在配置于透明基体的两侧或者隔着绝缘层配置于透明基体的一侧的配线图案中的至少一方由赋予了不规则性的多边形状的机构(开口部)构成。例如，当然可以为电磁波屏蔽用的导电性薄膜等。
另外，作为重叠本发明所涉及的导电性薄膜的显示装置的显示机构并没有特别限制，例如能够举出液晶显示器(LCD：Liquid Crystal Display)、等离子体显示面板(PDP：Plasma Display Panel)、利用有机电致发光(有机EL)(OEL：Organic Electro-Luminescence)的有机EL(发光)二极管(OLED：Organic Light Emitting Diode)或有机EL显示器(OELD：Organic Electro-Luminescence Display)、无机EL(Electro-Luminescence)显示器、电子纸等。
另外，对详细内容进行后述，重叠本发明的导电性薄膜的显示装置的显示机构(以下，也称为显示器)只要是如下显示机构，则并没有特别限制，即，以包含多个子像素的像素的像素排列图案(以下，也称为BM图案)排列而成，该子像素射出互不相同的至少3色、例如包括红(R)、绿(G)及蓝(B)3色的多色光，且在由导电性薄膜的重叠所产生的干扰的可见性评价中能够考虑其发光强度(亮度)下的各子像素(滤色器)的亮度(明度)。上述显示机构例如可以如以往那样为子像素(滤色器)的重复周期及强度(形状、尺寸)、即子像素排列图案(子像素的形状及尺寸、周期)在RGB等多色中完全相同且具有能够以G子像素为代表的BM图案的显示机构。并且，上述显示机构也可以如前述OELD那样为在多色中并非完全相同、即具有包含至少关于2个颜色不同的子像素排列图案的BM图案的显示机构。
并且，成为本发明的对象的显示装置的显示器可以为如高分辨率智能手机或平板终端等那样发光强度高的显示器，也可以为如低分辨率的台式个人计算机或电视(TV)等那样发光强度低的显示器，还可以如中分辨率笔记本式计算机等那样发光强度为中等程度的显示器。
图1是示意地表示本发明的第1实施方式所涉及的导电性薄膜的一例的局部剖视图，图2是分别示意地表示图1所示的导电性薄膜的配线部的配线图案的一例的俯视图。
如这些图所示，本实施方式的导电性薄膜10为如下导电性薄膜，即，设置于显示装置的显示机构上，且具有对于显示机构的黑矩阵(BM：Black Matrix)在抑制干扰的产生的观点上优异的配线图案，尤其具有重叠于BM图案时对于BM图案在干扰的可见性的观点上最优化的配线图案，所述导电性薄膜具有：透明基体12；成为第1电极部的第1配线部16a，形成于透明基体12的一侧的面(图1中上侧的面)，且由多个金属制细线(以下，称为金属细线)14构成；第1保护层20a，以覆盖金属细线14的方式隔着第1粘接层18a粘接于第1配线部16a的大致整个面；成为第2电极部的第2配线部(电极)16b，形成于透明基体12的另一个面(图1中下侧的面)，且由多个金属制细线14构成；及第2保护层20b，隔着第2粘接层18b粘接于第2配线部16b的大致整个面。
另外，以下，统称第1配线部16a及第2配线部16b时简称为配线部16，统称第1粘接层18a及第2粘接层18b时简称为粘接层18，统称第1保护层20a及第2保护层20b时简称为保护层20。
透明基体12包含具有绝缘性且透光性高的材料，例如能够举出树脂、玻璃、硅等材料。作为树脂，例如可以举出PET(Polyethylene Terephthalate：聚对苯二甲酸乙二酯)、PMMA(Polymethyl methacrylate：聚甲基丙烯酸甲酯)、PP(polypropylene：聚丙烯)、PS(polystyrene：聚苯乙烯)等。
金属细线14只要是呈波线的形状且导电性高的金属制细线，则并没有特别限制，例如能够举出由金(Au)、银(Ag)或铜(Cu)的线材等构成的细线。从可见性的观点而言，金属细线14的线宽优选为较细，例如为30μm以下即可。另外，在触摸面板用途中，金属细线14的线宽优选0.1μm以上且15μm以下，更优选1μm以上且9μm以下，进一步优选2μm以上且7μm以下。
配线部16(16a、16b)构成本发明的导电部，具有具备由排列成网格状的网格配线21(21a、21b)形成的配线图案24(24a、24b)的波线形状的多个金属细线14。详细而言，如图2所示，配线图案24(24a、24b)为使多个金属细线14彼此互相交叉而形成的规定的随机形状、例如随机的多边形状的开口部(机构)22(22a、22b)排列而成的网格图案。
如图2所示，配线部16(16a及16b)由配线层28(28a及28b)构成，所述配线层28(28a及28b)具有金属细线14和由所述金属细线14与相邻的金属细线14之间的开口部(机构)22(22a及22b)形成的随机的网格形状的配线图案24(24a及24b)。配线图案24a及24b为通过由多个金属细线形成的开口部成为随机的多边形而赋予了不规则性的配线图案、即随机网格图案25a。该随机网格图案25a只要由金属细线14形成的开口部22的形状不同，则可以为不同的两种以上的开口形状，也可以成为其顶点的数量为1种以上的随机的多边形状，并且也可以为任何随机网格图案。
另外，在图1所示的例子中，配线图案24具有如图2所示的随机网格图案25a作为配线图案24a及24b。
在此，图2所示的作为赋予了不规则性的配线图案的随机网格图案25a具有具备由沃罗诺伊多边形构成的开口部22的配线形状，所述沃罗诺伊多边形是在如图3所示的1个平面区域100内，将以任意的间隔存在于多个位置的多个种子点p作为基准，按照沃罗诺伊图(沃罗诺伊分割法)来确定。
图3表示为了生成形成图2所示的随机网格图案的沃罗诺伊多边形，在1个平面区域100内以任意的间隔随机选择的多个位置上产生点而设为多个种子点p的点切出图像。
在图2所示的随机网格图案25a中，按照沃罗诺伊图(沃罗诺伊分割法)分别划定分别包围图3所示的多个种子点p的多个随机的多边形的区域、即多个沃罗诺伊多边形的区域。在此，根据沃罗诺伊图区画的多个沃罗诺伊多边形的区域表示种子点p作为最靠近的点的点的集合体。在此，作为距离函数，使用了欧几里德距离，但也可以使用各种函数。
另外，作为本发明中所使用的随机网格图案，也可以使用具有具备开口部22的配线形状的随机网格图案(未图示)，所述开口部22由以图3所示的多个种子点为基准，按照德洛内图(德洛内三角形分割法)确定的德洛内三角形构成。德洛内三角形分割法是指连结多个种子点p中相邻的种子点彼此而划定三角形区域的方法。由此，能够分别划定例如以多个种子点中的任意一个作为顶点的多个德洛内三角形的区域。
并且，作为本发明中所使用的随机网格图案，并不限定于具有上述沃罗诺伊多边形或德洛内三角形等开口部(机构)的形状的随机网格图案，只要是随机网格图案，则可以为任何图案。
例如，可以为将菱形等正多边形的规则的定型图案随机化至数％例如10％以下的随机网格图案等。另外，这种随机网格图案中不包括仅将正多边形的规则的定型图案的间距随机化的图案或仅将角度随机化的图案。
作为这种具有各向异性的随机网格图案，例如能够举出如图4所示的随机网格图案。
如图4所示的随机网格图案为具有频率峰值强度和指向性均强的规则的定型网格图案(以下，也称为定型图案)与频率峰值强度和指向性均弱的具有沃罗诺伊多边形或德洛内三角形等的开口部(机构)的形状的随机网格图案(以下，代表性地也简称为沃罗诺伊随机图案)之间的中间指向性的随机图案。
在此，图4所示的各向异性随机网格图案25b是开口部22的开口形状的原图形为菱形，且开口部22的开口重心偏移以平均值计为数％、例如5％左右、优选10％～15％、更优选15％～20％的网格图案，能够以如下方式进行制作。
首先，如图5A所示，在1个平面区域110内，在以任意的间隔随机地选择的多个位置、例如使用随机数等以任意的间隔在多个位置配置种子点(点)p作为成为菱形等闭空间的重心的点而制作点切出图像112。另外，也可以预先在平面区域110内规则地配置点，使用标准偏差等而使该点之间的间隔向360度任意的方向偏移，由此配置种子点p。
接着，如图5B所示，在配置于平面区域110内的图5A所示的种子点p的位置，使成为开口部22的菱形图案114以与相邻的菱形图案114互相分开且在两者之间存在边界区域116的方式进行折叠，从而制作菱形图案图像118。在图示例中，在种子点p折叠了菱形图案114，但本发明并不限定于菱形，也可以为包含正三角形、二等边三角形等三角形、正方形、长方形(矩形)、平行四边形等四边形、正五边形等五边形、正六边形等六边形等正多边形的多边形。
接着，为了将图5B所示的菱形图案图像118的边界区域116细线化而实施细线化处理、例如mathworks公司制造的矩阵实验室(matlab)的细线化处理。
在此，在细线化处理中，重复进行通过去除边界区域116的缘部的像素而使边界区域116收缩，且通过在菱形图案114的缘部去除像素而使菱形图案114膨胀，从而以成为同一线宽的细线的方式进行细线化。
如此，能够形成图4所示的随机网格图案25b。
这种形状的金属细线14能够通过对银等的金属层进行蚀刻等公知方法而容易形成。
另外，作为具有各向异性的随机网格图案，除了原图形为图5B所示的菱形图案114的图4所示的随机网格图案25b以外，例如还能够举出原图形为与图5B所示的菱形图案114不同的菱形的图6A所示的随机网格图案25c、原图形为六边形的图6B所示的随机网格图案25d、原图形为平行四边形的图6C所示的随机网格图案25e等。
另外，以下，以图2所示的随机网格图案25a为代表例进行说明，但当然同样也能够使用图4以及图6A、图6B及图6C所示的随机网格图案25b、25c、25d及25e。
另外，详细内容进行后述，本发明的导电性薄膜10也可以为如下导电性薄膜，即，在作为上侧及下侧的配线图案24a及24b的合成配线图案24的情况下，具有对于显示机构的BM图案的规定的明度(明度图像数据)在干扰可见性的观点上也被最优化的随机网格图案。另外，在该情况下，对于规定的明度的BM图案在干扰可见性的观点上也被最优化的配线图案是指，在作为合成配线图案24的情况下，对于规定的明度的BM图案，干扰也不会被人的视觉感觉到的1个或2个以上的1群配线图案。另外，在本说明书中，干扰的可见性是指无法视觉辨认干扰的程度。
因此，图2所示的随机网格图案25a为在作为合成配线图案24的情况下，对于显示机构的BM图案的规定的明度(明度图像数据)在干扰可见性的观点上也被最优化的随机网格图案，并且是根据随机网格图案25a的透射率图像数据作为上侧及下侧的配线图案24a及24b而被重合的合成配线图案24的合成图像数据和分别将显示器的多色光点亮时的各颜色的BM图案的明度图像数据而求出的干扰的评价指标成为规定评价阈值以下的随机网格图案，可以说是其本身重叠于规定发光强度的显示器的显示画面而能够充分抑制干扰的产生，且能够提高可见性的、对于显示机构的规定的明度的BM图案在干扰可见性的观点上被最优化的随机网格图案。
另外，这种被最优化的随机网格图案25a中，可以在构成开口部22的金属细线14的边(网格配线21)上加入有断线(断点)。作为具有这种断点的网格状配线图案的形状，能够适用本申请人的申请所涉及的日本申请2014-553082号说明书中所记载的导电性薄膜的网格状配线图案的形状。
在图1所示的实施方式的导电性薄膜10中，图1中，透明基体12的上侧(观察侧)的第1配线部16a的多个金属细线14和下侧(显示器侧)的第2配线部16b的多个金属细线14均分别具有图2所示的赋予了不规则性的随机网格图案25a作为配线图案24a及24b，如图7所示，构成通过上下的赋予了不规则性的配线图案24a及24b的重合而赋予了不规则性的合成配线图案24。另外，在图7及后述的图8中，为了容易理解，以粗线表示构成上侧的配线图案24a的多个金属细线14，以细线表示构成下侧的配线图案24b的多个金属细线14，但粗线及细线的宽度当然并不表示金属细线14的线宽，其可以相同，也可以不同。
即，在图1所示的例子中，均由具有如图2所示的赋予了不规则性的随机网格图案25a的多个金属细线构成第1配线部16a及第2配线部16b，但本发明并不限定于此，只要在任意一个配线部16的至少一部分具有具备图2所示的赋予了不规则性的随机网格图案25a的多个金属细线即可。
如此，通过由赋予了(随机化)不规则性的随机网格图案25a构成导电性薄膜的上侧或下侧的配线部16(配线部16a或16b)的全部或一部分金属细线，能够使通过两个配线部16的配线图案的重合而合成的网格状配线图案随机化来使透射网格状配线图案而来的光变得随机，从而能够改善由配线图案与显示器的干渉所引起的干扰可见性。
例如，如图8所示，可以由具有不同的配线图案的多个金属细线构成第1配线部16a及第2配线部16b。在图8所示的例子中，由具有图2所示的赋予了不规则性的随机网格图案25a的多个金属细线14构成透明基体12的上侧的第1配线部16a，且由具有由菱形形状的开口部构成的规则的定型图案27的多个金属细线14构成透明基体12的下侧的第2配线部16b，但也可以倒过来，由具有定型图案27的多个金属细线14构成第1配线部16a，且由具有随机网格图案25a的多个金属细线14构成第2配线部16b。由此，能够对随机网格图案25a与规则的定型图案27的重合而形成的合成配线图案赋予不规则性。
或者，如图9所示，也可以将第1配线部16a及第2配线部16b中的至少一方的多个金属细线14如上述那样通过断线(断点)分断为构成配线层28的电极部17和虚设电极部(非电极部)26，由具有图2所示的随机网格图案25a的多个金属细线14构成电极部17及虚设电极部26中的任意一方，且由具有规则的定型图案27(参考图8)的多个金属细线14构成另一方而设为如后述的图10所示的本发明的第2实施方式的导电性薄膜11那样的方式。由此，能够对随机网格图案25a及规则的定型图案27的组合与随机网格图案25a或定型图案27的重合而形成的合成配线图案、或随机网格图案25a及定型图案27的组合彼此的重合而形成的合成配线图案赋予不规则性。
另外，在图9中，可以通过断线(断点)将透明基体12的上侧的第1配线部16a分断为电极部17a和其两侧的2个虚设电极部26，由具有图2所示的随机网格图案25a的多个金属细线14构成2个虚设电极部26，且由具有规则的定型图案27的多个金属细线14构成电极部17a，但当然也可以倒过来。
另外，在图7、图8及图9等所示的例子中，由多个金属细线14构成第1配线部16a及第2配线部16b双方，但本发明并不限定于此，也可以代替多个金属细线14而由ITO(IndiumTin Oxide：氧化铟锡(掺锡氧化铟))等的透明导电膜所形成的经图案化的配线来构成一个配线部。在该情况下，另一个配线部的配线图案成为合成配线图案。
例如，在图8所示的例子和其倒过来的例子等中，也可以代替具有第1配线部16a及第2配线部16b中的一方的规则的定型图案27的多个金属细线14而使用由ITO形成的经图案化的配线。
并且，如图9所示，当第1配线部16a及第2配线部16b中的一方通过断线(断点)分断为电极部17a和其两侧的2个虚设电极部26，电极部17a及虚设电极部26中的一方由具有经随机化的配线图案的多个金属细线14构成时，也可以代替构成另一个配线部的多个金属细线14而使用由ITO形成的经图案化的配线。
另外，关于图10所示的本发明的第2实施方式的导电性薄膜11的结构，将进行后述。
如上所述，第1保护层20a以覆盖第1配线部16a的金属细线14的方式，利用第1粘接层18a粘接于由第1配线部16a构成的配线层28a的大致整个面。并且，第2保护层20b以覆盖第2配线部16b的金属细线14的方式，利用第2粘接层18b粘接于由第2配线部16b构成的配线层28b的大致整个面。
在此，作为粘接层18(第1粘接层18a及第2粘接层18b)的材料，可以举出湿式层合粘接剂、干式层合粘接剂或热熔粘接剂等，但第1粘接层18a的材质和第2粘接层18b的材质可以相同，也可以不同。
并且，与透明基体12相同地，保护层20(第1保护层20a及第2保护层20b)包含含有树脂、玻璃、硅的透光性高的材料，但第1保护层20a的材质和第2保护层20b的材质可以相同，也可以不同。
第1保护层20a的折射率n1及第2保护层20b的折射率n2优选为均与透明基体12的折射率n0相等或为接近于其的值。在该情况下，透明基体12相对于第1保护层20a的相对折射率nr1及透明基体12相对于第2保护层20b的相对折射率nr2均成为接近于1的值。
在此，本说明书中的折射率是指在波长589.3nm(钠的D线)的光中的折射率，例如树脂中由作为国际标准规格的ISO 14782：1999(对应于JIS K 7105)定义。并且，透明基体12相对于第1保护层20a的相对折射率nr1由nr1＝(n1/n0)定义，透明基体12相对于第2保护层20b的相对折射率nr2由nr2＝(n2/n0)定义。
在此，相对折射率nr1及相对折射率nr2只要在0.86以上且1.15以下的范围内即可，更优选为0.91以上且1.08以下。
另外，通过将相对折射率nr1及相对折射率nr2的范围限定于该范围内来控制透明基体12与保护层20(20a、20b)的部件之间的光的透射率，能够进一步提高并改善干扰的可见性。
在图1所示的实施方式的导电性薄膜10中，透明基体12的上侧及下侧的两侧的配线部16(16a及16b)均成为具备多个金属细线14的电极部，但本发明并不限定于此，也可以由电极部和非电极部(虚设电极部)构成第1配线部16a及第2配线部16b中的至少一方。
图10是表示本发明的第2实施方式所涉及的导电性薄膜的一例的示意性局部剖视图。另外，图10所示的本第2实施方式的导电性薄膜的配线图案的俯视图与图2、图4、图6A～图6C、图7及图8所示的配线图案的俯视图相同，因此在此省略。
如该图所示，本第2实施方式的导电性薄膜11具有：第1配线部16a，由形成于透明基体12的一个(图10的上侧)面的第1电极部17a及虚设电极部26构成；第2配线部16b，由形成于透明基体12的另一个(图10的下侧)面的第2电极部17b构成；第1保护层20a，隔着第1粘接层18a粘接于由第1电极部17a及虚设电极部26构成的第1配线部16a的大致整个面；及第2保护层20b，隔着第2粘接层18b粘接于由第2电极部17b构成的第2配线部16b的大致整个面。
在导电性薄膜11中，第1电极部17a及虚设电极部26分别由多个金属细线14构成，并且作为配线层28a而形成于透明基体12的一侧(图10的上侧)的面，第2电极部17b由多个金属细线14构成，作为配线层28b而形成于透明基体12的另一侧(图10下侧)的面。在此，与第1电极部17a相同地，虚设电极部26形成于透明基体12的一侧(图10的上侧)的面，如图示例那样，由多个金属细线14构成，所述多个金属细线14同样排列于与形成于另一侧(图10的下侧)的面的第2电极部17b的多个金属细线14相对应的位置。
虚设电极部26与第1电极部17a分开规定间隔而配置，且处于与第1电极部17a电绝缘的状态下。
在本实施方式的导电性薄膜11中，在透明基体12的一侧的(图10的上侧)面也形成有虚设电极部26，所述虚设电极26由与形成于透明基体12的另一侧的(图10的下侧)面的第2电极部17b的多个金属细线14相对应的多个金属细线14构成，因此能够控制在透明基体12的一侧(图10的上侧)的面上由金属细线所引起的散射，从而能够改善电极可见性。
在此，配线层28a的第1电极部17a及虚设电极部26具有金属细线14和由开口部22形成的网格状的配线图案24a。并且，与第1电极部17a相同地，配线层28b的第2电极部17b具有金属细线14和由开口部22形成的网格状的配线图案24b。如上所述，透明基体12包含绝缘性材料，第2电极部17b处于与第1电极部17a及虚设电极部26电绝缘的状态下。
另外，第1电极部17a、第2电极部17b及虚设电极部26分别能够由与图1所示的导电性薄膜10的配线部16相同的材料相同地形成。
另外，第1保护层20a以覆盖第1配线部16a的第1电极部17a及虚设电极部26各自的金属细线14的方式，利用第1粘接层18a粘接于由第1电极部17a及虚设电极部26构成的配线层28a的大致整个面。
并且，第2保护层20b以覆盖第2配线部16b的第2电极部17b的金属细线14的方式，利用第2粘接层18b粘接于由第2电极部17b构成的配线层28b的大致整个面。
另外，图10所示的导电性薄膜11的第1粘接层18a及第2粘接层18b、以及第1保护层20a及第2保护层20b与图1所示的导电性薄膜10相同，因此省略其说明。
另外，在本实施方式的导电性薄膜11中，具备第2电极部17b的第2配线部16b不具有虚设电极部，但本发明并不限定于此，在第2配线部16b中，也可以在与第1配线部16a的第1电极部17a相对应的位置配置由金属细线14构成的虚设电极部，所述虚设电极部与第1电极部17a分开规定间隔且处于与第2电极部17b电绝缘的状态下。
在本实施方式的导电性薄膜11中，也可以在上述第1配线部16a设置虚设电极部26a，并且在第2配线部16b设置这种虚设电极部，由此能够将第1配线部16a的第1电极部17a与第2配线部16b的第2电极部17b的各网格配线对应地配置，因此能够控制在透明基体12的一侧(例如，图10的上侧或下侧)的面上由金属细线所引起的散射，从而能够改善电极可见性。
在图1及图10所示的第1及第2实施方式的导电性薄膜10及11中，在透明基体12的上侧及下侧的两侧分别形成有配线部16(16a及16b)，但本发明并不限定于此，也可以如图11所示的本发明的第3实施方式的导电性薄膜11A那样，设为将如下的导电性薄膜要素重叠2个的结构，即，在透明基体12的一侧的面(图11中上侧的面)形成由多个金属细线14构成的配线部16，且以覆盖金属细线14的方式隔着粘接层18将保护层20粘接于配线部16的大致整个面。
图11所示的本发明的第3实施方式的导电性薄膜11A具有：图11中为下侧的透明基体12b；第2配线部16b，形成于该透明基体12b的上侧面且由多个金属细线14构成；第2保护层20b，隔着第2粘接层18b粘接于第2配线部16b上；上侧的透明基体12a，例如利用粘接剂等粘接并配置于第2保护层20b上；第1配线部16a，形成于该透明基体12a的上侧面且由多个金属细线14构成；及保护层20a，隔着粘接层18a粘接于第1配线部16a上。
在此，第1配线部16a及第2配线部16b的金属细线14中的至少一方的全部或一部分为图2所示的赋予了不规则性的随机网格图案25a。
在图1、图10及图11所示的第1、第2及第3实施方式的导电性薄膜10、11及11A中，在透明基体12或12a的上侧及下侧的两侧分别形成有配线部16(16a及16b)，但本发明并不限定于此，也可以如图12所示的本发明的第4实施方式的导电性薄膜11B那样，设为如下单层配线结构的单层配线图案，所述单层配线结构是仅在透明基体12的一侧的面(图12中上侧的面)形成由多个金属细线14构成的配线部16，且以覆盖金属细线14的方式，隔着粘接层18将保护层20粘接于配线部16的大致整个面。
在此，配线部16的金属细线14为图2的、图4、图6A、图6B及图6C分别所示的随机网格图案25a、25b、25c、25d及25e中的任意一个。
上述本发明的第1、第2、第3及第4实施方式的导电性薄膜10、11、11A及11B例如适用于图13中示意地表示的显示机构30(显示器)的触摸面板(44：参考图14)，其为对于显示器的各颜色的像素排列(BM)图案，单层配线图案或合成配线图案具有在干扰可见性的观点上优异的不规则配线图案的导电性薄膜。
在此，在本发明中，在随机网格图案与显示器的BM图案的组合中，如上所述，决定由重复模样所引起的干扰的可见性的2个主要原因、即纵断1个以上的子像素的金属细线的连续的线段的长度L(μm)及覆盖率C(％)需要位于表示重复模样(干扰)不被视觉辨认的数值范围的图19所示的曲线图的线的下侧的区域。另外，关于该数值范围的详细内容及用于其计算的模拟，将进行后述。
本发明的导电性薄膜基本上如以上那样构成。
图13是示意地表示适用本发明的导电性薄膜的显示机构的一部分的像素排列图案的一例的概略说明图。
如图13中示出其一部分那样，显示机构30中，多个像素32排列成矩阵状而构成规定的像素排列图案。1个像素32是3个子像素(红色子像素32r、绿色子像素32g及蓝色子像素32b)沿水平方向排列而构成。1个子像素呈在垂直方向上纵长的长方形。像素32在水平方向上的排列间距(水平像素间距Ph)与像素32在垂直方向上的排列间距(垂直像素间距Pv)大致相同。即，由1个像素32和包围该1个像素32的黑矩阵(BM)34(图案材料)构成的形状(参考用阴影表示的区域36)呈正方形。并且，1个像素32的纵横尺寸比并非为1，而是成为水平方向(横)的长度＞垂直方向(纵)的长度。
如根据图13明确可知，由多个像素32各自的子像素32r、32g及32b构成的像素排列图案由分别包围这些子像素32r、32g及32b的BM34的BM图案38规定，在重叠显示机构30和导电性薄膜10或11时所产生的干扰因显示机构30的BM34的BM图案38与导电性薄膜10、11、11A或11B的配线图案24的干渉而产生，因此严格来说，BM图案38为像素排列图案的反转图案，但在此作为表示相同图案的BM图案38来进行处理。
在具有由上述BM34构成的BM图案38的显示机构30的显示面板上，例如配置导电性薄膜10、11、11A或11B时，导电性薄膜10、11或11A、11B的配线图案24(配线图案24a与24b的合成配线图案)中，配线图案24a和24b中的至少一方为随机网格图案25a，或者导电性薄膜11B的配线图案24为单层配线图案24，对于BM(像素排列)图案38在干扰可见性的观点上被最优化，从而干扰不被视觉辨认，因此像素32的排列周期与导电性薄膜10、11、11A或11B的金属细线14的配线排列之间的空间频率的干渉减弱，从而可抑制干扰的产生，干扰的可见性优异。以下，以导电性薄膜10为代表例进行说明，但在导电性薄膜11、11A或11B中也相同。
另外，图13所示的显示机构30可以由液晶面板、等离子体面板、有机EL面板、无机EL面板等显示面板构成，其发光强度可以根据分辨率而不同。
能够适用于本发明的显示器的BM图案及其发光强度并没有特别限制，可以为现有公知的任何显示器的BM图案及其发光强度，例如可以为如图15A及图15B、以及图16A、图16B及图16C所示的OLED等RGB的各颜色的周期或强度不同的显示器，也可以为如图13或图17A及图17B所示的由相同形状的RGB子像素构成且子像素内的强度偏差大的显示器、或子像素内的强度偏差小且仅考虑强度最高的G子像素(信道)即可的显示器，尤其可以为如智能手机或平板等那样的强度高的显示器等。
图15A及图15B是分别示意地表示适用本发明的导电性薄膜的显示机构的像素排列图案的一例的概略说明图及其一部分的局部放大图。
如图15A所示，显示机构30中，多个像素32排列成矩阵状而构成规定的像素排列图案。如图13所示，1个像素32是3个子像素(红色子像素32r、绿色子像素32g及蓝色子像素32b)沿水平方向排列而构成。
在本发明中，显示机构的像素排列图案需要满足如下3个条件中的任意一个，即，中，1个像素内的多个、图示例中为3个子像素中的至少2个子像素具有不同的形状；或关于1个像素内的多个(3个)子像素中的至少2个，由各子像素的排列形成的子像素排列图案的周期不同；或1个像素内的多个(3个)子像素在1个方向上不排成一列。另外，在本发明中，子像素排列图案的周期、即子像素(滤色器)的周期中还包括一个像素内的子像素的周期。
在图15B所示的例子中，子像素32r呈在图中y(垂直)方向上纵长的菱形形状，并配置于正方形的像素32的图中左侧，子像素32g呈圆形状，并配置于像素32的图中右下侧，子像素32b呈矩形(正方形)，并配置于像素32的图中右上侧。图15A及图15B所示的显示机构30中，其像素排列图案38相当于1个像素内的3个子像素32r、32g及32b的样式不同且强度不同的情况，且相当于1个像素内的多个(3个)子像素在1个方向上不成一列的情况。
在图示例中，像素32在水平方向上的排列间距(水平像素间距Ph)与像素32在垂直方向上的排列间距(垂直像素间距Pv)大致相同，能够以像素间距Pd表示。即，由1个像素32的3个子像素32r、32g及32b构成的区域和包围这些子像素32r、32g及32b的黑矩阵(BM)34(图案材料)所构成的像素域区域36呈正方形。另外，像素域区域36对应于1个像素32，以下，将像素域区域36也称为像素。
另外，像素间距Pd(水平及垂直像素间距Ph、Pv)只要是与显示机构30的分辨率相应的间距，则可以为任何间距，例如能够举出84μm～264μm范围内的间距。
另外，在图示例中，1个像素内的子像素32r、32g、32b的形状分别为菱形、圆形、正方形，但本发明并不限定于此，也可以为具有如下像素排列图案38的形状，在所述像素排列图案38中，如图13所示的相同样式的3个子像素在图中水平方向上排成一列的1个像素32在图中水平方向及垂直方向上重复且子像素(滤色器)的周期及强度在RGB的3个子像素中全部相同。
或者，也可以为图16A～图16C所示的被称作笔瓦(pen tile)结构的开口形状的子像素(滤色器)32r、32g、32b，还可以为具有由这些子像素32r、32g、32b构成的像素排列图案的形状。
如图16A所示，像素32的3个子像素32r、32g、32b的样式可以不同(形状为长方形，但大小不同)。该情况相当于强度不同的情况。另外，在该情况下，子像素的周期可以说相同。
即，在图16A所示的例子中，将这种样式不同的3个子像素32r、32g、32b作为1个像素而形成像素排列图案38a，3个子像素32r、32g、32b各自的子像素排列图案的周期均与像素排列图案38a的周期相同。
另外，在本发明中，子像素的样式不同被定义为不仅包括子像素的形状不同的情况，还包括子像素的大小不同的情况。
并且，如图16B所示，即便3个子像素32r、32g、32b的样式相同，子像素32g与子像素32r、32b的重复周期(子像素排列图案的周期)也可以不同。在该例子中，子像素32g的周期为子像素32r、32b的周期的一半。另外，在该情况下，子像素的强度可以说相同。
即，在图16B所示的例子中，将2个子像素32g和子像素32r、32b的4个子像素作为1个像素32而形成像素排列图案38b，子像素32r、32b各自的子像素排列图案的周期均与像素排列图案38a的周期相同，但子像素32g的子像素排列图案的周期为像素排列图案38a的周期的一半。
另外，如图16C所示，子像素32g和子像素32r、32b的重复周期(子像素图案的周期)和样式(形状及大小)也可以均不同。该情况相当于子像素的周期和强度均不同的情况。
即，在图16C所示的例子中，与图16B所示的例子相同地，将2个子像素32g和子像素32r、32b的4个子像素作为1个像素32而形成像素排列图案38c，子像素32r、32b各自的子像素排列图案的周期均与像素排列图案38a的周期相同，子像素32g的子像素排列图案的周期为像素排列图案38a的周期的一半。
并且，图17A表示由GBR子像素内的强度偏差大的相同形状的RGB子像素构成的像素的BM结构，图17B表示由GBR子像素内的强度偏差小的相同形状的RGB子像素构成的像素的BM结构，若仅考虑强度最高的G子像素，则能够进行导电性薄膜的配线图案的设计。
另外，将本发明中能够使用的显示器的2×2像素的BM的分辨率及强度示于图18A～图18P。图18A～图18P所示的各BM分别为分辨率、形状及强度(明度)中的任意一个不同的BM。在图18A～图18P中仅示出G信道(G子像素)，未示出B信道(B子像素)及R信道(R子像素)，但其分辨率及形状当然相同。本发明中，由子像素的覆盖率确定可见性，因此如后述，显然子像素的强度、开口形状并没有任何限定。
图18A及图18B均表示分辨率为149dpi且在图中中心朝左侧折弯的长条形状的4个G子像素，表示以成为基准的显示器中的强度标准化时的强度分别为0.5及1.0，且相当于后述的实施例中所使用的BMNo.1及2的BM。
图18C及图18D均表示分辨率为222dpi且沿图中纵向连续的呈带形状的4个G子像素，表示以成为基准的显示器中的强度标准化时的强度分别为0.5及1.0，且相当于后述的实施例中所使用的BMNo.3及4的BM。
图18E及图18F均表示分辨率为265dpi且沿图中横向排列的平板形状的4个G子像素，表示以成为基准的显示器中的强度标准化时的强度分别为0.5及1.0，且相当于后述的实施例中所使用的BMNo.5及7的BM。
图18G及图18H均表示分辨率为265dpi且沿图中纵向排列的细带形状的4个G子像素，表示以成为基准的显示器中的强度标准化时的强度分别为0.5及1.0，且相当于后述的实施例中所使用的BMNo.6及8的BM。
图18I及图18J均表示分辨率为326dpi且沿图中横向排列的矩形的4个G子像素，表示以成为基准的显示器中的强度标准化时的强度分别为0.5及1.0，且相当于后述的实施例中所使用的BMNo.9及10的BM。
图18K及图18L均表示分辨率为384dpi且沿图中4角方向排列的小矩形的4个G子像素，表示以成为基准的显示器中的强度标准化时的强度分别为0.5及1.0，且相当于后述的实施例中所使用的BMNo.11及13的BM。
图18M及图18N均表示分辨率为384dpi且沿图中4边方向排列的小三角形形状的4个G子像素，表示以成为基准的显示器中的强度标准化时的强度分别为0.5及1.0，且相当于后述的实施例中所使用的BMNo.12及14的BM。
图18O及图18P均表示分辨率为440dpi且沿图中纵向排列的矩形的4个G子像素，表示以成为基准的显示器中的强度标准化时的强度分别为0.5及1.0，且相当于后述的实施例中所使用的BMNo.15及16的BM。
在具有由定义上述RGB的子像素排列图案的BM34构成的BM图案38的显示机构30的显示面板上，例如配置导电性薄膜10、11或11A时，其配线图案24为对于包含RGB的子像素排列图案的BM(像素排列)图案38的明度值在干扰可见性的观点上作为合成配线图案而最优化的随机网格图案，因此几乎没有在像素32的排列周期或强度与导电性薄膜10、11或11A的金属细线14的配线排列之间的空间频率的干渉，可抑制干扰的产生。
继而，严格来说，进行干扰的最优化时所使用的显示器的像素排列图案由多色例如RGB的各子像素排列图案、例如由子像素的形状、重复频率等规定，因此相对于显示器的分辨率，需要准确地定义子像素的分辨率，在本发明中，需要使用显示器的像素排列图案的光强度、例如明度值(明度图像数据)，因此若从强度/频率的观点来说，仅仅是哪种强度的子像素(表示单信道)成为哪种排列成为问题，因此无需明确划分RGB。因此，为了设计对显示器最佳的不规则(随机)网格图案，在求出干扰的定量值时，利用RGB单体点亮时的最差值即可。因此，为了设计对显示器最佳的随机网格图案，在求出干扰的评价指标即定量值时，利用RGB单体点亮时的最差值即可。
接着，参考图14对组装有本发明的导电性薄膜的显示装置进行说明。在图14中，作为显示装置40，举出组装有本发明的第2实施方式所涉及的导电性薄膜10的投影型静电电容方式的触摸面板为代表例进行说明，但本发明当然并不限定于此。
如图14所示，显示装置40具有能够显示彩色图像和/或单色图像的显示机构30(参考图13)、检测来自输入面42(箭头Z1方向侧)的接触位置的触摸面板44及容纳显示机构30和触摸面板44的框体46。用户能够经由设置于框体46的一面(箭头Z1方向侧)的大开口部对触摸面板44进行触摸。
触摸面板44除了上述导电性薄膜10(参考图1及图2)以外，还具备层叠于导电性薄膜10的一面(箭头Z1方向侧)的罩部件48、经由电缆50与导电性薄膜10电性连接的柔性基板52及配置于柔性基板52上的检测控制部54。
在显示机构30的一面(箭头Z1方向侧)隔着粘接层56粘接有导电性薄膜10。导电性薄膜10使另一个主面侧(第2配线部16b侧)与显示机构30对置而配置于显示画面上。
罩部件48通过覆盖导电性薄膜10的一面而发挥作为输入面42的功能。并且，通过防止由接触体58(例如，手指或触控笔(stylus pen))所引起的直接接触，能够抑制划痕的产生或尘埃的附着等，从而能够使导电性薄膜10的导电性变稳定。
罩部件48的材质例如可以为玻璃、树脂薄膜。也可以将罩部件48的一面(箭头Z2方向侧)以用氧化硅等涂布的状态密接于导电性薄膜10的一面(箭头Z1方向侧)。并且，为了防止由摩擦等所产生的损伤，也可以将导电性薄膜10及罩部件48贴合而构成。
柔性基板52为具备可挠性的电子基板。在本图示例中，固定于框体46的侧面内壁，但配设位置可以进行各种变更。检测控制部54构成如下电子电路，即，当使作为导体的接触体58与输入面42接触(或靠近)时，捕捉接触体58与导电性薄膜10之间的静电电容的变化，并检测该接触位置(或靠近位置)。
适用本发明的导电性薄膜的显示装置基本上如以上那样构成。
接着，在本发明中，关于导电性薄膜的配线图案对具有规定的强度(明度值)的显示装置的像素排列(BM)图案的干扰的可见性进行说明。
如上所述，本发明的导电性薄膜中，其随机网格图案重叠于显示器的BM图案时，纵断显示器的1个以上的子像素的、由构成随机网格图案的1个以上的金属细线构成的连续的1条线段的长度L(μm)和覆盖率C(％)需要在将长度L(μm)及覆盖率C(％)分别设为x轴及y轴的xy二维坐标上进入下述式(2)所表示的线以下的区域、即被该线和x轴围住的区域内。
当0＜x≤168时，y＝6.7、
当168＜x≤252时，y＝-0.00595x+7.7、
当252＜x≤378时，y＝-0.00476x+7.4、
当378＜x≤504时，y＝-0.02143x+13.7、
当504＜x≤756时，y＝2.9……(2)
另外，在本发明中，如上述那样限定的理由是因为本发明人发现了可以说是技术规则的以下几点。
即，如图20A～图20C所示，随机网格图案的金属细线14的上述1条线段沿着显示器的G色的子像素32g的1个以上、图示例中为3个子像素32的长度方向纵断时，可视为1条线段的金属细线14的长度长，因此若其线宽有某程度以上，则金属细线14作为干扰而被视觉辨认，但若线宽细，则即使金属细线14的长度长，也不会作为干扰而被视觉辨认；
相反，如图20D所示的上侧2个子像素那样，横断1个子像素或者倾斜地部分横切时，由于金属细线14的长度短，因此所使用的线宽有上限，不会扩大至某程度以上，因此金属细线14不会作为干扰而被视觉辨认，但若线宽细，则即使金属细线14的长度长，也会作为干扰而被视觉辨认；
并且，如图20D所示的下侧1个子像素那样，在长度方向上纵断1个子像素时，根据线宽，金属细线14会作为干扰而被视觉辨认。
并且是因为，在此基础上，本发明人进一步发现了以下。
将可视为1条线段的金属细线14的长度定义为沿着长度方向纵断的1个以上的子像素的合计长度L(μm)即可；
并且，将相对于子像素的线宽的大小定义为由纵断的可视为1条线段的金属细线14覆盖1个以上的子像素的覆盖率C(％)即可；
并且，在如此定义的基础上，对长度L(μm)及覆盖率C(％)附加限制条件，由此能够制成具有即使重叠于显示器的BM图案、干扰也不会被视觉辨认的随机网格图案的导电性薄膜。
因此，本发明人进行关于长度L(μm)及覆盖率C(％)和干扰的可见性的模拟实验，作为具有即使重叠于显示器的BM图案，干扰也不会被视觉辨认的随机网格图案的导电性薄膜所需的长度L(μm)及覆盖率C(％)的条件，发现了由上述式(2)规定的区域(范围)。
根据以上，在本发明中，将导电性薄膜的随机网格图案的1条线段的长度L(μm)及覆盖率C(％)的范围限定于由上述式(2)规定的范围内的理由在于，若在由上述式(2)规定的范围内，则即使重叠于显示器的BM图案，干扰也不会被视觉辨认，确认不到可见性的劣化。
另外，如上所述，该区域也能够作为在xy二维坐标中连结6个坐标(84、6.7)、坐标(168、6.7)、坐标(252、6.2)、坐标(378、5.6)、坐标(504、2.9)及坐标(756、2.9)的线以下的区域及1条线段的长度L为84μm以下且覆盖率C为6.7％以下的区域而在二维坐标上进行规定。
在此，由1个以上的金属细线构成的连续的1条线段是指构成随机网格图案的1个以上的金属细线沿显示器的子像素的长度方向延伸的可视为1条的连续的1条线段，1条线段的长度L(μm)是指1条线段在长度方向上纵断沿长度方向排列的1个以上的子像素时，由1条线段纵断的1个以上的纵断子像素在长度方向上的合计长度。
另外，在此，“可视为1条的连续的1条线段”可以为与形成以网格状形成的开口形状的1边的直线或曲线相对应的线段，也可以为与多个网格的形成开口形状的各1边连续连结成1条而得到的直线或曲线相对应的线段。并且，“纵断子像素”是指被“可视为1条的连续的1条线段”纵断的子像素。并且，1条线段的合计长度L(μm)以仅将由1条线段纵断的1个以上的纵断子像素的长度合计而得的长度来表示。即，在子像素的长度相同的情况下，由1条线段纵断的子像素的数设为n，将子像素的长度设为Lp时，能够由L＝n×Lp表示。
另外，在图20A～图20C所示的例子中，金属细线14的1条线段沿着长度方向纵断沿长度方向排列的3个G色的子像素，但本发明中并不限定于此，也可以沿着长度方向纵断1个以上的子像素，还可以沿着长度方向纵断其他颜色、例如R色或B色的1个以上的子像素。
并且，在图20A～图20C所示的例子中，金属细线14的1条线段为连续的直线、或由平滑地连续的曲线构成的线段，但本发明中并不限定于此，只要可视为沿着长度方向纵断1个以上的子像素的连续的线段，则如何弯曲或折弯都无妨。关于这种1条线段的弯曲部的弯曲角度及折弯部的折弯角度，只要1条线段可视为连续的线段，则并没有特别限制，例如优选设为15°以下。在此，折弯角度被定义为由折弯部构成的2个线段所成的角的外角，弯曲角度被定义为在弯曲部中的2个切线包住弯曲部的一侧所成的角的外角。
并且，覆盖率C(％)表示覆盖由1条线段纵断的1个以上的子像素的比例(百分比)。即，如上所述，将由1条线段纵断的1个以上的纵断子像素的合计面积设为S，且将在1个以上的纵断子像素内1条线段所占的面积的合计设为线宽面积SL时，覆盖率C(％)由下述式(1)表示。
C＝100×SL/S……(1)
其中，纵断子像素的合计面积S是指由1条线段纵断的1个以上的纵断子像素的各像素的合计面积。因此，在子像素的尺寸相同的情况下，将由1条线段纵断的子像素的数量设为n，将子像素的面积设为Sp时，能够由S＝n×Sp表示。
并且，1条线段的线宽面积SL是指仅在由1条线段纵断的1个以上的纵断子像素的各像素内1条线段所占有的面积的合计。因此，将1条线段的线宽设为w，子像素的长度为相同的Lp时，能够由SL＝n×w×Lp表示。
因此，在这种情况下，上述式(1)能够如下述式那样表示。
C＝100×SL/S＝100×n×w×Lp/(n×Sp)
＝100×w×Lp/Sp
另外，覆盖率C可以说是1条线段遮蔽透射子像素的光的比例，因此也能够代替覆盖率C，倒过来使用表示被1条线段遮蔽的透射子像素的光相对于透射子像素整体的光的比例的透射率T(％)。另外，覆盖率C与透射率T之间的关系能够如下述式那样表示。
T＝100×(S-SL)/S＝(100-C)
以下，对本发明中进行的关于干扰的可见性的模拟实验进行说明。
在本发明中，如以下那样进行了实验。
对于以图21A及图21B所示的G子像素排列图案来代表性表示的、具有不同的子像素形状的两种显示器的像素排列(BM)图案38，针对图2所示的具有由沃罗诺伊多边形构成的随机的网格图案形状的配线图案(随机网格图案25a)24，在模拟样品中，重叠该配线图案24和各颜色的BM图案38，由3名感官评价人员用肉眼感官评价了因干扰的模拟图像中重叠的两者的干渉而产生的干扰。
将其结果示于表1～表3。
在此，关于干扰的评价，在图21A及图21B所示的像素排列(BM)图案的各颜色的子像素排列图案的明度图像数据上重叠配线图案24的透射率数据，制作在明度图像上重叠有透射率图像的干扰的模拟图像并显示于显示器，对于所显示的模拟图像，由3名感官评价人员以肉眼进行了感官评价。
在此，感官评价结果以1～5的5个阶段的劣化尺度来进行，确认到干扰的可见性的劣化，非常担心时评价为1；确认到干扰的可见性的劣化，担心时评价为2；确认到干扰的可见性的劣化，稍微担心时评价为3；确认到干扰的可见性的劣化，但不用担心时评价为4；确认不到干扰的可见性的劣化时评价为5。
作为干扰的可见性，若为劣化尺度4则为合格，但更优选为评价5。
在本模拟实验中，显示器的BM图案38使用图21A及图21B所示的BM结构不同的两种BM图案，信道的颜色设为G色，像素尺寸设为128μm、254μm及84μm这3种，不同颜色的子像素之间的间隔(水平间隔)设为9μm、18μm及8μm这3种，相同颜色的上下的子像素之间的间隔(垂直间隔)设为27μm、54μm及20μm这3种，子像素的结构设为长度方向均为垂直方向、图21A所示的折弯结构中相对于水平的倾斜角度为80°的情况和图21B所示的长方形结构中相对于水平的角度为90°的情况这两种。
另一方面，随机网格图案25a的线宽使用了1μm和3μm。
并且，构成随机网格图案25a的金属细线14的1条线段的长度L(μm)设为作为与两种BM图案的子像素的尺寸相应的离散值的0μm、84μm、168μm、252μm、378μm、504μm及756μm这7种。
[表1]
Figure GDA0001627933490000301
在本模拟实验中，显示器的BM图案38使用图21A及图21B所示的BM结构不同的两种BM图案，信道的颜色设为G色，像素尺寸设为128μm、254μm及84μm这3种，不同颜色的子像素之间的间隔(水平间隔)设为9μm、18μm及8μm这3种，相同颜色的上下的子像素之间的间隔(.0..垂直间隔)设为27μm、54μm及20μm这3种，子像素的结构设为长度方向均为垂直方向、图21A所示的折弯结构中相对于水平的倾斜角度为80°的情况和图21B所示的长方形结构中相对于水平的角度为90°的情况这两种。另一方面，随机网格图案25a的线宽使用了1μm和3μm。
并且，在随机网格图案25a的网格的方向上，设为0°为网格与x轴平行地覆盖的情况和90°为网格与y轴平行地覆盖的情况这两种。
并且，构成随机网格图案25a的金属细线14的1条线段的长度L(μm)设为作为与两种BM图案的子像素的尺寸相应的离散值的0μm、84μm、168μm、252μm、378μm、504μm及756μm这7种。
[表2]
Figure GDA0001627933490000311
[表3]
Figure GDA0001627933490000321
关于表1～表3所示的模拟实验结果，将构成随机网格图案25a的金属细线14的1条线段的长度L(μm)、覆盖率C(％)及劣化尺度标绘在三维坐标中的三维(立体)曲线图示于图22。
在该图22所示的立体曲线图中，将劣化尺度成为4以上的1条线段的长度L(μm)及覆盖率C(％)的点设为进入本发明范围内的点。
并且，关于表1～表3所示的模拟实验结果，在将构成随机网格图案25a的金属细线14的1条线段的长度L(μm)设为x轴(横轴)、将覆盖率C(％)设为y轴(纵轴)的xy二维坐标中，将按0μm、84μm、168μm、252μm、378μm、504μm及756μm这7种的长度L(μm)标绘了覆盖率C(％)的曲线图示于图23。
在图23中，按长度L(μm)标绘覆盖率C(％)时，将劣化尺度成为5的覆盖率C(％)的点设为星记号(*)，将劣化尺度成为4以下的覆盖率C(％)的点设为黑圆(●)。
另外，在图23中，被四角围住的范围表示在各长度L下由黑圆(●)变为星记号(*)的区域。
首先，在图23中，对于各长度L，在被四角围住的区域中，求出劣化尺度为4的黑圆(●)内覆盖率C(％)成为最大的点作为覆盖率C(％)的最大值。另外，劣化尺度4为合格。
将其结果作为最大值而示于表4。
将由如此得到的长度L(μm)及覆盖率C(％)构成的最大值的6点作为坐标点a、b、c、d、e及f而标绘在将长度L(μm)设为x轴、将覆盖率C(％)设为y轴的xy二维坐标上，并将坐标点a、b、c、d、e及f的相邻的坐标点之间以直线状的实线连结的曲线图示于图19。
图19所示的实线的折线图作为表5所示的数式而求出。如此求出的表5所示的数式提供上述式(2)。
根据以上，能够求出长度L(μm)及覆盖率C(％)的本发明的范围。如此求出的本发明的范围的劣化尺度为4以上，长度L(μm)及覆盖率C(％)进入本发明的范围内的导电性薄膜的随机网格图案显出即使重叠于显示器的BM图案，也不会确认到干扰的可见性的劣化，或者虽然确认到干扰的可见性的劣化，但不用担心的良好的可见性。
将长度L(μm)及覆盖率C(％)设为xy坐标时，本发明的具体范围作为表4中作为最大值而示出的区域而在上面进行了叙述，因此在此省略说明。
[表4]
Figure GDA0001627933490000331
[表5]
Figure GDA0001627933490000341
接着，在图23中，对于各长度L，在被四角围住的区域中求出劣化尺度为4的黑圆(●)内的覆盖率C(％)成为最大的点与劣化尺度为5的星记号(*)内的覆盖率C(％)成为最小的点的中点来作为覆盖率C(％)的中点。
将其结果作为中点而示于表4。
将由如此得到的长度L(μm)及覆盖率C(％)的中点构成的6点作为坐标点a、b、c、d、e及f而标绘在图19所示的xy二维坐标上，从而能够得到将坐标点a、b、c、d、e及f的相邻的坐标点之间以直线状的虚线(点线)连结的曲线图。
图19所示的虚线(点线)的折线图作为表6所示的数式而求出。
与由图19所示的实线的折线图、表5所示的数式或上述式(2)规定的本发明的范围相比，由表6所示的数式规定的区域(范围)的劣化尺度更接近5，且更高，因此可以说是本发明的更优选的范围。
即，由表6所示的数式规定的区域(范围)为由下述式(3)规定的范围。
因此，随机网格图案更优选由如下1个以上的金属细线构成，所述1个以上的金属细线由在xy二维坐标中包括在下述式(3)所表示的线以下的区域内的1条线段构成。
当0＜x≤168时，y＝6.6、
当168＜x≤252时，y＝-0.00833x+8.0、
当252＜x≤378时，y＝-0.00278x+6.6、
当378＜x≤504时，y＝-0.02421x+14.7、
当504＜x≤756时，y＝2.5……(3)
[表6]
Figure GDA0001627933490000351
另外，如表4中作为中点而所示，该区域也能够作为在xy二维坐标中连结6个坐标(84、6.6)、坐标(168、6.6)、坐标(252、5.9)、坐标(378、5.55)、坐标(504、2.5)及坐标(756、2.5)的线以下的区域及1条线段的长度L为84μm以下且覆盖率C为6.6％以下的区域而在二维坐标上进行规定。
并且，也可以代替上述式(3)及图19所示的点线的折线图而根据上述6个坐标，通过最小二乘法以近似公式y＝8.43e-0.002x及图24所示的曲线图来表示。在该情况下，决定系数R2成为0.8179。
并且，在图23中，对于各长度L，在被四角围住的区域中，求出劣化尺度为5的星记号(*)内覆盖率C(％)成为最小的点作为覆盖率C(％)的最小值。
将其结果作为最小值而示于表4。
将由如此得到的长度L(μm)及覆盖率C(％)的最小值构成的6点作为坐标点a、b、c、d、e及f而标绘在图19所示的xy二维坐标上，从而能够得到将坐标点a、b、c、d、e及f的相邻的坐标点之间以直线状的单点划线连结的曲线图。
图19所示的单点划线的折线图作为表7所示的数式而求出。
与由图19所示的线的折线图或上述式(3)规定的本发明的范围相比，由表7所示的数式规定的区域(范围)、即由图19所示的单点划线的折线图规定的区域(范围)的劣化尺度更接近5，且更高，因此可以说是本发明的更进一步优选的范围。
即，由表7所示的数式规定的区域(范围)为由下述式(4)规定的范围。
因此，随机网格图案更优选由如下1个以上的金属细线构成，所述1个以上的金属细线由在xy二维坐标中包括在下述式(4)所表示的线以下的区域内的1条线段构成。
当0＜x≤168时，y＝6.5、
当168＜x≤252时，y＝-0.01071x+8.3、
当252＜x≤378时，y＝-0.00079x+5.8、
当378＜x≤504时，y＝-0.02698x+15.7、
当504＜x≤756时，y＝2.1……(4)
[表7]
Figure GDA0001627933490000361
另外，如表4中作为最小值而所示，该区域即由图19所示的单点划线的折线图规定的区域(范围)也能够作为在xy二维坐标中连结6个坐标(84、6.5)、坐标(168、6.5)、坐标(252、5.6)、坐标(378、5.5)、坐标(504、2.1)及坐标(756、2.1)的线以下的区域及1条线段的长度L为84μm以下且覆盖率C为6.5％以下的区域而在二维坐标上进行规定。
因此，随机网格图案更进一步优选由如下1个以上的金属细线构成，所述1个以上的金属细线由在xy二维坐标中包括在以上述坐标规定的区域内的1条线段构成。
在上述例子中，如表1～表4所示，作为上述1条线段的长度L(μm)，使用了84μm、168μm、252μm、378μm、504μm及756μm这6种代表长度，但这些长度并没有特别限制，能够选择任何长度，但由于依赖于显示器的BM图案的子像素在长度方向上的长度，因此优选设为与子像素在长度方向上的长度相应的长度。并且，在上述例子中，作为1条线段的长度L(μm)的代表长度，使用了6种代表长度，但本发明并没有特别限制，可以为任何种类。代表长度的数量多时，准确性提高，但若过多则花费时间，会变得繁琐，因此根据精度或用途适当选择即可。
并且，上述1条线段的长度L(μm)的范围也没有特别限制，能够选择任何长度的范围，在本发明中，如图19所示，确定本发明的范围的区域优选为上述1条线段的长度L超过0μm且756μm以下的区域。在此，当1条线段的长度L小于84μm时，作为干扰的可见性原本就低，因此为了干扰的可见性判断的效率化，确定本发明的范围的区域更优选为1条线段的长度L为84μm以上且756μm以下的区域。
并且，优选随机网格图案由在一个方向及与一个方向垂直的方向上重复的单元随机网格图案构成，1条线段为按每个单元随机网格图案重复的重复模样。
并且，重复模样优选为通过单元随机网格图案数据的重复而周期性地重复的直线模样。
以上，关于本发明所涉及的导电性薄膜、具备该导电性薄膜的显示装置及导电性薄膜的图案的评价方法，举出各种实施方式及实施例进行了说明，但本发明并不限定于上述实施方式及实施例，只要不脱离本发明的宗旨，则当然可以进行各种改良或设计的变更。
符号说明
10、11、11A、11B-导电性薄膜，12-透明基体，14-金属制细线(金属细线)，16、16a、16b-配线部，18、18a、18b-粘接层，20、20a、20b-保护层，21-网格配线，22-开口部，23a-电极部，23b-虚设电极部(非电极部)，24-配线图案(合成配线图案、单层配线图案)，24a-第1(上侧)配线图案，24b-第2(下侧)配线图案，25a、25b、25c、25d、25e-随机网格图案，26-虚设电极部，27-规则的定型图案，28、28a、28b-配线层，30-显示机构，32、32r、32g、32b-像素，34-黑矩阵(BM)，38-BM图案，40-显示装置，44-触摸面板。

Claims (10)

1.一种导电性薄膜，其设置于显示装置的显示机构上，所述导电性薄膜的特征在于，具有：
透明基体；及
在该透明基体的至少一侧的面上具有的由多个金属细线构成的导电部，
所述导电部具有不规则配线图案，所述不规则配线图案为由所述多个金属细线构成的网格状且具备如下的多个开口部，该多个开口部具有不同的开口形状，
所述显示机构具有像素排列图案，所述像素排列图案由包含射出至少3色的多色光的多个子像素的像素排列而成，
所述导电性薄膜以所述不规则配线图案和所述显示机构的所述像素排列图案重合的方式设置于所述显示机构，
在构成所述不规则配线图案的1个以上的所述金属细线由沿所述显示机构的子像素的长度方向延伸的可视为1条的连续的1条线段构成，且该1条线段在所述长度方向上纵断沿所述长度方向排列的1个以上的子像素的情况下，将由所述1条线段纵断的1个以上的纵断子像素在所述长度方向上的合计长度设为所述1条线段的长度Lμm，设所述1个以上的纵断子像素的合计面积为S，并且设所述1条线段在所述1个以上的纵断子像素内所占的面积的合计为线宽面积SL，以下述式(1)表示覆盖率C％时，
C＝100×SL/S……(1)，
所述不规则配线图案由成为如下的所述1条线段的所述1个以上的金属细线构成，所述1条线段在将所述1条线段的长度L设为成为x坐标的横轴、将覆盖率C设为成为y坐标的纵轴的xy二维坐标中被包含在下述式(2)所表示的线以下的区域内，
当0＜x≤168时，y＝6.7，
当168＜x≤252时，y＝-0.00595x+7.7，
当252＜x≤378时，y＝-0.00476x+7.4，
当378＜x≤504时，y＝-0.02143x+13.7，
当504＜x≤756时，y＝2.9……(2)。
2.根据权利要求1所述的导电性薄膜，其中，
所述不规则配线图案由如下的所述1个以上的金属细线构成，所述1个以上的金属细线由在所述xy二维坐标中被包含在下述式(3)所表示的线以下的区域内的所述1条线段构成，
当0＜x≤168时，y＝6.6，
当168＜x≤252时，y＝-0.00833x+8.0，
当252＜x≤378时，y＝-0.00278x+6.6，
当378＜x≤504时，y＝-0.02421x+14.7，
当504＜x≤756时，y＝2.5……(3)。
3.根据权利要求1所述的导电性薄膜，其中，
所述不规则配线图案由如下的所述1个以上的金属细线构成，所述1个以上的金属细线由在所述xy二维坐标中被包含在下述式(4)所表示的线以下的区域内的所述1条线段构成，
当0＜x≤168时，y＝6.5，
当168＜x≤252时，y＝-0.01071x+8.3，
当252＜x≤378时，y＝-0.00079x+5.8，
当378＜x≤504时，y＝-0.02698x+15.7，
当504＜x≤756时，y＝2.1……(4)。
4.根据权利要求1至3中任意一项所述的导电性薄膜，其中，
所述不规则配线图案由在一个方向及与所述一个方向垂直的方向上重复的作为单位的单位不规则配线图案构成，
所述1条线段为按每个所述单位不规则配线图案重复的重复纹样。
5.根据权利要求1至3中任意一项所述的导电性薄膜，其中，
在所述透明基体的一侧的面具有所述导电部。
6.根据权利要求1至3中任意一项所述的导电性薄膜，其中，
所述导电部由2个配线部构成，该2个配线部分别位于所述透明基体的两侧的面，或者，
当将所述透明基体作为第1透明基体时，还具有与所述第1透明基体不同的第2透明基体，所述导电部由2个配线部构成，在所述第1透明基体的一侧的面具有该2个配线部中的一个配线部，在作为所述第1透明基体的另一侧的面侧的所述第2透明基体的一侧的面上具有所述2个配线部中的另一个配线部，或者，
所述导电部由2个配线部构成，在所述透明基体的一侧隔着绝缘层而分别具有该2个配线部。
7.根据权利要求6所述的导电性薄膜，其中，
所述2个配线部的所述多个金属细线均构成所述不规则配线图案。
8.根据权利要求6所述的导电性薄膜，其中，
所述2个配线部中的一个配线部的所述多个金属细线构成所述不规则配线图案，且
另一个配线部的所述多个金属细线构成具有规则性的多边形的配线图案，或者
所述2个配线部中的一个配线部的所述多个金属细线构成所述不规则配线图案，且另一个配线部由氧化铟锡构成。
9.根据权利要求6所述的导电性薄膜，其中，
所述2个配线部中的至少一个配线部具备电极部和非电极部，
所述电极部及所述非电极部中的一方的所述多个金属细线构成所述不规则配线图案，且
所述电极部及所述非电极部中的另一方的所述多个金属细线构成具有规则性的多边形的配线图案。
10.一种显示装置，其特征在于，具备：
显示机构，其由具备如下的多个子像素的像素在一个方向及与所述一个方向垂直的方向上重复而成的像素排列图案排列而成，所述多个子像素射出互不相同的多色光；及
权利要求1至9中任意一项所述的导电性薄膜，其设置于该显示机构上。
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