CN108085708A - 连续镀膜设备 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种连续镀膜设备，包含有依序设置的一载入腔室、一电浆清洁腔室以及一镀膜腔室，用以对一基板进行清洁，该电浆清洁腔室包含有一承载件、一电极、多个辅助电极以及一电源供应件，该承载件用以承载该基板，该电极设置于该基板远离该承载件的一侧，该些辅助电极设置于该电极相邻于该承载件的一侧且各具有一放电端，该些放电端分别对应于该基板的一侧边，该电源供应件电性连接于该电极与该些辅助电极，借由使该些放电端对应于该基板的该侧边，可以对该侧边进行电浆清洁，以去除铜绿、氧化铜等氧化物，进而提升该侧边的附着力并降低阻抗。
Description
技术领域
本发明涉及一种镀膜设备，尤指一种连续镀膜设备。
背景技术
在半导体、显示器、太阳能电池等电子装置进行制作工艺时，基材于搬运或进行其它步骤时，难免会暴露于空气中，而空气中的氧气与水气会与基材产生反应而生成氧化物于基材的表面上，并造成后续工艺的困难，因此，在进行制作工艺前，通常会先清洗基材以去除氧化物。
常见的清洗方式如中国台湾专利公告第428045号的“利用非全球暖化化合物的电浆清洁和蚀刻方法”，其包含有一处理室、一电源、一上电极以及一下电极，该上电极与该下电极相对置于该处理室中，该电源电性连接于该上电极，并将一基板置于该下电极相邻于该上电极的一侧，而后，该电源供给电力，会于该上电极与该下电极之间产生电浆，以清洗该基板。
然而，产生的该电浆通常仅会存在于该上电极与该基板之间，虽然该电浆可以对该基板的上表面进行清洁，但却无法有效的清洁该基板的侧边，而侧边同样会具有铜绿、氧化铜等氧化物产生，进而导致侧边的附着力降低并会进一步提升阻抗，影响工艺，因此，如何有效的清洁该基板的侧边，实为一大课题。
发明内容
本发明的主要目的，在于提供一种连续镀膜设备，解决电浆无法有效的清洁该基板侧边的问题。
为达上述目的，本发明提供一种连续镀膜设备，包含有依序设置的一载入腔室、一电浆清洁腔室以及一镀膜腔室，用以对一基板进行清洁，该电浆清洁腔室包含有一用以承载该基板的承载件、一电极、多个辅助电极以及一电源供应件，该电极设置于该基板远离该承载件的一侧，该些辅助电极设置于该电极相邻于该承载件的一侧且各具有一放电端，该些放电端分别对应于该基板的一侧边，该电源供应件电性连接于该电极与该些辅助电极。
其中，更包含有一与该电浆清洁腔室连接的压力控制单元。
其中，该放电端为平面。
其中，该放电端为呈三角形状。
其中，该放电端为呈梯形状。
其中，更包含有一吸附件，该吸附件通过该承载件的多个吸附孔而使该基板吸附固定于该承载件上。
其中，该电极具有一滑轨，该辅助电极各具有一滑移件，该滑移件卡设于该滑轨内。
其中，该电极具有多个第一卡固部，该辅助电极各具有一与该第一卡固部配合的第二卡固部。
其中，更包含有一与该电浆清洁腔室连接的气体供应单元。
其中，该载入腔室与该电浆清洁腔室之间具有一第一闸门，该电浆清洁腔室与该镀膜腔室之间具有一第二闸门。
综上所述，该电源供应件供给电力后，该电极与该些辅助电极会解离中性气体原子而产生电浆，并通过该些放电端对应于该基板的该侧边，而可以对该侧边进行电浆清洁，以去除铜绿、氧化铜等氧化物，进而提升该侧边的附着力并降低阻抗。
以下结合附图和具体实施例对本发明进行详细描述，但不作为对本发明的限定。
附图说明
图1为本发明的设备结构示意图。
图2为本发明第一实施例的局部剖面示意图。
图3为本发明第二实施例的局部剖面示意图。
图4为本发明第三实施例的局部剖面示意图。
图5为本发明电极结构的示意图一。
图6为本发明电极结构的示意图二。
图7为本发明电极结构的示意图三。
其中，附图标记：
10 载入腔室
20 电浆清洁腔室
21 承载件
211 吸附孔
22 电极
221 滑轨
222 第一卡固部
23 辅助电极
231 放电端
232 滑移件
233 第二卡固部
24 电源供应件
30 镀膜腔室
40 基板
41 侧边
50 压力控制单元
60 吸附件
70 气体供应单元
81 第一闸门
82 第二闸门
1 电浆
具体实施方式
涉及本发明的详细说明及技术内容，现就配合图式说明如下：
请参阅图1及图2所示，本发明为一种连续镀膜设备，包含有依序设置的一载入腔室10、一电浆清洁腔室20以及一镀膜腔室30，用以对一基板40进行清洁，该电浆清洁腔室20包含有一承载件21、一电极22、多个辅助电极23以及一电源供应件24，该承载件21用以承载该基板40，该电极22设置于该基板40远离该承载件21的一侧，该些辅助电极23设置于该电极22相邻于该承载件21的一侧且各具有一放电端231，该些放电端231分别对应于该基板40的一侧边41，该电源供应件24电性连接于该电极22与该辅助电极23，于本实施例中，该电极22与该辅助电极23作为正端，该承载件21作为负端，属于接地端，而该电源供应件24供给电源后，会于该电极22、该些辅助电极23与该承载件21之间产生一电浆1，而由于该些辅助电极23与该电极22相邻于该承载件21的一侧具有一高低差，且使该些放电端231分别对应于该基板40的该侧边41，而可以对该侧边41进行电浆清洁，以去除铜绿、氧化铜等氧化物，进而提升该侧边41的附着力并降低阻抗。
该基板40由该载入腔室10进入后，再进入该电浆清洁腔室20进行清洁，最后送入该镀膜腔室30进行镀膜，其中，该载入腔室10与该电浆清洁腔室20之间具有一第一闸门81，该电浆清洁腔室20与该镀膜腔室30之间具有一第二闸门82，该第一闸门81与该第二闸门82仅会于传送该基板40时打开，其它时候则会紧闭，以确保工艺的精准度以及操作安全性，而连续镀膜设备的腔室的种类与数目则可以依据工艺的不同而做增减。
而于本实施例中，更包含有一压力控制单元50、一气体供应单元70以及一吸附件60，该压力控制单元50与该气体供应单元70皆与该电浆清洁腔室20连接，该压力控制单元50用以控制该电浆清洁腔室20中的压力，以确保符合工艺所需，此外，该载入腔室10与该镀膜腔室30亦可以与该压力控制单元50连接，以控制整条工艺的压力，而该气体供应单元70则会供应中性气体进入该电浆清洁腔室20中，如氧气、氩气等等，以利于帮助产生该电浆1，而该吸附件60则会通过该承载件21上的多个吸附孔211而使该基板40吸附固定于该承载件21上，防止该基板40产生位移，以提高工艺的精准度。
此外，续搭配参阅图2至图4所示，其不同的地方在于该些放电端231的形状，不同形状知该些放电端231可以配合进行不同的工艺，如于图2中，该些放电端231为平面，于图3中，该些放电端231为呈三角形状，而于图4中，该些放电端231为呈梯形状，但不以此为限。
续搭配参阅图5至图7所示，该些辅助电极23可以为直接固定于该电极22上，或是设置成可改变位置的，图5中的该些辅助电极23为直接固定于该电极22之上；而于图6中，该电极22具有一滑轨221，该些辅助电极23各具有一滑移件232，该些滑移件232卡设于该滑轨221内而可进行滑移，以调整该些辅助电极23的位置；于图7中，该电极22具有多个第一卡固部222，该些辅助电极23具有一第二卡固部233，该些第一卡固部222会配合该第二卡固部233而进行固定，故可依据工艺的需求而设置于不同的位置，本实施例是以一个辅助电极23具有四个第二卡固部233进行示意说明，但该第二卡固部233的设置数量是可以依据该些辅助电极23的大小而做调整，不以此例子为限。
此外，该些辅助电极23可以为长条状或块状，长条状仅可对该基板40的两个侧边41进行清洁，若需要对四个侧边41皆进行清洁，需要进行两次清洁，而若为块状，则可对应该基板40的侧边41进行设置，故可依不同的工艺需求而做变动。
综上所述，本发明具有以下特点：
一、借由该些放电端分别对应于该基板的该侧边，而可以对该侧边进行电浆清洁，以去除铜绿、氧化铜等氧化物，进而提升该侧边的附着力并降低阻抗。
二、借由该第一闸门与该第二闸门的设置，可以确保工艺的精准度以及操作安全性。
三、借由该压力控制单元的设置，可以控制该电浆清洁腔室中的压力，以确保符合工艺所需。
四、该气体供应单元会供应中性气体，以利于帮助产生该电浆。
五、借由该吸附件的设置，可以防止该基板产生位移，以提高工艺的精准度。
六、借由该滑轨、该滑移件、该些第一卡固部与该些第二卡固部的设置，可以配合不同工艺的需求，而调整该些辅助电极的位置。
当然，本发明还可有其它多种实施例，在不背离本发明精神及其实质的情况下，熟悉本领域的技术人员可根据本发明作出各种相应的改变和变形，但这些相应的改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。
Claims (10)
1.一种连续镀膜设备，包含有依序设置的一载入腔室、一电浆清洁腔室以及一镀膜腔室，用以对一基板进行清洁，其特征在于，该电浆清洁腔室包含有：
一用以承载该基板的承载件；
一设置于该基板远离该承载件的一侧的电极；
多个辅助电极，该辅助电极设置于该电极相邻于该承载件的一侧且各具有一放电端，该放电端分别对应于该基板的一侧边；以及
一电性连接于该电极与该辅助电极的电源供应件。
2.根据权利要求1所述的连续镀膜设备，其特征在于，更包含有一与该电浆清洁腔室连接的压力控制单元。
3.根据权利要求1所述的连续镀膜设备，其特征在于，该放电端为平面。
4.根据权利要求1所述的连续镀膜设备，其特征在于，该放电端为呈三角形状。
5.根据权利要求1所述的连续镀膜设备，其特征在于，该放电端为呈梯形状。
6.根据权利要求1所述的连续镀膜设备，其特征在于，更包含有一吸附件，该吸附件通过该承载件的多个吸附孔而使该基板吸附固定于该承载件上。
7.根据权利要求1所述的连续镀膜设备，其特征在于，该电极具有一滑轨，该辅助电极各具有一滑移件，该滑移件卡设于该滑轨内。
8.根据权利要求1所述的连续镀膜设备，其特征在于，该电极具有多个第一卡固部，该辅助电极各具有一与该第一卡固部配合的第二卡固部。
9.根据权利要求1所述的连续镀膜设备，其特征在于，更包含有一与该电浆清洁腔室连接的气体供应单元。
10.根据权利要求1所述的连续镀膜设备，其特征在于，该载入腔室与该电浆清洁腔室之间具有一第一闸门，该电浆清洁腔室与该镀膜腔室之间具有一第二闸门。
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