CN107990730A - 用于硅片烧结炉的下料装置 - Google Patents

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刘强
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Abstract

本发明公开了一种能够提高硅片收集效率,便于实现自动化生产的用于硅片烧结炉的下料装置。该用于硅片烧结炉的下料装置,包括横向运输装置和竖向运输装置以及硅片装料盒;并且在竖向输送装置上设置换向输送装置,因此通过换向输送装置可以实现硅片输送方向的选择,能够实现硅片的分类,同时可改变硅片的输送方向。采用该用于硅片烧结炉的下料装置能够实现对硅片的分类,并且能够提高硅片的收集效率。

Description

用于硅片烧结炉的下料装置
技术领域
本发明涉及太阳能电池片的烧结领域,尤其是一种用于硅片烧结炉的下料装置。
背景技术
众所周知的:在太阳电池片的整个生产工艺流程中,扩散、镀膜和烧结三道工序是最主 要的,太阳电池片目前采用只需一次烧结的共烧工艺;同时形成上下电极的欧姆接触。
现有技术中太阳能电池片的烧结工艺主要包括三个步骤烘干预热、烧结、冷却;太阳能 电池片进行烧结的设备一般采用烧结炉,烧结炉包括烘干区,烧结区和冷却区。
烧结是使晶体硅基片真正具有光电转换功能的至关重要的一步。因此,烧结设备的性能 好坏直接影响着电池片的质量。
当硅片经过烧结炉烧结、冷却后,从而烧结炉冷却区的传送装置的出料口送出,现有的 烧结炉出料装置,均直接通过人工在冷却区传送装置的出料口对硅片进行收集,从而使得收 集效率较低,不利于自动化生产。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种能够提高硅片收集效率,便于实现自动化生产的 用于硅片烧结炉的下料装置。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:用于硅片烧结炉的下料装置,包括横向运 输装置和竖向运输装置以及硅片装料盒;
所述横向运输装置包括第一主动辊、第一从动辊以及驱动第一主动辊转动的第一驱动装 置;
所述第一主动辊和第一从动辊上缠绕有第一传送带;所述第一传送带横向布置;
所述竖向运输装置包括支座、第一输送主辊、第二输送主辊、第一输送从动辊、第二输 送从动辊,所述第一输送主辊、第二输送主辊、第一输送从动辊、第二输送从动辊,均通过 支座支撑;所述第一输送主辊的支座上设置有驱动输送主辊转动的第一驱动装置;
所述第二输送主辊的支座上设置有驱动第二输送主辊转动的第二驱动装置;
所述第一输送主辊和第一输送从动辊上缠绕有两条平行的第二传送带;所述第二输送主 辊和第二输送从动辊上缠绕有两条平行的第三传送带;所述第二传送带和第三传送带均竖向 布置;
所述第二传送带的一端设置有硅片装料盒,所述第三传送带的一端设置有硅片装料盒, 所述第二传送带的另一端与所述第三传送带的另一端之间设置有换向输送装置;
所述第三传送带的两侧设置有限位挡板,所述限位挡板由第三传送带的一端延伸到第二 传送带的一端;
所述第三传送带一侧的限位挡板上设置有与第一传送带宽度匹配的缺口;所述横向运输 装置位于限位挡板的一侧,且所述第一传送带延伸到缺口内,所述第一传送带的一端与限位 挡板的内壁对齐;所述换向输送装置与缺口对齐。
进一步的,所述第一传送带的两侧设置有第二限位挡板。
进一步的,所述硅片装料盒下方设置有输送硅片装料盒的输送装置。
进一步的,所述输送装置采用滑台。
本发明的有益效果是:本发明所述的用于硅片烧结炉的下料装置由于设置有横向输送装 置和竖向输送装置,并且在竖向输送装置上设置换向输送装置,因此通过换向输送装置可以 实现硅片输送方向的选择,能够实现硅片的分类,同时可改变硅片的输送方向。
因此,本发明所述的用于硅片烧结炉的下料装置能够实现对硅片的分类,并且能够提高 硅片的收集效率。
附图说明
图1为本发明实施例中用于硅片烧结炉的下料装置的结构示意图;
图中标示:1-横向输送装置,2-竖向输送装置,3-硅片装料盒。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
如图1所示,本发明所述的用于硅片烧结炉的下料装置,包括横向运输装置1和竖向运 输装置2以及硅片装料盒3;
所述横向运输装置1包括第一主动辊11、第一从动辊12以及驱动第一主动辊11转动的 驱动装置14;
所述第一主动辊11和第一从动辊12上缠绕有第一传送带13;所述第一传送带13横向 布置;
所述竖向运输装置2包括支座21、第一输送主辊22、第二输送主辊23、第一输送从动 辊210、第二输送从动辊29,所述第一输送主辊22、第二输送主辊23、第一输送从动辊210、 第二输送从动辊29,均通过支座21支撑;所述第一输送主辊22的支座21上设置有驱动输 送主辊22转动的第一驱动装置25;
所述第二输送主辊23的支座21上设置有驱动第二输送主辊23转动的第二驱动装置211;
所述第一输送主辊22和第一输送从动辊210上缠绕有两条平行的第二传送带28;所述 第二输送主辊23和第二输送从动辊29上缠绕有两条平行的第三传送带24;所述第二传送带28和第三传送带24均竖向布置;
所述第二传送带28的一端设置有硅片装料盒3,所述第三传送带24的一端设置有硅片 装料盒3,所述第二传送带28的另一端与所述第三传送带24的另一端之间设置有换向输送 装置212;
所述第三传送带24的两侧设置有限位挡板26,所述限位挡板26由第三传送带24的一 端延伸到第二传送带28的一端;
所述第三传送带28一侧的限位挡板26上设置有与第一传送带13宽度匹配的缺口27;所 述横向运输装置1位于限位挡板26的一侧,且所述第一传送带13延伸到缺口27内,所述第 一传送带13的一端与限位挡板26的内壁对齐;所述换向输送装置212与缺口27对齐。
具体的换向输送装置212可以采用与横向输送装置1结构相同的输送装置,并且将其竖 向布置即可。
在工作过程中:
从烧结炉的出料送出的硅片输送到横向输送装置1的一端上,启动横向输送装置1的驱 动装置14使得第一传送带13滚动,将硅片运送到第一传送带13的一端。
由于所述第三传送带28一侧的限位挡板26上设置有与第一传送带13宽度匹配的缺口 27;所述横向运输装置1位于限位挡板26的一侧,且所述第一传送带13延伸到缺口27内, 所述第一传送带13的一端与限位挡板26的内壁对齐;从而使得硅片被输送到横向输送装置 2内。由于所述换向输送装置212与缺口27对齐,从而使得从横向输送装置1运送的硅片被 输送到换向输送装置212上,通过换向输送装置212实现硅片输送方向的选择,换向输送装 置212向上输送硅片,则硅片被输送到第三传送带24上,实现硅片的向上输送。换向输送装 置212向下输送硅片,则硅片被输送到第二传送带28上,实现硅片的向下输送。通过对硅片 的输送方向的选择可以实现对硅片的分类,不同类的硅片输送方向不同,同时通过换向输送 装置212可以使得同时向上和向下输送硅片。
综上所述,本发明所述的用于硅片烧结炉的下料装置由于设置有横向输送装置和竖向输 送装置,并且在竖向输送装置上设置换向输送装置,因此通过换向输送装置可以实现硅片输 送方向的选择,能够实现硅片的分类,同时可改变硅片的输送方向。
因此,本发明所述的用于硅片烧结炉的下料装置能够实现对硅片的分类,并且能够提高 硅片的收集效率。
为了避免硅片在第一传送带13出现偏移,进一步的,所述第一传送带13的两侧设置有 第二限位挡板15。
为了便于硅片装料盒3的输送,进一步的,所述硅片装料盒3下方设置有输送硅片装料 盒3的输送装置31。具体的,所述输送装置31采用滑台。

Claims (4)

1.用于硅片烧结炉的下料装置,其特征在于:包括横向运输装置(1)和竖向运输装置(2)以及硅片装料盒(3);
所述横向运输装置(1)包括第一主动辊(11)、第一从动辊(12)以及驱动第一主动辊(11)转动的驱动装置(14);
所述第一主动辊(11)和第一从动辊(12)上缠绕有第一传送带(13);所述第一传送带(13)横向布置;
所述竖向运输装置(2)包括支座(21)、第一输送主辊(22)、第二输送主辊(23)、第一输送从动辊(210)、第二输送从动辊(29),所述第一输送主辊(22)、第二输送主辊(23)、第一输送从动辊(210)、第二输送从动辊(29),均通过支座(21)支撑;所述第一输送主辊(22)的支座(21)上设置有驱动输送主辊(22)转动的第一驱动装置(25);
所述第二输送主辊(23)的支座(21)上设置有驱动第二输送主辊(23)转动的第二驱动装置(211);
所述第一输送主辊(22)和第一输送从动辊(210)上缠绕有两条平行的第二传送带(28);所述第二输送主辊(23)和第二输送从动辊(29)上缠绕有两条平行的第三传送带(24);所述第二传送带(28)和第三传送带(24)均竖向布置;
所述第二传送带(28)的一端设置有硅片装料盒(3),所述第三传送带(24)的一端设置有硅片装料盒(3),所述第二传送带(28)的另一端与所述第三传送带(24)的另一端之间设置有换向输送装置(212);
所述第三传送带(24)的两侧设置有限位挡板(26),所述限位挡板(26)由第三传送带(24)的一端延伸到第二传送带(28)的一端;
所述第三传送带(28)一侧的限位挡板(26)上设置有与第一传送带(13)宽度匹配的缺口(27);所述横向运输装置(1)位于限位挡板(26)的一侧,且所述第一传送带(13)延伸到缺口(27)内,所述第一传送带(13)的一端与限位挡板(26)的内壁对齐;所述换向输送装置(212)与缺口(27)对齐。
2.如权利要求1所述的用于硅片烧结炉的下料装置,其特征在于:所述第一传送带(13)的两侧设置有第二限位挡板(15)。
3.如权利要求2所述的用于硅片烧结炉的下料装置,其特征在于:所述硅片装料盒(3)下方设置有输送硅片装料盒(3)的输送装置(31)。
4.如权利要求3所述的用于硅片烧结炉的下料装置,其特征在于:所述输送装置(31)采用滑台。
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