CN204792731U - 硅片双向输送机构 - Google Patents

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徐志凌
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    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Abstract

本实用新型提供一种硅片双向输送机构,包括硅片存储架、横移机构、输送机构以及硅片堆叠架,横移机构包括横移导轨、滑动设置于横移导轨上的滑动架、沿着上下方向滑动设置的第一吸盘以及第二吸盘、分别驱动第一吸盘、第二吸盘滑动的气缸,输送机构具有两个,分别位于硅片存储架的两侧,每个输送机构包括转动设置的两个转辊、呈环形设置且绕设于两个转辊上的两根输送绳第一吸盘与第二吸盘之间的间距为两个输送机构之间间距的一半,生产效率高。

Description

硅片双向输送机构
技术领域
[0001 ] 本实用新型涉及一种硅片双向输送机构。
背景技术
[0002] 现有的太阳能硅片生产线上,硅片需要经过若干道工序进行处理,其中很多道工序中需要使用硅片托架,然而将硅片装入硅片托架的工作量较大,目前大多数采用人工操作的方式进行,生产效率低下。
发明内容
[0003] 本实用新型的目的在于克服上述技术的不足,从而提供一种硅片双向输送机构,
生产效率高。
[0004] 本实用新型所采用的技术方案是这样的:硅片双向输送机构,包括硅片存储架、横移机构、输送机构以及硅片堆叠架,所述横移机构包括横移导轨、滑动设置于所述横移导轨上的滑动架、沿着上下方向滑动设置的第一吸盘以及第二吸盘、分别驱动所述第一吸盘、所述第二吸盘滑动的气缸,所述输送机构具有两个,分别位于所述硅片存储架的两侧,每个所述输送机构包括转动设置的两个转辊、呈环形设置且绕设于两个所述转辊上的两根输送绳所述第一吸盘与所述第二吸盘之间的间距为两个所述输送机构之间间距的一半。
[0005] 进一步改进的是:所述硅片堆叠架的下方设置有驱动其逐步上升的升降机构。
[0006] 进一步改进的是:所述升降机构包括与所述硅片堆叠架相连接的丝杠、驱动所述丝杠转动的电机。
[0007] 通过采用前述技术方案,本实用新型的有益效果是:第一吸盘将硅片放置在一侧输送机构上时,第二吸盘将硅片存储架上的硅片吸起,在第一吸盘返回硅片存储架取硅片时,第二吸盘将硅片送至另一侧的输送机构上,生产效率高。
附图说明
[0008] 图1是本实用新型示意图。
[0009] 其中:1、硅片存储架;2、硅片堆叠架;3、横移导轨;4、滑动架;5、转辊;6、输送绳。
具体实施方式
[0010] 以下结合附图和具体实施方式来进一步说明本实用新型。
[0011] 如图1所示,本实用新型公开一种硅片双向输送机构,包括硅片存储架1、横移机构、输送机构以及硅片堆叠架2,所述横移机构包括横移导轨3、滑动设置于所述横移导轨3上的滑动架4、沿着上下方向滑动设置的第一吸盘以及第二吸盘、分别驱动所述第一吸盘、所述第二吸盘滑动的气缸,所述输送机构具有两个,分别位于所述硅片存储架I的两侧,每个所述输送机构包括转动设置的两个转辊5、呈环形设置且绕设于两个所述转辊5上的两根输送绳6所述第一吸盘与所述第二吸盘之间的间距为两个所述输送机构之间间距的一半。
[0012] 所述硅片堆叠架2的下方设置有驱动其逐步上升的升降机构,所述升降机构包括与所述硅片堆叠架2相连接的丝杠、驱动所述丝杠转动的电机。
[0013] 工作原理:气缸驱动吸盘上下运动,吸盘下降后将硅片存储架I上的硅片吸起,而后在滑动架4的作用下沿着横移导轨3滑动,移动至输送机构时,气缸驱动吸盘下降,吸盘将硅片放置到输送绳6上进行输送,而后装入硅片堆叠架2内,此外第一吸盘将硅片放置在一侧输送机构上时,第二吸盘将硅片存储架I上的硅片吸起,在第一吸盘返回硅片存储架I取硅片时,第二吸盘将硅片送至另一侧的输送机构上,进一步提高生产效率。
[0014] 以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征及其优点,本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内,本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

Claims (3)

1.娃片双向输送机构,其特征在于:包括娃片存储架、横移机构、输送机构以及娃片堆叠架,所述横移机构包括横移导轨、滑动设置于所述横移导轨上的滑动架、沿着上下方向滑动设置的第一吸盘以及第二吸盘、分别驱动所述第一吸盘、所述第二吸盘滑动的气缸,所述输送机构具有两个,分别位于所述硅片存储架的两侧,每个所述输送机构包括转动设置的两个转辊、呈环形设置且绕设于两个所述转辊上的两根输送绳所述第一吸盘与所述第二吸盘之间的间距为两个所述输送机构之间间距的一半。
2.根据权利要求1所述的硅片双向输送机构,其特征在于:所述硅片堆叠架的下方设置有驱动其逐步上升的升降机构。
3.根据权利要求2所述的硅片双向输送机构,其特征在于:所述升降机构包括与所述硅片堆叠架相连接的丝杠、驱动所述丝杠转动的电机。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107990730A (zh) * 2017-11-28 2018-05-04 乐山新天源太阳能科技有限公司 用于硅片烧结炉的下料装置
CN108007209A (zh) * 2017-11-28 2018-05-08 乐山新天源太阳能科技有限公司 用于硅片烧结炉的上料装置

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