CN107942549A - 配向膜烘干装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种配向膜烘干装置。该配向膜烘干装置，用于对基板上的配向液进行烘干，基板具有相对的正表面和背表面，正表面具有配向液涂布区域，配向液涂布区域在背表面的投影为第一非涂布区域，基板的全部表面中除配向液涂布区域和第一非涂布区域之外的区域为第二非涂布区域，装置包括：加热板，设置于基板的远离正表面的一侧；以及支撑组件，设置于加热板的靠近基板的一侧，用于支撑基板以使基板与加热板之间具有间隙，支撑组件包括：第一磁体部，与第二非涂布区域接触设置；第二磁体部，与加热板接触设置，且在烘干过程中，第二磁体部与第一磁体部相互排斥。采用上述配向膜烘干装置保证了取向膜的厚度和表面均匀度，避免了配向膜出现色差。

Description

配向膜烘干装置
技术领域
本发明涉及液晶显示器的制造领域，具体而言，涉及一种配向膜烘干装置。
背景技术
在液晶显示器制造技术领域中，配向膜是一种用于确保液晶分子按要求取向并形成一定预倾角的功能性膜层。配向膜的形成机理是将配向液通过印刷等工艺形成于玻璃基板表面，然后对配向液进行初步加热固化，使配向液中有机溶剂挥发，以形成分布均匀的配向膜，之后再对上述配向膜进行高温处理，以将配向膜进一步固化。
在上述对配向液进行初步加热固化的步骤中，通常采用的配向膜烘干装置如图1所示，实施时将玻璃基板10＇放置在多个支撑针30＇(Pin)上，使玻璃基板10＇能够位于加热板20＇上方5～10mm处的高度，并利用加热板20＇产生的热量对玻璃基板10＇上的配向液进行80～120℃的加热。然而，由于加热板20＇加热后，会造成支撑针30＇的温度高于周围环境温度，从而导致支撑针30＇与玻璃基板10＇的接触位置会由于支撑针30＇的影响造成接触位置与其他位置的受热不均，与接触位置对应的玻璃基板10＇表面的部分配向液因温度高而较快的挥发掉，从而影响了取向膜的厚度和表面均匀度，从而使配向膜出现色差，导致显示器出现画面品质不良(mura)现象。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种配向膜烘干装置，以解决现有技术中的配向膜容易出现色差，从而导致显示器出现画面品质不良现象的问题。
为了实现上述目的，根据本发明的一个方面，提供了一种配向膜烘干装置，用于对基板上的配向液进行烘干，基板具有相对的正表面和背表面，正表面具有配向液涂布区域，配向液涂布区域在背表面的投影为第一非涂布区域，基板的全部表面中除配向液涂布区域和第一非涂布区域之外的区域为第二非涂布区域，配向膜烘干装置包括：加热板，设置于基板的远离正表面的一侧；以及支撑组件，设置于加热板的靠近基板的一侧，用于支撑基板以使基板与加热板之间具有间隙，支撑组件包括：第一磁体部，与第二非涂布区域接触设置；第二磁体部，与加热板接触设置，且在烘干过程中，第二磁体部与第一磁体部相互排斥。
进一步地，上述第二磁体部设置于加热板的靠近基板的一侧表面。
进一步地，上述第二磁体部嵌于加热板中，且第二磁体部靠近第一磁体部的一侧表面与加热板的表面共面。
进一步地，上述第一磁体部设置于背表面中的第二非涂布区域。
进一步地，上述配向液涂布区域包括对称分布于基板中心线两侧的相互隔离的第一涂布区域和第二涂布区域，第一非涂布区域包括与第一涂布区域对应的第一受热区域以及与第二涂布区域对应的第二受热区域，第一磁体部分别设置于第一受热区域与第二受热区域之间的隔离区域、第一受热区域远离第二受热区域的一侧以及第二受热区域远离第一受热区域的一侧。
进一步地，上述第一磁体部与第二磁体部均为多个且一一对应设置，在垂直于基板的方向上各一一对应的第一磁体部的中垂线与第二磁体部的中垂线共线。
进一步地，上述支撑组件包括多个第一磁体部，各第一磁体部具有与基板的端部形状互补的凹槽，基板两个相对的端部设置于凹槽中。
进一步地，上述第一磁体部与第二磁体部均为多个且一一对应设置，各一一对应的第一磁体部与第二磁体部中，第一磁体部的中垂线与基板的中垂线之间的距离大于第二磁体部的中垂线与基板的中垂线之间的距离。
进一步地，上述第一磁体部为磁铁或电生磁装置。
进一步地，上述第二磁体部为磁铁或电生磁装置，优选第一磁体部为磁铁，第二磁体部为电生磁装置。
应用本发明的技术方案，提供了一种包括基板和加热板的配向膜烘干装置，该配向膜烘干装置包括加热板，用于对基板上的配向液进行烘干，基板具有相对的正表面和背表面，正表面具有配向液涂布区域，配向液涂布区域在背表面的投影为第一非涂布区域，基板的全部表面中除配向液涂布区域和第一非涂布区域之外的区域为第二非涂布区域，该配向膜烘干装置还包括设置于加热板的靠近基板一侧的支撑组件，用于支撑基板以使基板与加热板之间具有间隙，且该支撑组件包括第一磁体部和第二磁体部，第一磁体部与上述第二非涂布区域接触设置，第二磁体部与加热板接触设置，且在烘干过程中，第二磁体部与第一磁体部相互排斥，从而相比于现有技术中起到对基板支撑作用的支撑针，本发明的上述支撑组件通过合理设置第一磁体部在基板表面的位置，能够有效地避免配向液涂布区域的受热不均，在烘干过程中能够使配向液涂布区域在同一加热温度下能够具有均匀的挥发速率，进而保证了取向膜的厚度和表面均匀度，避免了配向膜出现色差，也避免了具有配向膜的显示器出现画面品质不良的现象。
除了上面所描述的目的、特征和优点之外，本发明还有其它的目的、特征和优点。下面将参照图，对本发明作进一步详细的说明。
附图说明
构成本发明的一部分的说明书附图用来提供对本发明的进一步理解，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：
图1示出了现有技术中所提供的一种配向膜烘干装置的结构示意图；
图2示出了本发明所提供的一种第一磁体部设置于基板背表面的配向膜烘干装置的结构示意图；
图3示出了应用于图2所示的配向膜烘干装置中基板的立体结构俯视示意图；
图4示出了应用于图2所示的配向膜烘干装置中基板的立体结构仰视示意图；
图5示出了本发明所提供的一种包括第一涂布区域和第二涂布区域的配向膜烘干装置的结构示意图；
图6示出了本发明所提供的一种基板两个相对的端部设置于第一磁体部的凹槽中的配向膜烘干装置的结构示意图；
图7示出了本发明所提供的另一种基板两个相对的端部设置于第一磁体部的凹槽中的配向膜烘干装置的结构示意图；以及
图8示出了本发明所提供的一种第一磁体部为磁铁且第二磁体部为电生磁装置的配向膜烘干装置的结构示意图。
其中，上述附图包括以下附图标记：
10＇、玻璃基板；20＇、加热板；30＇、支撑针；10、基板；110、配向液涂布区域；120、第一非涂布区域；130、第二非涂布区域；20、加热板；30、支撑组件；310、第一磁体部；320、第二磁体部。
具体实施方式
需要说明的是，在不冲突的情况下，本发明中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本发明。
为了使本技术领域的人员更好地理解本发明方案，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本发明保护的范围。
需要说明的是，本发明的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本发明的实施例。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。
正如背景技术中所介绍的，现有技术中的配向膜容易出现色差，从而导致显示器出现画面品质不良现象的问题。本申请的发明人针对上述问题进行研究，提出了一种配向膜烘干装置，用于对基板10上的配向液进行烘干，基板具有相对的正表面和背表面，正表面具有配向液涂布区域，配向液涂布区域在背表面的投影为第一非涂布区域，基板的全部表面中除配向液涂布区域和第一非涂布区域之外的区域为第二非涂布区域，如图2所示，该装置包括：加热板20，设置于基板10的远离正表面的一侧；以及支撑组件30，设置于加热板20的靠近基板10的一侧，用于支撑基板10以使基板10与加热板20之间具有间隙，支撑组件30包括：第一磁体部310，与第二非涂布区域接触设置；第二磁体部320，与加热板20接触设置，且在烘干过程中，第二磁体部320与第一磁体部310相互排斥。
本发明的上述配向膜烘干装置包括加热板，用于对基板10上的配向液进行烘干，基板10具有相对的正表面和背表面，该基板10的立体结构俯视示意图如图3所示，该基板的立体结构仰视示意图如图4所示，其中，正表面为点a、b、c和d所在的表面，背表面为点a＇、b＇、c＇和d＇所在的表面，且点a＇和a对应，点b＇和b对应，点c＇和c对应，点d＇和d对应，上述基板10的正表面具有配向液涂布区域110，配向液涂布区域在基板10的背表面的投影为第一非涂布区域120，基板的全部表面中除配向液涂布区域和第一非涂布区域之外的区域为第二非涂布区域130，该第二非涂布区域130包括正表面除配向液涂布区域110之外的区域、背表面除第一非涂布区域120之外的区域、点a、a＇、b和b＇所在的表面以及点c、c＇、d和d＇所在的表面。
由于上述配向膜烘干装置还包括设置于加热板的靠近基板一侧的支撑组件，用于支撑基板以使基板与加热板之间具有间隙，且该支撑组件包括第一磁体部和第二磁体部，第一磁体部与第二非涂布区域接触设置，第二磁体部与加热板接触设置，且在烘干过程中，第二磁体部与第一磁体部相互排斥，从而相比于现有技术中用于对基板支撑的支撑针，本发明的上述支撑组件通过合理设置第一磁体部在基板表面的位置，能够有效地避免配向液涂布区域的受热不均，在烘干过程中能够使配向液涂布区域在同一加热温度下能够具有均匀的挥发速率，进而保证了取向膜的厚度和表面均匀度，避免了配向膜出现色差，也避免了具有配向膜的显示器出现画面品质不良的现象。
在本发明的上述配向膜烘干装置中，为了利用支撑组件30实现对基板10更好地支撑，优选地，第二磁体部320设置于加热板20的靠近基板10的一侧表面。并且，为了保证加热板对基板的加热均匀性，优选地，第二磁体部320嵌于加热板20中，且第二磁体部320靠近第一磁体部310的一侧表面与加热板20的表面共面。
在本发明的上述配向膜烘干装置中，为了利用支撑组件30实现对基板10更好地支撑，在一种优选的实施方式中，第一磁体部310设置于基板10的背表面中的第二非涂布区域，如图2所示。
在上述优选的实施方式中，更为优选地，配向液涂布区域包括对称分布于基板10中心线两侧的相互隔离的第一涂布区域和第二涂布区域，第一非涂布区域包括与第一涂布区域对应的第一受热区域以及与第二涂布区域对应的第二受热区域，第一磁体部310分别设置于第一受热区域与第二受热区域之间的隔离区域、第一受热区域远离第二受热区域的一侧以及第二受热区域远离第一受热区域的一侧，如图5所示。通过在基板10的中心位置以及两端设置上述第一磁体部310能够有效地避免由于第一磁体部310与第二磁体部320仅设置于端部而造成的基板10向下弯曲。
并且，更为优选地，第一磁体部310与第二磁体部320均为多个且一一对应设置，在垂直于基板10的方向上各一一对应的第一磁体部310的中垂线与第二磁体部320的中垂线共线。此时，由于上述第二磁体部320设置于加热板20的靠近基板10的一侧表面且与上述第一磁体部310相对设置，从而能够使上述第一磁体部310和第二磁体部320之间具有最短距离，进而通过第一磁体部310与第二磁体部320之间的排斥力实现对基板10平稳地支撑。
在另一种优选的实施方式中，支撑组件30包括多个第一磁体部310，各第一磁体部310具有与基板10的端部形状互补的凹槽，基板10两个相对的端部设置于凹槽中，如图6所示。由于第一磁体部310具有凹槽，从而能够直接设置于基板10的端部，而无需采用连接件或粘结的方式将第一磁体部310与基板10连接，使配向膜烘干装置的结构更为简单、易于制备。
在上述优选的实施方式中，更为优选地，第一磁体部310与第二磁体部320均为多个且一一对应设置，各一一对应的第一磁体部310与第二磁体部320中，第一磁体部310的中垂线与基板10的中垂线之间的距离大于第二磁体部320的中垂线与基板10的中垂线之间的距离，如图7所示。由于设置于基板10上的第一磁体部310会在重力作用下导致基板10向下弯曲，从而通过上述设置方式能够使第一磁体部310与第二磁体部320在垂直方向上错开，使第一磁体部310与第二磁体部320之间产生作用于基板10两端的拉力，上述拉力在基板10端部可以分解为水平和垂直两个方向，进而通过将基板10向两侧拉伸，有效地缓解了基板10的弯曲程度。
在本发明的上述配向膜烘干装置中，本领域技术人员可以根据现有技术对上述第一磁体部310和第二磁体部320的种类进行合理选取，上述第一磁体部310和第二磁体部320可以为磁铁，也可以为电生磁装置。上述电生磁装置作为第一磁体部310和/或第二磁体部320能够通过改变通入电流的大小，改变设备加热板20上方的产生磁力角度和强度，从而使得基板10能够慢慢下降到固定位置。
在一种优选的实施方式中，上述第一磁体部310为磁铁，且上述第二磁体部320为电生磁装置，如图8所示。由于基板10在加热板20的上方移动，从而通过将电生磁装置设置于固定设置的加热板20上，并将磁铁设置于可移动的基板10上，使设置更为方便。
从以上的描述中，可以看出，本发明上述的实施例实现了如下技术效果：
由于上述配向膜烘干装置包括设置于加热板的靠近基板一侧的支撑组件，用于支撑基板以使基板与加热板之间具有间隙，且该支撑组件包括第一磁体部和第二磁体部，第一磁体部与非涂布区域接触设置，第二磁体部与加热板接触设置，且在烘干过程中，第二磁体部与第一磁体部相互排斥，从而相比于现有技术中起到对基板支撑作用的支撑针，本发明的上述支撑组件能够通过合理设置第一磁体部在基板表面的位置，有效地避免配向液涂布区域的受热不均，在烘干过程中能够使配向液涂布区域在同一加热温度下能够具有均匀的挥发速率，进而保证了取向膜的厚度和表面均匀度，避免了配向膜出现色差，也避免了具有配向膜的显示器出现画面品质不良的现象。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种配向膜烘干装置，用于对基板(10)上的配向液进行烘干，所述基板具有相对的正表面和背表面，所述正表面具有配向液涂布区域，所述配向液涂布区域在所述背表面的投影为第一非涂布区域，所述基板的全部表面中除所述配向液涂布区域和所述第一非涂布区域之外的区域为第二非涂布区域，其特征在于，所述配向膜烘干装置包括：
加热板(20)，设置于所述基板(10)的远离所述正表面的一侧；以及
支撑组件(30)，设置于所述加热板(20)的靠近所述基板(10)的一侧，用于支撑所述基板(10)以使所述基板(10)与所述加热板(20)之间具有间隙，所述支撑组件(30)包括：
第一磁体部(310)，与所述第二非涂布区域接触设置；
第二磁体部(320)，与所述加热板(20)接触设置，且在烘干过程中，所述第二磁体部(320)与所述第一磁体部(310)相互排斥。
2.根据权利要求1所述的配向膜烘干装置，其特征在于，所述第二磁体部(320)设置于所述加热板(20)的靠近所述基板(10)的一侧表面。
3.根据权利要求1所述的配向膜烘干装置，其特征在于，所述第二磁体部(320)嵌于所述加热板(20)中，且所述第二磁体部(320)靠近所述第一磁体部(310)的一侧表面与所述加热板(20)的表面共面。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的配向膜烘干装置，其特征在于，所述第一磁体部(310)设置于所述背表面中的所述第二非涂布区域。
5.根据权利要求4所述的配向膜烘干装置，其特征在于，所述配向液涂布区域包括对称分布于所述基板(10)中心线两侧的相互隔离的第一涂布区域和第二涂布区域，所述第一非涂布区域包括与所述第一涂布区域对应的第一受热区域以及与所述第二涂布区域对应的第二受热区域，所述第一磁体部(310)分别设置于所述第一受热区域与所述第二受热区域之间的隔离区域、所述第一受热区域远离所述第二受热区域的一侧以及所述第二受热区域远离所述第一受热区域的一侧。
6.根据权利要求5所述的配向膜烘干装置，其特征在于，所述第一磁体部(310)与所述第二磁体部(320)均为多个且一一对应设置，在垂直于所述基板(10)的方向上各一一对应的所述第一磁体部(310)的中垂线与所述第二磁体部(320)的中垂线共线。
7.根据权利要求1至3中任一项所述的配向膜烘干装置，其特征在于，所述支撑组件(30)包括多个所述第一磁体部(310)，各所述第一磁体部(310)具有与所述基板(10)的端部形状互补的凹槽，所述基板(10)两个相对的端部设置于所述凹槽中。
8.根据权利要求7所述的配向膜烘干装置，其特征在于，所述第一磁体部(310)与所述第二磁体部(320)均为多个且一一对应设置，各一一对应的所述第一磁体部(310)与所述第二磁体部(320)中，所述第一磁体部(310)的中垂线与所述基板(10)的中垂线之间的距离大于所述第二磁体部(320)的中垂线与所述基板(10)的中垂线之间的距离。
9.根据权利要求1所述的配向膜烘干装置，其特征在于，所述第一磁体部(310)为磁铁或电生磁装置。
10.根据权利要求9所述的配向膜烘干装置，其特征在于，所述第二磁体部(320)为磁铁或电生磁装置，优选所述第一磁体部(310)为磁铁，所述第二磁体部(320)为电生磁装置。
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