CN107893219A - 一种钆钐掺杂的钇钡铜氧超导层及其制备方法 - Google Patents

一种钆钐掺杂的钇钡铜氧超导层及其制备方法 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种钆钐掺杂的钇钡铜氧超导层及制备方法,具体涉及一种通过Gd离子联合Sm离子部分替代Y离子的方式在LAO基片上制备(YxGdySmz)BCO超导层的方法,有效克服YBCO超导层的厚度效应,提高超导载流能力。该制备方法首先利用有机金属溶液沉积技术配置金属前驱液,然后用浸渍提拉机在LAO基片上进行多次提拉镀膜,把镀好膜的样品进行热处理以及退火处理,得到在LAO基片上生长的(YxGdySmz)BCO超导层。利用该方法能生产出厚度达到5μm的高载流能力的(YxGdySmz)BCO涂层导体,临界电流可达500A/cm。

Description

一种钆钐掺杂的钇钡铜氧超导层及其制备方法
技术领域
本发明涉及超导技术领域,具体涉及一种钆钐掺杂的钇钡铜氧超导层及其制备方法,尤其涉及用有机金属溶液沉积法在铝酸镧基片上生长(YxGdySmz)BCO超导层的方法,及用该方法所制备得到的(YxGdySmz)BCO涂层导体。
背景技术
当前,电力供应日趋紧张,大量电能被浪费在传统电缆上。如果使用超导带材,不仅可以避免电能损耗,而且可以节约大量的金属材料。当今超导带材的研究热点在基于YBCO(钇钡铜氧)体系的第二代高温超导材料,其优异的电学性能在弱电(如制作超导量子干涉仪、超导耦合天线、超导滤波器等)和强电领域(如制备第二代高温超导带--YBCO涂层导体)展现出的优秀应用前景。但是YBCO体系的涂层导体存在厚度效应,即当其厚度大于一定值(约2μm)时,临界电流密度、甚至临界电流出现减少的现象,所以克服厚度效应成为突破的关键点。
目前,在传统的YBCO涂层导体中进行金属阳离子的掺杂能够有效地克服超导层的厚度效应。经实验证明,通过在前驱液中用Gd替代部分Y,制备得到的涂层导体在比较厚时也可以保持良好的c轴取向生长。因此,通过金属阳离子掺杂制备的涂层导体可以有效克服超导层的厚度效应,大大提高涂层导体的超导载流能力。
从目前的技术条件来看,利用脉冲激光沉积(PLD)方法制备金属阳离子掺杂导体效率较为可观,但是对于设备的要求比较严格,成本较高,不利于高质量YBCO涂层导体的工业化生产。目前制备YBCO超导薄膜最简单易行且价格低廉的方法仍然是化学溶液沉积法。利用化学溶液沉积法制备多稀有元素掺杂的导体成为研究热点。本发明提供一种钆钐双元素掺杂的钇钡铜氧超导层,及利用化学溶液沉积法制备的方法,所涉及的超导层的元素构成及制备方法目前未有报道。
发明内容
本发明的目的在于提供一种钆钐掺杂的钇钡铜氧超导层,化学组成为(YxGdySmz)BCO,以及制备所述超导层的方法,即一种低成本,高效率,有利于工业化生产高质量涂层导体的方法,采用有机金属溶液沉积(MOD)法,通过Gd联合Sm部分替代Y的方法配置前驱液,在LAO基片上多次镀膜,来得到可以达到5.0μm厚且具有高载流能力的涂层导体。
为了实现上述发明目的,本发明采用以下技术方案:
一种钆钐掺杂的钇钡铜氧超导层,该超导层的化学组成为(YxGdySmz)BCO,其中BCO为Ba、Cu、O三种元素组合的缩写,其中Ba与Cu元素摩尔比为2∶3.15;x+y+z=1,x的值为0.4-0.8,y的值为0.1-0.4,z的值为0.1-0.3。
一种MOD法通过Gd联合Sm部分替代Y制备涂层导体ReBCO超导层的生长方法,该方法的步骤如下:
步骤1:将乙酸钇,乙酸钆,乙酸钐,乙酸钡,乙酸铜五种乙酸盐按照x∶y∶z∶2∶3.15的2∶3.15比例溶于去离子水得到溶液A,其中,x+y+z=1,x的值为0.4-0.8,y的值为0.1-0.4,z的值为0.1-0.3;
步骤2:向溶液A加入丙酸,搅拌均匀,在真空65℃-75℃下进行反复减压蒸馏得到溶液B;
步骤3:向溶液B中加入甲醇,以甲醇为溶剂,调节得到浓度为1.5mol/L-2mol/L的溶液C,向溶液C加入PVB树脂,PVB树脂与溶液C的质量比为1∶10-1∶20,搅拌均匀,得到呈蓝黑色透明胶体的前驱液;
步骤4:使用浸渍提拉机进行镀膜,浸渍和提拉速度都为5-10mm/min,浸渍时间为5-10分钟,提拉间隔为10分钟,使前驱液均匀附着在铝酸镧(LAO)基片上,得到的样品在真空环境下干燥10-15分钟,并重复此步骤2-10次进行多次镀膜,得到超导膜样品;
步骤5:将超导膜样品放入管式炉,通入潮湿的氧气和氩气,先以5℃/min的速度升到150℃,然后再以2℃/min的速度升到450-500℃进行热解;将热解后的超导膜样品以5℃/min的速度升温到800-830℃并保持10分钟,之后降温到400℃保持60分钟并排除管式炉中氩气,只保留干燥的氧气,直至冷却完成退火。
本发明提供一种(YxGdySmz)BCO超导层,及MOD法Gd联合Sm部分替代Y制备涂层导体ReBCO超导层的方法,其优点在于:
1、采用Gd联合Sm部分替代Y,可以有效的克服厚度效应,使超导层在达到5.0μm时依然可以保持良好的c轴取向生长,并且临界电流可以达到500A/cm;
2、采用有机金属溶液沉积(MOD)法,具有成本低廉、成分控制精确、制备效率高等优点,有利于高质量钇钡铜氧涂层导体的工业化生产。
附图说明
图1为ReBCO衍射图样;
图2为Jc和Ic随薄膜厚度的变化。
具体实施方式
实施例1
本实施例为在LAO基片上上制备厚度为1μm的ReBCO超导层。采用常规的有机金属溶液沉积工艺,通过浸渍提拉机设备进行。具体工艺如下:
(1)、将乙酸钇,乙酸钆,乙酸钐,乙酸钡,乙酸铜五种乙酸盐按Y:Gd:Sm:Ba:Cu=0.8:0.1:0.1:2:3.15的比例溶于去离子水得到溶液A;
(2)、在A中加入适量丙酸,并且搅拌均匀使其充分反应,然后对溶液在真空70℃进行反复减压蒸馏得到溶液B;
(3)、在溶液B中加入甲醇,调解溶液浓度到1.5mol/L,并加入PVB作为增稠剂,增稠剂与溶液的质量比为1∶20,搅拌均匀,得到蓝黑色透明胶体前驱液;
(4)、采用浸渍提拉机进行镀膜,浸渍和提拉速度都为5mm/min,浸渍时间为10分钟,提拉间隔为10分钟,使前驱液均匀附着在LAO基片上,得到的样品在75℃真空环境下干燥10分钟,并重复此步骤2次,得到厚度为1μm的ReBCO超导层;
(5)、将样品放入管式炉,通入潮湿的氧气和氩气,先以5℃/min的速度升到150℃,然后再以2℃/min的速度升到480℃进行热解;
(6)、将热解后的样品在干燥的氧氩混合气体中以5℃/min的速度升到815℃并℃保持10分钟,之后降温到400℃保持60分钟,管式炉中只保留干燥的氧气,直至冷却完成退火。
实施例2
本实施例为在LAO基片上上制备厚度为2μm的ReBCO超导层。采用常规的有机金属溶液沉积工艺,通过浸渍提拉机设备进行。具体工艺如下:
本实施例的制备方法除步骤(1)、(4)与实施例1不同,其余重复实施例1中的步骤,具体工艺如下:
(1)、将乙酸钇,乙酸钆,乙酸钐,乙酸钡,乙酸铜五种乙酸盐按Y:Gd:Sm:Ba:Cu=0.7:0.2:0.1∶2∶3.15的比例溶于去离子水得到溶液A;
(2)、重复实施例1中的步骤(2);
(3)、在溶液B中加入甲醇,调解溶液浓度到1.5mol/L,并加入PVB作为增稠剂,增稠剂与溶液的质量比为1∶18,搅拌均匀,得到蓝黑色透明胶体前驱液;
(4)、采用浸渍提拉机进行镀膜,浸渍和提拉速度都为6mm/min,浸渍时间为10分钟,提拉间隔为10分钟,使前驱液均匀附着在LAO基片上,得到的样品在75℃真空环境下干燥10分钟,并重复此步骤4次,得到厚度为2μm的ReBCO超导层;
(5)、重复实施例1中的步骤(5);
(6)、重复实施例1中的步骤(6);
实施例3
本实施例为在LAO基片上上制备厚度为3μm的ReBCO超导层。采用常规的有机金属溶液沉积工艺,通过浸渍提拉机设备进行。具体工艺如下:
本实施例的制备方法除步骤(1)、(4)与实施例1不同,其余重复实施例1中的步骤,具体工艺如下:
(1)、将乙酸钇,乙酸钆,乙酸钐,乙酸钡,乙酸铜五种乙酸盐按Y:Gd:Sm:Ba:Cu=0.6∶0.3∶0.1∶2∶3.15的比例溶于去离子水得到溶液A;
(2)、重复实施例1中的步骤(2);
(3)、在溶液B中加入甲醇,调解溶液浓度到1.5mol/L,并加入PVB作为增稠剂,增稠剂与溶液的质量比为1∶16,搅拌均匀,得到蓝黑色透明胶体前驱液;
(4)、采用浸渍提拉机进行镀膜,浸渍和提拉速度都为7mm/min,浸渍时间为10分钟,提拉间隔为10分钟,使前驱液均匀附着在LAO基片上,得到的样品在75℃真空环境下干燥10分钟,并重复此步骤6次,得到厚度为3um的ReBCO超导层;
(5)、重复实施例1中的步骤(5);
(6)、重复实施例1中的步骤(6);
实施例4
本实施例为在LAO基片上上制备厚度为4μm的ReBCO超导层。采用常规的有机金属溶液沉积工艺,通过浸渍提拉机设备进行。具体工艺如下:
本实施例的制备方法除步骤(1)、(4)与实施例1不同,其余重复实施例1中的步骤,具体工艺如下:
(1)、将乙酸钇,乙酸钆,乙酸钐,乙酸钡,乙酸铜五种乙酸盐按Y:Gd:Sm:Ba:Cu=0.5∶0.4∶0.1∶2∶3.15的比例溶于去离子水得到溶液A;
(2)、重复实施例1中的步骤(2);
(3)、在溶液B中加入甲醇,调解溶液浓度到1.5mol/L,并加入PVB作为增稠剂,增稠剂与溶液的质量比为1∶14,搅拌均匀,得到蓝黑色透明胶体前驱液。
(4)、采用浸渍提拉机进行镀膜,浸渍和提拉速度都为8mm/min,浸渍时间为10分钟,提拉间隔为10分钟,使前驱液均匀附着在LAO基片上,得到的样品在75℃真空环境下干燥10分钟,并重复此步骤8次,得到厚度为4μm的ReBCO超导层;
(5)、重复实施例1中的步骤(5);
(6)、重复实施例1中的步骤(6);
实施例5
本实施例为在LAO基片上上制备厚度为5μm的ReBCO超导层。采用常规的有机金属溶液沉积工艺,通过浸渍提拉机设备进行。具体工艺如下:
本实施例的制备方法除步骤(1)、(4)与实施例1不同,其余重复实施例1中的步骤,具体工艺如下:
(1)、将乙酸钇,乙酸钆,乙酸钐,乙酸钡,乙酸铜五种乙酸盐按Y:Gd:Sm:Ba:Cu=0.6∶0.2∶0.2∶2∶3.15的比例溶于去离子水得到溶液A;
(2)、重复实施例1中的步骤(2);
(3)、在溶液B中加入甲醇,调解溶液浓度到1.5mol/L,并加入PVB作为增稠剂,增稠剂与溶液的质量比为1∶10,搅拌均匀,得到蓝黑色透明胶体前驱液。
(4)、采用浸渍提拉机进行镀膜,浸渍和提拉速度都为9mm/min,浸渍时间为10分钟,提拉间隔为10分钟,使前驱液均匀附着在LAO基片上,得到的样品在75℃真空环境下干燥10分钟,并重复此步骤10次,得到厚度为5μm的ReBCO超导层;
(5)、重复实施例1中的步骤(5);
(6)、重复实施例1中的步骤(6);
实施例6
本实施例为在LAO基片上上制备厚度为5μm的ReBCO超导层。采用常规的有机金属溶液沉积工艺,通过浸渍提拉机设备进行。具体工艺如下:
本实施例的制备方法除步骤(1)、(4)与实施例1不同,其余重复实施例1中的步骤,具体工艺如下:
(1)、将乙酸钇,乙酸钆,乙酸钐,乙酸钡,乙酸铜五种乙酸盐按Y:Gd:Sm:Ba:Cu=0.5∶0.3∶0.2∶2∶3.15的比例溶于去离子水得到溶液A;
(2)、重复实施例1中的步骤(2);
(3)、重复实施例1中的步骤(3);
(4)、采用浸渍提拉机进行镀膜,浸渍和提拉速度都为10mm/min,浸渍时间为10分钟,提拉间隔为10分钟,使前驱液均匀附着在LAO基片上,得到的样品在75℃真空环境下干燥10分钟,并重复此步骤10次,得到厚度为5μm的ReBCO超导层;
(5)、重复实施例1中的步骤(5);
(6)、重复实施例1中的步骤(6);
实施例7
本实施例为在LAO基片上上制备厚度为5μm的ReBCO超导层。采用常规的有机金属溶液沉积工艺,通过浸渍提拉机设备进行。具体工艺如下:
本实施例的制备方法除步骤(1)、(4)与实施例1不同,其余重复实施例1中的步骤,具体工艺如下:
(1)、将乙酸钇,乙酸钆,乙酸钐,乙酸钡,乙酸铜五种乙酸盐按Y:Gd:Sm:Ba:Cu=0.4∶0.4∶0.2∶2∶3.15的比例溶于去离子水得到溶液A;
(2)、重复实施例1中的步骤(2);
(3)、在溶液B中加入甲醇,调解溶液浓度到1.5mol/L,并加入PVB作为增稠剂,增稠剂与溶液的质量比为1∶10,搅拌均匀,得到蓝黑色透明胶体前驱液。
(4)、采用浸渍提拉机进行镀膜,浸渍和提拉速度都为9mm/min,浸渍时间为10分钟,提拉间隔为10分钟,使前驱液均匀附着在LAO基片上,得到的样品在75℃真空环境下干燥10分钟,并重复此步骤10次,得到厚度为5μm的ReBCO超导层;
(5)、重复实施例1中的步骤(5);
(6)、重复实施例1中的步骤(6);
实施例8
本实施例为在LAO基片上上制备厚度为5μm的ReBCO超导层。采用常规的有机金属溶液沉积工艺,通过浸渍提拉机设备进行。具体工艺如下:
本实施例的制备方法除步骤(1)、(4)与实施例1不同,其余重复实施例1中的步骤,具体工艺如下:
(1)、将乙酸钇,乙酸钆,乙酸钐,乙酸钡,乙酸铜五种乙酸盐按Y:Gd:Sm:Ba:Cu=0.4∶0.3∶0.3∶2∶3.15的比例溶于去离子水得到溶液A;
(2)、重复实施例1中的步骤(2);
(3)、在溶液B中加入甲醇,调解溶液浓度到1.5mol/L,并加入PVB作为增稠剂,增稠剂与溶液的质量比为1:10,搅拌均匀,得到蓝黑色透明胶体前驱液。
(4)、采用浸渍提拉机进行镀膜,浸渍和提拉速度都为9mm/min,浸渍时间为10分钟,提拉间隔为10分钟,使前驱液均匀附着在LAO基片上,得到的样品在75℃真空环境下干燥10分钟,并重复此步骤10次,得到厚度为5μm的ReBCO超导层;
(5)、重复实施例1中的步骤(5);
(6)、重复实施例1中的步骤(6);
以上所述,仅是本发明的较佳实施例,并非对本发明做任何限制,凡是根据本发明技术实质对以上实例做简单的修改、变更以及等效变化,均仍属于本技术发明方案的保护范围。

Claims (2)

1.一种钆钐掺杂的钇钡铜氧超导层,其特征在于,该超导层的化学组成为(YxGdySmz)BCO,其中BCO为Ba、Cu、O三种元素组合的缩写,其中Ba与Cu元素摩尔比为2:3.15;x+y+z=1,x的值为0.4-0.8,y的值为0.1-0.4,z的值为0.1-0.3。
2.权利要求1中所述钆钐掺杂的钇钡铜氧超导层的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤1:将乙酸钇,乙酸钆,乙酸钐,乙酸钡,乙酸铜五种乙酸盐按照x∶y∶z∶2∶3.15的2∶3.15比例溶于去离子水得到溶液A,其中,x+y+z=1,x的值为0.4-0.8,y的值为0.1-0.4,z的值为0.1-0.3;
步骤2:向溶液A加入丙酸,搅拌均匀,在真空65℃-75℃下进行反复减压蒸馏得到溶液B;
步骤3:向溶液B中加入甲醇,以甲醇为溶剂,调节得到浓度为1.5mol/L-2mol/L的溶液C,向溶液C加入PVB树脂,PVB树脂与溶液C的质量比为1∶10-1∶20,搅拌均匀,得到呈蓝黑色透明胶体的前驱液;
步骤4:使用浸渍提拉机进行镀膜,浸渍和提拉速度都为5-10mm/min,浸渍时间为5-10分钟,提拉间隔为10分钟,使前驱液均匀附着在铝酸镧(LAO)基片上,得到的样品在真空环境下干燥10-15分钟,并重复此步骤2-10次进行多次镀膜,得到超导膜样品;
步骤5:将超导膜样品放入管式炉,通入潮湿的氧气和氩气,先以5℃/min的速度升到150℃,然后再以2℃/min的速度升至450-500℃进行热解,将热解后的超导膜样品以5℃/min的速度升温到800-830℃并保持10分钟,之后降温到400℃保持60分钟,排除管式炉中氩气,只保留干燥的氧气,直至冷却完成退火。
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