CN107848863B - 玻璃基材支承设备及提供挠性玻璃基材支承的方法 - Google Patents

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Abstract

玻璃基材支承系统包括在玻璃基材进料方向上沿着挠性玻璃基材的相反边缘纵向延伸的第一和第二真空元件。每个真空元件具有真空主体，所述真空主体包含位于其中的压力室以及支承表面，所述支承表面包含穿过其延伸并且与压力室连通的真空开口。提供了支承杆组件，所述支承杆组件包含多个支承杆，所述多个支承杆在玻璃基材进料方向上位于第一和第二真空元件之间。支承杆组件具有在下弧线取向上支承挠性玻璃基材的面外构造。

Description

玻璃基材支承设备及提供挠性玻璃基材支承的方法
本申请依据35 U.S.C.§119要求于2015年7月8日提交的系列号为62/190,027的美国临时申请的优先权的权益，本文以该申请的内容为基础并将其通过引用全文纳入本文。
背景
技术领域
本公开涉及对玻璃基材进行处理，更具体地，涉及玻璃基材支承设备及支承挠性玻璃基材的方法。
背景技术
相比于较薄的玻璃基材，对于具有相对较高刚性的相对较厚的玻璃基材而言，常规玻璃边缘精整设备已经在很大程度上得到了开发。作为一个实例，玻璃片在使用机械刻划和断裂工艺成形之后，其通常具有使用金属研磨轮来研磨的边缘。在某些应用中，例如在汽车工业中，可能需要在玻璃片的外周上提供具有圆形轮廓的玻璃片的边缘。
平板显示器和其他应用通常使用比用于汽车工业的明显更薄的玻璃片。相比较厚的玻璃片，较薄的玻璃片的刚性可能降低并且挠性可能增加。对这种刚性降低且挠性增加的薄玻璃片进行边缘精整可带来挑战，这至少部分地是因为在边缘精整工艺中涉及的各种力。因此，在玻璃基材处理和边缘精整期间，需要用于支承相对较薄的玻璃基材的方法和设备。
概述
为了例如获得预定的边缘强度，一种改善挠性玻璃基材的机械可靠性的技术为对挠性玻璃基材的边缘进行研磨和抛光，以在挠性玻璃层中去除不期望的裂纹和破裂。在斜切工艺期间，在挠性玻璃基材突出于位于挠性玻璃基材下方的支承表面时，可以使用磨轮将玻璃边缘成形成所需的形状。基于生产仪器可确定暴露于斜切工艺的玻璃材料的量，并且该量可在5mm至30mm的范围内。
当处理或输送厚度小于0.3mm的超薄玻璃时，玻璃刚性相对较低，这可导致玻璃在其自身重量下在支承件各表面之间发生褶皱。另外，在边缘斜切工艺期间，特别是在小于垂面的斜切工艺中，可能向磨轮和玻璃边缘界面施加冷却剂，并且这些流体以及来自其他工艺的冷却剂源可能在研磨阶段区域的输送期间积聚在挠性玻璃基材上。流体的积聚可导致挠性玻璃基材的局部下垂，由于弯矩的原因，这可导致挠性玻璃基材的进一步变形。本文描述了玻璃支承设备和方法，其可允许精整或以其他方式支承挠性玻璃基材，同时降低挠性玻璃基材的弯矩，这可降低由于弯曲导致的玻璃拉伸应力并且可降低在例如斜切工艺期间玻璃边缘易断裂性。
根据一个实施方式，玻璃基材支承系统包括在玻璃基材进料方向上纵向延伸的第一和第二真空元件。每个真空元件包含真空主体，所述真空主体包含位于其中的压力室以及支承表面，所述支承表面包含穿过其延伸并且与每个相应的压力室连通的真空开口。支承杆组件包含多个支承杆，所述多个支承杆位于第一和第二真空元件之间并且在玻璃基材进料方向上延伸。支承杆组件包含在下弧线取向上支承挠性玻璃基材的面外构造。
根据另一实施方式，玻璃边缘精整设备包含玻璃基材传送系统和通过玻璃基材传送系统在玻璃基材进料方向上可移动的玻璃基材支承系统。构造玻璃基材支承系统以支承挠性玻璃基材，该玻璃基材支承系统包含大致平坦的表面和与该大致平坦的表面垂直的面外方向。玻璃基材支承系统包含真空元件，所述真空元件在玻璃基材进料方向上沿着挠性玻璃基材的边缘纵向延伸。真空元件包含真空主体，所述真空主体包含位于其中的压力室以及支承表面，所述支承表面包含穿过其延伸并且与压力室连通的真空开口。支承杆组件毗邻真空元件并且包含在玻璃基材进料方向上延伸的多个细长的支承杆。支承杆组件包含在下弧线取向上支承挠性玻璃基材的面外构造。
根据另一实施方式，支承挠性玻璃基材的方法包括：将挠性玻璃基材放置在玻璃支承系统上，所述玻璃支承系统包括第一和第二真空元件，所述第一和第二真空元件在玻璃基材进料方向上沿着挠性玻璃基材的相反边缘纵向延伸。每个真空元件包含真空主体，所述真空主体包含位于其中的压力室以及支承表面，所述支承表面包含穿过其延伸并且与相应的压力室连通的真空开口。支承杆组件包含多个细长的支承杆，所述支承杆在玻璃基材进料方向上延伸并且位于第一和第二真空元件之间。支承杆组件从平面构造移动到在下弧线取向上支承挠性玻璃基材的面外构造。
在以下的详述中给出了本文所述的其他特征和优点，其中的部分特征和优点对本领域的技术人员而言，根据所作描述就容易看出，或者通过实施包括以下详述、权利要求书以及附图在内的本文所述的各个实施方式而被认识。
应理解，前述的一般性描述和下文的详述都描述了各个实施方式且都旨在提供用于理解所要求保护的主题的性质和特性的总体评述或框架。包括的附图提供了对各个实施方式的进一步理解，附图并入本说明书中并构成说明书的一部分。附图例示了本文所描述的各个实施方式，且与说明书一起用于解释所要求保护的主题的原理和操作。
附图简要说明
参照附图阅读本公开的以下详述，可以更好地理解本公开的这些方面、特征和优点以及其他的方面、特征和优点，其中：
图1为根据本公开的各个方面的玻璃精整设备的示意图；
图2为根据本公开的各个方面的用于图3的精整设备的真空元件和挠性玻璃基材的详细视图；
图3为根据本公开的各个方面的真空元件的截面图；
图4为根据本公开的各个方面的另一个真空元件的截面图；
图5为根据本公开的各个方面的支承杆的透视图；
图6为根据本公开的各个方面沿图5的线6-6的支承杆的截面图；
图7例示了根据本公开的各个方面的处于平面构造的图1的玻璃精整设备的玻璃基材支承系统的操作；
图8例示了根据本公开的各个方面的处于面外构造的图7的玻璃基材支承系统的操作；
图9例示了根据本公开的各个方面的具有传动系统的另一个玻璃基材支承系统的示意图；
图10例示了根据本公开的各个方面的具有另一个传动系统的玻璃基材支承系统的示意图；
图11例示了根据本公开的各个方面的具有另一个传动系统的玻璃基材支承系统的示意图；
图12例示了根据本公开的各个方面的具有另一个传动系统的玻璃基材支承系统的示意图；
图13例示了根据本公开的各个方面的具有面内或水平移动的玻璃基材支承系统的示意图；
图14例示了根据本公开的各个方面的处于平面构造的玻璃基材支承系统的另一个实施方式；
图15例示了根据本公开的各个方面的处于面外构造的图16的玻璃基材支承系统；以及
图16为例示了根据本公开的各个方面的挠性玻璃基材的挠曲刚度相对于挠性玻璃基材的厚度的曲线。
详述
尽管玻璃是一种固有的结实材料，但是其强度和机械可靠性是其表面缺陷或者瑕疵尺寸密度分布以及经过一段时间的材料对应力的累积暴露的函数。边缘强度可为挠性玻璃基材的机械可靠性的重要因素。在一个完整的产品生命周期中，挠性玻璃基材可能经受不同种类的静态和动态机械应力。本文描述的实施方式一般涉及玻璃支承设备和方法，所述玻璃支承设备和方法可允许精整或以其他方式支承挠性玻璃基材，同时降低挠性玻璃基材的弯矩。
从玻璃带中裁切出来的挠性玻璃基材倾向于具有尖锐的边缘，该尖锐的边缘在裁切操作期间形成。在处理期间，挠性玻璃基材的尖锐边缘易于损坏。边缘瑕疵，例如碎屑、裂纹等可能降低玻璃的强度。可以对挠性玻璃基材的边缘进行处理以通过研磨和成形去除尖锐的边缘，例如通过斜切消除易于被破坏的尖锐边缘。通过从挠性玻璃基材中去除尖锐边缘，可以使挠性玻璃基材中的瑕疵最小化，从而降低玻璃板在处理期间被破坏的可能性。
在水平玻璃边缘精整工艺中，挠性玻璃基材大致位于水平平面中或者处于小于具有水平分量的垂面的某个角度。结果，挠性玻璃基材可以在横向进料方向上，在其宽度上在多个位置得到支承。一般来说，挠性玻璃基材具有相对的平坦表面和与大致平坦的表面垂直的面外方向。玻璃基材进料方向垂直于面外方向，与被精整的玻璃边缘平行并且横向进料方向横向于进料方向和被机械加工的玻璃边缘。由于各边缘之间的挠性玻璃基材的质量区域的原始性质，可期望与支承结构的接触面积有所减小。因此，可以使用在挠性玻璃基材的宽度上间隔开的多个支承结构。取决于支承结构的尺寸和间距，挠性玻璃基材在位于各支承结构之间的挠性玻璃基材的未支承区中可能经历下垂。例如，如图16所例示，对于小于约0.6mm的挠性玻璃基材厚度来说，挠曲刚度(D)(挠性玻璃基材的15mm的自由突出边缘)倾向于保持相对较低，从而使挠曲刚度(D)在约0.25mm或更小处变得相对平且低。玻璃刚性可由挠曲刚度(D)表示，挠曲刚度(D)为杨氏模量(E)、厚度(t)和泊松比(υ)的函数，并且通过下式给出：
Figure BDA0001541408810000051
在冷却剂流体积聚在水平放置的挠性玻璃基材上的情况下，这一下垂可增强，从而使挠性玻璃基材的总重量增加。
参考图1，适于进行斜切工艺的玻璃边缘精整设备10包括支承装置12，所述支承装置12包括玻璃基材传送系统14和玻璃基材支承系统16。玻璃基材传送系统14可在玻璃基材进料方向17上移动(例如平移)玻璃基材支承系统16，所述玻璃基材进料方向17可与挠性玻璃基材20的边缘18大致对齐。玻璃基材支承系统16在进料方向17上可以由玻璃基材传送系统14承载，或者以其他方式通过玻璃基材传送系统14在进料方向17上移动。玻璃基材支承系统16包含真空系统22，所述真空系统22包含边缘真空元件24和26(例如真空吸盘)，其在玻璃基材进料方向17上，沿着挠性玻璃基材20的相对边缘18和28延伸，并且在一些实施方式中，沿着挠性玻璃基材20的基本上整个长度或者甚至是长于整个长度延伸。在一些实施方式中，边缘真空元件24和26可以由单个细长的真空元件形成。在其他实施方式中，可以使用多个真空元件，例如在进料方向17上并排对齐的多个真空元件。虽然仅例示了边缘真空元件24和26，但是还可以利用内侧真空元件。
图2例示了边缘真空元件26和挠性玻璃基材20的详细视图。边缘真空元件26可施加充足的真空吸力以抑制在斜切工艺期间挠性玻璃基材20的边缘18的移动(水平和垂直)。如在本文中所使用的，“真空吸力”是指边缘真空元件26的真空开口25的累积面积乘以抽吸压力。如所见到的，真空吸力可由边缘真空元件26施加，所述边缘真空元件26位于挠性玻璃基材20的边缘18附近或者与其间隔开。边缘真空元件26的这一位置形成了挠性玻璃基材20的突出区34，该突出区34具有从边缘真空元件26的外边缘36处开始测量的突出距离DOH，在该外边缘36处，突出开始以垂直于边缘18的方向(或者进料方向17)突向边缘18。在一些实施方式中，突出距离DOH可以不小于约6mm，例如不小于约10mm，例如不小于约15mm，例如不小于约20mm。在一些实施方式中，突出距离DOH可以在约5mm至约30mm之间。
边缘真空元件可以为单件或多件构造。参考图3，例如，边缘真空元件26可以具有真空主体40，该真空主体40具有单件整体构造。真空主体40可以包含提供在其中的压力室42以及作为真空主体40的一部分而形成的连接装备44，该连接装备44与压力室42相分离，并且允许边缘真空元件26连接到玻璃传送系统。进口43和出口45可以向压力室42提供正压和/或负压。图4例示了多件构造，其中真空元件50包含真空主体52，该真空主体52由室壳体元件54和盖元件56形成。可以提供连接装备58用于将真空元件50连接到玻璃传送系统。
再次参考图1，如下文将更加详细描述的，玻璃基材支承系统16还包括位于边缘真空元件24和26之间的支承杆组件60。支承杆组件60包括多个支承杆62a-62j，该多个支承杆62a-62j具有彼此基本上平行(并且与边缘真空元件24和26平行)的以进料方向17取向的细长的长度。支承杆62a-62j还在横向进料方向上并且沿着挠性玻璃基材20的宽度彼此间隔地设置，从而提供沿着挠性玻璃基材20的长度延伸的局部线性支承区。在所例示的实施方式中，存在10个支承杆62a-62j；然而，在其他实施方式中，至少部分地取决于挠性玻璃基材20的尺寸和厚度以及边缘真空元件24和26之间的距离，存在多于或少于10个支承杆62a-62j。
参考图5和6，独立地示出了单个支承杆62，并且其包含相对的端64和66以及在相对的端64和66之间延伸的细长的支承主体68。具体参考图6，细长的支承主体68可以如图所示是实心的，或者可以是中空的(即管状)或者至少部分中空的，但是具有合适的强度以在挠度最小的情况下支承挠性玻璃基材20。虽然支承杆62可以具有任意合适的形状，但是可能期望的是减少与挠性玻璃基材20的接触面积。在所例示的实施方式中，支承杆62的形状为椭圆形，其具有可被设置成面向挠性玻璃基材20的上接触表面70。可以看出，上接触表面70的宽度小于细长的支承主体68的小直径(或最大宽度)。在一些实施方式中，接触表面70可以由柔性元件72形成，所述柔性元件72例如适于接触挠性玻璃基材20而不会对其造成损坏的垫或柔性材料(如硅酮、橡胶、泡沫、复合材料)的涂层。其他合适的截面形状可以包括矩形、圆形、三角形等。另外，虽然例示的接触表面70是连续的，但是接触表面可以是间歇的(例如可以存在多个对齐的支承杆或者在单个支承杆上可以存在间歇的接触表面)。任何合适的材料可以用于形成支承杆62，例如金属、塑料或各种材料、涂料等(例如聚氯乙烯、泡沫、硅酮、橡胶等)的组合。
现参考图7和8，现将描述包含支承杆组件60的玻璃基材支承系统16的操作。首先参考图7，在平面构造中示出了支承杆组件60，其中使所有的支承杆62a-62j在水平面中基本上对齐以允许挠性玻璃基材基本上位于由每个支承杆62a-62j的接触表面限定的水平面上。在该构造中，可以利用边缘真空元件24和26向挠性玻璃基材20施加正压以允许至少部分的挠性玻璃基材20浮在加压气体的垫上，这有助于挠性玻璃基材20在玻璃基材支承系统16上定位。一旦定位到预定的位置中，则传动系统76可以将至少一些或所有的支承杆62a-62j从平面构造移动到面外构造，其中传动系统76将至少一些的支承杆62a-62j从其在平面构造中的原始位置移动到限定面外构造的位置。
图8例示了使用传动系统76移动到面外构造中的支承杆62a-62j。在所例示的实例中，支承杆62a-62j可以以多个组的形式来提供，所述多个组可以是单独可控的。例如，图8例示了包含支承杆62a-62e的第一组78和包含支承杆62f-62j的第二组80。在第一组78中，支承杆62a-62e的高度从支承杆62a升高到62e，其中支承杆62e是最高的高度(或者从平面构造中垂直移动得最远)。类似地，在第二组80中，支承杆62f-62j的高度从支承杆62j升高到62f，其中支承杆62f是最高的高度(或者从平面构造中垂直移动得最远)。在一些实施方式中，第一组78的支承杆62a-62e在横向进料方向上彼此可以全部间隔基本上相等的距离，并且支承杆62f-62j可以在横向进料方向上彼此间隔相等的距离。在一些实施方式中，第一组78的各相邻支承杆62a-62e之间的间距SA可以与第二组80的各相邻支承杆62f-62j之间的间距SB基本上相同。然而，第一和第二组78和80之间(即杆62e与62f之间)的间距SG可以与第一和第二组78和80中的间距相同或不同。例如，间距SG可以大于间距SA和/或SB。在其他实施方式中，间距SG可以小于间距SA和/或SB。一旦支承杆62a-62j被置于面外构造中，则可以通过边缘真空元件24和26向挠性玻璃基材20施加负压，并且挠性玻璃基材20以稍微弯曲、下弧线的构造呈现，这可有助于排出可能积聚在玻璃表面上的液体和微粒。如在本文中所使用的，“下弧线”是指连接曲线的两个点的线段不位于曲线上方的曲线的一般形状。从本公开中应该显而易见的是，可以提供多于两组的支承杆。
参考图9-12，图9-12例示了各种示例性的传动系统和方法。参考图9，传动系统90可以包括单独的传动器92a-92j，每个传动器单独地移动支承杆62a-62j中的对应的一个支承杆。传动系统90可以具有主动停止构造，其中每个传动器92a-92j在面外构造中自动停止。在另一个实施方式中，控制器94可以单独地控制每个传动器92a-92j的停止点或行进的距离，例如基于用户输入和/或存储在控制器94的存储器位置中的逻辑来控制。例如，一旦达到了预定距离，则包含一个或多个传感器(如接近传感器)的传感器系统96可以向控制器94提供信号。图10例示了传动系统100的一个替换性实施方式，其中单独的支承杆62a-62j通过连杆102连接在一起，所述连杆102或者穿过第一和第二组78和80或者仅在第一和第二组78和80内。在这一实施方式中，可直接使用传动系统100通过仅移动支承杆62a-62j中的一个或一些来移动多个支承杆62a-62j。图11例示了传动系统110的另一个替换性实施方式，其中具有合适形状或者支承边缘114轮廓的杆提升元件112用于将多个支承杆62a-62j移动到面外构造。参考图12，传动系统120的另一个实施方式包含可膨胀式或其他方式的动态支承杆122a-122j(例如使用记忆形状材料)，其可改变形状以响应于输入(例如空气、电、热等)将挠性玻璃基材20放置在面外构造中。
参考图13，虽然上文描述了支承杆62a-62j的垂直或面外移动，但是还考虑了支承杆62a-62j和边缘真空元件24和26的面内或水平移动。例如，图13的实线例示了收回、平面构造中的玻璃基材支承系统16，而虚线例示了伸出、面外构造中的玻璃基材支承系统16。在这一实例中，由于支承杆62a-62j如上文所述被垂直升高，因此玻璃基材支承系统16收缩，造成传动系统76使边缘真空元件24和26朝向彼此移动并且减小了间距SA、SB和/或SG。由于相对于平面构造，面外构造中的挠性玻璃基材20的水平轨迹宽度(horizontal footprintwidth)有所减小，因此这样的装备可有助于挠性玻璃基材20移动到面外构造而不会使边缘相对于边缘真空元件24和26移动。
再次参考图1，一旦挠性玻璃基材20得到玻璃基材支承系统16的支承，则挠性玻璃基材20和玻璃基材支承系统16可通过玻璃基材传送系统14平移到玻璃边缘精整设备10的边缘研磨系统140。边缘研磨系统140一般可以包含磨轮组件142和144，其位于挠性玻璃基材20的相对的边缘18和28处。在其他实施方式中，可以仅使用单个磨轮组件，或者可以存在高达四个磨轮组件或者挠性玻璃基材20的每个边缘18、28、146和148均具有一个磨轮。
磨轮组件142和144可以各自包含用于对挠性玻璃基材20的边缘18和28进行研磨和成形的磨轮147以及用于使磨轮147旋转的发动机149。在一些实施方式中，磨轮组件142和144各自还可以包含驱动机制150，所述驱动机制150可用于使磨轮147朝向及远离相应的边缘18和28移动。可以提供控制器152，所述控制器152控制磨轮组件142和144、玻璃基材支承系统16和玻璃基材传送系统14的运行。在所例示的实施方式中，磨轮147为成形轮。
参考图14和15，如上文所指出的，玻璃基材支承系统200可以包含真空系统202，所述真空系统202包含边缘真空元件204和206以及一个或多个位于边缘真空元件204和206之间的内侧真空元件208。内侧真空元件208还可以例如位于支承杆214a-214j的组210和212之间，所述组210和212可以如上文所述在平面构造和面外构造之间移动。内侧真空元件208可以提供额外的稳定性并且有助于挠性玻璃基材与平面构造中的支承杆214a-214j的移动。
各种磨轮可以用于对挠性玻璃基材的边缘进行研磨和成形，包括使用“杯形”轮和“成形”轮。杯形轮的形状为大致圆形并且包含与杯形轮的外周间隔开的凹陷的中心区。使杯形轮与挠性玻璃基材接触，其中杯形轮的平坦面接触挠性玻璃基材，而杯形轮的外周面与挠性玻璃基材间隔开。成形轮包含位于成形轮外周面的边缘中的凹槽。凹槽包含对应于基材边缘的加工形状的轮廓。使成形轮的凹槽与挠性玻璃基材的边缘接触以对边缘进行研磨和成形。
挠性玻璃基材20的厚度可以为约0.3mm或更小，包括但不限于例如以下厚度：约0.01-0.05mm、约0.05-0.1mm、约0.1-0.15mm、约0.15-0.3mm、约.100至约.200mm、0.3、0.275、0.25、0.225、0.2、0.19、0.18、0.17、0.16、0.15、0.14、0.13、0.12、0.11、0.10、0.09、0.08、0.07、0.06、0.05、0.04、0.03、0.02或0.01mm。挠性玻璃基材20可以由玻璃、玻璃陶瓷、陶瓷材料或者它们的复合材料形成。形成高品质挠性玻璃基材的熔合法(例如下拉法)可用于各种装置，一种这样的应用是平板显示器。当与通过其他方法生产的挠性玻璃基材相比时，由熔合法生产的挠性玻璃基材的表面具有优异的平整度和光滑度。熔合法描述于系列号为3,338,696和3,682,609的美国专利中。其他合适的挠性玻璃基材成形方法包括浮法、上拉法和狭缝拉制法。
上述玻璃支承系统和方法通过使用多个支承杆可控制或限制水平挠性玻璃基材的面外变形的量，所述多个支承杆在横向进料方向上沿着挠性玻璃基材的宽度设置并且提供了限制面外变形的局部支承线。支承杆还可从使挠性玻璃基材呈现水平取向的收回、平面构造移动到使挠性玻璃基材呈现向下凹的取向的伸出、面外构造，同时在相邻的支承杆之间持续控制挠性玻璃基材的局部变形。挠性玻璃基材的向下凹的取向还可有助于排出可能在挠性玻璃基材的宽表面上累积的冷却剂流体和微粒。挠性玻璃基材与支承杆之间的接触面积减小可减少瑕疵生成，这可保持挠性玻璃基材的强度。支承杆的长度和宽度尺寸可以通过替换不同尺寸的支承杆来改变以符合各种挠性玻璃基材尺寸。
对本领域的技术人员显而易见的是，可以对本文所述的实施方式进行各种修改和变动而不偏离要求保护的主题的精神和范围。因此，本说明书旨在涵盖本文所述的各种实施方式的修改和变化形式，条件是这些修改和变化形式落入所附权利要求及其等同内容的范围之内。

Claims (20)

1.一种挠性玻璃基材支承系统，其包括：
在玻璃基材进料方向上纵向延伸的第一和第二真空元件，每个真空元件包含真空主体，所述真空主体包含位于其中的压力室以及支承表面，所述支承表面包含穿过其延伸并且与每个相应的压力室连通的真空开口；和
支承杆组件，所述支承杆组件包含多个支承杆，所述多个支承杆位于第一和第二真空元件之间并且在进料方向上延伸。
2.如权利要求1所述的挠性玻璃基材支承系统，其中，所述多个支承杆包括含有至少5个支承杆的第一组。
3.如权利要求2所述的挠性玻璃基材支承系统，其中，第一组中的每个支承杆与第一组中的相邻支承杆间隔相等的距离。
4.如权利要求2所述的挠性玻璃基材支承系统，其中，所述多个支承杆包括含有至少5个支承杆的第二组。
5.如权利要求4所述的挠性玻璃基材支承系统，其中，第二组中的每个支承杆与第二组中的相邻支承杆间隔相等的距离。
6.如权利要求4所述的挠性玻璃基材支承系统，其中，支承杆组件包含在基本上平面取向上支承挠性玻璃基材的平面构造。
7.如权利要求6所述的挠性玻璃基材支承系统，其中，支承杆组件包含在下弧线取向上支承挠性玻璃基材的面外构造。
8.如权利要求7所述的挠性玻璃基材支承系统，还包含传动系统，所述传动系统使支承杆组件在平面构造和面外构造之间移动。
9.一种挠性玻璃基材边缘精整设备，其包括：
玻璃基材传送系统；
通过玻璃基材传送系统在玻璃基材进料方向上能够移动的玻璃基材支承系统，构造所述玻璃基材支承系统以支承挠性玻璃基材，所述玻璃基材支承系统包含大致平坦的表面和与所述大致平坦的表面垂直的面外方向，所述玻璃基材支承系统包含：
真空元件，所述真空元件在玻璃基材进料方向上沿着挠性玻璃基材的边缘纵向延伸，所述真空元件包含真空主体，所述真空主体包含位于其中的压力室以及支承表面，所述支承表面包含穿过其延伸并且与压力室连通的真空开口；和
支承杆组件，所述支承杆组件毗邻真空元件并且包含在玻璃基材进料方向上延伸的多个细长的支承杆，所述支承杆组件包含在下弧线取向上支承挠性玻璃基材的面外构造。
10.如权利要求9所述的挠性玻璃基材边缘精整设备，其中，所述多个支承杆包括含有至少5个支承杆的第一组。
11.如权利要求10所述的挠性玻璃基材边缘精整设备，其中，第一组中的每个支承杆与第一组中的相邻支承杆间隔相等的距离。
12.如权利要求10所述的挠性玻璃基材边缘精整设备，其中，所述多个支承杆包括含有至少5个支承杆的第二组。
13.如权利要求12所述的挠性玻璃基材边缘精整设备，其中，第二组中的每个支承杆与第二组中的相邻支承杆间隔相等的距离。
14.如权利要求12所述的挠性玻璃基材边缘精整设备，其中，支承杆组件包含在基本上平面取向上支承挠性玻璃基材的平面构造。
15.如权利要求14所述的挠性玻璃基材边缘精整设备，还包含传动系统，所述传动系统使支承杆组件在平面构造和面外构造之间移动。
16.一种支承挠性玻璃基材的方法，所述方法包括：
将挠性玻璃基材放置在玻璃支承系统上，所述玻璃支承系统包括：
第一和第二真空元件，所述第一和第二真空元件在玻璃基材进料方向上沿着挠性玻璃基材的相反边缘纵向延伸，每个真空元件包含真空主体，所述真空主体包含位于其中的压力室以及支承表面，所述支承表面包含穿过其延伸并且与每个相应的压力室连通的真空开口；和
支承杆组件，所述支承杆组件包含多个细长的支承杆，所述支承杆在玻璃基材进料方向上延伸并且位于第一和第二真空元件之间；以及
将支承杆组件从平面构造移动到在下弧线取向上支承挠性玻璃基材的面外构造。
17.如权利要求16所述的方法，其中将挠性玻璃基材放置在玻璃支承系统上的步骤包括将挠性玻璃基材放置在具有平面构造的支承杆组件的玻璃支承系统上。
18.如权利要求16所述的方法，还包括在将挠性玻璃基材放置在玻璃支承系统上的步骤期间，利用第一和第二真空元件向挠性玻璃基材施加正压力。
19.如权利要求16所述的方法，还包括随着挠性玻璃基材处于下弧线取向中，通过第一和第二真空元件向挠性玻璃基材施加负压力。
20.如权利要求16所述的方法，其中，使用传动系统进行将支承杆组件从平面构造移动到面外构造的步骤。
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