CN107806915A - 流量测定装置及流量测定系统 - Google Patents
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Abstract
流量测定装置具备供气部、配管、流量计、阻力体、主体部,前述供气部被连接于喷出部,前述配管被连接于供气部,供被从喷出部喷出的气体流动,前述流量计测量在配管的内部流动的气体的流量,前述阻力体对配管的内部的气体的流动施加阻力,前述主体部具有被支承于支承部的被支承部,将供气部、配管、流量计及阻力体支承。阻力体施加的阻力的大小可变。
Description
技术领域
本发明涉及被用于净化气体供给装置的检查的流量测定装置及流量测定系统。
背景技术
作为被用于净化气体供给装置的检查的流量测定装置,已知被记载于日本特开2015-12040号公报(专利文献1)的检查装置。具体地,在专利文献1中,公开了在物品保管设备中用于检查非活性气体相对于容器(4)的供给状态的检查装置(1),前述物品保管设备具备非活性气体供给部(F),前述非活性气体供给部(F)向被收纳于收纳部(9)的容器(4)的内部供给非活性气体(净化气体的一例)。非活性气体供给部(F)在载置支承部(15)上具备供给喷嘴(53N),前述载置支承部(15)在收纳部(9)中支承容器(4),前述供给喷嘴(53N)向容器(4)的内部注入非活性气体,检查装置(1)具备在被支承于载置支承部(15)时与供给喷嘴(53N)接合的检查用供气口(1G)、流量计(101)、将检查用供气口(1G)和流量计(101)连接的检查用配管(103)。并且,在进行检查时,在代替容器(4)而使检查装置(1)支承于载置支承部(15)的状态下,借助流量计(101),测量从供给喷嘴(53N)经由检查用供气口(1G)向检查用配管(103)流入的非活性气体的流量。基于这样被测量的非活性气体的流量,能够推定被向支承于载置支承部(15)的容器(4)的内部供给的非活性气体的流量。
在专利文献1的结构中,在向容器(4)的内部供给非活性气体时,在被设置于容器(4)的供气口(4G)和供给喷嘴(53N)借助容器(4)的自重接合的状态下,被从供给喷嘴(53N)喷出的非活性气体经由供气口(4G)向容器(4)的内部流入。由此,被向容器(4)的内部供给的非活性气体的流量能够与供气口(4G)和供给喷嘴(53N)的接合强度对应(即,与该接合部的与外部的气密性的程度对应)地变化。在专利文献1的结构中,作为容器(4),使用能够容纳多张衬底的容器,但与被容纳的衬底的张数对应,容器(4)的总重量变化,随着容器(4)的总重量的变化,供气口(4G)和供给喷嘴(53N)的接合强度也变化。鉴于这点,在专利文献1的结构中,检查装置(1)具备支承重量调整用的砝码(錘)的砝码支承部,由此配合与衬底的容纳状态(容纳张数)对应地变化的供气口(4G)和供给喷嘴(53N)的接合强度,能够借助砝码调整检查用供气口(1G)和供给喷嘴(53N)的接合强度。由此,与被容纳于容器(4)的衬底的张数无关地,能够使被流量计(101)测量的非活性气体的流量为,与实际上被向容器(4)的内部供给的非活性气体的流量接近的值。
但是,被从供气口等供气部向容器的内部供给的净化气体被从排气口等排气部、间隙等向该容器的外部排出,所以与排气部的气体的排出阻力的大小、容器的气密性的程度等对应,使净化气体从供气部向容器的内部流入时的阻力、即容器的流入阻力(压力损失)的大小是确定的。不仅容器的供气部和净化气体的喷出部的接合强度,容器的流入阻力的大小对被向容器的内部供给的净化气体的流量的影响一般也较大。鉴于这点,考虑通过考虑作为净化气体的供给对象的容器的流入阻力的大小来设计流量测定装置,将被测定的净化气体的流量设为与实际上被向容器的内部供给的净化气体的流量(以下称作“实际供给流量”)接近的值。然而,容器的流入阻力的大小有时根据容器的种类(类型)、制造商而不同,即使是相同种类的容器,也有因个体差异、随时间的变化等而不同的情况。因此,在假如使用如上述那样地设计的流量测定装置的情况下,关于具有某个特定的流入阻力的容器,即使能够使被测定的净化气体的流量为接近实际供给流量的值,关于与该容器的流入阻力的大小不同的容器,被测定的净化气体的流量和实际供给流量的差容易变大。即,即使使用如上述那样设计的流量测定装置,在作为净化气体的供给对象的多个容器之间,在流入阻力针对每个容器存在变化的情况下,对于流入阻力互不相同的多个容器的每一个,难以高精度地推定被供给于容器的内部的净化气体的流量。然而,在专利文献1中,关于这一点,没有特别地理解。
发明内容
因此,希望实现一种流量测定装置,前述流量测定装置即使在流入阻力针对每个容器存在变化的情况下,关于流入阻力互不相同的多个容器的每一个,都能够高精度地推定被向容器的内部供给的净化气体的流量。
本发明的流量测定装置被用于净化气体供给装置的检查,前述净化气体供给装置具备支承部、喷出部,前述支承部支承容器,前述喷出部被设置于前述支承部,将净化气体向被支承于前述支承部的前述容器的内部喷出,前述流量测定装置在被支承于前述支承部的状态下,测定被从前述喷出部喷出的净化气体的流量,前述流量测定装置具备供气部、配管、流量计、阻力体、主体部,前述供气部被连接于前述喷出部,前述配管被连接于前述供气部,供被从前述喷出部喷出的气体流动,前述流量计测量在前述配管的内部流动的气体的流量,前述阻力体对前述配管的内部的气体的流动施加阻力,前述主体部具有被支承于前述支承部的被支承部,将前述供气部、前述配管、前述流量计、及前述阻力体支承,前述阻力体施加的阻力的大小是可变的。
使用如上所述的结构的流量测定装置,以喷出部和供气部被连接的方式使流量测定装置支承于支承部,由此能够使被从喷出部喷出的净化气体从供气部向配管的内部流入。该状态下被流量计测量的流量是与使净化气体从供气部向配管的内部流入时的阻力、即流量测定装置的流入阻力对应的流量。即,具有与流量测定装置的流入阻力相同程度的大小的流入阻力的容器被支承于支承部的情况下,被流量计测量的流量为接近被供给于该容器的内部的净化气体的流量的值。结果,基于被流量计测量的流量,能够将向具有与流量测定装置的流入阻力相同程度的大小的流入阻力的容器的内部供给的净化气体的流量高精度地推定。
然后,根据根据上述结构,阻力体施加的阻力的大小是可变的,所以通过改变阻力体施加的阻力的大小,能够改变流量测定装置的流入阻力的大小。因此,不仅对于具有特定的大小的流入阻力的容器,对于被包括于流量测定装置的流入阻力的改变范围内的大小的流入阻力的多个容器,也能够如上所述地高精度地推定被向容器的内部供给的净化气体的流量。即,即使在流入阻力针对每个容器存在变化的情况下,也能够通过使用1个流量测定装置的测定,对于流入阻力互不相同的多个容器的每一个,高精度地推定被向容器的内部供给的净化气体的流量。
如以上所述,根据上述结构,能够实现如下流量测定装置,前述流量测定装置即使在流入阻力针对每个容器存在变化的情况下,对于流入阻力互不相同的多个容器的每一个,也能够高精度地推定被向容器的内部供给的净化气体的流量。
附图说明
图1是容器收纳设备的纵剖侧视图。
图2是收纳部的侧视图。
图3是收纳部的俯视图。
图4是净化气体供给装置的示意图。
图5是流量测定装置的侧视图。
图6是流量测定装置的俯视图。
图7是阻力施加装置的侧视图。
图8是阻力施加装置的俯视图。
具体实施方式
参照附图,对流量测定装置及流量测定系统的实施方式进行说明。这里,流量测定装置及流量测定系统的检查对象的净化气体供给装置如图1所示,以是被具备于容器收纳设备100的净化气体供给装置30的情况为例进行说明。
如图1所示,本实施方式的容器收纳设备100具备收纳架91、容器搬运装置90、净化气体供给装置30,前述收纳架91收纳容器80,前述容器搬运装置90搬运容器80,前述净化气体供给装置30相对于被收纳于收纳架91的容器80供给净化气体(吹扫气体)。如图1~图3所示,在收纳架91上,收纳容器80的多个收纳部92被在第二水平方向Y及上下方向Z上排列地设置。这里,第二水平方向Y是沿着收纳架91的横宽方向(架横宽方向)的水平方向。在收纳部92的每一个上具备支承容器80的支承部32。容器80在被支承于支承部32的状态下,被收纳于具备该支承部32的收纳部92。在本实施方式中,一对收纳架91被设置成隔着容器搬运装置90的移动路径在第一水平方向X上相向。这里,第一水平方向X是沿着收纳架91的前后方向(架前后方向)的水平方向,是与第二水平方向Y正交的水平方向。
在本实施方式中,支承部32构成为将容器80从下侧支承。具体地,如图3所示,支承部32在上下方向Z上观察时被形成为U字形,构成为支承容器80的底面81的外周部分。支承部32通过将第一水平方向X的一端部(对应于U字的底部的部分)固定于收纳架91的框,以悬臂姿势被支承于该框。如图2及图3所示,支承部32具备定位用的突出部93(定位销)。突出部93以从支承部32的上表面(平坦状的部分)向上方突出的方式形成。支承部32具备多个突出部93,在本实施方式中,具备3个突出部93。突出部93被形成于上述U字的底部及两端部的3个部位。
如图2所示,在容器80的底面81上形成有向上方凹陷的形状的凹部82。凹部82以与突出部93相同的数量形成,在本实施方式中,3个凹部82被形成于容器80的底面81。容器80以通过突出部93和凹部82的卡合而被相对于支承部32定位的状态,被支承于支承部32。凹部82的内表面是倾斜面,即使将容器80置于支承部32时容器80的位置从相对于支承部32的适当位置在水平方向上偏离的情况下,突出部93被凹部82的内表面引导,由此容器80相对于支承部32的水平方向的位置也被修正为适当位置。在本实施方式中,容器80是容纳EUV(超紫外)光刻用的中间掩模(光掩模)的中间掩模盒。
容器搬运装置90在收纳架91的前方沿第二水平方向Y移动,向收纳部92或从收纳部92搬运容器80。在本实施方式中,容器搬运装置90在一对收纳架91之间沿第二水平方向Y移动。在本实施方式中,容器搬运装置90是堆垛起重机。省略详细说明,但容器搬运装置90将向收纳架91入库的容器80从入库用的移载部位向收纳部92搬运,将从收纳架91出库的容器80从收纳有该容器80的收纳部92向与上述入库用的移载部位共通的出库用的移载部位、或者除了上述入库用的移载部位之外另外地设置的出库用的移载部位搬运。
在本实施方式中,容器收纳设备100被设置于清净空气从顶棚侧向地面侧向下流通的下流式的净化室内。在本实施方式中,容器收纳设备100具备将配置收纳架91及容器搬运装置90的空间(以下称作“设置空间”)的侧周围(上下方向观察时的周围)包围的壁体94。壁体94由无孔状的部件形成。从顶棚侧向设置空间的内部流入的清净空气与后述的被从喷出部31喷出的净化气体(包括被从喷出部31向容器80的内部喷出后、从容器80排出的净化气体)一同在设置空间的内部向下方流动后,在地面部的附近被向设置空间的外侧的空间排出。
如图2~图4所示,净化气体供给装置30具备支承部32和喷出部31,前述支承部32支承容器80,前述喷出部31将净化气体向被支承于支承部32的容器80的内部喷出。喷出部31被设置于支承部32。在本实施方式中,净化气体供给装置30具备多个支承部32,喷出部31被设置于多个支承部32的每一个,向被支承于支承部32的容器80的内部喷出净化气体。在本实施方式中,在容器收纳设备100上具备净化气体供给装置30,净化气体供给装置30向在多个收纳部92的每一个中被收纳的容器80的内部供给净化气体。因此,在本实施方式中,净化气体供给装置30将收纳部92所具备的支承部32利用成将净化气体的供给对象的容器80支承的支承部。从另外的看法来看,净化气体供给装置30具备的支承部32也被用于在收纳部92中支承容器80。另外,所谓净化气体,例如是氮气等非活性气体、或已除去灰尘及湿气的清净干燥空气(清洁干燥空气)。在本实施方式中,净化气体是非活性气体。
如图4所示,在本实施方式中,净化气体供给装置30具备主配管34、流量控制装置33(质量流量控制器)、多个分岔配管35,前述主配管34从净化气体的供给源41供给净化气体,前述流量控制装置33(质量流量控制器)控制在主配管34的内部流动的净化气体的流量,前述多个分岔配管35在比控制装置33靠下游侧从主配管34分岔,分别被连接于对应的喷出部31。如图3所示,在本实施方式中,喷出部31具备多个喷出口31a,具体地,具备两个喷出口31a。即,若将形成有喷出口31a的部件作为喷出口形成部件,则1个喷出部31由被配置于支承部32的互不相同的位置(在本实施方式中为两个不同的位置)的喷出口形成部件的组构成。如图3所示,喷出口形成部件在俯视时(上下方向观察时)的形状形成为圆形,在该圆形的中心形成有喷出口31a。分岔配管35的下游侧部分被连接于每一个喷出部31所具备的喷出口31a,净化气体从每一个喷出口31a被喷出。在本实施方式中,在每一个分岔配管35上,设置有将净化气体所包括的灰尘除去的过滤器37,从各喷出口31a喷出借助过滤器37除去灰尘后的净化气体。
如图2~图4所示,在容器80上,设置有供气口(第三供气口83)和排气口84。另外,与后述的第一供气口11a、第二供气口21a区分,将被设置于容器80的供气口设为第三供气口83。如图2所示,第三供气口83被形成于容器80的底面81,虽省略图示,但排气口84也被形成于容器80的底面81。虽省略详细说明,但第三供气口83、排气口84以将被设置于容器80的底面81的垫圈在上下方向Z上贯通的方式形成。在容器80被支承于支承部32的状态下,第三供气口83被连接于在支承部32上被设置的喷出部31,由此被从喷出部31喷出的净化气体从第三供气口83向容器80的内部流入。在本实施方式中,在容器80的底面81上,形成有与1个喷出部31所具备的喷出口31a数量相同(在本实施方式中为两个)的第三供气口83。在容器80被支承于支承部32的状态下,每一个第三供气口83被连接于对应的喷出口31a,净化气体从每一个第三供气口83向容器80的内部流入。
在第三供气口83上具备供气用开闭阀(图中未示出),在排气口84上设置有排气用开闭阀(图中未示出)。供气用开闭阀及排气用开闭阀被弹簧等施力体施力成关闭状态。若在喷出部31(喷出口31a)被连接于第三供气口83的状态下从喷出部31喷出净化气体,则借助其压力,供气用开闭阀打开,净化气体被从第三供气口83向容器80的内部供给。此外,若供给净化气体而容器80的内部的压力变高,则借助其压力,排气用开闭阀打开,容器80的内部的气体(空气、湿润空气、已经被填充的净化气体等)被从排气口84排出。另外,容器80构成为具有气密性。即,喷出部31和第三供气口83的连接被解除,构成为在借助容器搬运装置90搬运容器80时,容器80的内部的净化气体难以泄漏。
被供给于容器80的内部的净化气体的流量(在本实施方式中是被从每一个第三供气口83向容器80的内部供给的净化气体的流量的总和)是与容器80的流入阻力对应的流量。这里,容器80的流入阻力是使净化气体从第三供气口83向容器80的内部流入时的阻力(压力损失)。容器80的流入阻力与供气用开闭阀及排气用开闭阀的各自的作用力、容器80的气密性的程度等对应地确定。
如图4所示,在本实施方式中,经由总管40从净化气体的供给源41向主配管34供给净化气体。此外,在本实施方式中,净化气体供给装置30在分岔配管35从主配管34分岔的部分具备中转配管36。在中转配管36上,连接有多个分岔配管35的每一个的上游侧端部,并且连接有主配管34的下游侧端部。这里,将连接从相同的主配管34分岔的分岔配管35的一组喷出部31称作“喷出部组”,将设置该一组喷出部31的一组支承部32称作“支承部组”,将设置该一组支承部32的一组收纳部92作为“收纳部组”。在本实施方式中,属于相同收纳部组的多个收纳部92是被配置于相同列的多个收纳部92(在上下方向Z上观察重叠的多个收纳部92)。如图1所示,中转配管36被配置成,遍及属于相同收纳部组的多个收纳部92的配置区域的整个区域在上下方向Z上延伸。
流量控制装置33被设置于主配管34的中途,具备流入端口和喷出端口,前述流入端口被连接于主配管34的比流量控制装置33靠上游侧的部分,前述喷出端口被连接于主配管34的比流量控制装置33靠下游侧的部分。进而,流量控制装置33具备内部流路、流量调节阀、流量传感器、内部控制部,前述内部流路将流入端口和喷出端口连接,前述流量调节阀调节朝向喷出端口侧在内部流路中流动的气体的流量,前述流量传感器测量在内部流路中流动的气体的流量,前述内部控制部控制流量调节阀的工作。流量控制装置33(内部控制部)与从控制净化气体供给装置30的工作的控制装置(图中未示出)输出的流量指令对应地控制流量调节阀的工作,由此将在主配管34的内部流动的净化气体的流量(每单位时间的流量)配合该流量指令来控制。这样,在本实施方式中,流量控制装置33不被设置于分岔配管35,而被设置于主配管34。因此,在主配管34的比流量控制装置33靠下游侧的部分的净化气体的流量大于零的状态下,不仅从被连接于容器80的第三供气口83的喷出部31,从未被连接于容器80的第三供气口83的喷出部31也喷出净化气体。即,从构成该主配管34的下游侧的喷出部组的全部喷出部31喷出净化气体。
接着,对被用于净化气体供给装置30的检查的流量测定装置10、被用于净化气体供给装置30的检查的流量测定系统进行说明。流量测定系统具备流量测定装置10。流量测定装置10是测定在被支承于支承部32的状态下被从喷出部31喷出的净化气体的流量(每单位时间的流量)的装置。在本实施方式中,流量测定装置10、后述的阻力施加装置20被支承部32从下侧支承。如以下所述,通过使用流量测定装置10的测定,能够推定被从喷出部31向被支承于支承部32的容器80的内部供给的净化气体的流量。如图5及图6所示,流量测定装置10具备第一供气部11、第一配管12、流量计15、第一阻力体13、第一主体部14,前述第一供气部11在流量测定装置10被支承于支承部32的状态下被连接于喷出部31,前述第一配管12被连接于第一供气部11,前述流量计15测量在第一配管12的内部流动的气体的流量(每单位时间的流量),前述第一阻力体13对第一配管12的内部的气体的流动施加阻力。在流量测定装置10被支承于支承部32的状态下,被从喷出部31喷出的气体在第一配管12的内部流动,借助流量计15测量此时在第一配管12的内部向下游侧流动的气体的流量。在本实施方式中,第一阻力体13沿第一配管12的延伸方向,被配置成比流量计15靠下游侧(与和第一供气部11连接的连接部相反的一侧)。换言之,流量计15沿第一配管12的延伸方向,被配置成比第一阻力体13靠上游侧(与第一供气部11连接的连接部侧)。在本实施方式中,第一供气部11相当于“供气部”,第一配管12相当于“配管”,第一阻力体13相当于“阻力体”,第一主体部14相当于“主体部”。
第一主体部14具有被支承于支承部32的第一被支承部14a,是将第一供气部11、第一配管12、流量计15、及第一阻力体13支承的部件。第一供气部11、第一配管12、流量计15、及第一阻力体13的每一个被直接地或间接地支承于第一主体部14。在本实施方式中,第一主体部14是平板状的部件,在作为第一主体部14的底面的第一底面14b上形成有第一被支承部14a。第一被支承部14a在第一底面14b上形成为向上方凹陷的形状。第一被支承部14a以与被设置于支承部32的突出部93相同的数量形成,在本实施方式中,3个第一被支承部14a被形成于第一底面14b。第一主体部14在通过被设置于支承部32的突出部93和第一被支承部14a的卡合相对于支承部32被定位的状态下,被支承于支承部32。被形成为凹状的第一被支承部14a的内表面是倾斜面,即使在将流量测定装置10置于支承部32时流量测定装置10(第一主体部14)的位置从相对于支承部32的适当位置在水平方向上偏离的情况下,突出部93也被第一被支承部14a的内表面引导,由此流量测定装置10相对于支承部32的水平方向的位置被修正为适当位置。在流量测定装置10被支承于支承部32的状态下,仅在第一被支承部14a和突出部93的接触部和第一供气部11和喷出部31的接触部,流量测定装置10和支承部32接触。即,支承第一供气部11、第一配管12、流量计15、及第一阻力体13的第一主体部14仅被突出部93及喷出部31(主要是突出部93)从下侧支承。在本实施方式中,第一被支承部14a相当于“被支承部”。
如图5所示,第一供气部11具备被连接于喷出部31的喷出口31a的供气口即第一供气口11a。第一供气口11a以将第一供气部11所具备的垫圈在上下方向Z上贯通的方式形成。如上所述,在本实施方式中,喷出部31具备多个喷出口31a,与此对应,第一供气部11具备被分别连接于多个喷出口31a中的对应的喷出口的多个第一供气口11a。具体地,第一供气部11具备两个第一供气口11a。即,若将形成有第一供气口11a的部件(在本实施方式中为上述的垫圈)设为供气口形成部件,则第一供气部11由在第一主体部14的互不相同的位置(在本实施方式中为两个不同的位置)上被配置的供气口形成部件的组构成。在本实施方式中,第一供气口11a相当于“供气口”。
如上所述,在本实施方式中,第一供气部11具备多个第一供气口11a,与其对应,第一配管12具备分别被连接于多个第一供气口11a中的对应的供气口的多个第一配管部12a。具体地,第一配管12具备两个第一配管部12a。此外,在本实施方式中,第一配管12具备第二配管部12b,前述第二配管部12b被连接于与多个第一配管部12a(在本实施方式中为两个第一配管部12a,下同。)的每一个的第一供气口11a相反的一侧端部,在该多个第一配管部12a的每一个中流动的气体合流后的气体在前述第二配管部12b中流动。在本实施方式中,流量计15被设置于多个第一配管部12a的每一个。即,流量计15的每一个被设置于测量对象的第一配管部12a的中途,测量在该第一配管部12a的内部流动的气体的流量。多个第一配管部12a形成为从与第一供气口11a连接的连接部至与第二配管部12b连接的连接部的长度互相相等。如图5及图6所示,在本实施方式中,流量测定装置10具备显示器16和端子台17,前述显示器16显示流量计15的测量结果,前述端子台17固定缆线(电源缆线、通信缆线等),前述缆线(电源缆线、通信缆线等)被连接于流量计15、显示器16。这些显示器16、端子台17都被支承于第一主体部14。虽省略图示,被向流量计15、显示器16供给工作电力的电池等电源也被支承于第一主体部14。
第一阻力体13构成为,施加的阻力(施加于第一配管12的内部的气体的流动的阻力)的大小是可变的。如上所述,在本实施方式中,第一配管12具备多个第一配管部12a,第一阻力体13设置成对多个第一配管部12a的每一个的气体的流动施加阻力。在本实施方式中,第一阻力体13被设置于第二配管部12b。由此,通过第一阻力体13的调整,能够调整多个第一配管部12a的各自的阻力(相对于在内部流动的气体的阻力)。如上所述,在本实施方式中,多个第一配管部12a形成为长度互相相等,所以多个第一配管部12a的各自的阻力为互相相同或是相同程度的大小。另外,在本实施方式中,第一阻力体13是能够调节气体向下游侧的流量的速度控制阀(速度控制器),构成为能够通过旋钮等操作来调节阻力的大小。在第一配管12(第二配管部12b)的第一阻力体13的配设部位中,气体向下游侧的流量被限制为既定值(调节值)以下,由此在第一配管12的比第一阻力体13的配设部位靠上游侧的部分,对在内部流动的气体的流动施加阻力。
通过使支承部32支承上述那样的结构的流量测定装置10,能够使被从喷出部31喷出的净化气体从第一供气部11向第一配管12流入。在本实施方式中,被从每一个喷出口31a喷出的净化气体从连接有各喷出口31a的第一供气口11a向第一配管部12a流入。在本实施方式中,流量测定装置10的总重量以容器80的重量为基准被设定,使得在流量测定装置10被支承于支承部32的状态下喷出部31(喷出口形成部件)和第一供气部11(形成有第一供气口11a的垫圈)的接合强度,与在容器80被支承于支承部32的状态下的喷出部31(喷出口形成部件)和第三供气口83(形成有第三供气口83的垫圈)的接合强度为相同程度。在本实施方式中,容器80是容纳中间掩模的中间掩模盒,所以流量测定装置10的总重量被设定为例如和容纳有1张中间掩模的状态的容器80的总重量相同。
使支承部32支承流量测定装置10的状态下被流量计15测量的流量为与流量测定装置10的流入阻力对应的流量。这里,流量测定装置10的流入阻力是使净化气体从第一供气部11向第一配管12流入时的阻力(压力损失)。在本实施方式中,在流量测定装置10的第一供气部11(第一供气口11a)上,不设置相当于被设置于容器80的第三供气口83的供气用开闭阀的阀。由此,流量测定装置10的流入阻力主要对应于第一阻力体13对第一配管12的内部的气体的流动施加的阻力的大小来确定。被流量计15测量的流量(在本实施方式中,是被各个流量计15测量的流量的总和)在具有与流量测定装置10的流入阻力相同程度大小的流入阻力的容器80被支承于支承部32的情况下,为与被从喷出部31向该容器80的内部供给的净化气体的流量接近的值。由此,基于被流量计15测量的流量,能够高精度地推定,被向具有与流量测定装置10的流入阻力相同程度大小的流入阻力的容器80的内部供给的净化气体的流量。
然而,容器80的流入阻力的大小有时根据容器80的种类(类型)、制造商而不同,即使是相同种类的容器80,也有因个体差异、随时间的变化等而不同的情况。例如,在上述供气用开闭阀、排气用开闭阀的作用力上产生差异,或在容器80的气密性上产生差异,有容器80的流入阻力的大小针对每个容器变化的情况。关于这点,流量测定装置10具备对第一配管12的内部的气体的流动施加的阻力的大小可变的第一阻力体13,所以通过调整第一阻力体13施加的阻力的大小,能够调整流量测定装置10的流入阻力。由此,即使是流入阻力针对每个容器80变化的情况,也通过与作为净化气体的流量的推定对象选择的容器80的流入阻力配合来调整流量测定装置10的流入阻力的大小,能够使被流量计15测量的流量为,接近被从喷出部31向该选择的容器80的内部供给的净化气体的流量的值。即,即使在流入阻力针对每个容器80变化的情况下,通过使用1个流量测定装置10的测定,能够对于流入阻力互不相同的多个容器80的每一个,高精度地推定被向容器80的内部供给的净化气体的流量。另外,借助支承容器80的支承部32,在被从喷出部31向容器80的内部供给的净化气体的流量差异较大的情况下等,改变支承容器80的支承部32,同时重复进行流量计15的测量,由此能够得到被向容器80的内部供给的净化气体的流量的变动范围(由被支承的支承部32不同所引起的变动范围)的信息。
如上所述,在本实施方式中,流量控制装置33不被设置于分岔配管35,而被设置于主配管34。并且,如图4所示,各分岔配管35经由中转配管36互相连通,所以被从喷出部31喷出的净化气体的流量受到从属于相同喷出部组的其他喷出部31喷出的净化气体的流量的影响。也考虑通过将节流孔设置于各个分岔配管35来尽量排除该影响,但在该情况下,也难以将该影响完全消除。由此,向被支承于支承部32的容器80的内部供给的净化气体的流量不只对应于该容器80的流入阻力的大小,也能够对应于容器80是否被支承于属于相同支承部组的其他支承部32、被支承于属于相同支承部组的其他支承部32的容器80的流入阻力的大小而变化。
鉴于这点,本实施方式的流量测定系统不仅具备流量测定装置10,还具备阻力施加装置20。在本实施方式中,流量测定系统具备多个阻力施加装置20。例如,流量测定系统具备比构成1个喷出部组的喷出部31的个数少1的个数的阻力施加装置20。阻力施加装置20在进行净化气体供给装置30的检查时,被支承于多个支承部32的与支承流量测定装置10的支承部32不同的支承部32(属于相同支承部组的其他支承部32)。如图7及图8所示,阻力施加装置20具备第二供气部21、第二配管22、第二阻力体23、第二主体部24,前述第二供气部21在阻力施加装置20被支承于支承部32的状态下被连接于喷出部31,前述第二配管22被连接于第二供气部21,前述第二阻力体23对第二配管22的内部的气体的流动施加阻力。在阻力施加装置20被支承于支承部32的状态下,被从喷出部31喷出的气体在第二配管22的内部流动。第二主体部24具有被支承于支承部32的第二被支承部24a,是支承第二供气部21、第二配管22、及第二阻力体23的部件。并且,第二阻力体23构成为,施加的阻力(对第二配管22的内部的气体的流动施加的阻力)的大小可变。
在本实施方式中,阻力施加装置20除了不具备流量计15、显示器16、及端子台17以外,与流量测定装置10同样地构成。因此,省略关于阻力施加装置20的详细的说明,但第二主体部24与第一主体部14同样地构成,在第二主体部24的底面即第二底面24b上,形成有多个与第一被支承部14a对应的第二被支承部24a。并且,第二主体部24在通过被设置于支承部32的突出部93和第二被支承部24a的卡合来被相对于支承部32定位的状态下,被支承于支承部32。第二供气部21与第一供气部11同样地构成,具备多个与第一供气口11a对应的第二供气口21a。第二配管22除了与第一配管部12a对应的第三配管部22a的长度及形状不同于第一配管部12a之外,与第一配管12同样地构成。即,第二配管22具备多个与第一配管部12a对应的第三配管部22a,并且具备与第二配管部12b对应的第四配管部22b。多个第三配管部22a形成为从与第二供气口21a连接的连接部至与第四配管部22b连接的连接部的长度互相相等。第二阻力体23与第一阻力体13同样地构成,在本实施方式中,是能够调节气体向下游侧的流量的速度控制阀。第二阻力体23被设置于与第二配管部12b对应的第四配管部22b。
在本实施方式中,阻力施加装置20的总重量以容器80的重量为基准被设定,使得阻力施加装置20被支承于支承部32的状态下的喷出部31(喷出口形成部件)和第二供气部21(形成有第二供气口21a的垫圈)的接合强度,与容器80被支承于支承部32的状态下的喷出部31(喷出口形成部件)和第三供气口83(形成有第三供气口83的垫圈)的接合强度为相同程度。在本实施方式中,容器80是容纳中间掩模的中间掩模盒,所以阻力施加装置20的总重量被设定为例如与容纳有一张中间掩模的状态的容器80的总重量相同。
通过使支承部32支承上述那样的结构的阻力施加装置20,能够使被从喷出部31喷出的净化气体从第二供气部21向第二配管22流入。在本实施方式中,被从各个喷出口31a喷出的净化气体从连接有各喷出口31a的第二供气口21a向第三配管部22a流入。在使支承部32支承阻力施加装置20的状态下从喷出部31向第二配管22流入的净化气体的流量为,与阻力施加装置20的流入阻力对应的流量。这里,阻力施加装置20的流入阻力是使净化气体从第二供气部21向第二配管22的内部流入时的阻力(压力损失)。在本实施方式中,在阻力施加装置20的第二供气部21(第二供气口21a)上不设置相当于被在容器80的第三供气口83上设置的供气用开闭阀的阀。由此,阻力施加装置20的流入阻力主要与第二阻力体23对第二配管22的内部的气体的流动施加的阻力的大小对应地确定。
如上所述,在本实施方式中,流量测定系统不仅具备流量测定装置10,还具备阻力施加装置20,该阻力施加装置20与流量测定装置10同样地,构成为流入阻力的大小能够改变。因此,例如,设想在除了支承有净化气体的供给流量的推定对象的容器80(以下称作“第一容器”)的支承部32(以下称作“第一支承部”)之外另外的支承部32(属于相同支承部组的其他支承部32,以下称作“第二支承部”)上,未支承有不是净化气体的供给流量的推定对象的容器80(以下称作“第二容器”)的状况的检查中,不使用阻力施加装置20,使第一支承部支承配合第一容器的流入阻力调整流入阻力的大小的流量测定装置10,由此能够使被流量测定装置10的流量计15测量的流量为,与在设想的状况下实际上被向第一容器的内部供给的流量接近的值。此外,在设想第二容器被支承于第二支承部的状况的检查中,使第一支承部支承配合第一容器的流入阻力调整流入阻力的大小的流量测定装置10,并且使第二支承部支承配合第二容器的流入阻力调整流入阻力的大小的阻力施加装置20,由此能够将被流量测定装置10的流量计15测量的流量设为,与在设想的状况下实际上被向第一容器的内部供给的流量接近的值。另外,在设想第二容器被支承于多个第二支承部的每一个的情况下,使各个第二支承部支承阻力施加装置20,前述阻力施加装置20与被支承于该第二支承部的第二容器的流入阻力配合来调整流入阻力的大小。
如上所述,即使是与向被支承于支承部32的容器80的内部供给的净化气体的流量、容器80是否被支承于属于相同支承部组的其他支承部32、被支承于属于相同支承部组的其他支承部32的容器80的流入阻力的大小对应地变化的情况,也通过能够根据需要使用阻力施加装置20,将被流量测定装置10的流量计15测量的流量设为,与在设想的状况下实际上被向容器80的内部供给的净化气体的流量接近的值。结果,基于被流量计15测量的流量,能够高精度地推定在设想的状况下被向容器80的内部供给的净化气体的流量。另外,也可是构成为流量测定系统具备多个流量测定装置10。该情况下,通过使属于相同支承部组的互不相同的支承部32支承多个流量测定装置10,能够将被从喷出部31喷出的净化气体的流量的测定在互不相同的支承部32中同时或大致同时地进行。此外,在流量测定系统具备多个流量测定装置10的情况下,也能够代替阻力施加装置20而使用一部分的流量测定装置10。该情况下,在该一部分的流量测定装置10中,不进行流量计15的测量,仅发挥作为阻力施加装置20的功能。
〔其他实施方式〕
对流量测定装置及流量测定系统的其他实施方式进行说明。另外,在以下的各实施方式中公开的结构,只要不产生矛盾,也能够与其他实施方式中所公开的结构组合来应用。
(1)在上述的实施方式中,以流量测定装置10的第一阻力体13被设置于第二配管部12b的结构为例进行了说明,但也能够构成为第一阻力体13被设置于每一个第一配管部12a。该情况下,第一阻力体13可以被设置于比流量计15靠上游侧的位置,也可以被设置于比流量计15靠下游侧的位置。此外,该情况下,也能够构成为第一配管12不具备第二配管部12b的结构。此外,在上述的实施方式中,以阻力施加装置20的第二阻力体23被设置于第四配管部22b的结构为例进行了说明,但也能够构成为第二阻力体23被设置于各个第三配管部22a。该情况下,也能够构成为第二配管22不具备第四配管部22b。
(2)在上述的实施方式中,以流量计15被设置于多个第一配管部12a的每一个的结构为例进行了说明,但也能够是流量计15被设置于第二配管部12b的结构。该情况下,可以将流量计15设置于比第一阻力体13靠上游侧的位置,也可以将流量计15设置于比第一阻力体13靠下游侧的位置。
(3)在上述的实施方式中,以第一供气部11具备两个第一供气口11a、第一配管12具备分别被连接于对应的第一供气口11a的两个第一配管部12a的结构为例进行了说明。但是,不限于这样的结构,例如,也可以是第一供气部11具备3个以上第一供气口11a、第一配管12具备分别被连接于对应的第一供气口11a的3个以上的第一配管部12a的结构。此外,也可以是第一供气部11具备1个第一供气口11a、第一配管12被连接于该第一供气口11a的单一的管体的结构。此外,在上述的实施方式中,以第二供气部21具备两个第二供气口21a、第二配管22具备分别被连接于对应的第二供气口21a的两个第三配管部22a的结构为例进行了说明。但是,不限于这样的结构,例如,也可以是第二供气部21具备3个以上的第二供气口21a、第二配管22具备分别被连接于对应的第二供气口21a的3个以上的第三配管部22a的结构。此外,也可以是第二供气部21具备1个第二供气口21a、第二配管22具备被连接于该第二供气口21a的单一的管体的结构。
(4)在上述的实施方式中,以第一阻力体13是能够调节气体向下游侧的流量的速度控制阀的结构为例进行了说明。但是,不限于这样的结构,也可以是,构成为将第一阻力体13相对于第一配管12拆卸自如,更换第一阻力体13,由此改变第一阻力体13施加的阻力的大小的结构。此外,在上述的实施方式中,以第二阻力体23是能够调节气体向下游侧的流量的速度控制阀的结构为例进行了说明。但是,不限于这样的结构,也可以是,构成为将第二阻力体23相对于第二配管22拆卸自如,更换第二阻力体23,由此改变第二阻力体23施加的阻力的大小的结构。
(5)在上述的实施方式中,以在流量测定装置10的第一供气部11(第一供气口11a)、阻力施加装置20的第二供气部21(第二供气口21a)上,未设有相当于在容器80的第三供气口83上设置的供气用开闭阀的阀的结构为例进行了说明。但是,不限于这样的结构,也能够构成为在第一供气部11、第二供气部21上设置相当于被设置于容器80的第三供气口83的供气用开闭阀的阀。该情况下,流量测定装置10的流入阻力主要与第一阻力体13对第一配管12的内部的气体的流动施加的阻力大小、被设置于第一供气部11的阀的压力损失的大小对应地确定,阻力施加装置20的流入阻力主要与第二阻力体23对第二配管22的内部的气体的流动施加的阻力的大小、被设置于第二供气部21的阀的压力损失的大小对应地确定。
(6)在上述的实施方式中,以容器80是容纳中间掩模的中间掩模盒的情况为例进行了说明,但容器80也可以是容纳多张半导体晶片的前端开启式晶圆传送盒(FOUP,FrontOpening Unified Pod)。此外,容器80的容纳物也可以是工业制品、食品、医药品等除了中间掩模、半导体晶片以外的物品。
(7)在上述的实施方式中,以流量测定装置及流量测定系统被用于容器收纳设备100所具备的净化气体供给装置30的检查的情况为例进行了说明,但流量测定装置及流量测定系统也可以被用于容器收纳设备以外的设备所具备的净化气体供给装置的检查。
(8)关于其他结构,应理解为,在本说明书所公开的实施方式在所有的方面都不过只是例示。因此,本领域技术人员能够在不脱离本发明的宗旨的范围内,适当地进行各种改变。
〔上述实施方式的概要〕
以下,对在上述说明中已说明的流量测定装置及流量测定系统的概要进行说明。
流量测定装置被用于净化气体供给装置的检查,前述净化气体供给装置具备支承部、喷出部,前述支承部支承容器,前述喷出部被设置于前述支承部,将净化气体向被支承于前述支承部的前述容器的内部喷出,前述流量测定装置在被支承于前述支承部的状态下,测定被从前述喷出部喷出的净化气体的流量,前述流量测定装置具备供气部、配管、流量计、阻力体、主体部,前述供气部被连接于前述喷出部,前述配管被连接于前述供气部,供被从前述喷出部喷出的气体流动,前述流量计测量在前述配管的内部流动的气体的流量,前述阻力体对前述配管的内部的气体的流动施加阻力,前述主体部具有被支承于前述支承部的被支承部,将前述供气部、前述配管、前述流量计、及前述阻力体支承,前述阻力体施加的阻力的大小是可变的。
使用如上所述的结构的流量测定装置,以喷出部和供气部被连接的方式使支承部支承流量测定装置,由此能够使被从喷出部喷出的净化气体从供气部向配管的内部流入。该状态下被流量计测量的流量是与使净化气体从供气部向配管的内部流入时的阻力、即流量测定装置的流入阻力对应的流量。即,具有与流量测定装置的流入阻力相同程度的大小的流入阻力的容器被支承于支承部的情况下,被流量计测量的流量为接近被供给于该容器的内部的净化气体的流量的值。结果,基于被流量计测量的流量,能够将向具有与流量测定装置的流入阻力相同程度的大小的流入阻力的容器的内部供给的净化气体的流量高精度地推定。
并且,根据上述结构,阻力体施加的阻力的大小是可变的,所以通过改变阻力体施加的阻力的大小,能够改变流量测定装置的流入阻力的大小。因此,不仅对于具有某个特定的大小的流入阻力的容器,对于被包括于流量测定装置的流入阻力的改变范围内的大小的流入阻力的多个容器,也能够如上所述地高精度地推定被向容器的内部供给的净化气体的流量。即,即使在流入阻力针对每个容器存在变化的情况下,也能够通过使用1个流量测定装置的测定,对于流入阻力互不相同的多个容器的每一个,高精度地推定被向容器的内部供给的净化气体的流量。
如以上所述,根据上述结构,能够实现如下流量测定装置,前述流量测定装置即使在流入阻力针对每个容器存在变化的情况下,对于流入阻力互不相同的多个容器的每一个,也能够高精度地推定被向容器的内部供给的净化气体的流量。
这里,优选的是,前述喷出部具备多个喷出口,前述供气部具备多个供气口,前述多个供气口分别被连接于前述多个喷出口中的对应的前述喷出口,前述配管具备多个第一配管部,前述多个第一配管部分别被连接于前述多个供气口中的对应的前述供气口,前述阻力体被设置成对前述多个第一配管部的每一个的气体的流动施加阻力,前述流量计被设置于前述多个第一配管部的每一个。
根据该方案,通过使用流量测定装置的检查,能够得到每个喷出口的净化气体的喷出量的数据,所以除了被向容器的内部供给的净化气体的流量的推定,还能够掌握多个喷出口之间的净化气体的喷出量的偏向的有无或其程度。由此,通过使用流量测定装置进行净化气体供给装置的检查,关于净化气体供给装置的状态,能够得到更多的信息。
此外,优选的是,前述喷出部具备多个喷出口,前述供气部具备多个供气口,前述多个供气口分别被连接于前述多个喷出口中的对应的前述喷出口,前述配管具备第二配管部和多个第一配管部,前述多个第一配管部分别被连接于前述多个供气口中的对应的前述供气口,前述第二配管部被连接于与前述多个第一配管部的各自的前述供气口相反的一侧的端部,供在前述多个第一配管部的每一个中流动的气体合流而成的气体流动,前述阻力体被设置于前述第二配管部。
根据该方案,通过调整被设置于第二配管部的阻力体,能够调整多个第一配管部的每一个的阻力(相对于在内部流动的气体的阻力)。由此,与阻力体被设置于各个第一配管部的情况相比,能够实现流量测定装置的流入阻力的调整作业的简单化。此外,与阻力体被设置于第一配管部的每一个的情况相比,也有容易将多个第一配管部之间的对于在内部流动的气体的阻力的大小的变化抑制为较小的优点。
流量测定系统被用于净化气体供给装置的检查,前述净化气体供给装置具备喷出部、主配管、流量控制装置、多个支承部、多个分岔配管,前述多个支承部支承容器,前述喷出部被设置于前述多个支承部的每一个,将净化气体向被支承于前述支承部的前述容器的内部喷出,前述主配管从净化气体的供给源供给净化气体,前述流量控制装置控制在前述主配管的内部流动的净化气体的流量,前述多个分岔配管在比前述流量控制装置靠下游侧从前述主配管分岔,分别被连接于对应的前述喷出部,具备前述流量测定装置和阻力施加装置,前述阻力施加装置被支承于前述多个支承部的与支承前述流量测定装置的前述支承部不同的前述支承部,将前述供气部设为第一供气部,将前述配管设为第一配管,将前述阻力体设为第一阻力体,将前述主体部设为第一主体部,将前述被支承部设为第一被支承部,前述阻力施加装置具备第二供气部、第二配管、第二阻力体、第二主体部,前述第二供气部被连接于前述喷出部,前述第二配管被连接于前述第二供气部,供被从前述喷出部喷出的气体流动,前述第二阻力体对前述第二配管的内部的气体的流动施加阻力,前述第二主体部具有被支承于前述支承部的第二被支承部,将前述第二供气部、前述第二配管、及前述第二阻力体支承,前述第二阻力体施加的阻力的大小可变。
在上述那样的结构的净化气体供给装置中,与在多个分岔配管的每一个上设置流量控制装置的情况相比,被从喷出部喷出的净化气体的流量容易受到被从其他喷出部喷出的净化气体的流量的影响。结果,向被支承于支承部的容器的内部供给的净化气体的流量不仅对应于该容器的流入阻力的大小,也对应于容器是否被支承于其他支承部、被支承于其他支承部的容器的流入阻力的大小能够变化。
根据上述结构,流量测定系统除了流量测定装置还具备阻力施加装置。并且,该阻力施加装置构成为,与流量测定装置同样地,能够改变流入阻力(使净化气体从第二供气部向第二配管的内部流入时的阻力)的大小。因此,在设想在除了支承有净化气体的供给流量的推定对象的容器(以下称作“第一容器”)的支承部(以下称作“第一支承部”)之外的另外的支承部(以下称作“第二支承部”)上,未支承有不是净化气体的供给流量的推定对象的容器(以下称作“第二容器”)的状况的检查中,不使用阻力施加装置,使第一支承部支承配合第一容器的流入阻力调整流入阻力的大小的流量测定装置,由此能够将被流量测定装置的流量计测量的流量设为,与在设想的状况下实际上被向第一容器的内部供给的流量接近的值。此外,在设想第二容器被支承于第二支承部的状况的检查中,使第一支承部支承配合第一容器的流入阻力调整流入阻力的大小的流量测定装置,并且使第二支承部支承配合第二容器的流入阻力调整流入阻力的大小的阻力施加装置,由此能够将被流量测定装置的流量计测量的流量设为,与在设想的状况下被实际上向第一容器的内部供给的流量接近的值。由此,在向被支承于支承部的容器的内部供给的净化气体的流量与容器是否被支承于其他支承部、被支承于其他支承部的容器的流入阻力的大小对应而变化的情况下,也根据需要使用阻力施加装置,由此能够将被流量测定装置的流量计测量的流量设为,与在被设想的状况下实际上被向容器的内部供给的净化气体的流量接近的值。结果,基于被流量计测量的流量,在设想的状况下,能够高精度地推定被向容器的内部供给的净化气体的流量。
附图标记说明
10:流量测定装置
11:第一供气部(供气部)
11a:第一供气口(供气口)
12:第一配管(配管)
12a:第一配管部
12b:第二配管部
13:第一阻力体(阻力体)
14:第一主体部(主体部)
14a:第一被支承部(被支承部)
15:流量计
20:阻力施加装置
21:第二供气部
22:第二配管
23:第二阻力体
24:第二主体部
24a:第二被支承部
30:净化气体供给装置
31:喷出部
31a:喷出口
32:支承部
33:流量控制装置
34:主配管
35:分岔配管
41:供给源
80:容器。
Claims (4)
1.一种流量测定装置,前述流量测定装置被用于净化气体供给装置的检查,前述净化气体供给装置具备支承部、喷出部,前述支承部支承容器,前述喷出部被设置于前述支承部,将净化气体向被支承于前述支承部的前述容器的内部喷出,前述流量测定装置在被支承于前述支承部的状态下,测定被从前述喷出部喷出的净化气体的流量,其特征在于,
具备供气部、配管、流量计、阻力体、主体部,
前述供气部被连接于前述喷出部,
前述配管被连接于前述供气部,供被从前述喷出部喷出的气体流动,
前述流量计测量在前述配管的内部流动的气体的流量,
前述阻力体对前述配管的内部的气体的流动施加阻力,
前述主体部具有被支承于前述支承部的被支承部,将前述供气部、前述配管、前述流量计、及前述阻力体支承,
前述阻力体施加的阻力的大小可变。
2.如权利要求1所述的流量测定装置,其特征在于,
前述喷出部具备多个喷出口,
前述供气部具备多个供气口,前述多个供气口分别被连接于前述多个喷出口中的对应的前述喷出口,
前述配管具备多个第一配管部,前述多个第一配管部分别被连接于前述多个供气口中的对应的前述供气口,
前述阻力体被设置成对前述多个第一配管部的每一个的气体的流动施加阻力,
前述流量计被设置于前述多个第一配管部的每一个。
3.如权利要求1或2所述的流量测定装置,其特征在于,
前述喷出部具备多个喷出口,
前述供气部具备多个供气口,前述多个供气口分别被连接于前述多个喷出口中的对应的前述喷出口,
前述配管具备第二配管部和多个第一配管部,前述多个第一配管部分别被连接于前述多个供气口中的对应的前述供气口,前述第二配管部被连接于与前述多个第一配管部的各自的前述供气口相反的一侧的端部,供气体流动,前述气体为在前述多个第一配管部的每一个中流动的气体合流后而成的气体,
前述阻力体被设置于前述第二配管部。
4.一种流量测定系统,前述流量测定系统被用于净化气体供给装置的检查,前述净化气体供给装置具备喷出部、主配管、流量控制装置、多个支承部、多个分岔配管,前述多个支承部支承容器,前述喷出部被设置于前述多个支承部的每一个,将净化气体向被支承于前述支承部的前述容器的内部喷出,前述主配管从净化气体的供给源供给净化气体,前述流量控制装置控制在前述主配管的内部流动的净化气体的流量,前述多个分岔配管在比前述流量控制装置靠下游侧从前述主配管分岔,分别被连接于对应的前述喷出部,其特征在于,
具备流量测定装置和阻力施加装置,
前述流量测定装置是权利要求1至3中任一项所述的流量测定装置,
前述阻力施加装置被支承于前述多个支承部中的与支承前述流量测定装置的前述支承部不同的前述支承部,
这里,将前述供气部设为第一供气部,将前述配管设为第一配管,将前述阻力体设为第一阻力体,将前述主体部设为第一主体部,将前述被支承部设为第一被支承部,
前述阻力施加装置具备第二供气部、第二配管、第二阻力体、第二主体部,
前述第二供气部被连接于前述喷出部,
前述第二配管被连接于前述第二供气部,供被从前述喷出部喷出的气体流动,
前述第二阻力体对前述第二配管的内部的气体的流动施加阻力,
前述第二主体部具有被支承于前述支承部的第二被支承部,将前述第二供气部、前述第二配管、及前述第二阻力体支承,
前述第二阻力体施加的阻力的大小可变。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016176978A JP6579067B2 (ja) | 2016-09-09 | 2016-09-09 | 流量測定装置及び流量測定システム |
JP2016-176978 | 2016-09-09 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN107806915A true CN107806915A (zh) | 2018-03-16 |
CN107806915B CN107806915B (zh) | 2021-01-26 |
Family
ID=61559823
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201710806846.8A Active CN107806915B (zh) | 2016-09-09 | 2017-09-08 | 流量测定装置及流量测定系统 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10006894B2 (zh) |
JP (1) | JP6579067B2 (zh) |
KR (1) | KR102489603B1 (zh) |
CN (1) | CN107806915B (zh) |
TW (1) | TWI715802B (zh) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6414525B2 (ja) * | 2015-09-02 | 2018-10-31 | 株式会社ダイフク | 保管設備 |
JP6794898B2 (ja) * | 2017-03-29 | 2020-12-02 | 株式会社ダイフク | 収納棚 |
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-
2016
- 2016-09-09 JP JP2016176978A patent/JP6579067B2/ja active Active
-
2017
- 2017-09-04 KR KR1020170112501A patent/KR102489603B1/ko active IP Right Grant
- 2017-09-08 TW TW106130777A patent/TWI715802B/zh active
- 2017-09-08 US US15/699,018 patent/US10006894B2/en active Active
- 2017-09-08 CN CN201710806846.8A patent/CN107806915B/zh active Active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201816922A (zh) | 2018-05-01 |
TWI715802B (zh) | 2021-01-11 |
US10006894B2 (en) | 2018-06-26 |
JP2018041925A (ja) | 2018-03-15 |
US20180074031A1 (en) | 2018-03-15 |
JP6579067B2 (ja) | 2019-09-25 |
KR20180028929A (ko) | 2018-03-19 |
KR102489603B1 (ko) | 2023-01-16 |
CN107806915B (zh) | 2021-01-26 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |