TWI715802B - 流量測定裝置及流量測定系統 - Google Patents

流量測定裝置及流量測定系統 Download PDF

Info

Publication number
TWI715802B
TWI715802B TW106130777A TW106130777A TWI715802B TW I715802 B TWI715802 B TW I715802B TW 106130777 A TW106130777 A TW 106130777A TW 106130777 A TW106130777 A TW 106130777A TW I715802 B TWI715802 B TW I715802B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
air supply
flow
resistance
container
piping
Prior art date
Application number
TW106130777A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201816922A (zh
Inventor
安部健史
吉本忠浩
Original Assignee
日商大福股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日商大福股份有限公司 filed Critical 日商大福股份有限公司
Publication of TW201816922A publication Critical patent/TW201816922A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI715802B publication Critical patent/TWI715802B/zh

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
    • G01F1/00—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
    • G01F1/76—Devices for measuring mass flow of a fluid or a fluent solid material
    • G01F1/86—Indirect mass flowmeters, e.g. measuring volume flow and density, temperature or pressure
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N33/00—Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
    • G01N33/0004—Gaseous mixtures, e.g. polluted air
    • G01N33/0009—General constructional details of gas analysers, e.g. portable test equipment
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
    • G01F1/00—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
    • G01F1/56—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using electric or magnetic effects
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
    • G01F1/00—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
    • G01F1/05—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using mechanical effects
    • G01F1/20—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using mechanical effects by detection of dynamic effects of the flow
    • G01F1/28—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using mechanical effects by detection of dynamic effects of the flow by drag-force, e.g. vane type or impact flowmeter
    • G—PHYSICS
    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D7/00—Control of flow
    • G05D7/06—Control of flow characterised by the use of electric means
    • G05D7/0617—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials
    • G05D7/0629—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means
    • G05D7/0635—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/6735—Closed carriers
    • H01L21/67389—Closed carriers characterised by atmosphere control
    • H01L21/67393—Closed carriers characterised by atmosphere control characterised by the presence of atmosphere modifying elements inside or attached to the closed carrierl
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
    • G01F15/00—Details of, or accessories for, apparatus of groups G01F1/00 - G01F13/00 insofar as such details or appliances are not adapted to particular types of such apparatus
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67253—Process monitoring, e.g. flow or thickness monitoring
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67763—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
    • H01L21/67769—Storage means

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Fluid Mechanics (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Food Science & Technology (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Measuring Volume Flow (AREA)

Abstract

流量測定裝置具備：供氣部，連接於吐出部；配管，可連接於供氣部，且供從吐出部吐出的氣體流動；流量計，量測在配管的內部流動之氣體的流量；阻力體，對配管的內部中之氣體的流動賦予阻力；及本體部，具有被支撐部支撐的被支撐部，且支撐供氣部、配管、流量計、及阻力體。阻力體賦予的阻力的大小是可變的。

Description

流量測定裝置及流量測定系統
發明領域 本發明是有關於一種使用在淨化氣體供給裝置的檢查上的流量測定裝置及流量測定系統。
發明背景 作為使用在淨化氣體供給裝置的檢查上的流量測定裝置，已知有日本專利特開2015-12040號公報(專利文獻1)中記載的檢查裝置。具體來說，在專利文獻1中揭示有一種檢查裝置(1)，是用以在具備非活性氣體供給部(F)的物品保管設備中，檢查非活性氣體對容器(4)的供給狀態的檢查裝置，該非活性氣體供給部(F)是對收納在收納部(9)之容器(4)的內部供給非活性氣體(浄化氣體的一例)的構件。非活性氣體供給部(F)是將注入非活性氣體於容器(4)內部的供給噴嘴(53N)配備於在收納部(9)中支撐容器(4)的載置支撐部(15)，檢查裝置(1)具備：檢查用供氣口(1G)，被載置支撐部(15)支撐時，與供給噴嘴(53N)接合；流量計(101)；及檢查用配管(103)，連接檢查用供氣口(1G)與流量計(101)。並且，進行檢查時，在取代容器(4)而使檢查裝置(1)支撐於載置支撐部(15)的狀態下，藉由流量計(101)來量測從供給噴嘴(53N)透過檢查用供氣口(1G)流入檢查用配管(103)的非活性氣體的流量。依據像這樣所量測到的非活性氣體的流量，可以推測出供給至被載置支撐部(15)支撐的容器(4)的內部之非活性氣體的流量。
在專利文獻1的構成中，供給非活性氣體至容器(4)的內部時，在設在容器(4)的供氣口(4G)與供給噴嘴(53N)已因為容器(4)本身的重量而接合的狀態下，從供給噴嘴(53N)吐出的非活性氣體會透過供氣口(4G)流入容器(4)的內部。因此，供給至容器(4)的內部之非活性氣體的流量可因應供氣口(4G)與供給噴嘴(53N)的接合強度(亦即，因應該接合部中的與外部之氣密性的程度)而變化。在專利文獻1的構成中，由於容器(4)是使用可收容複數片基板的容器，因此容器(4)的總重量會因應所收容之基板的片數而變化，且伴隨著容器(4)的總重量的變化，供氣口(4G)與供給噴嘴(53N)的接合強度也會變化。有鑑於這點，在專利文獻1的構成中，藉由將支撐重量調整用錘的錘支撐部配備在檢查裝置(1)，就可以配合因應基板的收容狀態(收容片數)而變化之供氣口(4G)與供給噴嘴(53N)的接合強度，藉由錘來調整檢查用供氣口(1G)與供給噴嘴(53N)的接合強度。藉此，不受容器(4)所收容之基板片數的影響，可以使藉由流量計(101)所量測之非活性氣體的流量成為接近實際供給至容器(4)的內部之非活性氣體的流量的值。
發明概要 然而，從供氣口等的供氣部供給至容器的內部之浄化氣體，會從排氣口等的排氣部或間隙等排出至該容器的外部，因此是因應排氣部中的氣體排出阻力的大小或容器的氣密性的程度等，來決定使淨化氣體從供氣部朝容器的內部流入時的阻力，即容器的流入阻力(壓力損失)的大小。不僅容器的供氣部與浄化氣體的吐出部之接合強度，容器的流入阻力的大小對供給至容器的內部之浄化氣體的流量所造成的影響一般來說也是很大的。有鑑於這點，可以考慮將成為浄化氣體供給對象的容器之流入阻力的大小納入考量來設計流量測定裝置，藉此使所測定之浄化氣體的流量成為接近實際供給至容器的內部之浄化氣體的流量(以下稱為「實際供給流量」)的值。然而，容器之流入阻力的大小有時會由於容器的種類(型式)或製造廠商而不同，即使是相同種類的容器，有時也會由於個體差異或長期變化等而不同。因此，假設使用了如同上述地設計的流量測定裝置時，即使針對具有某特定的流入阻力的容器，可使所測定之浄化氣體的流量成為接近實際供給流量的值，但是針對流入阻力的大小與該容器不同的容器，所測定之浄化氣體的流量與實際供給流量的差就容易變大。亦即，即使假設使用了如同上述地設計的流量測定裝置，在成為浄化氣體供給對象的複數個容器之間，每個容器的流入阻力有偏差時，要針對流入阻力彼此不同的複數個容器中的各個容器，高精度地推測出供給至容器的內部之浄化氣體的流量並不容易。然而，在專利文獻1中，針對這點並沒有作出特別的認知。
於是，希望實現一種流量測定裝置，即使每個容器的流入阻力有偏差時，也可以針對流入阻力彼此不同的複數個容器中的各個容器，高精度地推測出供給至容器的內部之浄化氣體的流量。
本揭示之流量測定裝置是使用在浄化氣體供給裝置的檢查上，前述浄化氣體供給裝置具備：支撐部，用以支撐容器；及吐出部，設在前述支撐部，且吐出淨化氣體至被前述支撐部支撐的前述容器的內部，前述流量測定裝置是在被前述支撐部支撐的狀態下，測定從前述吐出部吐出之浄化氣體的流量之裝置， 前述流量測定裝置具備：供氣部，可連接於前述吐出部；配管，連接於前述供氣部，且供從前述吐出部吐出的氣體流動；流量計，量測在前述配管的內部流動之氣體的流量；阻力體，對前述配管的內部中之氣體的流動賦予阻力；及本體部，具有被前述支撐部支撐的被支撐部，且支撐前述供氣部、前述配管、前述流量計、及前述阻力體，前述阻力體賦予的阻力的大小是可變的。
使用如同上述之構成的流量測定裝置，且使流量測定裝置支撐於支撐部而使得吐出部與供氣部連接，藉此可使從吐出部吐出的浄化氣體從供氣部流入配管的內部。在此狀態下，流量計所量測的流量會成為因應流量測定裝置的流入阻力的流量，且該流量測定裝置的流入阻力即為使淨化氣體從供氣部朝配管的內部流入時的阻力。亦即，在具有與流量測定裝置的流入阻力相同程度大小的流入阻力之容器被支撐部支撐時，流量計所量測的流量會成為接近供給至該容器的內部之浄化氣體的流量的值。其結果，依據流量計所量測的流量，可以高精度地推測出供給至具有與流量測定裝置的流入阻力相同程度大小的流入阻力之容器的內部之浄化氣體的流量。 並且，依據上述構成，由於阻力體賦予的阻力的大小是可變的，因此藉由變更阻力體賦予的阻力的大小，可以變更流量測定裝置的流入阻力的大小。因此，不僅是針對具有某特定大小的流入阻力的容器，可針對具有包含在流量測定裝置的流入阻力變更範圍內之大小的流入阻力的複數個容器，如同上述地進行高精度地推測出供給至容器的內部之浄化氣體的流量一事。亦即，即使每個容器的流入阻力有偏差時，也可以藉由使用1個流量測定裝置的測定，來針對流入阻力彼此不同的複數個容器中的各個容器，高精度地推測出供給至容器的內部之浄化氣體的流量。 如同上述，依據上述構成，可以實現一種流量測定裝置，即使每個容器的流入阻力有偏差時，也可以針對流入阻力彼此不同的複數個容器中的各個容器，高精度地推測出供給至容器的內部之浄化氣體的流量。
用以實施發明之形態 針對流量測定裝置及流量測定系統的實施形態，參照圖式來進行說明。此處，流量測定裝置及流量測定系統之檢查對象的浄化氣體供給裝置如圖1所示，是以配備在容器收納設備100的浄化氣體供給裝置30的情形為例來進行說明。
如圖1所示，本實施形態之容器收納設備100具備：收納架91，收納容器80；容器搬送裝置90，搬送容器80；及浄化氣體供給裝置30，對收納在收納架91的容器80供給浄化氣體(沖洗氣體)。如圖1~圖3所示，在收納架91中，收納容器80的複數個收納部92是排列設置在第二水平方向Y及上下方向Z。此處，第二水平方向Y是沿著收納架91之橫寬方向(架橫寬方向)的水平方向。在各個收納部92中，具備支撐容器80的支撐部32。容器80是在被支撐部32支撐的狀態下，被收納在具備該支撐部32的收納部92。在本實施形態中，一對收納架91被設置成挾著容器搬送裝置90的移動路徑在第一水平方向X相面對。此處，第一水平方向X是沿著收納架91之前後方向(架前後方向)的水平方向，且是正交於第二水平方向Y的水平方向。
在本實施形態中，支撐部32是構成為會從下側支撐容器80。具體來說，如圖3所示，支撐部32在上下方向Z來看是形成U字形，且構成為會支撐容器80的底面81中之外周部分。支撐部32藉著第一水平方向X的一端部(對應於U字的底部的部分)固定在收納架91的框架，而以懸臂姿勢被支撐在該框架。如圖2及圖3所示，支撐部32具備定位用的突出部93(定位銷)。突出部93是形成為從支撐部32的上表面(平坦狀的部分)朝上方突出。支撐部32具備複數個突出部93，在本實施形態中，是具備3個突出部93。突出部93形成在上述U字的底部及兩端部共3處。
如圖2所示，在容器80的底面81形成有朝向上方凹陷之形狀的凹部82。凹部82形成為與突出部93相同數量，在本實施形態中，有3個凹部82形成在容器80的底面81。容器80是在已藉由突出部93與凹部82的卡合而對支撐部32定位的狀態下，被支撐部32支撐。凹部82的內面成為傾斜面，將容器80載放在支撐部32時，即使容器80的位置從相對於支撐部32之適當位置朝水平方向偏移時，藉著突出部93被凹部82的內面導引，就會使得容器80的相對於支撐部32之水平方向的位置被修正至適當位置。在本實施形態中，容器80是收容EUV(極紫外線)光刻用之倍縮光罩(Photomask)的倍縮光罩盒。
容器搬送裝置90沿著第二水平方向Y在收納架91的前方移動，且朝收納部92或從收納部92搬送容器80。在本實施形態中，容器搬送裝置90沿著第二水平方向Y在一對收納架91之間移動。在本實施形態中，容器搬送裝置90為堆高式起重機。詳細內容雖予以省略，但容器搬送裝置90是將要入庫至收納架91的容器80從入庫用的移載處搬送至收納部92，且將要從收納架91出庫的容器80從收納有該容器80的收納部92搬送至與上述入庫用的移載處共通之出庫用的移載處，或與上述入庫用的移載處不同的另外設置之出庫用的移載處。
在本實施形態中，容器收納設備100設置在清浄空氣從天花板側朝向地板側向下流通之降流式的無塵室內。在本實施形態中，容器收納設備100具備有壁體94，該壁體94包圍收納架91及容器搬送裝置90被配置之空間(以下稱為「設置空間」)的側周圍(從上下方向來看的周圍)。壁體94是由無孔狀的構件所形成。從天花板側流入設置空間內部的清浄空氣，與從後述之吐出部31吐出的浄化氣體(包含從吐出部31吐出至容器80的內部後，再從容器80排出的浄化氣體)一起在設置空間的內部朝下方流動後，會在地板部的附近排出至設置空間之外側的空間。
如圖2~圖4所示，浄化氣體供給裝置30具備：支撐部32，支撐容器80；及吐出部31，吐出淨化氣體至被支撐部32支撐的容器80的內部。吐出部31設置在支撐部32。在本實施形態中，浄化氣體供給裝置30具備複數個支撐部32，吐出部31被設置在複數個支撐部32中的各個支撐部32，並吐出浄化氣體至被支撐部32支撐的容器80的內部。在本實施形態中，浄化氣體供給裝置30配備在容器收納設備100中，且在複數個收納部92中的各個收納部92中，供給淨化氣體至被收納的容器80的內部。因此，在本實施形態中，浄化氣體供給裝置30將配備在收納部92的支撐部32作為支撐浄化氣體供給對象的容器80的支撐部來利用。若用另一種看法，浄化氣體供給裝置30所具備的支撐部32也被用於在收納部92中支撐容器80。再者，浄化氣體是例如氮氣等非活性氣體，或去除掉塵埃及濕氣的清浄乾燥空氣(clean dry air)。在本實施形態中，浄化氣體為非活性氣體。
如圖4所示，在本實施形態中，浄化氣體供給裝置30具備：主配管34，供淨化氣體從浄化氣體的供給源41被供給；流量控制裝置33(mass flow controller)，控制在主配管34的內部流動之浄化氣體的流量；及複數個分歧配管35，在比流量控制裝置33更下游側從主配管34分歧，且分別連接於對應的吐出部31。如圖3所示，在本實施形態中，吐出部31具備複數個吐出口31a，具體來說，是具備2個吐出口31a。亦即，若將形成吐出口31a的構件作為吐出口形成構件，則1個吐出部31是藉由配置在支撐部32中之彼此不同位置(在本實施形態中，為2個不同位置)的吐出口形成構件群而構成。如圖3所示，吐出口形成構件在平面視(上下方向視)的形狀是形成為圓形，且在該圓形的中心形成有吐出口31a。分歧配管35的下游側部分連接於1個吐出部31所具備的各個吐出口31a，並從各個吐出口31a吐出浄化氣體。在本實施形態中，在各個分歧配管35設置有將浄化氣體中所含的塵埃予以去除之過濾器37，並從各吐出口31a吐出藉由過濾器37去除掉塵埃後的浄化氣體。
如圖2~圖4所示，在容器80設置有供氣口(第三供氣口83)及排氣口84。此外，與後述之第一供氣口11a或第二供氣口21a作區別，將設置在容器80的供氣口作為第三供氣口83。如圖2所示，第三供氣口83形成在容器80的底面81，圖示雖省略，但排氣口84也是形成在容器80的底面81。詳細內容雖予以省略，但第三供氣口83或排氣口84是將設置在容器80的底面81之索環(grommet)在上下方向Z貫通而形成。在容器80被支撐部32支撐的狀態下，第三供氣口83會連接於設在支撐部32的吐出部31，藉此使得從吐出部31吐出的浄化氣體從第三供氣口83流入容器80的內部。在本實施形態中，容器80的底面81形成有與1個吐出部31所具備的吐出口31a相同數量(在本實施形態中是2個)的第三供氣口83。在容器80被支撐部32支撐的狀態下，各個第三供氣口83會連接於對應的吐出口31a，浄化氣體會從各個第三供氣口83流入容器80的內部。
第三供氣口83中具備有供氣用開關閥(圖未示)，排氣口84中設置有排氣用開關閥(圖未示)。供氣用開關閥及排氣用開關閥是藉由彈簧等賦與勢能體被賦與勢能而呈關閉狀態。若在吐出部31(吐出口31a)連接於第三供氣口83的狀態下從吐出部31吐出浄化氣體，則供氣用開關閥會因為其壓力而開啟，使淨化氣體從第三供氣口83供給至容器80的內部。又，若被供給浄化氣體而使容器80的內部壓力變高，則排氣用開關閥會因為其壓力而開啟，使容器80內部的氣體(空氣或濕潤空氣、已經充填的浄化氣體等)從排氣口84排出。此外，容器80被構成為具有氣密性。即，被構成為當吐出部31與第三供氣口83的連接被解除，容器80藉由容器搬送裝置90被搬送時，容器80內部的浄化氣體不容易洩漏。
供給至容器80的內部之浄化氣體的流量(在本實施形態中，為從各個第三供氣口83供給至容器80的內部之浄化氣體的流量的總和)會成為因應容器80的流入阻力的流量。此處，容器80的流入阻力是使浄化氣體從第三供氣口83朝容器80的內部流入時的阻力(壓力損失)。容器80的流入阻力是因應供氣用開關閥及排氣用開關閥各自的賦與勢能之力或容器80的氣密性的程度等而決定。
如圖4所示，在本實施形態中，主配管34是透過本管40而供淨化氣體從浄化氣體的供給源41被供給。又，在本實施形態中，浄化氣體供給裝置30是在分歧配管35從主配管34分歧的部分具備有中繼配管36。在中繼配管36中，連接有複數個分歧配管35中的各個分歧配管35的上游側端部，並且連接有主配管34的下游側端部。此處，將從同一主配管34分歧的分歧配管35所連接的一群吐出部31設為「吐出部群」，將設有該一群吐出部31的一群支撐部32設為「支撐部群」，將設有該一群支撐部32的一群收納部92設為「收納部群」。在本實施形態中，屬於相同收納部群的複數個收納部92是配置在相同列的複數個收納部92(在上下方向Z來看呈重疊的複數個收納部92)。如圖1所示，中繼配管36被配置成遍布於屬於相同收納部群的複數個收納部92之配置區域的全域且在上下方向Z延伸。
流量控制裝置33設在主配管34的中途，具備：流入埠，連接於主配管34中的比流量控制裝置33更上游側的部分；及吐出埠，連接於主配管34中的比流量控制裝置33更下游側的部分。此外，流量控制裝置33具備：內部流路，連接流入埠及吐出埠；流量調節閥，調節朝向吐出埠側在內部流路流動之氣體的流量；流量感測器，量測在內部流路流動之氣體的流量；及內部控制部，控制流量調節閥的動作。流量控制裝置33(內部控制部)因應從控制浄化氣體供給裝置30的動作之控制裝置(圖未示)輸出的流量指令而控制流量調節閥的動作，藉此配合該流量指令而控制在主配管34的內部流動之浄化氣體的流量(每單位時間的流量)。像這樣，在本實施形態中，流量控制裝置33並非設在分歧配管35中，而是設在主配管34中。因此，在主配管34中的比流量控制裝置33更下游側的部分之浄化氣體的流量比零還大的狀態下，不僅從有連接於容器80的第三供氣口83之吐出部31，也會從沒有連接於容器80的第三供氣口83之吐出部31吐出浄化氣體。亦即，會從該主配管34的下游側之構成吐出部群的全部吐出部31吐出浄化氣體。
接著，針對使用在浄化氣體供給裝置30的檢查上的流量測定裝置10、及使用在浄化氣體供給裝置30的檢查上的流量測定系統進行說明。流量測定裝置10配備在流量測定系統中。流量測定裝置10是一種在被支撐部32支撐的狀態下，測定從吐出部31吐出之浄化氣體的流量(每單位時間的流量)的裝置。在本實施形態中，流量測定裝置10或後述之阻力賦予裝置20是藉由支撐部32從下側被支撐。如以下所述，藉由使用流量測定裝置10的測定，可以推測出從吐出部31供給至被支撐部32支撐之容器80的內部之浄化氣體的流量。如圖5及圖6所示，流量測定裝置10具備：第一供氣部11，在流量測定裝置10被支撐部32支撐的狀態下，連接於吐出部31；第一配管12，連接於第一供氣部11；流量計15，量測在第一配管12的內部流動之氣體的流量(每單位時間的流量)；第一阻力體13，對第一配管12的內部中之氣體的流動賦予阻力；及第一本體部14。在流量測定裝置10被支撐部32支撐的狀態下，從吐出部31吐出的氣體會在第一配管12的內部流動，此時在第一配管12的內部朝向下游側流動之氣體的流量是藉由流量計15而被量測。在本實施形態中，第一阻力體13是沿著第一配管12的延伸方向，配置在比流量計15更下游側(與第一供氣部11的連接部之相反側)。換言之，流量計15是沿著第一配管12的延伸方向，配置在比第一阻力體13更上游側(與第一供氣部11的連接部側)。在本實施形態中，第一供氣部11相當於「供氣部」，第一配管12相當於「配管」，第一阻力體13相當於「阻力體」，第一本體部14相當於「本體部」。
第一本體部14具有被支撐部32支撐的第一被支撐部14a，是支撐第一供氣部11、第一配管12、流量計15、及第一阻力体13的構件。第一供氣部11、第一配管12、流量計15、及第一阻力體13各自直接地或間接地被第一本體部14支撐。在本實施形態中，第一本體部14為平板狀的構件，在第一本體部14的底面之第一底面14b形成有第一被支撐部14a。第一被支撐部14a是在第一底面14b中，形成為朝向上方凹陷的形狀。第一被支撐部14a與設在支撐部32的突出部93形成相同數量，在本實施形態中，有3個第一被支撐部14a形成在第一底面14b。第一本體部14是在已藉由設在支撐部32的突出部93與第一支撐部14a的卡合而對支撐部32定位的狀態下，被支撐部32支撐。形成為凹狀之第一支撐部14a的內面成為傾斜面，將流量測定裝置10載放在支撐部32時，即使流量測定裝置10(第一本體部14)的位置從相對於支撐部32之適當位置朝水平方向偏移時，藉著突出部93被第一支撐部14a的內面導引，就會使得流量測定裝置10的相對於支撐部32之水平方向的位置被修正至適當位置。在流量測定裝置10被支撐部32支撐的狀態下，只有在第一被支撐部14a與突出部93的接觸部、及第一供氣部11與吐出部31的接觸部中，流量測定裝置10與支撐部32會接觸。亦即，支撐第一供氣部11、第一配管12、流量計15、及第一阻力體13的第一本體部14是只藉由突出部93及吐出部31(主要是突出部93)而從下側被支撐。在本實施形態中，第一被支撐部14a相當於「被支撐部」。
如圖5所示，第一供氣部11具備有第一供氣口11a，該第一供氣口11a是連接於吐出部31的吐出口31a的供氣口。第一供氣口11a是將配備在第一供氣部11的索環在上下方向Z貫通而形成。如同上述，在本實施形態中，吐出部31具備複數個吐出口31a，與此相對應，第一供氣部11具備複數個第一供氣口11a，該等第一供氣口11a分別連接於複數個吐出口31a當中對應的吐出口。具體來說，第一供氣部11具備2個第一供氣口11a。亦即，若將形成第一供氣口11a的構件(在本實施形態中，為上述的索環)作為供氣口形成構件，則第一供氣部11是藉由配置在第一本體部14中之彼此不同位置(在本實施形態中，為2個不同位置)的供氣口形成構件群而構成。在本實施形態中，第一供氣口11a相當於「供氣口」。
如同上述，在本實施形態中，第一供氣部11具備複數個第一供氣口11a，與此相對應，第一配管12具備複數個第一配管部12a，該等第一配管部12a分別連接於複數個第一供氣口11a當中對應的供氣口。具體來說，第一配管12具備2個第一配管部12a。又，在本實施形態中，第一配管12具備第二配管部12b，該第二配管部12b連接於複數個第一配管部12a(在本實施形態中是2個第一配管部12a，以下相同)中的各個第一配管部12a中之與第一供氣口11a為相反側的端部，且供在該複數個第一配管部12a中的各個第一配管部12a流動之氣體所合流後的氣體流動。在本實施形態中，流量計15設在複數個第一配管部12a中的各個第一配管部12a。亦即，各個流量計15設在量測對象之第一配管部12a的中途，會量測在該第一配管部12a的內部流動之氣體的流量。複數個第一配管部12a被形成為從與第一供氣口11a的連接部到與第二配管部12b的連接部為止的長度都彼此相等。如圖5及圖6所示，在本實施形態中，流量測定裝置10具備：顯示器16，顯示流量計15的量測結果；及端子台17，固定有已連接於流量計15或顯示器16的電纜(電源電纜或通訊電纜等)。這些顯示器16或端子台17也是被第一本體部14支撐。圖示雖予以省略，但對流量計15或顯示器16供給動作電力之電池等電源也是被第一本體部14支撐。
第一阻力體13被構成為賦予的阻力(對第一配管12的內部中之氣體的流動賦予的阻力)的大小是可變的。如同上述，在本實施形態中，第一配管12具備複數個第一配管部12a，第一阻力體13被設置成對複數個第一配管部12a中的各個第一配管部12a中之氣體的流動賦予阻力。在本實施形態中，第一阻力體13設置在第二配管部12b。藉此，藉由第一阻力體13的調整，即可調整複數個第一配管部12a中的各個第一配管部12a的阻力(針對在內部流動之氣體的阻力)。如同上述，在本實施形態中，由於複數個第一配管部12a被形成為長度彼此相等，因此複數個第一配管部12a中的各個第一配管部12a的阻力會彼此相同或成為相同程度的大小。此外，在本實施形態中，第一阻力體13是可調節朝下游側之氣體的流量的速度控制閥(speed controller)，被構成為可藉由把手等的操作來調節阻力的大小。在第一配管12(第二配管部12b)中的第一阻力體13之配設部位中，朝下游側之氣體的流量被限制在規定值(調節值)以下，藉此在第一配管12中的比第一阻力體13之配設部位更上游側的部分中，會對在內部流動之氣體的流動賦予阻力。
使如同上述之構成的流量測定裝置10支撐於支撐部32，藉此可使從吐出部31吐出的浄化氣體從第一供氣部11流入第一配管12。 在本實施形態中，從各個吐出口31a吐出的浄化氣體會從連接有各吐出口31a的第一供氣口11a流入第一配管部12a。在本實施形態中，為了使得在流量測定裝置10被支撐部32支撐的狀態下之吐出部31(吐出口形成構件)與第一供氣部11(形成第一供氣口11a的索環)的接合強度，與在容器80被支撐部32支撐的狀態下之吐出部31(吐出口形成構件)與第三供氣口83(形成第三供氣口83的索環)的接合強度成為相同程度，流量測定裝置10的總重量是以容器80的重量為基準而設定。在本實施形態中，容器80為收容倍縮光罩的倍縮光罩盒，因此流量測定裝置10的總重量被設定為例如，與收容1片倍縮光罩的狀態之容器80的總重量相同。
在使流量測定裝置10支撐於支撐部32的狀態下，藉由流量計15所量測的流量會成為因應流量測定裝置10的流入阻力的流量。此處，流量測定裝置10的流入阻力是使浄化氣體從第一供氣部11流入第一配管12時的阻力(壓力損失)。在本實施形態中，在流量測定裝置10的第一供氣部11(第一供氣口11a)中，並沒有設置相當於設在容器80的第三供氣口83之供氣用開關閥的閥。因此，流量測定裝置10的流入阻力主要是因應第一阻力體13對第一配管12的內部中之氣體的流動賦予的阻力的大小而決定。在具有與流量測定裝置10的流入阻力相同程度大小的流入阻力之容器80被支撐部32支撐時，流量計15所量測的流量(在本實施形態中，為各個流量計15所量測的流量之總和)會成為接近從吐出部31供給至該容器80的內部之浄化氣體的流量的值。因此，依據流量計15所量測的流量，可以高精度地推測出供給至具有與流量測定裝置10的流入阻力相同程度大小的流入阻力之容器80的內部之浄化氣體的流量。
此外，容器80之流入阻力的大小有時會由於容器80的種類(型式)或製造廠商而不同，即使是相同種類的容器80，有時也會由於個體差異或長期變化等而不同。例如，在上述之供氣用開關閥或排氣用開關閥的賦與勢能之力上產生差異，或在容器80的氣密性上產生差異，導致容器80之流入阻力的大小有時會因容器不同而有偏差。關於此點，由於流量測定裝置10具備對第一配管12的內部中之氣體的流動賦予的阻力的大小是可變的第一阻力體13，藉由調整第一阻力體13賦予的阻力的大小，可以調整流量測定裝置10的流入阻力。藉此，即使流入阻力因容器80不同而有偏差時，配合作為浄化氣體流量推測對象而選擇的容器80的流入阻力，來調整流量測定裝置10的流入阻力的大小，藉此可使流量計15所量測的流量成為接近從吐出部31供給至該選擇的容器80的內部之浄化氣體的流量的值。亦即，即使流入阻力因容器80不同而有偏差時，也可以藉由使用1個流量測定裝置10的測定，來針對流入阻力彼此不同的複數個容器80中的各個容器80，高精度地推測出供給至容器80的內部之浄化氣體的流量。再者，由於支撐容器80的支撐部32而導致從吐出部31供給至容器80的內部之浄化氣體的流量有很大差異時，一邊變更支撐容器80的支撐部32一邊用流量計15重複進行量測，就可以取得供給至容器80的內部之浄化氣體的流量變動範圍(因支撐的支撐部32不同而造成的變動範圍)的資訊。
如同上述，在本實施形態中，流量控制裝置33並非設在分歧配管35中，而是設在主配管34中。並且，如圖4所示，由於各分歧配管35是透過中繼配管36彼此連通，因此從吐出部31吐出之浄化氣體的流量會受到從屬於相同吐出部群之其他吐出部31吐出之浄化氣體的流量的影響。雖然也可以考慮在各個分歧配管35設置孔口來極力排除該影響，但是即使這樣，要完全排除該影響也是很困難的。因此，供給至被支撐部32支撐之容器80的內部之浄化氣體的流量，不只因應該容器80的流入阻力的大小，也可因應容器80是否有被屬於相同支撐部群之其他支撐部32支撐，或因應被屬於相同支撐部群之其他支撐部32支撐之容器80的流入阻力的大小而變化。
有鑑於此點，本實施形態之流量測定系統除了流量測定裝置10，還具備阻力賦予裝置20。在本實施形態中，流量測定系統具備複數個阻力賦予裝置20。例如，個數比構成1個吐出部群之吐出部31的個數少1個的阻力賦予裝置20被配備在流量測定系統。阻力賦予裝置20在進行浄化氣體供給裝置30的檢查時，被複數個支撐部32當中與支撐流量測定裝置10的支撐部32不同的支撐部32(屬於相同支撐部群之其他支撐部32)支撐。如圖7及圖8所示，阻力賦予裝置20具備：第二供氣部21，在阻力賦予裝置20被支撐部32支撐的狀態下，連接於吐出部31；第二配管22，連接於第二供氣部21；第二阻力體23，對第二配管22的內部中之氣體的流動賦予阻力；及第二本體部24。在阻力賦予裝置20被支撐部32支撐的狀態下，從吐出部31吐出的氣體會在第二配管22的內部流動。第二本體部24具有被支撐部32支撐的第二被支撐部24a，是支撐第二供氣部21、第二配管22、及第二阻力体23的構件。並且，第二阻力體23被構成為賦予的阻力(對第二配管22的內部中之氣體的流動賦予的阻力)的大小是可變的。
在本實施形態中，阻力賦予裝置20除了沒有具備流量計15、顯示器16、及端子台17這點以外，被構成為與流量測定裝置10相同。因此，有關阻力賦予裝置20的詳細說明雖予以省略，但第二本體部24被構成為與第一本體部14相同，在第二本體部24的底面之第二底面24b中，形成複數個對應第一被支撐部14a的第二被支撐部24a。並且，第二本體部24是在已藉由設在支撐部32的突出部93與第二被支撐部24a的卡合而對支撐部32定位的狀態下，被支撐部32支撐。第二供氣部21被構成與第一供氣部11相同，具備複數個對應第一供氣口11a的第二供氣口21a。第二配管22除了對應第一配管部12a的第三配管部22a的長度及形狀與第一配管部12a不同這點以外，被構成為與第一配管12相同。亦即，第二配管22具備複數個對應第一配管部12a的第三配管部22a，並且具備對應第二配管部12b的第四配管部22b。複數個第三配管部22a被形成為從與第二供氣口21a的連接部到與第四配管部22b的連接部為止的長度都彼此相等。第二阻力體23被構成為與第一阻力體13相同，在本實施形態中，為可調節朝下游側之氣體的流量的速度控制閥。第二阻力體23設置在對應第二配管部12b的第四配管部22b。
在本實施形態中，為了使得在阻力賦予裝置20被支撐部32支撐的狀態下之吐出部31(吐出口形成構件)與第二供氣部21(形成第二供氣口21a的索環)的接合強度，與在容器80被支撐部32支撐的狀態下之吐出部31(吐出口形成構件)與第三供氣口83(形成第三供氣口83的索環)的接合強度成為相同程度，阻力賦予裝置20的總重量是以容器80的重量為基準而設定。在本實施形態中，容器80為收容倍縮光罩的倍縮光罩盒，因此阻力賦予裝置20的總重量被設定為例如，與收容1片倍縮光罩的狀態之容器80的總重量相同。
使如同上述之構成的阻力賦予裝置20支撐於支撐部32，藉此可使從吐出部31吐出的浄化氣體從第二供氣部21流入第二配管22。在本實施形態中，從各個吐出口31a吐出的浄化氣體會從連接有各吐出口31a的第二供氣口21a流入第三配管部22a。在使阻力賦予裝置20支撐於支撐部32的狀態下，從吐出部31流入第二配管22之浄化氣體的流量會成為因應阻力賦予裝置20的流入阻力的流量。此處，阻力賦予裝置20的流入阻力是使浄化氣體從第二供氣部21朝第二配管22的內部流入時的阻力(壓力損失)。在本實施形態中，在阻力賦予裝置20的第二供氣部21(第二供氣口21a)中，並沒有設置相當於設在容器80的第三供氣口83之供氣用開關閥的閥。因此，阻力賦予裝置20的流入阻力主要是因應第二阻力體23對第二配管22的內部中之氣體的流動賦予的阻力的大小而決定。
如同上述，在本實施形態中，在流量測定系統中，除了流量測定裝置10，還具備阻力賦予裝置20，此阻力賦予裝置20與流量測定裝置10相同，被構成為可以變更流入阻力的大小。因此，例如在設想了如下狀況，即，與支撐著浄化氣體供給流量推測對象的容器80(以下稱為「第一容器」)之支撐部32(以下稱為「第一支撐部」)不同的支撐部32(屬於相同支撐部群之其他支撐部32，以下稱為「第二支撐部」)並未支撐著非浄化氣體供給流量推測對象的容器80(以下稱為「第二容器」)之狀況的檢查中，不使用阻力賦予裝置20，且使配合第一容器的流入阻力來調整過流入阻力的大小的流量測定裝置10支撐於第一支撐部，就可使藉由流量測定裝置10的流量計15所量測的流量成為接近在設想的狀況下實際供給至第一容器的內部之流量的值。又，在設想了在第二支撐部支撐著第二容器之狀況的檢查中，使配合第一容器的流入阻力來調整過流入阻力的大小的流量測定裝置10支撐於第一支撐部，並且使配合第二容器的流入阻力來調整過流入阻力的大小的阻力賦予裝置20支撐於第二支撐部，就可使藉由流量測定裝置10的流量計15所量測的流量成為接近在設想的狀況下實際供給至第一容器的內部之流量的值。再者，設想在複數個第二支撐部中的各個第二支撐部支撐著第二容器之狀況時，使配合被該第二支撐部支撐的第二容器的流入阻力來調整過流入阻力的大小的阻力賦予裝置20支撐於各個第二支撐部。
如同上述，即使供給至被支撐部32支撐之容器80的內部之浄化氣體的流量是因應容器80是否有被屬於相同支撐部群之其他支撐部32支撐，或因應被屬於相同支撐部群之其他支撐部32支撐之容器80的流入阻力的大小而變化時，依據需要使用阻力賦予裝置20，就可使藉由流量測定裝置10的流量計15所量測的流量成為接近在設想的狀況下實際供給至容器80的內部之浄化氣體的流量的值。其結果，依據流量計15所量測的流量，可以高精度地推測出在設想的狀況下供給至容器80的內部之浄化氣體的流量。此外，流量測定系統也可為具備複數個流量測定裝置10的構成。此時，使複數個流量測定裝置10支撐於屬於相同支撐部群之彼此不同的支撐部32，就可以在彼此不同的支撐部32中，同時或同時期進行從吐出部31吐出之浄化氣體的流量之測定。又，流量測定系統具備複數個流量測定裝置10時，也可以取代阻力賦予裝置20而改用一部分的流量測定裝置10。此時，該一部分的流量測定裝置10中，並不會進行流量計15的量測，只會發揮作為阻力賦予裝置20的功能。
[其他的實施形態] 針對流量測定裝置及流量測定系統的其他實施形態進行說明。再者，以下各個實施形態中揭示的構成，只要沒有產生矛盾，也可與其他實施形態所揭示的構成組合而應用。
(1)在上述實施形態中，以流量測定裝置10的第一阻力體13設在第二配管部12b的構成為例進行了說明，但是第一阻力體13設在各個第一配管部12a的構成亦可。此時，第一阻力體13可以設在比流量計15更上游側，也可以設在比流量計15更下游側。又，此時，第一配管12沒有具備第二配管部12b的構成亦可。又，在上述實施形態中，以阻力賦予裝置20的第二阻力體23設在第四配管部22b的構成為例進行了說明，但是第二阻力體23設在各個第三配管部22a的構成亦可。此時，第二配管22沒有具備第四配管部22b的構成亦可。
(2)在上述實施形態中，以流量計15設在複數個第一配管部12a中的各個第一配管部12a的構成為例進行了說明，但是流量計15設在第二配管部12b的構成亦可。此時，流量計15可以設在比第一阻力體13更上游側，也可以設在比第一阻力體13更下游側。
(3)在上述實施形態中，以第一供氣部11具備2個第一供氣口11a，且第一配管12具備分別連接於對應之第一供氣口11a的2個第一配管部12a的構成為例進行了說明。然而，並不受限於該種構成，例如，第一供氣部11具備3個以上的第一供氣口11a，且第一配管12具備分別連接於對應之第一供氣口11a的3個以上的第一配管部12a的構成亦可。又，第一供氣部11具備1個第一供氣口11a，且第一配管12具備連接於該第一供氣口11a的單一管體的構成亦可。又，在上述實施形態中，以第二供氣部21具備2個第二供氣口21a，且第二配管22具備分別連接於對應之第二供氣口21a的2個第三配管部22a的構成為例進行了說明。然而，並不受限於該種構成，例如，第二供氣部21具備3個以上的第二供氣口21a，且第二配管22具備分別連接於對應之第二供氣口21a的3個以上的第三配管部22a的構成亦可。又，第二供氣部21具備1個第二供氣口21a，且第二配管22具備連接於該第二供氣口21a的單一管體的構成亦可。
(4)在上述實施形態中，以第一阻力體13是可調節朝下游側之氣體的流量之速度控制閥的構成為例進行了說明。然而，並不受限於該種構成，將第一阻力體13構成為可對第一配管12拆卸自如，且可藉由更換第一阻力體13來變更第一阻力體13賦予的阻力大小的構成亦可。又，在上述實施形態中，以第二阻力體23是可調節朝下游側之氣體的流量之速度控制閥的構成為例進行了說明。然而，並不受限於該種構成，將第二阻力體23構成為可對第二配管22拆卸自如，且可藉由更換第二阻力體23來變更第二阻力體23賦予的阻力大小的構成亦可。
(5)在上述實施形態中，以在流量測定裝置10的第一供氣部11(第一供氣口11a)或阻力賦予裝置20的第二供氣部21(第二供氣口21a)中，沒有設置相當於設在容器80的第三供氣口83之供氣用開關閥的閥的構成為例進行了說明。然而，並不受限於該種構成，在第一供氣部11或第二供氣部21中，設置相當於設在容器80的第三供氣口83之供氣用開關閥的閥的構成亦可。此時，流量測定裝置10的流入阻力主要是因應第一阻力體13對第一配管12的內部中之氣體的流動賦予的阻力的大小、及設在第一供氣部11之閥所造成的壓力損失的大小而決定，阻力賦予裝置20的流入阻力主要是因應第二阻力體23對第二配管22的內部中之氣體的流動賦予的阻力的大小、及設在第二供氣部21之閥所造成的壓力損失的大小而決定。
(6)在上述實施形態中，以容器80為收容倍縮光罩的倍縮光罩盒之情形為例進行了說明，但容器80為收容複數片半導體晶圓的FOUP(Front Opening Unified Pod)亦可。又，容器80的收容物為工業製品、食品、醫藥品等的倍縮光罩或半導體晶圓以外的物品亦可。
(7)在上述實施形態中，以流量測定裝置及流量測定系統使用在配備於容器收納設備100之浄化氣體供給裝置30的檢查上之情形為例進行了說明，但流量測定裝置及流量測定系統使用在配備於容器收納設備以外的設備之浄化氣體供給裝置的檢查上亦可。
(8)關於其他的構成，應當可以理解成：在本說明書中揭示的實施形態在全部的要點上，只不過是單純的例示。因此，本發明所屬技術領域中具有通常知識者可在不脫離本揭示內容之主旨的範圍內，適當地進行各種改變。
[上述實施形態的概要] 以下，針對已在上述說明過的流量測定裝置及流量測定系統的概要進行說明。
流量測定裝置是使用在浄化氣體供給裝置的檢查上，前述浄化氣體供給裝置具備：支撐部，用以支撐容器；及吐出部，設在前述支撐部，且吐出淨化氣體至被前述支撐部支撐的前述容器的內部，該流量測定裝置是在被前述支撐部支撐的狀態下，測定從前述吐出部吐出之浄化氣體的流量之裝置， 前述流量測定裝置具備：供氣部，可連接於前述吐出部；配管，連接於前述供氣部，且供從前述吐出部吐出的氣體流動；流量計，量測在前述配管的內部流動之氣體的流量；阻力體，對前述配管的內部中之氣體的流動賦予阻力；及本體部，具有被前述支撐部支撐的被支撐部，且支撐前述供氣部、前述配管、前述流量計、及前述阻力體，前述阻力體賦予的阻力的大小是可變的。
使用如同上述之構成的流量測定裝置，且使流量測定裝置支撐於支撐部而使得吐出部與供氣部連接，藉此可使從吐出部吐出的浄化氣體從供氣部流入配管的內部。在此狀態下，流量計所量測的流量會成為因應流量測定裝置的流入阻力的流量，且該流量測定裝置的流入阻力即為使淨化氣體從供氣部朝配管的內部流入時的阻力。亦即，在具有與流量測定裝置的流入阻力相同程度大小的流入阻力之容器被支撐部支撐時，流量計所量測的流量會成為接近供給至該容器的內部之浄化氣體的流量的值。其結果，依據流量計所量測的流量，可以高精度地推測出供給至具有與流量測定裝置的流入阻力相同程度大小的流入阻力之容器的內部之浄化氣體的流量。 並且，依據上述構成，由於阻力體賦予的阻力的大小是可變的，因此藉由變更阻力體賦予的阻力的大小，可以變更流量測定裝置的流入阻力的大小。因此，不僅是針對具有某特定大小的流入阻力的容器，可針對具有包含在流量測定裝置的流入阻力變更範圍內之大小的流入阻力的複數個容器，如同上述地進行高精度地推測出供給至容器的內部之浄化氣體的流量一事。亦即，即使每個容器的流入阻力有偏差時，也可以藉由使用1個流量測定裝置的測定，來針對流入阻力彼此不同的複數個容器中的各個容器，高精度地推測出供給至容器的內部之浄化氣體的流量。 如同上述，依據上述構成，可以實現一種流量測定裝置，即使每個容器的流入阻力有偏差時，也可以針對流入阻力彼此不同的複數個容器中的各個容器，高精度地推測出供給至容器的內部之浄化氣體的流量。
此處，較為理想的是：前述吐出部具備複數個吐出口，前述供氣部具備複數個供氣口，該等供氣口分別連接於前述複數個吐出口當中對應的前述吐出口，前述配管具備複數個第一配管部，該等第一配管部分別連接於前述複數個供氣口當中對應的前述供氣口，前述阻力體被設置成對前述複數個第一配管部中的各個第一配管部中之氣體的流動賦予阻力，前述流量計被設置在前述複數個第一配管部的各個第一配管部。
依據此種構成，藉由使用流量測定裝置的檢查，可以得到每個吐出口之浄化氣體的吐出量之數據，因此加上供給至容器的內部之浄化氣體的流量之推測，也可以掌握在複數個吐出口間之浄化氣體的吐出量有無偏差或其程度。因此，藉著使用流量測定裝置進行浄化氣體供給裝置的檢查，可以針對浄化氣體供給裝置的狀態，得到更多的資訊。
又，較為理想的是：前述吐出部具備複數個吐出口，前述供氣部具備複數個供氣口，該等供氣口分別連接於前述複數個吐出口當中對應的前述吐出口，前述配管具備複數個第一配管部、及第二配管部，該等第一配管部分別連接於前述複數個供氣口當中對應的前述供氣口，該第二配管部連接於前述複數個第一配管部中的各個第一配管部中之與前述供氣口為相反側的端部，且供在前述複數個第一配管部中的各個第一配管部流動之氣體所合流後的氣體流動，前述阻力體被設置在前述第二配管部。
依據此種構成，藉由設在第二配管部的阻力體的調整，可以調整複數個第一配管部中的各個第一配管部的阻力(針對在內部流動之氣體的阻力)。因此，與在各個第一配管部中設置阻力體的情形相比較，可以謀求流量測定裝置之流入阻力的調整作業之簡略化。又，與在各個第一配管部中設置阻力體的情形相比較，也有容易將複數個第一配管部之間的針對在內部流動之氣體的阻力大小的偏差抑制到較小的優點。
流量測定系統是使用在浄化氣體供給裝置的檢查上之系統，前述浄化氣體供給裝置具備：複數個支撐部，用以支撐容器；吐出部，設置在前述複數個支撐部中的各個支撐部，且吐出淨化氣體至被前述支撐部支撐的前述容器的內部；主配管，供淨化氣體從浄化氣體的供給源被供給；流量控制裝置，控制在前述主配管的內部流動之浄化氣體的流量；及複數個分歧配管，在比前述流量控制裝置更下游側從前述主配管分歧，且分別連接於對應的前述吐出部， 前述流量測定系統具備：前述流量測定裝置；及阻力賦予裝置，被前述複數個支撐部當中，與支撐前述流量測定裝置之前述支撐部不同的前述支撐部支撐，又，前述供氣部作為第一供氣部，前述配管作為第一配管，前述阻力器作為第一阻力體，前述本體部作為第一本體部，前述被支撐部作為第一被支撐部，前述阻力賦予裝置具備：第二供氣部，可連接於前述吐出部；第二配管，連接於前述第二供氣部，且供從前述吐出部吐出的氣體流動；第二阻力體，對前述第二配管的內部中之氣體的流動賦予阻力；及第二本體部，具有被前述支撐部支撐的第二被支撐部，且支撐前述第二供氣部、前述第二配管、及前述第二阻力體，前述第二阻力體賦予的阻力的大小是可變的。
在如同上述之構成的浄化氣體供給裝置中，與在複數個分歧配管中的各個分歧配管中設置流量控制裝置的情形相比較，從吐出部吐出之浄化氣體的流量變得容易受到從其他吐出部吐出之浄化氣體的流量的影響。其結果，供給至被支撐部支撐之容器的內部之浄化氣體的流量，不只因應該容器的流入阻力的大小，也可因應容器是否有被其他支撐部支撐，或因應被其他支撐部支撐之容器的流入阻力的大小而變化。 依據上述構成，在流量測定系統中，除了流量測定裝置，還具備阻力賦予裝置。並且，此阻力賦予裝置與流量測定裝置相同，被構成為可以變更流入阻力(使浄化氣體從第二供氣部朝第二配管的內部流入時的阻力)的大小。因此，在設想了如下狀況，即，與支撐著浄化氣體供給流量推測對象的容器(以下稱為「第一容器」)之支撐部(以下稱為「第一支撐部」)不同的支撐部(以下稱為「第二支撐部」)並未支撐著非浄化氣體供給流量推測對象的容器(以下稱為「第二容器」)之狀況的檢查中，不使用阻力賦予裝置，且使配合第一容器的流入阻力來調整過流入阻力的大小的流量測定裝置支撐於第一支撐部，就可使藉由流量測定裝置的流量計所量測的流量成為接近在設想的狀況下實際供給至第一容器的內部之流量的值。又，在設想了在第二支撐部支撐著第二容器之狀況的檢查中，使配合第一容器的流入阻力來調整過流入阻力的大小的流量測定裝置支撐於第一支撐部，並且使配合第二容器的流入阻力來調整過流入阻力的大小的阻力賦予裝置支撐於第二支撐部，就可使藉由流量測定裝置的流量計所量測的流量成為接近在設想的狀況下實際供給至第一容器的內部之流量的值。因此，即使供給至被支撐部支撐之容器的內部之浄化氣體的流量是因應容器是否有被其他支撐部支撐，或因應被其他支撐部支撐之容器的流入阻力的大小而變化時，依據需要使用阻力賦予裝置，就可使藉由流量測定裝置的流量計所量測的流量成為接近在設想的狀況下實際供給至容器的內部之浄化氣體的流量的值。其結果，依據流量計所量測的流量，可以高精度地推測出在設想的狀況下供給至容器的內部之浄化氣體的流量。
10‧‧‧流量測定裝置11‧‧‧第一供氣部(供氣部)11a‧‧‧第一供氣口(供氣口)12‧‧‧第一配管(配管)12a‧‧‧第一配管部12b‧‧‧第二配管部13‧‧‧第一阻力體(阻力體)14‧‧‧第一本體部(本體部)14a‧‧‧第一被支撐部(被支撐部)14b‧‧‧第一底面15‧‧‧流量計16‧‧‧顯示器17‧‧‧端子台20‧‧‧阻力賦予裝置21‧‧‧第二供氣部21a‧‧‧第二供氣口22‧‧‧第二配管22a‧‧‧第三配管部22b‧‧‧第四配管部23‧‧‧第二阻力體24‧‧‧第二本體部24a‧‧‧第二被支撐部24b‧‧‧第二底面30‧‧‧浄化氣體供給裝置31‧‧‧吐出部31a‧‧‧吐出口32‧‧‧支撐部33‧‧‧流量控制裝置34‧‧‧主配管35‧‧‧分歧配管36‧‧‧中繼配管37‧‧‧過濾器40‧‧‧本管41‧‧‧供給源80‧‧‧容器81‧‧‧底面82‧‧‧凹部83‧‧‧第三供氣口84‧‧‧排氣口90‧‧‧容器搬送裝置91‧‧‧收納架92‧‧‧收納部93‧‧‧突出部94‧‧‧壁體100‧‧‧容器收納設備X‧‧‧第一水平方向Y‧‧‧第二水平方向Z‧‧‧上下方向
圖1是容器收納設備的縱剖側面圖。 圖2是收納部的側面圖。 圖3是收納部的平面圖。 圖4是淨化氣體供給裝置的示意圖。 圖5是流量測定裝置的側面圖。 圖6是流量測定裝置的平面圖。 圖7是阻力賦予裝置的側面圖。 圖8是阻力賦予裝置的平面圖。
10‧‧‧流量測定裝置
11‧‧‧第一供氣部(供氣部)
11a‧‧‧第一供氣口(供氣口)
12‧‧‧第一配管(配管)
12a‧‧‧第一配管部
12b‧‧‧第二配管部
13‧‧‧第一阻力體(阻力體)
14‧‧‧第一本體部(本體部)
14a‧‧‧第一被支撐部(被支撐部)
14b‧‧‧第一底面
15‧‧‧流量計
17‧‧‧端子台
31‧‧‧吐出部
31a‧‧‧吐出口
32‧‧‧支撐部
35‧‧‧分歧配管
36‧‧‧中繼配管
37‧‧‧過濾器
92‧‧‧收納部
93‧‧‧突出部
X‧‧‧第一水平方向
Z‧‧‧上下方向

Claims (4)

  1. 一種流量測定裝置，是使用在浄化氣體供給裝置的檢查上，前述浄化氣體供給裝置具備：支撐部，用以支撐容器；及吐出部，設在前述支撐部，且吐出淨化氣體至被前述支撐部支撐的前述容器的內部，前述流量測定裝置是在被前述支撐部支撐的狀態下，測定從前述吐出部吐出之浄化氣體的流量，其特徵在於具備： 供氣部，可連接於前述吐出部； 配管，連接於前述供氣部，且供從前述吐出部吐出的氣體流動； 流量計，量測在前述配管的內部流動之氣體的流量； 阻力體，對前述配管的內部中之氣體的流動賦予阻力；及 本體部，具有被前述支撐部支撐的被支撐部，且支撐前述供氣部、前述配管、前述流量計、及前述阻力體， 前述阻力體賦予的阻力的大小是可變的。
  2. 如請求項1之流量測定裝置，其中 前述吐出部具備複數個吐出口， 前述供氣部具備複數個供氣口，該等供氣口分別連接於前述複數個吐出口當中對應的前述吐出口， 前述配管具備複數個第一配管部，該等第一配管部分別連接於前述複數個供氣口當中對應的前述供氣口， 前述阻力體被設置成對前述複數個第一配管部中的各個第一配管部中之氣體的流動賦予阻力， 前述流量計被設置在前述複數個第一配管部中的各個第一配管部。
  3. 如請求項1或2之流量測定裝置，其中 前述吐出部具備複數個吐出口， 前述供氣部具備複數個供氣口，該等供氣口分別連接於前述複數個吐出口當中對應的前述吐出口， 前述配管具備複數個第一配管部、及第二配管部，該等第一配管部分別連接於前述複數個供氣口當中對應的前述供氣口，該第二配管部連接於前述複數個第一配管部中的各個第一配管部中之與前述供氣口為相反側的端部，且供在前述複數個第一配管部中的各個第一配管部流動之氣體所合流後的氣體流動， 前述阻力體被設置在前述第二配管部。
  4. 一種流量測定系統，是使用在淨化氣體供給裝置的檢查上，前述淨化氣體供給裝置具備：複數個支撐部，用以支撐容器；吐出部，設置在前述複數個支撐部中的各個支撐部，且吐出淨化氣體至被前述支撐部支撐的前述容器的內部；主配管，供淨化氣體從浄化氣體的供給源被供給；流量控制裝置，控制在前述主配管的內部流動之浄化氣體的流量；及複數個分歧配管，在比前述流量控制裝置更下游側從前述主配管分歧，且分別連接於對應的前述吐出部， 前述流量測定系統具備： 如請求項1或2之流量測定裝置；及 阻力賦予裝置，被前述複數個支撐部當中，與支撐前述流量測定裝置之前述支撐部不同的前述支撐部支撐， 在此，將前述供氣部作為第一供氣部，將前述配管作為第一配管，將前述阻力體作為第一阻力體，將前述本體部作為第一本體部，並將前述被支撐部作為第一被支撐部， 前述阻力賦予裝置具備： 第二供氣部，可連接於前述吐出部； 第二配管，連接於前述第二供氣部，且供從前述吐出部吐出的氣體流動； 第二阻力體，對前述第二配管的內部中之氣體的流動賦予阻力；及 第二本體部，具有被前述支撐部支撐的第二被支撐部，且支撐前述第二供氣部、前述第二配管、及前述第二阻力體， 前述第二阻力體賦予的阻力的大小是可變的。
TW106130777A 2016-09-09 2017-09-08 流量測定裝置及流量測定系統 TWI715802B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016176978A JP6579067B2 (ja) 2016-09-09 2016-09-09 流量測定装置及び流量測定システム
JP2016-176978 2016-09-09

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201816922A TW201816922A (zh) 2018-05-01
TWI715802B true TWI715802B (zh) 2021-01-11

Family

ID=61559823

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW106130777A TWI715802B (zh) 2016-09-09 2017-09-08 流量測定裝置及流量測定系統

Country Status (5)

Country Link
US (1) US10006894B2 (zh)
JP (1) JP6579067B2 (zh)
KR (1) KR102489603B1 (zh)
CN (1) CN107806915B (zh)
TW (1) TWI715802B (zh)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6414525B2 (ja) * 2015-09-02 2018-10-31 株式会社ダイフク 保管設備
JP6794898B2 (ja) * 2017-03-29 2020-12-02 株式会社ダイフク 収納棚
WO2020065968A1 (ja) * 2018-09-28 2020-04-02 ミライアル株式会社 基板収納容器
WO2022074937A1 (ja) * 2020-10-05 2022-04-14 村田機械株式会社 流量測定装置
KR20220135290A (ko) * 2021-03-29 2022-10-07 삼성전자주식회사 측정용 캐리어 및 이를 포함하는 웨이퍼 이송 시스템

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040191032A1 (en) * 2002-07-19 2004-09-30 R. Foulke Development Company, Llc Bi-directional arm and storage system
US20150369643A1 (en) * 2013-03-05 2015-12-24 Murata Machinery, Ltd. Measurement device and purge gas flow rate measuring method

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06103211B2 (ja) * 1987-05-19 1994-12-14 日産自動車株式会社 機関の空気量検出装置
CN2081082U (zh) * 1990-11-13 1991-07-17 孙文臣 一种制冷剂毛细管流量检测仪
JP3778359B2 (ja) * 2002-07-02 2006-05-24 株式会社コスモ計器 流量抵抗設定ノズル
JP4670808B2 (ja) * 2006-12-22 2011-04-13 ムラテックオートメーション株式会社 コンテナの搬送システム及び測定用コンテナ
CN202141692U (zh) * 2011-04-21 2012-02-08 西北工业大学 一种湿蒸汽管网的干度流量测量系统
JP5714449B2 (ja) * 2011-08-25 2015-05-07 東京エレクトロン株式会社 液処理装置、液処理方法および記憶媒体
CN102445299A (zh) * 2011-08-30 2012-05-09 中国石油化工股份有限公司 一种加油站油气回收系统的密闭液阻综合测试仪
US9257320B2 (en) * 2013-06-05 2016-02-09 GlobalFoundries, Inc. Wafer carrier purge apparatuses, automated mechanical handling systems including the same, and methods of handling a wafer carrier during integrated circuit fabrication
JP5888288B2 (ja) * 2013-06-26 2016-03-16 株式会社ダイフク 物品保管設備の検査装置
CN105917458B (zh) * 2014-04-28 2019-04-23 村田机械株式会社 净化装置以及净化方法
JP6409579B2 (ja) * 2015-01-08 2018-10-24 村田機械株式会社 パージストッカ、及びパージストッカの稼働方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040191032A1 (en) * 2002-07-19 2004-09-30 R. Foulke Development Company, Llc Bi-directional arm and storage system
US20150369643A1 (en) * 2013-03-05 2015-12-24 Murata Machinery, Ltd. Measurement device and purge gas flow rate measuring method

Also Published As

Publication number Publication date
CN107806915B (zh) 2021-01-26
CN107806915A (zh) 2018-03-16
US20180074031A1 (en) 2018-03-15
KR102489603B1 (ko) 2023-01-16
TW201816922A (zh) 2018-05-01
US10006894B2 (en) 2018-06-26
KR20180028929A (ko) 2018-03-19
JP6579067B2 (ja) 2019-09-25
JP2018041925A (ja) 2018-03-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI715802B (zh) 流量測定裝置及流量測定系統
TWI570042B (zh) With the purification function of the storage device and storage unit
JP5984030B2 (ja) 測定ユニット及びパージガスの流量測定方法
US10354897B2 (en) Container storage facility
JP6614174B2 (ja) 流量測定システム
TW201416142A (zh) 可沖洗晶圓之天花板保管裝置
US10361109B2 (en) Storage facility
TW201630103A (zh) 淨化裝置、淨化貯藏庫、及淨化異常檢測方法
JP2016218603A (ja) 流量制御装置、パージ装置、及びパージストッカ
JP7231106B2 (ja) 保管棚
KR102252038B1 (ko) 유체 분사량 산출 장치 및 이를 구비하는 스토커 시스템
WO2023067947A1 (ja) パージシステム
KR101708806B1 (ko) 풉 퍼징 모듈용 유량계