CN107783384B - 电子照相感光体、图像形成装置及处理盒 - Google Patents
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Abstract
Description
技术领域
本发明涉及电子照相感光体、图像形成装置及处理盒。
背景技术
电子照相感光体用在电子照相方式的图像形成装置中。电子照相感光体例如有层叠型电子照相感光体和单层型电子照相感光体。电子照相感光体具备感光层。层叠型电子照相感光体具备:具有电荷产生功能的电荷产生层,及具有电荷传输功能的电荷输送层,来作为感光层。单层型电子照相感光体具备具有电荷产生和电荷传输功能的单层型感光层,来作为感光层
专利文献1记载的电子照相感光所体具备的感光层例如含有下述化学式(HTM-D)所表示的化合物。
【化1】
〔专利文献〕
专利文献1:日本特开2013-50506号公报
发明内容
然而,专利文献1所记载的电子照相感光体中,耐成膜性不充分,并且不能充分抑制转印记忆的产生。
本发明鉴于上述技术问题,目的在于提供一种电子照相感光体,耐成膜性优异,并抑制转印记忆的发生。此外,本发明的另一目的在于提供一种抑制图像不良发生的图像形成装置及处理盒。
本发明的电子照相感光体具备导电性基体和感光层。所述感光层包含:电荷产生剂、烯胺衍生物、电子输送剂或电子受体化合物、粘结树脂及填料颗粒。所述烯胺衍生物由通式(1)表示。所述填料颗粒是二氧化硅颗粒或树脂颗粒。
【化2】
所述通式(1)中,R1、R2、R3、R4及R5各自独立,表示任意取代的碳原子数1以上6以下的烷基、任意取代的碳原子数1以上6以下的烷氧基、可以具有1个或若干个取代基的碳原子数6以上14以下的芳基、任意取代的碳原子数6以上14以下的芳氧基、任意取代的碳原子数7以上20以下的芳烷基、卤素原子或氢原子。n表示0以上4以下的整数。另外,本说明书中的任意取代是指取代基的数量为0,或者1以上。
本发明的图像形成装置具备:像承载体、带电部、曝光部、显影部及转印部。所述像承载体是上述的电子照相感光体。所述带电部使所述像承载体的表面带电。所述带电部的带电极性为正极性。所述曝光部使带电了的所述像承载体的所述表面曝光,来在所述像承载体的所述表面形成静电潜像。所述显影部使用显影剂将所述静电潜显影为调色剂像。在所述像承载体的所述表面与所述记录媒介接触的同时,所述转印部将所述调色剂像从所述像承载体转印到记录媒介。
本发明的处理盒具备上述的电子照相感光体。
〔发明效果〕
根据本发明的电子照相感光体,不仅耐成膜性优异,而且能够抑制转印记忆的发生。此外,根据本发明的图像形成装置及处理盒,能够抑制图像不良的发生。
附图说明
图1(a)、(b)及(c)分别是示出本发明的第一实施方式所涉及的电子照相感光体的一例的示意性剖视图。
图2(a)、(b)及(c)分别是示出本发明的第一实施方式所涉及的电子照相感光体的其他例子的示意性剖视图。
图3是示出本发明的第二实施方式所涉及的图像形成装置的一例的图。
图4是示出图像发生了图像重像的图。
图5是示出评价用图像的图。
具体实施方式
以下,对本发明的实施方式进行详细说明。本发明不受以下实施方式的任何限定。在本发明的目的范围内,可以对本发明进行适当变更后来实施。另外,对于重复说明的地方,存在适当省略的情况,但并不因此限定发明的要旨。
以下,有时在化合物名称之后加上“类”来统称该化合物及其衍生物。此外,在化合物名称之后加上“类”来表示聚合物名称的情况下,表示聚合物的重复单元源自该化合物或者其衍生物。
以下,如果没有特别规定,卤素原子、碳原子数1以上6以下的烷基、碳原子数1以上5以下的烷基、碳原子数1以上4以下的烷基、碳原子数1以上3以下的烷基、碳原子数2以上6以下的链烯基、碳原子数1以上6以下的烷氧基、碳原子数1以上3以下的烷氧基、碳原子数6以上14以下的芳基、碳原子数7以上20以下的芳烷基、碳原子数7以上10以下的芳烷基、碳原子数7以上20以下的芳烷氧基、碳原子数7以上10以下的芳烷氧基、碳原子数6以上14以下的芳氧基、碳原子数3以上14以下的杂环基、碳原子数3以上10以下的环烷基、碳原子数5以上7以下的亚环烷基(cycloalkyliden)及氨基分别表示如下含义。
卤素原子例如有:氟原子、氯原子、溴原子或碘原子。
碳原子数1以上6以下的烷基是直链状或者支链状的,且是无取代的。碳原子数1以上6以下的烷基例如是:甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、异戊基、新戊基或己基。碳原子数1以上6以下的烷基可以具有1个或若干个取代基。这样的取代基例如有:卤素原子、羟基、碳原子数1以上6以下的烷氧基、碳原子数6以上14以下的芳基或氰基。
碳原子数1以上5以下的烷基是直链状或者支链状的,且是无取代的。碳原子数1以上5以下的烷基例如有:甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、异戊基或新戊基。碳原子数1以上5以下的烷基可以具有1个或若干个取代基。这样的取代基例如有:卤素原子、羟基、碳原子数1以上6以下的烷氧基、碳原子数6以上14以下的芳基或氰基。
碳原子数1以上4以下的烷基是直链状或者支链状的,且是无取代的。碳原子数1以上4以下的烷基例如有:甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基或叔丁基。碳原子数1以上4以下的烷基可以具有1个或若干个取代基。这样的取代基例如有:卤素原子、羟基、碳原子数1以上6以下的烷氧基、碳原子数6以上14以下的芳基或氰基。
碳原子数1以上3以下的烷基是直链状或者支链状的,且是无取代的。碳原子数1以上3以下的烷基例如有:甲基、乙基、正丙基或异丙基。碳原子数1以上3以下的烷基可以具有1个或若干个取代基。这样的取代基例如有:卤素原子、羟基、碳原子数1以上6以下的烷氧基、碳原子数6以上14以下的芳基或氰基。
碳原子数2以上6以下的链烯基是直链状或支链状的,且是无取代的。碳原子数2以上6以下的链烯基例如有:乙烯基、丙烯基、丁烯基、戊烯基或己烯基。碳原子数2以上6以下的链烯基可以具有1个或若干个取代基。这样的取代基例如有:碳原子数1以上6以下的烷基、碳原子数1以上6以下的烷氧基、碳原子数6以上14以下的芳基或氰基。
碳原子数1以上6以下的烷氧基是直链状或者支链状的,且是无取代的。碳原子数1以上6以下的烷氧基例如有:甲氧基、乙氧基、正丙氧基、异丙氧基、正丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、戊氧基、异戊氧基、新戊氧基或己氧基。碳原子数1以上6以下的烷氧基可以具有1个或若干个取代基。这样的取代基例如有:卤素原子、羟基、碳原子数1以上6以下的烷氧基、碳原子数6以上14以下的芳基或氰基。
碳原子数1以上3以下的烷氧基是直链状或者支链状的,且是无取代的。碳原子数1以上3以下的烷氧基例如有:甲氧基、乙氧基、正丙氧基或异丙氧基。碳原子数1以上3以下的烷氧基可以具有1个或若干个取代基。这样的取代基例如有:卤素原子、羟基、碳原子数1以上6以下的烷氧基、碳原子数6以上14以下的芳基或氰基。
碳原子数6以上14以下的芳基例如有:碳原子数6以上14以下的无取代的芳香族单环烃基、碳原子数6以上14以下的无取代的芳香族缩合双环烃基、或碳原子数6以上14以下的无取代的芳香族缩合三环烃基。碳原子数6以上14以下的芳基例如有:苯基、萘基、蒽基或菲基。碳原子数6以上14以下的芳基可以具有1个或若干个取代基。这样的取代基例如有:卤素原子、羟基、碳原子数1以上6以下的烷基、碳原子数1以上6以下的烷氧基、硝基、氰基或碳原子数6以上14以下的芳基。
碳原子数7以上20以下的芳烷基是无取代的。碳原子数7以上20以下的芳烷基是碳原子数6以上14以下的芳基与碳原子数1以上6以下的烷基相结合的基团。碳原子数7以上20以下的芳烷基例如有:苯基甲基(苄基)、2-苯乙基(苯乙基)、1-苯乙基、3-苯丙基或4-苯丁基。碳原子数7以上20以下的芳烷基可以具有1个或若干个取代基。这样的取代基例如有:卤素原子、羟基、碳原子数1以上6以下的烷基、碳原子数1以上6以下的烷氧基、硝基、氰基或碳原子数6以上14以下的芳基。
碳原子数7以上10以下的芳烷基是无取代的。碳原子数7以上10以下的芳烷基是苯基与碳原子数1以上4以下的烷基相结合的基。碳原子数7以上10以下的芳烷基中的碳原子数1以上4以下的烷基是直链状或者支链状的,且是无取代的。碳原子数7以上10以下的芳烷基例如有苯基甲基(苄基)、2-苯乙基(苯乙基)、1-苯乙基或3-苯丙基。碳原子数7以上10以下的芳烷基可以具有1个或若干个取代基。这样的取代基例如有:卤素原子、羟基、碳原子数1以上6以下的烷基、碳原子数1以上6以下的烷氧基、硝基、氰基或碳原子数6以上14以下的芳基。
碳原子数7以上20以下的芳烷氧基是无取代的。碳原子数7以上20以下的芳烷氧基是碳原子数7以上20以下的芳烷基与氧原子相结合的基团。氧原子与碳原子数7以上20以下的芳烷基中的碳原子数1以上6以下的烷基相结合。碳原子数7以上20以下的芳烷氧基例如有:苯基甲基氧基、2-苯乙基氧基、1-苯乙基氧基、3-苯丙基氧基或4-苯基丁氧基。碳原子数7以上20以下的芳烷氧基可以具有1个或若干个取代基。这样的取代基例如有:卤素原子、羟基、碳原子数1以上6以下的烷基、碳原子数1以上6以下的烷氧基、硝基、氰基或碳原子数6以上14以下的芳基。
碳原子数7以上10以下的芳烷氧基是无取代的。碳原子数7以上10以下的芳烷氧基是碳原子数7以上10以下的芳烷基与氧原子相结合的基团。氧原子与碳原子数7以上10以下的芳烷基中的碳原子数1以上3以下的烷基相结合。碳原子数7以上10以下的芳烷氧基例如有:苯基甲基氧基、2-苯乙基氧基、1-苯乙基氧基或3-苯丙基氧基。碳原子数7以上10以下的芳烷氧基可以具有1个或若干个取代基。这样的取代基例如有:卤素原子、羟基、碳原子数1以上6以下的烷基、碳原子数1以上6以下的烷氧基、硝基、氰基或碳原子数6以上14以下的芳基。
碳原子数6以上14以下的芳氧基是无取代的。碳原子数6以上14以下的芳氧基是氧原子结合于碳原子数6以上14以下的芳基的基团。碳原子数6以上14以下的芳氧基例如有:苯氧基、萘基氧基、蒽基氧基或菲基氧基。碳原子数6以上14以下的芳氧基可以具有1个或若干个取代基。这样的取代基例如有:卤素原子、羟基、碳原子数1以上6以下的烷基、碳原子数1以上6以下的烷氧基、硝基、氰基或碳原子数6以上14以下的芳基。
碳原子数3以上14以下的杂环基是无取代的。碳原子数3以上14以下的杂环基例如有:包含1个以上(优选为1个以上3个以下)的杂原子,且具有芳香性的5元或6元的单环杂环基;这样的单环彼此稠合形成的杂环基;或者,以上单环与5元或6元的烃环进行了稠合的杂环基。杂原子是从氮原子、硫原子及氧原子构成的组中选择的1种以上。杂环基的具体例子例如:苯硫基、呋喃基、吡咯基、咪唑基、吡唑基、异噻唑基、异恶唑基、恶唑基、噻唑基、呋吖基、吡喃基、吡啶基、哒嗪基、嘧啶基、吡嗪基、吲哚基、1H-吲唑基、异吲哚基、苯并吡喃基、喹啉基、异喹啉基、嘌呤基、喋啶基、三唑基、四唑基、4H-喹嗪基、萘啶基、苯并呋喃基、1,3-苯并间二氧杂环戊烯基、苯并恶唑基、苯并噻唑基或苯并咪唑基。碳原子数3以上14以下的杂环基可以具有1个或若干个取代基。这样的取代基例如有:卤素原子、羟基、碳原子数1以上6以下的烷基、碳原子数1以上6以下的烷氧基、硝基、氰基或碳原子数6以上14以下的芳基。
碳原子数3以上10以下的环烷基是无取代的。碳原子数3以上10以下的环烷基,例如可以是:环丙基、环丁基、环戊基、环己基、环庚基、环辛基、环壬基或环癸基。碳原子数3以上10以下的环烷基可以具有取代基。这样的取代基例如有:卤素原子、羟基、碳原子数1以上6以下的烷基、碳原子数1以上6以下的烷氧基、碳原子数6以上14以下的芳基或氰基。
碳原子数5以上7以下的亚环烷基是无取代的。碳原子数5以上7以下的亚环烷基例如有:亚环戊基、亚环己基或环亚庚基。碳原子数5以上7以下的亚环烷基可以具有1个或若干个取代基。这样的取代基例如有:卤素原子、羟基、碳原子数1以上6以下的烷氧基、碳原子数6以上14以下的芳基或氰基。
氨基是无取代的。氨基可以具有取代基。这样的取代基例如碳原子数1以上6以下的烷基。
<第一实施方式:电子照相感光体>
本发明的第一实施方式所涉及的电子照相感光体(以下,有时记载为感光体)具备导电性基体和感光层。感光体例如是:单层型电子照相感光体(以下,有时记载为单层型感光体)或层叠型电子照相感光体(以下,有时记载为层叠型感光体)。
[1.单层型感光体]
以下,参照图1,对单层型感光体的结构进行说明。图1是示出第一实施方式所涉及的感光体1的一例的示意性剖视图。
图1中,感光体1表示单层型感光体。如图1(a)所示,单层型感光体例如具备导电性基体2及感光层3。单层型感光体具备单层型感光层3a来作为感光层3。单层型感光层3a是一层的感光层3。如图1(a)所示,感光层3可以直接配置于导电性基体2上。
如图1(b)所示,单层型感光体可以具备:导电性基体2、单层型感光层3a及中间层(底涂层)4。中间层4设置于导电性基体2与单层型感光层3a之间。如图1(b)所示,感光层3也可以隔着中间层4间接配置于导电性基体2上。此外,如图1(c)所示,保护层5可以设置于单层型感光层3a上。
单层型感光层3a只要能够充分发挥作为单层型感光层的功能,其厚度没有特别限制。单层型感光层3a的厚度优选为5μm以上100μm以下,更优选为10μm以上50μm以下。
[2.层叠型感光体]
层叠型感光体中,感光层具备:电荷产生层及电荷输送层。以下,参照图2,对层叠型感光体的结构进行说明。图2是示出第二实施方式所涉及的感光体1的其他例子的示意性剖视图。
图2中,感光体1表示层叠型感光体。如图2(a)所示,层叠型感光体例如具备导电性基体2及感光层3。感光层3具备电荷产生层3b及电荷输送层3c。为了提高层叠型感光体的耐磨损性,优选的是,如图2(a)所示,电荷产生层3b设置于导电性基体2上,电荷输送层3c设置于电荷产生层3b上。如图2(b)所示,层叠型感光体中,电荷输送层3c可以设置于导电性基体2上,电荷产生层3b可以设置于电荷输送层3c上。
如图2(c)所示,层叠型感光体可以具备:导电性基体2、感光层3及中间层(底涂层)4。中间层4位于导电性基体2与感光层3之间。此外,保护层5(参照图1(c))可以设置于感光层3上。
电荷产生层3b及电荷输送层3c只要能够充分发挥作为各自层的功能,其厚度没有特别限制。电荷产生层3b的厚度优选为0.01μm以上5μm以下,更优选为0.1μm以上3μm以下。电荷输送层3c的厚度优选为2μm以上100μm以下,更优选为5μm以上50μm以下。
第一实施方式所涉及的感光体具备感光层。感光层包含:电荷产生剂、烯胺衍生物、电子输送剂或电子受体化合物、粘结树脂及填料颗粒。层叠型感光体中,电荷产生层例如包含:电荷产生剂及电荷产生剂用粘结树脂(以下,有时记载为基体树脂)。电荷输送层例如包含:烯胺衍生物、电子输送剂或电子受体化合物、粘结树脂及填料颗粒。单层型感光体中,单层型感光层例如包含:电荷产生剂、烯胺衍生物、电子输送剂或电子受体化合物、粘结树脂及填料颗粒。电荷产生层、电荷输送层及单层型感光层还可以含有添加剂。
第一实施方式所涉及的感光体抑制转印记忆的发生。其理由推测如下。第一实施方式所涉及的感光体包含烯胺衍生物。烯胺衍生物由通式(1)表示(以下,有时将通式(1)所表示的烯胺衍生物记载为烯胺衍生物(1))。烯胺衍生物(1)具有平面性,并具有较大的π共轭体系。因此,感光层往往空穴传输性能优异,并且,作为载体的电荷不易残留于感光层中。所以可以认为,第一实施方式所涉及的感光体抑制了转印记忆的发生。此外,转印记忆的评价方法将在之后的实施例中详细说明。
此外,第一实施方式所涉及的感光体的耐成膜性优异。其理由推测如下。为了便于理解,首先,对因图像形成过程中的薄膜形成而导致的图像不良进行说明。电子照相方式的图像形成装置例如具备:像承载体(感光体)、带电部、曝光部、显影部、转印部及清洗部。图像形成过程采用直接转印方式的情况下,转印部将调色剂像从感光体转印至记录媒介。转印后,清洗部对感光层3的表面进行清洗。
调色剂像的转印中,记录媒介有时会由于在感光体的表面滑动摩擦而带电(所谓的摩擦带电)。该情况下,记录媒介往往相对于感光体的带电极性带电为同极性,且带电性降低,或者往往带电为相反极性(所谓的逆带电)。若记录媒介具有这样的带电性,则记录媒介所带的微小成分(例如,纸粉)有时会移动并附着于感光体的表面。然后,当清洗部没有完全去除附着于感光体表面的图像区域的微小成分的情况下,形成于记录媒介上的图像会产生缺陷。将这样的图像缺陷称为薄膜形成。此外,耐成膜性的评价方法将在之后的实施例中进行详细说明。
第一实施方式所涉及的感光体中,感光层包含填料颗粒。因此,感光层在其表面容易形成凹凸形状,从而感光层的表面与微小成分之间的接触面积往往会变小。接触面积小,清洗部则容易从感光层上去除微小成分。综上所述,可以认为第一实施方式所涉及的感光体的耐成膜性优异。
以下,对感光体的要素,即导电性基体、电子输送剂、电子受体化合物、空穴输送剂、电荷产生剂、粘结树脂、基体树脂、添加剂及中间层进行说明。并且,也对感光体的制造方法进行说明。
[3.导电性基体]
导电性基体只要是能够用作感光体的导电性基体,没有特别限制。导电性基体只要至少表面部由具有导电性的材料形成即可。导电性基体例如可以是由具有导电性的材料形成的导电性基体。导电性基体例如也可以是由具有导电性的材料包覆的导电性基体。具有导电性的材料例如有:铝、铁、铜、锡、铂、银、钒、钼、铬、镉、钛、镍、钯或铟。这些具有导电性的材料可以单独使用,也可以组合两种以上来使用。两种以上的组合例如是合金(更具体地,铝合金、不锈钢或黄铜等)。这些具有导电性的材料中,根据电荷从感光层向导电性基体的移动性良好方面考虑,优选为铝或铝合金。此外,导电性基体的表面可以具备这些导电性材料的氧化膜。
导电性基体的形状根据图像形成装置的结构而适当选择。导电性基体的形状例如可以为片材状或者鼓状。此外,导电性基体的厚度根据导电性基体的形状而适当选择。
[4.电子输送剂、电子受体化合物]
单层型感光体中,单层型感光层包含电子输送剂。层叠型感光体中,电荷输送层包含电子受体化合物。
电子输送剂和电子受体化合物例如有:醌类化合物、二酰亚胺类化合物、腙类化合物、丙二腈类化合物、噻喃类化合物、三硝基噻吨酮类化合物、3,4,5,7-四硝基-9-芴酮类化合物、二硝基蒽类化合物、二硝基吖啶类化合物、四氰乙烯、2,4,8-三硝基噻吨酮、二硝基苯、二硝基吖啶、琥珀酸酐、马来酸酐或二溴马来酸酐。醌类化合物例如有:联苯醌类化合物、偶氮醌类化合物、蒽醌类化合物、萘醌类化合物、硝基蒽醌类化合物或二硝基蒽醌类化合物。这些电子输送剂既可以单独使用一种,也可以组合两种以上来使用。
优选的是,包含这些电子输送剂和电子受体化合物中、由通式(ETM1)、通式(ETM2)、通式(ETM3)、通式(ETM4)或通式(ETM5)表示的化合物(以下,有时分别记载为化合物(ETM1)~(ETM5))。
【化3】
【化4】
【化5】
【化6】
【化7】
通式(ETM1)中,R61、R62、R63及R64各自独立,表示氢原子、任意取代的碳原子数1以上6以下的烷基、任意取代的碳原子数1以上6以下的烷氧基、任意取代的碳原子数6以上14以下的芳基或任意取代的碳原子数7以上20以下的芳烷基。R61、R62、R63及R64可以相同,也可以不同。通式(ETM1)中,R61、R62、R63及R64各自独立,优选为表示氢原子或者碳原子数1以上6以下的烷基,更优选为表示氢原子或碳原子数1以上5以下的烷基,进一步优选为表示氢原子或2-甲基-2-丁基。通式(ETM1)所表示的化合物例如是化学式(ETM1-1)所表示的化合物(以下,有时记载为化合物(ETM1-1))。
【化8】
通式(ETM2)中,R33、R34、R35及R36各自独立,表示氢原子、任意取代的碳原子数1以上6以下的烷基、任意取代的碳原子数2以上6以下的链烯基、任意取代的碳原子数1以上6以下的烷氧基、任意取代的碳原子数6以上14以下的芳基、任意取代的碳原子数7以上20以下的芳烷基或任意取代的碳原子数3以上14以下的杂环基。通式(ETM2)中,R33、R34、R35及R36优选为表示碳原子数1以上6以下的烷基,更优选为表示碳原子数1以上4以下的烷基,进一步优选为甲基或叔丁基。通式(ETM2)所表示的化合物例如是化学式(ETM2-1)所表示的化合物(以下,有时记载为化合物(ETM2-1))。
【化9】
通式(ETM3)中,R65表示任意取代的碳原子数1以上6以下的烷基或任意取代的碳原子数6以上14以下的芳基。R66表示任意取代的碳原子数1以上6以下的烷基、任意取代的碳原子数6以上14以下的芳基、任意取代的碳原子数1以上6以下的烷氧基、任意取代的碳原子数6以上14以下的芳氧基、或任意取代的碳原子数7以上20以下的芳烷氧基。R67表示任意取代的碳原子数1以上6以下的烷基。s表示0以上4以下的整数。R65、R66及R67可以相同也可以不同。通式(ETM3)中,R65优选为表示碳原子数6以上14以下的芳基,更优选为表示苯基。R66优选为表示碳原子数7以上20以下的芳烷氧基,更优选为表示碳原子数7以上10以下的芳烷氧基,进一步优选为表示苯基甲基氧基。s优选为表示0。通式(ETM3)所表示的化合物例如是:化学式(ETM3-1)所表示的化合物(以下,有时记载为化合物(ETM3-1))。
【化10】
通式(ETM4)中,R39及R40各自独立,表示氢原子、卤素原子、可以具有1个或若干个取代基的碳原子数1以上6以下的烷基、任意取代的碳原子数1以上6以下的烷氧基、任意取代的碳原子数6以上14以下的芳基、任意取代的氨基。R39及R40可以相同,也可以不同。通式(ETM4)中,R39及R40优选为表示可以具有1个或若干个碳原子数1以上6以下的烷基的、碳原子数6以上14以下的芳基,更优选为具有若干个碳原子数1以上3以下的烷基的苯基,进一步优选为表示乙基甲苯基。通式(ETM4)所表示的化合物例如是化学式(ETM4-1)所表示的化合物(以下,有时记载为化合物(ETM4-1))。
【化11】
通式(ETM5)中,R41、R42及R43各自独立,表示氢原子、卤素原子、任意取代的碳原子数1以上6以下的烷基、任意取代的碳原子数2以上6以下的链烯基、任意取代的碳原子数1以上6以下的烷氧基、任意取代的碳原子数6以上14以下的芳基、任意取代的碳原子数7以上20以下的芳烷基、或任意取代的碳原子数3以上14以下的杂环基。R41、R42及R43可以相同,也可以不同。通式(ETM5)中,R41、R42及R43优选为表示可以具有卤素原子的、碳原子数6以上14以下的芳基,或者碳原子数1以上6以下的烷基;更优选为表示具有卤素原子的苯基,或者碳原子数1以上4以下的烷基;进一步优选为氯苯基或叔丁基。通式(ETM5)所表示的化合物例如是化学式(ETM5-1)所表示的化合物(以下,有时记载为化合物(ETM5-1))。
【化12】
从进一步提高感光体的耐成膜性方面考虑,这些电子输送剂和电子受体化合物中,更优选为化合物(ETM1)、化合物(ETM2)、化合物(ETM3)或化合物(ETM4),进一步优选为化合物(ETM1)。从进一步提高感光体的耐成膜性,且进一步抑制转印记忆的发生的方面考虑,这些电子输送剂和电子受体化合物中,更优选为化合物(ETM1)、化合物(ETM2)、化合物(ETM3)或化合物(ETM4),进一步优选为化合物(ETM1)。
[5.空穴输送剂]
感光层包含烯胺衍生物(1)来作为空穴输送剂。烯胺衍生物(1)由通式(1)表示。
【化13】
通式(1)中,R1、R2、R3、R4及R5各自独立,表示任意取代的碳原子数1以上6以下的烷基、任意取代的碳原子数1以上6以下的烷氧基、可以具有1个或若干个取代基的碳原子数6以上14以下的芳基、任意取代的碳原子数6以上14以下的芳氧基、任意取代的碳原子数7以上20以下的芳烷基、卤素原子或氢原子。n表示0以上4以下的整数。
通式(1)中,R1~R5表示的碳原子数1以上6以下的烷基优选为碳原子数1以上3以下的烷基,更优选为甲基。R1~R5表示的碳原子数1以上6以下的烷基可以具有取代基。这样的取代基例如有:卤素原子、碳原子数1以上6以下的烷氧基、碳原子数3以上10以下的环烷基或碳原子数3以上14以下的杂环基。
通式(1)中,R1~R5表示的碳原子数1以上6以下的烷氧基可以具有取代基。这样的取代基例如有:卤素原子、碳原子数1以上6以下的烷氧基、碳原子数6以上14以下的芳基、碳原子数3以上10以下的环烷基或碳原子数3以上14以下的杂环基。
通式(1)中,R1~R5表示的碳原子数6以上14以下的芳基优选为苯基。R1~R5表示的碳原子数6以上14以下的芳基可以具有1个或若干个取代基。这样的取代基例如有:碳原子数1以上3以下的烷基、卤素原子、或碳原子数1以上3以下的烷氧基,优选为甲基、乙基、氟原子、氯原子、乙氧基或甲氧基。具有1个或若干个取代基的、碳原子数6以上14以下的芳基例如有:甲苯基、乙基甲苯基、乙氧基苯基、甲氧基苯基、二甲氧基苯基、氯苯基或氟苯基。碳原子数6以上14以下的芳基是苯基的情况下,取代基的取代位置例如:邻位(o位)、间位(m位)或对位(p位),优选为邻位或对位。
通式(1)中,R1~R5表示的碳原子数6以上14以下的芳氧基可以具有取代基。这样的取代基例如有:卤素原子、碳原子数1以上6以下的烷基、碳原子数1以上6以下的烷氧基、碳原子数6以上14以下的芳基、碳原子数3以上10以下的环烷基或碳原子数3以上14以下的杂环基。
通式(1)中,R1~R5表示的碳原子数7以上20以下的芳烷基可以具有取代基。这样的取代基例如有:卤素原子、碳原子数1以上6以下的烷氧基、碳原子数6以上14以下的芳基、碳原子数3以上10以下的环烷基或碳原子数3以上14以下的杂环基。
通式(1)中,优选的是,R1、R2、R3、R4及R5各自独立,表示碳原子数1以上3以下的烷基、任意取代的碳原子数6以上14以下的芳基或氢原子。芳基可以具有的取代基优选为:1个或若干个碳原子数1以上3以下的烷基、1个或若干个碳原子数1以上3以下的烷氧基或卤素原子。n优选为表示1或2。
通式(1)中,R4优选为表示可以具有碳原子数1以上3以下的烷基或卤素原子的、碳原子数6以上14以下的芳基。
烯胺衍生物(1)例如是表1所表示的烯胺衍生物(1)(具体地,烯胺衍生物(HTM-1)~(HTM-23))。并且,表1中,HTM表示空穴输送剂。“HTM”一栏的HTM-1~HTM-23分别表示烯胺衍生物(HTM-1)~(HTM-23)。“R1~R5”一栏中的记号表示的取代基如下:
Ph:苯基
Me:甲基
p-Me-Ph:p-甲苯基
p,o-Me,Et-Ph:o-乙基-p-甲苯基
p-OEt-Ph:p-乙氧基苯基
o,p-diOMePh:o,p-二甲氧基苯基
p-Cl-Ph:p-氯苯基
p-F-Ph:p-氟苯基
【表1】
HTM | R<sup>1</sup> | R<sup>2</sup> | R<sup>3</sup> | R<sup>4</sup> | R<sup>5</sup> | n |
HTM-1 | Ph | Ph | Ph | Ph | H | 1 |
HTM-2 | Me | Ph | Ph | Ph | H | 1 |
HTM-3 | Ph | Ph | Ph | Ph | Ph | 1 |
HTM-4 | Ph | Ph | p-Me-Ph | Ph | H | 1 |
HTM-5 | Ph | Ph | p,o-Me,Et-Ph | Ph | H | 1 |
HTM-6 | Me | Ph | p-Me-Ph | Ph | H | 1 |
HTM-7 | Ph | Ph | p-OEt-Ph | Ph | H | 1 |
HTM-8 | Ph | Ph | o,p-diOMe-Ph | Ph | H | 1 |
HTM-9 | Me | Ph | p-OMe-Ph | Ph | H | 1 |
HTM-10 | Ph | Ph | p-Me-Ph | Ph | Ph | 1 |
HTM-11 | Me | Ph | Ph | Ph | H | 2 |
HTM-12 | Ph | Ph | Ph | Ph | H | 2 |
HTM-13 | Ph | Ph | p-Me-Ph | p-Me-Ph | p-Me-Ph | 2 |
HTM-14 | p-Me-Ph | p-Me-Ph | p-Me-Ph | p-Me-Ph | p-Me-Ph | 1 |
HTM-15 | Me | Me | p-Me-Ph | p-Me-Ph | p-Me-Ph | 2 |
HTM-16 | Me | Ph | p,o-Me,Et-Ph | Ph | H | 1 |
HTM-17 | Ph | Ph | Ph | p-Cl-Ph | H | 1 |
HTM-18 | Ph | Ph | Ph | p-Cl-Ph | p-Cl-Ph | 1 |
HTM-19 | Ph | Ph | p-Cl-Ph | Ph | H | 1 |
HTM-20 | Ph | Ph | p-Me-Ph | p-Me-Ph | p-Me-Ph | 1 |
HTM-21 | Me | Me | p-Me-Ph | Ph | Me | 1 |
HTM-22 | Ph | Ph | Ph | p-Cl-Ph | H | 2 |
HTM-23 | Ph | Ph | Ph | p-F-Ph | H | 1 |
从进一步抑制转印记忆发生的方面考虑,烯胺衍生物(HTM-1)~(HTM-4)、(HTM-6)~(HTM-9)、(HTM-11)、(HTM-14)、(HTM-17)及(HTM-20)中,优选为烯胺衍生物(HTM-1)~(HTM-2)、(HTM-4)、(HTM-6)、(HTM-9)、(HTM-11)、(HTM-14)或(HTM-17)。从进一步抑制转印记忆发生,并进一步提高感光体的耐成膜性方面考虑,烯胺衍生物(HTM-1)~(HTM-4)、(HTM-6)~(HTM-9)、(HTM-11)、(HTM-14)、(HTM-17)及(HTM-20)中,优选为烯胺衍生物(HTM-1)~(HTM-2)、(HTM-4)、(HTM-6)、(HTM-9)、(HTM-11)、(HTM-14)或(HTM-17)。
感光层除了含有烯胺衍生物(1)以外,还可以含有其它空穴输送剂。其它的空穴输送剂例如可以使用含氮环状化合物或稠合多环状化合物。含氮环状化合物及稠合多环状化合物例如有:二胺衍生物(更具体地,N,N,N',N'-四苯基苯二胺衍生物、N,N,N',N'-四苯基萘二胺衍生物或N,N,N',N'-四苯基亚菲基二胺(N,N,N',N'-tetraphenylphenanthrylene diamine)衍生物等)、恶二唑类化合物(更具体地,2,5-二(4-甲基氨基苯基)-1,3,4-恶二唑等)、苯乙烯化合物(更具体地,9-(4-二乙氨基苯乙烯基)蒽等)、咔唑化合物(更具体地,聚乙烯基咔唑等)、有机聚硅烷化合物、吡唑啉类化合物(更具体地,1-苯基-3-(对二甲基氨基苯基)吡唑啉等)、腙类化合物、吲哚类化合物、恶唑类化合物、异恶唑类化合物、噻唑类化合物、噻二唑类化合物、咪唑类化合物、吡唑类化合物或三唑类化合物。这些空穴输送剂既可以单独使用一种,也可以组合两种以上来使用。
感光体是单层型感光体的情况下,相对于单层型感光层中含有的粘结树脂100质量份,空穴输送剂的含量优选为10质量份以上200质量份以下,更优选为10质量份以上100质量份以下,尤其优选为10质量份以上75质量份以下。
感光体是层叠型感光体的情况下,相对于电荷输送层中含有的粘结树脂100质量份,空穴输送剂的含量优选为10质量份以上200质量份以下,更优选为20质量份以上100质量份以下。
[6.电荷产生剂]
感光体是层叠型感光体的情况下,电荷产生层包含电荷产生剂。感光体是单层型感光体的情况下,单层型感光层包含电荷产生剂。
电荷产生剂只要是感光体用电荷产生剂,没有特别限制。电荷产生剂例如有:酞菁类颜料、苝类颜料、双偶氮颜料、三偶氮颜料、二硫酮吡咯并吡咯(dithioketo-pyrrolopyrrole)颜料、无金属萘酞菁颜料、金属萘酞菁颜料、方酸颜料、靛蓝颜料、甘菊蓝颜料、菁颜料、无机光导材料(更具体地,硒、硒-碲、硒-砷、硫化镉、或非晶硅等)的粉末,吡喃颜料、蒽嵌蒽醌类颜料、三苯甲烷类颜料、士林类颜料、甲苯胺类颜料、吡唑啉类颜料或喹吖啶酮类颜料。电荷产生剂既可以单独使用一种,也可以组合两种以上来使用。
酞菁类颜料例如是化学式(CGM-A)所表示的氧钛酞菁或金属酞菁。金属酞菁例如有:化学式(CGM-B)所表示的无金属酞菁、羟基镓酞菁或氯镓酞菁。酞菁类颜料既可以为结晶,也可以为非结晶。酞菁类颜料的晶体形状(例如,X型、α型、β型、Y型、V型或II型)没有特别限制,可以使用各种晶体形状的酞菁类颜料。
【化14】
【化15】
对于无金属酞菁的结晶,例如可以举出:无金属酞菁的X型晶体(以下,有时记载为“X型无金属酞菁”)。氧钛酞菁的晶体例如有:氧钛酞菁的α型、β型或Y型晶体(以下,有时分别记载为α型氧钛酞菁晶体、β型氧钛酞菁晶体及Y型氧钛酞菁晶体)。羟基镓酞菁的结晶例如羟基镓酞菁的V型晶体。氯镓酞菁的结晶例如氯镓酞菁的II型晶体。
例如,在数字光学式图像形成装置中,优选使用在700nm以上波长区域具有感光度的感光体。数字光学式图像形成装置例如有:使用半导体激光器之类的光源的激光打印机或者传真机。从700nm以上的波长区域具有较高量子产率方面考虑,电荷产生剂优选为酞菁类颜料,更优选为无金属酞菁或氧钛酞菁。感光层包含烯胺衍生物(1)的情况下,为了进一步提高感光体的耐成膜性,电荷产生剂进一步优选为X型无金属酞菁、α型氧钛酞菁晶体或Y型氧钛酞菁晶体,尤其优选为Y型氧钛酞菁晶体。感光层包含烯胺衍生物(1)的情况下,为了进一步提高感光体的耐成膜性,并进一步抑制转印记忆的发生,电荷产生剂进一步优选为X型无金属酞菁、α型氧钛酞菁晶体或Y型氧钛酞菁晶体,尤其优选为Y型氧钛酞菁晶体。
Y型氧钛酞菁晶体在CuKα特征X射线衍射光谱中,例如在布拉格角(2θ±0.2°)的27.2°具有主峰。CuKα特征X射线衍射光谱中的主峰是指在布拉格角(2θ±0.2°)为3°以上40°以下的范围中具有第一大或者第二大强度的峰。
α型氧钛酞菁晶体在CuKα特征X射线衍射光谱中,例如在布拉格角(2θ±0.2°)的28.6°具有主峰。
(CuKα特征X射线衍射光谱的测量方法)
对CuKα特征X射线衍射光谱的测量方法的一个例子进行说明。将样品(氧钛酞菁)填充到X射线衍射装置(例如,Rigaku Corporation制造“RINT(日本注册商标)1100”)的样品支架上,在X射线管Cu、管电压40kV、管电流30mA且CuKα特征X射线波长的条件下,测量X射线衍射光谱。例如,测量范围(2θ)是3°以上40°以下(起始角:3°;停止角:40°),扫描速度是10°/分。
采用短波长激光光源的图像形成装置使用的感光体中,优选使用蒽嵌蒽醌类颜料来作为电荷产生剂。短波长激光的波长例如为350nm以上550nm以下。
在感光体是单层型感光体的情况下,相对于单层型感光层中含有的粘结树脂100质量份,电荷产生剂的含量优选为0.1质量份以上50质量份以下,更优选为0.5质量份以上30质量份以下,尤其优选为0.5质量份以上4.5质量份以下。
在感光体是层叠型感光体的情况下,相对于电荷产生层中含有的基体树脂100质量份,电荷产生剂的含量优选为5质量份以上1000质量份以下,更优选为30质量份以上500质量份以下。
[7.粘结树脂]
粘结树脂例如有:热塑性树脂、热固性树脂或光固化树脂。热塑性树脂例如有:聚碳酸酯树脂、聚芳酯树脂、苯乙烯-丁二烯树脂、苯乙烯-丙烯腈树脂、苯乙烯-马来酸树脂、丙烯酸类树脂、苯乙烯-丙烯酸树脂、聚乙烯树脂、乙烯-醋酸乙烯酯树脂、氯化聚乙烯树脂、聚氯乙烯树脂、聚丙烯树脂、离聚物树脂、氯乙烯-醋酸乙烯酯树脂、醇酸树脂、聚酰胺树脂、聚氨基甲酸酯树脂、聚砜树脂、邻苯二甲酸二烯丙酯树脂、酮树脂、聚乙烯醇缩丁醛树脂、聚酯树脂或聚醚树脂。热固性树脂例如有:硅酮树脂、环氧树脂、酚醛树脂、脲醛树脂或三聚氰胺树脂。光固化树脂例如有:环氧-丙烯酸类树脂(更具体地,环氧化合物的丙烯酸衍生物加成物等)或聚氨酯-丙烯酸类树脂(聚氨酯化合物的丙烯酸衍生物加成物)。这些粘结树脂既可以单独使用一种,也可以组合两种以上来使用。
这些树脂中,从要获得兼顾加工性、机械性强度、光学的特性及耐磨损性都优异的单层型感光层及电荷输送层方面考虑,优选为聚碳酸酯树脂或聚芳酯树脂。进一步从与烯胺衍生物(1)的相容性良好,并提高烯胺衍生物(1)在感光层中的分散性方面考虑,粘结树脂更优选为具有通式(3)所表示的重复单元的聚碳酸酯树脂(以下,有时记载为聚碳酸酯树脂(3))或具有通式(4)所表示的重复单元的聚芳酯树脂(以下,有时记载为聚芳酯树脂(4))。
【化16】
通式(3)中,R11及R12各自独立,表示氢原子、可以具有卤素原子的碳原子数1以上6以下的烷基、或任意取代的苯基。R11与R12可以相互键合而形成亚环烷基。R11与R12可以相同,也可以不同。R13及R14各自独立,表示氢原子或可以具有卤素原子的、碳原子数1以上3以下的烷基。R13与R14可以相同,也可以不同。
【化17】
通式(4)中,R15及R16各自独立,表示氢原子、可以具有卤素原子的、碳原子数1以上6以下的烷基、或任意取代的苯基。R15与R16可以相互键合而形成亚环烷基。R15与R16既可以相同,也可以不同。R17及R18各自独立,表示氢原子或可以具有卤素原子的、碳原子数1以上3以下的烷基。R17与R18既可以相同,也可以不同。
通式(3)中,R11及R12表示的可以具有卤素原子的、碳原子数1以上6以下的烷基优选为碳原子数1以上4以下的烷基,更优选为甲基。R11与R12相互键合而形成的亚环烷基优选为碳原子数5以上7以下的亚环烷基,更优选为亚环己基(cyclohexylidene)。通式(3)中,R11及R12优选为表示氢原子或碳原子数1以上4以下的烷基,或者相互键合而形成碳原子数5以上7以下的亚环烷基。R11及R12更优选为表示氢原子或者甲基,或者,相互键合而形成亚环己基(cyclohexylidene)。
通式(3)中,R13及R14表示的可以具有卤素原子的、碳原子数1以上3以下的烷基优选为可以具有卤素原子的甲基,更优选为甲基或氟化甲基,进一步优选为甲基或三氟甲基。通式(3)中,R13及R14优选为表示氢原子、甲基或可以具有卤素原子的甲基,更优选为表示氢原子、甲基或氟化甲基,进一步优选为表示氢原子或三氟甲基。优选的是R13与R14相同。从进一步提高感光体的耐成膜性方面考虑,通式(3)中,R11、R12、R13及R14中的至少1个优选为具有1个或若干个卤素原子。
聚碳酸酯树脂(3)例如是:具有由化学式(PC-1)、化学式(PC-2)、化学式(PC-3)、化学式(PC-4)或化学式(PC-5)表示的重复单元的聚碳酸酯树脂(以下,有时分别记载为聚碳酸酯树脂(PC-1)~(PC-5))。
【化18】
【化19】
【化20】
【化21】
【化22】
通式(4)中,R15及R16表示的可以具有卤素原子的、碳原子数1以上6以下的烷基优选为碳原子数1以上3以下的烷基,更优选为甲基。R17及R18表示的可以具有卤素原子的、碳原子数1以上3以下的烷基优选为碳原子数1以上3以下的烷基,更优选为甲基。
通式(4)中,R15及R16优选为表示氢原子或碳原子数1以上3以下的烷基,更优选为表示氢原子或甲基。优选的是,R15与R16互不相同。R17及R18优选为表示碳原子数1以上3以下的烷基,更优选为表示甲基。优选的是,R17与R18相同。从进一步提高感光体的耐成膜性的方面考虑,优选的是,通式(4)中,R15、R16、R17、R18中的至少1个具有1个或若干个卤素原子。通式(4)中,2个羰基的取代位置的关系是在具有2个羰基苯环上,互相是邻位(o位)、间位(m位)、对位(p位)。这样的2个羰基的取代位置优选为对位。
聚芳酯树脂(4)例如有:具有化学式(PAR-1)所表示的重复单元的聚芳酯树脂(以下,有时记载为聚芳酯树脂(PAR-1))。
【化23】
感光体包含烯胺衍生物(1)作为空穴输送剂的情况下,从进一步提高感光体的耐成膜性的方面考虑,粘结树脂优选为聚碳酸酯树脂(PC-1)、(PC-2)、(PC-4)及(PC-5)。感光体包含烯胺衍生物(1)作为空穴输送剂的情况下,从进一步提高感光体的耐成膜性,并进一步抑制转印记忆发生的方面考虑,粘结树脂优选为聚碳酸酯树脂(PC-1)、(PC-2)、(PC-4)及(PC-5)。
粘结树脂的粘均分子量优选为25,000以上,更优选为30,000以上70,000以下,进一步优选为48,500以上50,000以下。粘结树脂的粘均分子量在30,000以上,则容易提高感光体的耐磨损性。粘结树脂的粘均分子量在70,000以下,则在形成感光层时,粘结树脂易溶解于溶剂,电荷输送层用涂布液或单层型感光层用涂布液的粘度不会变得过高。其结果,容易形成电荷输送层或单层型感光层。
[8.填料颗粒]
填料颗粒是二氧化硅颗粒或树脂颗粒。树脂颗粒的树脂例如有:硅酮树脂、聚苯硫醚树脂(以下,有时记载为PFS树脂)或聚四氟乙烯(以下,有时记载为PTFE树脂)。从进一步抑制转印记忆发生的方面考虑,填料颗粒优选为树脂颗粒,更优选为包含硅酮树脂或PTFE树脂。从进一步提高感光体的耐成膜性方面考虑,填料颗粒优选为树脂颗粒,更优选为包含硅酮树脂或PTFE树脂,进一步优选为包含PTFE树脂。从进一步提高感光体的耐成膜性,并进一步抑制转印记忆发生的方面考虑,填料颗粒优选为树脂颗粒,更优选为包含硅酮树脂或PTFE树脂,进一步优选为包含PTFE树脂。树脂颗粒优选为包含卤素原子(更具体地,氟原子等)。填料颗粒优选为不具有导电性。若填料颗粒具有导电性,感光层的表面则难以均匀带电。
从进一步转抑制印记忆发生的方面考虑,填料颗粒的体积中位径D50优选为5nm以上10μm以下,更优选为0.40μm以上10μm以下。从进一步提高感光体的耐成膜性方面考虑,填料颗粒的体积中位径D50优选为5nm以上10μm以下,更优选为0.40μm以上10μm以下,进一步优选为1.0μm以上10μm以下。从进一步提高感光体的耐成膜性,并进一步抑制转印记忆发生的方面考虑,填料颗粒的体积中位径D50优选为5nm以上10μm以下,更优选为0.40μm以上10μm以下,进一步优选为1.0μm以上10μm以下。填料颗粒的体积中位径D50使用精密粒度分布测定装置(贝克曼库尔特株式会社制造“库尔特粒度分析仪(Coulter Counter Multisizer)3”)来测定。并且,体积中位径D50是指用库尔特计数法,按体积基准来计算的中值粒径。
相对于单层型感光层或电荷输送层中的粘结树脂100质量份,填料颗粒的含量优选为0.5质量份以上30质量份以下。从进一步提高感光体的耐成膜性的方面考虑,相对于粘结树脂100质量份,填料颗粒的含量更优选为3质量份以上20质量份以下,进一步优选为3质量份以上10质量份以下。从进一步提高感光体的耐成膜性,并进一步抑制转印记忆发生的方面考虑,相对于粘结树脂100质量份,填料颗粒的含量更优选为3质量份以上20质量份以下,进一步优选为3质量份以上10质量份以下。
从进一步抑制转印记忆的产生的方面考虑,优选的是,填料颗粒的体积中位径D50为5nm以上10μm以下,且相对于单层型感光层或电荷输送层中的粘结树脂100质量份为0.5质量份以上30质量份以下。
[9.基体树脂]
感光体是层叠型感光体的情况下,电荷产生层含有基体树脂。基体树脂只要是能够应用于感光体的基体树脂,没有特别限制。基体树脂例如有:热塑性树脂、热固性树脂或光固化树脂。热塑性树脂例如有:苯乙烯-丁二烯树脂、苯乙烯-丙烯腈树脂、苯乙烯-马来酸树脂、苯乙烯-丙烯酸树脂、丙烯酸类树脂、聚乙烯树脂、乙烯-醋酸乙烯酯树脂、氯化聚乙烯树脂、聚氯乙烯树脂、聚丙烯树脂、离聚物、氯乙烯-醋酸乙烯酯树脂、醇酸树脂、聚酰胺树脂、聚氨基甲酸酯树脂、聚碳酸酯树脂、聚芳酯树脂、聚砜树脂、邻苯二甲酸二烯丙酯树脂、酮树脂、聚乙烯醇缩丁醛树脂、聚醚树脂或聚酯树脂。热固性树脂例如有:硅酮树脂、环氧树脂、酚醛树脂、脲醛树脂、三聚氰胺树脂或其他交联性的热固性树脂。光固化树脂例如有:环氧-丙烯酸类树脂(更具体地,环氧化合物的丙烯酸衍生物加成物等)或聚氨酯-丙烯酸类树脂(更具体地,聚氨酯化合物的丙烯酸衍生物加成物等)。基体树脂既可以单独使用一种,也可以组合两种以上来使用。
电荷产生层中含有的基体树脂优选为不同于电荷输送层中含有的粘结树脂。这是为了不使电荷产生层溶解于电荷输送层用涂布液的溶剂。其理由是:层叠型感光体的制造中,一般是在导电性基体上形成电荷产生层,在电荷产生层上形成电荷输送层,形成电荷输送层时,要在电荷产生层上涂布电荷输送层用涂布液。
[10.添加剂]
感光体的感光层(电荷产生层、电荷输送层或单层型感光层)也可以根据需要含有各种添加剂。添加剂例如可以是:劣化抑制剂(具体地,抗氧化剂、自由基捕获剂、消光剂或紫外线吸收剂等)、软化剂、表面改性剂、增量剂、增稠剂、分散稳定剂、蜡、供体、表面活性剂、可塑剂、增感剂或流平剂。
[11.中间层]
中间层(底涂层)例如含有无机颗粒及树脂(中间层用树脂)。可以认为:由于存在中间层,所以在维持可抑制漏电发生这种程度的绝缘状态的同时,使曝光感光体时产生的电流流动顺利,从而抑制电阻的增加。
无机颗粒例如可以是:金属(具体地,铝、铁或铜)的颗粒、金属氧化物(具体地,二氧化钛、氧化铝、氧化锆、氧化锡或氧化锌)的颗粒、或者非金属氧化物(具体地,二氧化硅等)的颗粒。这些无机颗粒既可以单独使用一种,也可以两种以上并用。
中间层用树脂只要是能够用作形成中间层的树脂,没有特别限制。中间层也可以含有各种添加剂。添加剂与感光层的添加剂相同。
[12.感光体的制造方法]
接下来,感光体是单层型感光体的情况下,例如,通过在导电性基体上涂布单层型感光层用涂布液,并进行干燥来制造单层型感光体。单层型感光层用涂布液例如通过将电荷产生剂、作为空穴输送剂的烯胺衍生物(1)、电子输送剂、粘结树脂、填料颗粒、及根据需要而添加的添加剂溶解或分散于溶剂来制备。
感光体是层叠型感光体的情况下,层叠型感光体例如按照如下来制造。首先,制备电荷产生层用涂布液及电荷输送层用涂布液。在导电性基体上涂布电荷产生层用涂布液,并进行干燥,来形成电荷产生层。接着,在电荷产生层上涂布电荷输送层用涂布液,并进行干燥,来形成电荷输送层。由此,来制造层叠型感光体。
例如,通过使电荷产生剂、基体树脂及根据需要而添加的添加剂溶解或分散于溶剂来制备电荷产生层用涂布液。通过将作为空穴输送剂的烯胺衍生物(1)、电子受体化合物、粘结树脂、填料颗粒、根据需要而添加的添加剂溶解或分散于溶剂,来制备电荷输送层用涂布液。
电荷产生层用涂布液、电荷输送层用涂布液或单层型感光层用涂布液(以下,有时记载为涂布液)中含有的溶剂只要能够将涂布液所含的各成分溶解或者分散即可,没有特别限制。溶剂例如有:醇(更具体地,甲醇、乙醇、异丙醇、或丁醇等)、脂肪烃(更具体地,正己烷、辛烷或环己烷等)、芳香族烃(更具体地,苯、甲苯或二甲苯等)、卤化烃(更具体地,二氯甲烷、二氯乙烷、四氯化碳或氯苯等)、醚(更具体地,二甲醚、二乙醚、四氢呋喃、乙二醇二甲醚、二甘醇二甲醚或丙二醇单甲醚等)、酮(更具体地,丙酮、甲基乙基酮或环己酮等)、酯(更具体地,乙酸乙酯或乙酸甲酯等)、二甲基甲醛、二甲基甲酰胺或二甲基亚砜。这些溶剂既可以单独使用一种,也可以组合两种以上来使用。为了提高制造感光体时的操作性,优选将无卤素溶剂(卤化烃以外的溶剂)用作溶剂。
将各成分进行混合并分散到溶剂中来制备涂布液。混合或分散例如可以使用珠磨机、辊磨机、球磨机、磨碎机、油漆振荡器或超声波分散机。
为了提高各成分的分散性,涂布液例如也可以含有表面活性剂。
对于使用涂布液进行涂布的方法,只要是能够将涂布液均匀涂布在导电性基体上的方法,没有特别限制。涂布方法例如有:浸涂法、喷涂法、旋涂法或棒涂法。
对于干燥涂布液的方法,只要能够使涂布液中的溶剂蒸发,没有特别限制。例如,有一种使用高温干燥机或者减压干燥机进行热处理(热风干燥)的方法。热处理条件例如是温度为40℃以上150℃以下且时间为3分钟以上120分钟以下。
另外,感光体的制造方法也可以根据需要,进一步包含形成中间层的工序和形成保护层的工序中的一个或者两个工序。可以适当地选择众所周知的方法来实现形成中间层的工序和形成保护层的工序。
以上,说明了第一实施方式所涉及的感光体。根据第一实施方式的感光体,不仅耐成膜性优异,而且能够抑制转印记忆的发生。
<第二实施方式:图像形成装置>
以下,参照图3,对第二实施方式所涉及图像形成装置的一方式进行说明。图3是示出第二实施方式所涉及图像形成装置的一例的图。第二实施方式所涉及图像形成装置100具备:像承载体30、带电部42、曝光部44、显影部46、转印部48及清洗部52。像承载体30是第一实施方式所涉及的感光体。带电部42通过与像承载体30的表面的接触,来使像承载体30的表面带电。带电部42的带电极性为正极性。曝光部44对带电的像承载体30的表面进行曝光,在像承载体30的表面形成静电潜像。显影部46使用显影剂将静电潜像显影为调色剂像。在像承载体30的表面与记录媒介P接触的同时,转印部48使调色剂像从像承载体30转印到记录媒介。清洗部52是清洁刮板。显影剂含有聚合调色剂。上述说明了第二实施方式所涉及图像形成装置的概要。
第二实施方式所涉及的图像形成装置100能够抑制由于薄膜形成及转印记忆的产生而导致的图像不良。其理由推测如下。第二实施方式所涉及的图像形成装置100具备第一实施方式所涉及的感光体来作为像承载体30。第一实施方式所涉及的感光体不仅耐成膜性优异,而且能够抑制转印记忆的发生。因此,第二实施方式所涉及的图像形成装置100能够抑制由于薄膜形成及转印记忆的产生而导致的图像不良。以下,对抑制转印记忆的产生进行详细说明。
首先,为了便于理解,对转印记忆导致的图像不良进行说明。如上述那样在图像形成过程中产生转印记忆时,以图像形成中感光体的一圈为基准(以下,有时记载为基准圈),在像承载体30的表面中基准圈的下一圈的带电步骤中不能获得期望电位的区域与基准圈的下一圈的带电步骤中获得期望电位的区域相比,往往电位降低。具体地,像承载体30的表面中基准圈的旋转一圈的非曝光区域与基准圈旋转一周的曝光区域相比,往往基准圈的下一圈带电时的电位低。因此,与基准圈旋转一周的曝光区域相比,基准圈旋转一周的非曝光区域由于带电时的电位容易降低,因此,显影时容易吸引正带电调色剂。其结果,容易形成反映了基准圈的非图像部(非曝光区域)的图像。反映了这样的基准圈的图像部的图像所形成的图像不良就是由于转印记忆而导致的图像不良(以下,有时记载为图像重像)。
参照图4,对产生了图像不良的图像进行说明。图4是示出产生了图像重像的图像60的图。图像60包含区域62及区域64。区域62是相当于像承载体1圈的区域,区域64也相当于像承载体1圈的区域。区域62包含图像66。图像66由环状的实心图像构成。区域64包含图像68及图像69。图像68是环状的半色调图像。图像69是区域64中环状反白的半色调图像。图像69的图像浓度比图像68浓。图像69反映了区域62的非曝光区域,产生了比设计图像浓度浓的图像不良(图像重像)。并且,区域64的图像由设计图像上整版半色调图像构成。
第一实施方式所涉及的感光体往往抑制如上述那样由于转印记忆而导致的图像不良。因此,可以认为,第二实施方式所涉及的图像形成装置100由于具备第一实施方式所涉及的感光体作为像承载体30,从而能够抑制由于转印记忆导致的图像不良。
以下,参照图3,对各个部进行详细说明。图像形成装置100只要是电子照相方式的图像形成装置,没有特别限制。图像形成装置100例如可以是单色图像形成装置,也可以是彩色图像形成装置。图像形成装置100是彩色图像形成装置的情况下,图像形成装置100例如采用串联方式。以下,以串联方式的图像形成装置100为例进行说明。
图像形成装置100采用直接转印方式。通常,采用直接转印方式的图像形成装置中,由于像承载体30容易受到转印偏压的的影响,通常容易产生转印记忆。并且,通常在采用直接转印方式的图像形成装置中,由于像承载体30与记录媒介接触,微小成分容易附着于像承载体30的表面,因此由于薄膜形成而容易导致图像不良。然而,第二实施方式所涉及的图像形成装置100具备第一实施方式所涉及的感光体,作为像承载体30。第一实施方式所涉及的感光体不仅耐成膜性优异,而且能够抑制转印记忆的产生。因此,可以认为,若具备第一实施方式所涉及的感光体作为像承载体30,即使在图像形成装置100采用直接转印方式的情况下,也能够抑制由于薄膜形成及转印记忆导致的图像不良。
图像形成装置100具备:图像形成单元40a、40b、40c及40d、转印带50及定影部54。以下,在不需要区分的情况下,图像形成单元40a、40b、40c和40d都记载为图像形成单元40。并且,在图像形成装置100是单色图像形成装置的情况下,图像形成装置100具备图像形成单元40a,省略了图像形成单元40b~40d。
图像形成单元40具备:像承载体30、带电部42、曝光部44、显影部46及转印部48及清洗部52。清洗部52是清洗刮板。像承载体30设置于图像形成单元40的中央位置。像承载体30设置为可按箭头方向(逆时针方向)旋转。在像承载体30的周围,以带电部42为基准从像承载体30的旋转方向的上游侧依次设置带电部42、曝光部44、显影部46、转印部48及清洗部52。此外,图像形成单元40还可以具备除电部(未图示)。
通过图像形成单元40a~40d,在转印带50上的记录媒介P上依次重叠若干种颜色(例如,黑色、青色、品红色和黄色这四种颜色)的调色剂像。
带电部42是带电辊。带电辊通过与像承载体30的表面接触,使像承载体30的表面带电。通常,具备带电辊的图像形成装置中,由于薄膜形成及转印记忆而容易导致图像不良的产生。对此,图像形成装置100具备第一实施方式所涉及的感光体来作为像承载体30。从而,第一实施方式所涉及的感光体不仅耐成膜性优异,而且能够抑制转印记忆的产生。因此,即使图像形成装置100中具备带电辊来作为带电部42的情况下,也能够抑制由于薄膜形成及转印记忆而导致的图像不良。其他的接触带电方式的带电部例如有带电刷。带电部42也可以是非接触方式。非接触方式的带电部例如有无栅格电极型带电部(Corotron)或有栅格电极型带电部(Scorotron)。
带电部42施加的电压没有特别限制。带电部42施加的电压例如是直流电压、交流电压或重叠电压(直流电压上重叠了交流电压的电压),更优选为直流电压。直流电压与交流电压或重叠电压相比,具有以下所示的优越性。若带电部42只施加直流电压,由于施加于像承载体30的电压值是恒定的,因此容易使像承载体30的表面均匀带电到恒定电位。并且,若带电部42只施加直流电压,则感光层的磨损量有减少的趋势。其结果,能够形成优质的图像。
曝光部44使带电了的像承载体30的表面曝光。由此,在像承载体30的表面形成静电潜像。基于输入到图像形成装置100的图像数据形成静电潜像。
显影部46使用显影剂使静电潜像显影为调色剂像。显影剂可以是单组分显影剂,也可以是双组分显影剂。显影剂含有聚合调色剂。通常,若显影剂包含聚合调色剂,清洗部(例如,清洗刮板)则难以去除残留于图像形成后的感光体表面的聚合调色剂。该情况下,感光体的表面附着微小成分,容易导致薄膜形成。对此,第二实施方式所涉及的图像形成装置100具备第一实施方式所涉及的感光体作为像承载体30。第一实施方式所涉及的感光体的耐成膜性优异。因此,第二实施方式所涉及的图像形成装置100即使在显影剂包含聚合调色剂的情况下,也能够抑制由于薄膜形成而导致的图像不良。
转印带50在像承载体与转印部48之间输送记录媒介P。转印带50是环状带。转印带50设置为能够按箭头方向(顺时针方向)旋转。
转印部48将通过显影部46显影的调色剂像从像承载体的表面转印到记录媒介P。当调色剂像从像承载体转印至记录媒介P上时,像承载体与记录媒介P接触。转印部48例如是转印辊。
定影部54对通过转印部48被转印到记录媒介P的未定影的调色剂像进行加热及/或加压。定影部54例如是加热辊及/或加压辊。通过对调色剂像进行加热及/或加压,调色剂像定影于记录媒介P。其结果,在记录媒介P上形成图像。
以上,对第二实施方式所涉及的图像形成装置进行了说明。第二实施方式所涉及的图像形成装置由于具备第一实施方式所涉及的感光体来作为像承载体,因此能够抑制图像不良的产生。
<第三实施方式:处理盒>
第三实施方式所涉及的处理盒具备第一实施方式所涉及的感光体。接着,参照图3,对第三实施方式所涉及的处理盒进行说明。
处理盒包含被单元化的部分。被单元化的部分是像承载体30。被单元化的部分除了包含像承载体30,也可以包含从由带电部42、曝光部44、显影部46、转印部48及清洗部52构成的组中选择的至少1个。处理盒例如相当于各个图像形成单元40a~40d。处理盒还可以具备除电器(未图示)。处理盒被设计为相对于图像形成装置100自如地安装与拆卸。因此,处理盒的操作处理容易,在像承载体30的感光度特性等劣化的情况下,可以简单快速地对包含像承载体30在内的处理盒进行更换。
以上,对第三实施方式所涉及的处理盒进行了说明。第三实施方式所涉及的处理盒由于具备第一实施方式所涉及的感光体来作为像承载体,能够抑制由于薄膜形成及转印记忆而导致图像不良的产生。
【实施例】
以下,通过实施例对本发明进行更详细的说明。但本发明并不受实施例范围的任何限制。
<1.感光体的材料>
准备以下的电子输送剂、空穴输送剂、电荷产生剂、粘结树脂及填料颗粒,来作为形成单层型感光体的单层型感光层的材料。
[1-1.电子输送剂]
准备第一实施方式中所说明的化合物(ETM1-1)~(ETM5-1)。
[1-2.空穴输送剂]
准备第一实施方式中所说明的空穴输送剂(HTM-1)~(HTM-4)、(HTM-6)~(HTM-9)、(HTM-11)、(HTM-14)、(HTM-17)及(HTM-20)。
并且,化学式(HTM-A)、(HTM-B)及(HTM-C)所表示的空穴输送剂(以下,有时分别记载为空穴输送剂(HTM-A)、(HTM-B)及(HTM-C))。
【化24】
【化25】
【化26】
[1-3.电荷产生剂]
[1-3-1.Y型氧钛酞菁晶体]
准备第一实施方式中所说明的电荷产生剂(CGM-1)、(CGM-2)及(CGM-3)。电荷产生剂(CGM-1)是化学式(CGM-A)所表示的氧钛酞菁。并且结晶结构是众所周知的Y型。
Y型氧钛酞菁晶体在CuKα特征X射线衍射光谱图中,在布拉格角2θ±0.2°=9.2°、14.5°、18.1°、24.1°、27.2°具有峰值,并且主峰是27.2°。此外,CuKα特征X射线衍射光谱是通过第一实施方式中所说明的测定装置及测定条件来测量的。
[1-3-2.X型无金属酞菁]
电荷产生剂(CGM-2)是化学式(CGM-B)所表示的无金属酞菁。此外,电荷产生剂(CGM-2)的结晶结构是众所周知的X型。
[1-3-3.α型氧钛酞菁晶体]
电荷产生剂(CGM-3)是化学式(CGM-A)所表示的氧钛酞菁,并且,结晶结构是众所周知的α型。
通过与Y型氧钛酞菁晶体同样的方法,来对α型氧钛酞菁晶体的CuKα特征X射线衍射光谱进行测量。α型氧钛酞菁晶体在CuKα特征X射线衍射光谱图中,在布拉格角2θ±0.2°=7.5°、10.2°、12.6°、13.2°、15.1°、16.3°、17.3°、18.3°、22.5°、24.2°、25.3°、28.6°具有峰值,主峰是28.6°。
[1-4.粘结树脂]
准备第一实施方式中所说明的聚碳酸酯树脂(PC-1)~(PC-5)(粘均分子量分别是50,000、48,500、49,800、50,000及50,000。)及聚芳酯树脂(PAR-1)(粘均分子量50,000),来作为粘结树脂。
[1-5.填料颗粒]
表2示出实施例及比较例中使用的填料颗粒。表2示出填料颗粒的种类、材质、体积中位径、商品名及制造商。填料颗粒F7、F9及F10的树脂含有氟原子。并且,表2的“商品名”一栏中的“AEROSIL”及“TORAYPEARL”是日本注册商标。表2中,填料颗粒的体积中位径D50通过第一实施方式中所说明的精密粒度分布测量装置来进行测量。
【表2】
<2.感光体的制造>
使用用于形成感光层的材料,来制造感光体(A-1)~(A-32)及感光体(B-1)~(B-5)。
[2-1.感光体(A-1)的制造]
将电荷产生剂(CGM-1)3质量份、作为空穴输送剂的烯胺衍生物(HTM-1)60质量份、作为电子输送剂的化合物(ETM1-1)40质量份、填料颗粒F7:5质量份、作为粘结树脂的聚碳酸酯树脂(PC-1)100质量份及作为溶剂的四氢呋喃800质量份放入容器内。使用棒状声波振子,将容器内的材料与溶剂混合2分钟,并使材料分散于溶剂。再使用球磨机,将容器内的材料与溶剂混合50小时,使材料分散于溶剂。由此,获得单层型感光层用涂布液。使用浸涂法,将单层型感光层用涂布液涂布于作为导电性基体的铝制鼓状支承体上。将所涂布的单层型感光层用涂布液在100℃下热风干燥40分钟。由此,在导电性基体上形成单层型感光层(膜厚25μm)。从而,获得感光体(A-1)。感光体(A-1)中,导电性基体具有氧化物敷层,感光层隔着氧化物敷层间接配置于导电性基体上。
[2-2.感光体(A-2)~(A-32)及感光体(B-1)~(B-5)的制造]
除了下述方面有变更以外,通过与制造感光体(A-1)同样的方法,来分别制造感光体(A-2)~(A-32)及感光体(B-1)~(B-4)。将制造感光体(A-1)时使用的电荷产生剂(CGM-1)改为表3~4所示种类的电荷产生剂。将制造感光体(A-1)时使用的、作为电子输送剂的化合物(ETM1-1)改为表3~4所示种类的电子输送剂。将制造感光体(A-1)时使用的、作为空穴输送剂的烯胺衍生物(HTM-1)改为表3~4所示种类的空穴输送剂。将制造感光体(A-1)时使用的填料颗粒F7及其含量5质量份改为分别由表3~4所示的填料颗粒的种类及含量。制造感光体(A-1)时使用的、作为粘结树脂的聚碳酸酯树脂(PC-1)改为表3~4所示种类的粘结树脂。
表3~4示出感光体(A-1)~(A-32)及感光体(B-1)~(B-5)的结构。表3~4中,CGM、HTM及ETM分别表示电荷产生剂、空穴输送剂及电子输送剂。表3~4中,CGM栏的CGM-1、CGM-2及CGM-3分别表示Y型氧钛酞菁晶体(电荷产生剂(CGM-1))、X型无金属酞菁(电荷产生剂(CGM-2))及α型氧钛酞菁晶体(电荷产生剂(CGM-3))。表3~4中,HTM栏的HTM-1~HTM-4、HTM-6~HTM-9、HTM-11、HTM-14、HTM-17及HTM-20分别表示烯胺衍生物(HTM-1)~(HTM-4)、(HTM-6)~(HTM-9)、(HTM-11)、(HTM-14)、(HTM-17)及(HTM-20)。表3~4中,ETM栏的ETM1-1、ETM2-1、ETM3-1、ETM4-1及ETM5-1分别表示化合物(ETM1-1)、(ETM2-1)、(ETM3-1)、(ETM4-1)及(ETM5-1)。表3~4中,填料颗粒的种类栏的F1、F3、F4、F6、F7及F9~F11分别表示填料颗粒F1、F3、F4、F6、F7及F9~F11。表3~4中,粘结树脂的种类栏的PC-1~PC-5及PAR-1分别表示聚碳酸酯树脂(PC-1)~(PC-5)及聚芳酯树脂(PAR-1)。
<3.感光体的评价>
[3-1.图像不良(图像重像)的评价]
分别对感光体(A-1)~(A-32)及感光体(B-1)~(B-5),评价图像不良(图像重像)。图像不良的评价在温度10℃及相对湿度20%RH的环境下进行。
将感光体装到评价设备上。评价设备使用图像形成装置(京瓷办公信息系统株式会社制造“FS-C5250DN”改装机)。该评价设备采用直接转印方式。该评价设备具备带电辊来作为接触带电方式的带电部。该评价设备不具备作为清洗部的清洗刮板。记录媒介使用的是京瓷办公信息系统株式会社销售“京瓷办公信息系统品牌纸VM-A4”(A4大小)。将聚合调色剂(京瓷办公信息系统株式会社制造“样品”单组分显影剂)填充到评价设备的显影部。
首先,以15秒间隔将印刷图案(图像浓度4%)印刷到1000张记录媒介(A4纸),来进行印刷测试。之后,通过下述操作来制作评价用图像。
参照图5,对评价用图像进行说明。图5是示出评价用图像70的图。评价用图像70包含区域72及区域74。区域72是相当于像承载体1圈的区域。区域72包含图像76。图像76由环状的实心图像(图像浓度100%)构成。该实心图像以2个同心圆为1组来构成。区域74是相当于像承载体1圈的区域。区域74包含图像78。图像78由整面半色调图像(图像浓度40%)构成。首先,形成区域72的图像76,然后,形成区域74的图像78。图像76是相当于感光体1圈的图像,以形成图像76一圈为基准,图像78相当于下一圈的图像。
接着,将印刷测试后得到的图像作为评价用图像。通过目测来观察评价用图像,确认区域74中是否有与图像76对应的图像。这里,通过目测观察是指,通过肉眼进行观察(肉眼观察)或通过放大镜(倍率10倍、TRUSCO公司制造、TL-SL10K)进行观察(放大镜观察)。确认由于转印记忆而导致的图像不良(图像重像)的有无。是否产生图像重像基于下述基准进行评价。评价结果如表5~6所示。并且,评价A~C表示合格。
(图像重像的评价基准)
评价AT:没有观察到与图像76对应的图像重像。
评价BT:只观察到稍许与图像76对应的图像重像。
评价CT:虽然观察到与图像76对应的图像重像,但是实际上不影响使用。
评价DT:明确地观察到与图像76对应的图像重像,且实际上影响使用。图像评价用样品中观察到的图像重像与没有观察到图像重像的非图像部之间的反差较低。
[3-2.单层型感光体的耐成膜性的评价]
分别对感光体(A-1)~(A-32)及感光体(B-1)~(B-5),评价耐成膜性。耐成膜性的评价在温度10℃及相对湿度15%RH环境下进行。评价设备使用的是与评价图像不良时使用的图像形成装置相同的图像形成装置。
首先,进行印刷测试。具体地,以15秒间隔将印刷图案(图像浓度1%)印刷到5000张记录媒介(A4尺寸的纸张)上。印刷测试后,制作评价用图像。具体地,印刷1张半色调图像(图像浓度50%),来作为评价用图像。通过目测来观察评价用图像,并确认由于薄膜形成而导致的图像不良(条纹、小横线)的有无。条纹是与印刷方向平行的线。小横线是与印刷方向平行的线状条纹。图像不良的有无基于下述的基准来进行评价。评价结果如表5~6所示。并且,评价A~C表示合格。
(耐成膜性的评价基准)
评价AF:没有观察到条纹、小横线。
评价BF:仅观察到稍许条纹、小横线。
评价CF:尽管观察到部分条纹、小横线,但是实际上不影响使用。
评价DF:整体明确地观察到条纹、小横线,且实际上影响使用。
[综合评价]
根据转印记忆的评价结果及耐成膜性的评价结果,基于下述的基准进行感光体的综合评价。
评价A:转印记忆的评价结果为评价AT,及耐成膜性的评价结果为评价AF。
评价B:转印记忆的评价结果为评价AT,且耐成膜性的评价结果为评价BF,或者,转印记忆的评价结果为评价BT,且耐成膜性的评价结果为评价AF,或者转印记忆的评价结果为评价BT,且耐成膜性的评价结果为评价BF。
评价C:转印记忆的评价结果不是评价DT,且耐成膜性的评价结果不是评价DF。转印记忆的评价结果为评价CT,或者,耐成膜性的评价结果为评价CF,或者,转印记忆的评价结果为评价CT,且耐成膜性的评价结果为评价CF。
评价D:转印记忆的评价结果为评价DT,且耐成膜性的评价结果为评价DF。
【表5】
【表6】
如表3及表4所示,感光体(A-1)~(A-32)中,感光层含有:电荷产生剂、空穴输送剂、电子输送剂、填料颗粒及粘结树脂。具体地,空穴输送剂是烯胺衍生物(1)。烯胺衍生物(1)由通式(1)表示。填料颗粒是F1、F3~F4、F6~F7及F9~F10中的任意一种。
如表5所示,感光体(A-1)~(A-32)中,转印记忆及耐成膜性的综合评价结果为A、B及C中的任意一种。
如表4所示,感光体(B-1)中,感光层不含填料颗粒。感光体(B-2)~(B-4)中,感光层含有空穴输送剂(HTM―A)、(HTM―B)及(HTM―C)中的任意一种,来作为空穴输送剂。空穴输送剂(HTM―A)、(HTM―B)及(HTM―C)不是烯胺衍生物(1)。感光体(B-5)中,感光层含有填料颗粒F11。填料颗粒F11既不是二氧化硅颗粒也不是树脂颗粒。
如表6所示,感光体(B-1)~(B-5)中,转印记忆及耐成膜性的综合评价结果全部为D。
感光体(A-1)~(A-32)与感光体(B-1)~(B-5)相比,不仅抑制了转印记忆的产生,而且耐成膜性优异。
〔产业可利用性〕
本发明所涉及的感光体能够用于图像形成装置。
〔附图标记说明〕
1 电子照相感光体
3 感光层
3a 单层型感光层
3b 电荷产生层
3c 电荷输送层
Claims (9)
1.一种电子照相感光体,具备导电性基体和感光层,
所述感光层包含:电荷产生剂、烯胺衍生物、电子输送剂或电子受体化合物、粘结树脂及填料颗粒,
所述烯胺衍生物由通式(1)表示,
所述通式(1)所表示的所述烯胺衍生物由下述式(HTM-1)、(HTM-2)、(HTM-4)、(HTM-6)、(HTM-9)、(HTM-11)、(HTM-14)或(HTM-17)表示,
(HTM-1):通式(1)中,R1、R2、R3及R4表示苯基,R5表示氢原子,n表示1,
(HTM-2):通式(1)中,R1表示甲基,R2、R3及R4表示苯基,R5表示氢原子,n表示1,
(HTM-4):通式(1)中,R1、R2及R4表示苯基,R3表示p-甲苯基,R5表示氢原子,n表示1,
(HTM-6):通式(1)中,R1表示甲基,R2及R4表示苯基,R3表示p-甲苯基,R5表示氢原子,n表示1,
(HTM-9):通式(1)中,R1表示甲基,R2及R4表示苯基,R3表示p-甲氧基苯基,R5表示氢原子,n表示1,
(HTM-11):通式(1)中,R1表示甲基,R2、R3及R4表示苯基,R5表示氢原子,n表示2,
(HTM-14):通式(1)中,R1、R2、R3、R4及R5表示p-甲苯基,n表示1,
(HTM-17):通式(1)中,R1、R2及R3表示苯基,R4表示p-氯苯基,R5表示氢原子,n表示1,
所述填料颗粒是二氧化硅颗粒或树脂颗粒,
【化1】
2.根据权利要求1所述的电子照相感光体,其特征在于,
所述填料颗粒的体积中位径为5nm以上10μm以下,
相对于所述粘结树脂100质量份,所述填料颗粒的含量为0.5质量份以上30质量份以下。
3.根据权利要求1或2所述的电子照相感光体,其特征在于,
所述树脂颗粒包含氟原子。
4.根据权利要求1或2所述的电子照相感光体,其特征在于,
所述粘结树脂具有由通式(3)或通式(4)表示的重复单元,
【化2】
【化3】
所述通式(3)中,
R11及R12各自独立,表示氢原子、可以具有卤素原子的、碳原子数1以上6以下的烷基、或任意取代的苯基,
R11与R12可以相互键合形成亚环烷基,
R11与R12可以相同,也可以不同,
R13及R14各自独立,表示氢原子或可以具有卤素原子的、碳原子数1以上3以下的烷基,
R13与R14既可以相同,也可以不同,
所述通式(4)中,
R15及R16各自独立,表示氢原子、可以具有卤素原子的、碳原子数1以上6以下的烷基、或任意取代的苯基,
R15与R16可以相互键合形成亚环烷基,
R15与R16可以相同,也可以不同,
R17及R18各自独立,表示氢原子或可以具有卤素原子的、碳原子数1以上3以下的烷基,
R17与R18可以相同,也可以不同,
所述的任意取代是指取代基的数量为0,或者1以上。
6.根据权利要求1或2所述的电子照相感光体,其特征在于,
所述电子输送剂或所述电子受体化合物包含通式(ETM1)、通式(ETM2)、通式(ETM3)、通式(ETM4)或通式(ETM5)所表示的化合物,
【化9】
【化10】
【化11】
【化12】
【化13】
所述通式(ETM1)中,
R61、R62、R63及R64各自独立,表示氢原子、任意取代的碳原子数1以上6以下的烷基、任意取代的碳原子数1以上6以下的烷氧基、任意取代的碳原子数6以上14以下的芳基、或任意取代的碳原子数7以上20以下的芳烷基,
R61、R62、R63及R64可以相同,也可以不同,
所述通式(ETM2)中,
R33、R34、R35及R36各自独立,表示氢原子、任意取代的碳原子数1以上6以下的烷基、任意取代的碳原子数2以上6以下的链烯基、任意取代的碳原子数1以上6以下的烷氧基、任意取代的碳原子数6以上14以下的芳基、任意取代的碳原子数7以上20以下的芳烷基、或任意取代的碳原子数3以上14以下的杂环基,
所述通式(ETM3)中,
R65表示任意取代的碳原子数1以上6以下的烷基、或任意取代的碳原子数6以上14以下的芳基,
R66表示任意取代的碳原子数1以上6以下的烷基、任意取代的碳原子数6以上14以下的芳基、任意取代的碳原子数1以上6以下的烷氧基、任意取代的碳原子数7以上20以下的芳烷基、任意取代的碳原子数6以上14以下的芳氧基、或任意取代的碳原子数7以上20以下的芳烷氧基,
R67表示任意取代的碳原子数1以上6以下的烷基,
s表示0以上4以下的整数,
所述通式(ETM4)中,
R39及R40各自独立,表示氢原子、卤素原子、可以具有1个或若干个取代基的碳原子数1以上6以下的烷基、任意取代的碳原子数1以上6以下的烷氧基、任意取代的碳原子数6以上14以下的芳基、任意取代的氨基,
R39及R40可以相同,也可以不同
所述通式(ETM5)中,
R41、R42及R43各自独立,表示氢原子、卤素原子、任意取代的碳原子数1以上6以下的烷基、任意取代的碳原子数2以上6以下的链烯基、任意取代的碳原子数1以上6以下的烷氧基、任意取代的碳原子数6以上14以下的芳基、任意取代的碳原子数7以上20以下的芳烷基、或任意取代的碳原子数3以上14以下的杂环基,
R41、R42及R43可以相同,也可以不同,
所述的任意取代是指取代基的数量为0,或者1以上。
8.一种图像形成装置,具备:
像承载体;
带电部,使所述像承载体的表面带电;
曝光部,使带电了的所述像承载体的所述表面曝光,来在所述像承载体的所述表面形成静电潜像;
显影部,使用显影剂将所述静电潜像显影为调色剂像;
转印部,将所述调色剂像从所述像承载体转印至记录媒介;以及
清洗部,
其特征在于,
所述像承载体是权利要求1或2所述的电子照相感光体,
所述带电部通过与所述像承载体的所述表面接触,来使所述像承载体的所述表面带电,
所述显影剂包含聚合调色剂,
所述清洗部是清洗刮板,
在所述像承载体的所述表面与所述记录媒介接触的同时,所述转印部使所述调色剂像从所述像承载体转印至所述记录媒介。
9.一种处理盒,其特征在于,
具备权利要求1或2所述的电子照相感光体。
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