CN107783206A - 双层微透镜阵列光学元件 - Google Patents

双层微透镜阵列光学元件 Download PDF

Info

Publication number
CN107783206A
CN107783206A CN201710686222.7A CN201710686222A CN107783206A CN 107783206 A CN107783206 A CN 107783206A CN 201710686222 A CN201710686222 A CN 201710686222A CN 107783206 A CN107783206 A CN 107783206A
Authority
CN
China
Prior art keywords
array
substrate
optical
double
optical element
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201710686222.7A
Other languages
English (en)
Other versions
CN107783206B (zh
Inventor
李永春
简弘量
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Individual
Original Assignee
Individual
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Individual filed Critical Individual
Publication of CN107783206A publication Critical patent/CN107783206A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN107783206B publication Critical patent/CN107783206B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B3/00—Simple or compound lenses
    • G02B3/0006—Arrays
    • G02B3/0037—Arrays characterized by the distribution or form of lenses
    • G02B3/0062—Stacked lens arrays, i.e. refractive surfaces arranged in at least two planes, without structurally separate optical elements in-between
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133526—Lenses, e.g. microlenses or Fresnel lenses
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/00009—Production of simple or compound lenses
    • B29D11/00278—Lenticular sheets
    • B29D11/00298—Producing lens arrays
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B3/00—Simple or compound lenses
    • G02B3/0006—Arrays
    • G02B3/0012—Arrays characterised by the manufacturing method
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B3/00—Simple or compound lenses
    • G02B3/0006—Arrays
    • G02B3/0037—Arrays characterized by the distribution or form of lenses
    • G02B3/005—Arrays characterized by the distribution or form of lenses arranged along a single direction only, e.g. lenticular sheets
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B3/00—Simple or compound lenses
    • G02B3/0006—Arrays
    • G02B3/0037—Arrays characterized by the distribution or form of lenses
    • G02B3/0056—Arrays characterized by the distribution or form of lenses arranged along two different directions in a plane, e.g. honeycomb arrangement of lenses
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B3/00—Simple or compound lenses
    • G02B3/02—Simple or compound lenses with non-spherical faces
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/18—Diffraction gratings
    • G02B5/1876—Diffractive Fresnel lenses; Zone plates; Kinoforms
    • G02B5/188—Plurality of such optical elements formed in or on a supporting substrate
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/00009—Production of simple or compound lenses
    • B29D11/00403—Producing compound lenses
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/13356—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors characterised by the placement of the optical elements

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Ophthalmology & Optometry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

本发明是有关一种双层微透镜阵列光学元件，其主要是于一基板的一面具有阵列排列的多个针孔结构，且该基板的两面分别具有一光学微透镜阵列，这些微透镜光学阵列均包含多个对应该多个针孔结构位置的非球面微透镜，本发明双层微透镜阵列光学元件使用时，主要是将经由DMD芯片折射的UV光，由晶基板一面的光学微透镜阵列的多个非球面微透镜分别聚焦在各个针孔结构的位置，并形成一个小光点，而光点会在通过针孔结构之后开始发散，接着再由基板另一面的光学微透镜阵列的多个非球面微透镜重新将光束在聚焦面上获得一个逼近物理绕射极限的极小圆形光点极小的光点。形成的光点阵列可应用于扫描式的无光罩与直写式的曝光微影制程。

Description

双层微透镜阵列光学元件
技术领域
本发明是有关一种无光罩式微影技术使用的光学元件，尤指一种可直接取代或减少光学成像镜组的使用，提高无光罩式微影技术解析能力及减少曝光能量损失的双层微透镜阵列光学元件。
背景技术
以DMD(Digital Mirror Device，DMD，数字微反射镜阵列装置)为核心的无光罩微影技术可以分成二大类：(1)影像成像(Image Forming)与(2)光点阵列扫描(Light PointArray Scanning)。
其中，光点阵列扫描(Light Point Array Scanning)的无光罩微影技术，主要是UV光源经过DMD将影像投影至第一成像镜组，利用第一成像镜组将光源与DMD形成的数字光学影像投射至微透镜阵列空间滤波器，接着再利用第二成像镜组将经过微透镜阵列空间滤波器的数字光学影像，重新成像于旋涂有光阻层(PR layer)的基材表面，以进行PR的UV曝光。
然而，当第二成像镜组将经过微透镜阵列空间滤波器的数字光学影像，重新成像于旋涂有光阻层(PR layer)的基材表面过程中，会发散掉一些UV光的能量，且第二成像镜组的质量会影响成像品质，甚至导致成像时出现扭曲变形的状况。
本案发明人鉴于上述光点阵列扫描(Light Point Array Scanning)的无光罩微影技术所衍生的各项缺点，乃亟思加以改良创新，并经多年苦心孤诣潜心研究后，终于成功研发完成本件双层微透镜阵列光学元件。
发明内容
为解决前述现有技术的问题，本发明的一目的是在于提供一种可以有效提高光能量使用率的双层微透镜阵列光学元件。
为解决前述现有技术的问题，本发明的一目的是在于提供一种可以有效提高无光罩式微影机台解析能力的双层微透镜阵列光学元件。
为达成上述的目的，本发明双层微透镜阵列光学元件主要包括一基板，该基板一侧表面具有阵列排列的多个针孔结构；一第一光学微透镜阵列，该第一光学微透镜阵列是设于该基板的一面，该第一光学微透镜阵列包括多个分别对应多个针孔位置的第一非球面微透镜；一第二光学微透镜阵列，该第二光学微透镜阵列是设于该基板相对第一光学微透镜阵列的另一面，该第二光学微透镜阵列包括多个分别对应该多个针孔位置的第二非球面微透镜。
其中，该基板为玻璃或石英材质，且该基板一侧表面具有以蒸镀机镀上的一阻挡层，该多个针孔结构是阵列排列于该阻挡层上。且该基板与该阻挡层之间具有一黏着层，该黏着层是以一蒸镀机蒸镀于该基板的表面。该阻挡层及该黏着层上具有阵列排列的针孔结构。
其中，该阻挡层及该黏着层均为不透光层。
其中，该第一光学微透镜阵列是设于该基板具有阵列排列的该多个针孔结构的一面。
其中，该第二光学微透镜阵列是设于该基板具有阵列排列的该多个针孔结构的一面。
其中，该第一光学微透镜阵列包括多个分别对应该多个针孔结构的第一非球面微透镜。
其中，该第二光学微透镜阵列包括多个分别对应该多个针孔结构的第二非球面微透镜。
上述的第一光学微透镜阵列是设于该基板具有黏着层及阻挡层的一面，或该第二光学微透镜阵列是设于该基板具有黏着层及阻挡层的一面。
附图说明
图1为本发明双层微透镜阵列光学元件的立体外观示意图；
图2为本发明双层微透镜阵列光学元件的立体分解示意图；
图3为本发明双层微透镜阵列光学元件的使用状态示意图；
图4为本发明双层微透镜阵列光学元件使用状态的光路示意图。
符号说明
1 双层微透镜阵列光学元件
11 基板
111 针孔结构
112 黏着层
113 阻挡层
12 第一光学微透镜阵列
121 第一非球面微透镜
13 第二光学微透镜阵列
131 第二非球面微透镜
2 UV光源
3 反射镜
4 DMD芯片
具体实施方式
以下将描述具体的实施例以说明本创作的实施态样，但其并非用以限制本发明所欲保护的范畴。
请参阅图1～2，本发明双层微透镜阵列光学元件1是在透明的基板上制作一组类似于空间滤波器的针孔阵列结构的光学元件，并在其元件的正反两面都结合微透镜阵列，达到结构为“微透镜-滤波器-微透镜”的光学元件，其主要包括一基板11、一第一光学微透镜阵列12及一第二光学微透镜阵列13，该基板11一侧表面具有阵列排列的多个针孔结构111，该第一光学微透镜阵列12是设于该基板11一面，该第一光学微透镜阵列12包括多个分别对应该多个针孔结构111的位置的第一非球面微透镜121，该第二光学微透镜阵列13是设于该基板11相对第一光学微透镜阵列12的另一面，该第二光学微透镜阵列13包括多个分别对应该多个针孔结构111的位置的第二非球面微透镜131。
本发明双层微透镜阵列光学元件1主要是在直径2寸、厚度260μm的玻璃基板11上先制作阵列排列的多个针孔结构111，再制作第一光学微透镜阵列12及第二光学微透镜阵列13，其流程如下：
a.在基板11上先以蒸镀机镀上10nm铬作为其他金属与玻璃的黏着层112，及较厚的50nm金作为UV光的阻挡层113。
b.接着以标准的黄光微影制程制作阵列排列的多个针孔结构111；
c.在金属层上旋涂一层1.4μm厚度的正光阻(AZ1800)，再由7μm大小与110μm周期的孔洞阵列的玻璃光罩覆盖曝光，完成曝后烤与显影的程序后，在光阻上形成相同大小的以阵列排列的针孔结构111，然后经过金或铬金属的蚀刻即完成针孔阵列在黏着层112及阻挡层113上的转移。
d.在基材11的另一面旋涂一层厚度为25μm的SU-8结构型负光阻(SU-83025)，经软烤曝光硬烤后，确保SU-8光阻在石英玻璃上稳固。
e.最后，以高分子PC材料用OCA胶带黏于阵列排列的针孔结构111那一面。完成试片的准备后以准分子雷射双轴拖拉加工技术来制作出第一光学微透镜阵列12及第二光学微透镜阵列13；第一光学微透镜阵列12的每一个第一非球面微透镜，及第二光学微透镜阵列13的每一个第二非球面微透镜的直径跟周期皆为110μm。
其中，准分子雷射双轴拖拉技术在制造第一光学微透镜阵列12及第二光学微透镜阵列13的流程，主要由雷射通过光罩图案持续延着两互相垂直轴向射出激光束，每发周期32ns，当雷射通量为100mJ/cm2时，加工深度为0.065μm，雷射重复频率为5Hz，每发雷射间隔距离2μm，基板移动速度10μm/s。加工过程中为了可以准确地将微透镜阵列与针孔阵列的光轴对应上，因此加入了CCD相机来协助对准。由CCD可直接观察到针孔阵列是否有在加工轴上以及是否在中央位置。完成后由光学显微镜10X倍物镜底下观测及X.Y轴上每一个光点的强度及对位。并在光学显微镜20X倍物镜观察其强度及加工精度。
最终利用光学显微镜来做LED及MLSFA最后聚焦平面上所呈现的光点大小，调整LED强度及物镜，找到对焦平面约为210μm处，在20倍物镜下4x3的阵列光点峰值约为1.95W/cm2，在聚焦平面上通过透镜的单一光点能量分布示意图如图(4)(b).图(4)(c)在X-X^".Y-Y^"轴剖面，当能量等级为1/e2时，光点大小约为10.24μm跟14.1μm，而当能量等级为FWHM时，光点大小约为7.05μm跟8.5μm。
请参阅图3～4，为本发明双层微透镜阵列光学元件1的使用状态，主要是将光源2发射的UV光经过均光与准直处理之后，透过一反射镜3将UV光以一特定的角度投射于DMD(Digital Mirror Device，DMD，数字微反射镜阵列装置)芯片4，UV光经DMD芯片4折射后，先经由第一光学微透镜阵列12的多个第一非球面微透镜121分别聚焦在各个针孔结构111的位置，并形成一个小光点，而光点会在通过针孔结构111之后开始发散，接着再由第二光学微透镜阵列13的多个第二非球面微透镜131重新将光束在聚焦面上获得一个逼近物理绕射极限的极小圆形光点极小的光点。其中针孔结构111即类似于空间滤波器，目的是能够过滤去除入射的非平行光源或非球面微透镜边缘的杂散光，使最后聚焦的光点拥有良好的光学质量，如更佳的光点真圆度，更一致的光点能量分布…等。除此之外，本发明双层微透镜阵列光学元件1仅只有四个镜片间的转换界面，也因此减少了UV光在镜片间的界面反射与吸收问题，进而提高光能量的使用效率。再者，发明双层微透镜阵列光学元件1也能够直接与紫外光灯源做搭配，应用在周期性光束笔微影系统的设备上；此外，对于近年来所发展的无光罩式微影制程设备也具有性能改善与制造成本的降低的明显优势。
上列详细说明是针对本发明的一可行实施例的具体说明，但该实施例并非用以限制本发明的专利范围，凡未脱离本发明技艺精神所为的等效实施或变更，均应包含于本案的专利范围中。

Claims (7)

1.一种双层微透镜阵列光学元件，其特征在于，包括：
一基板，该基板一侧表面具有阵列排列的多个针孔结构；
一第一光学微透镜阵列，该第一光学微透镜阵列是设于该基板的一面，该第一光学微透镜阵列包括多个分别对应多个针孔位置的第一非球面微透镜；
一第二光学微透镜阵列，该第二光学微透镜阵列是设于该基板相对第一光学微透镜阵列的另一面，该第二光学微透镜阵列包括多个分别对应该多个针孔位置的第二非球面微透镜。
2.如权利要求1所述的双层微透镜阵列光学元件，其特征在于，该基板为玻璃或石英材质，且该基板一侧表面具有一阻挡层，该多个针孔结构是阵列排列于该阻挡层上。
3.如权利要求2所述的双层微透镜阵列光学元件，其特征在于，该基板及该阻挡层之间具有一黏着层。
4.如权利要求3所述的双层微透镜阵列光学元件，其特征在于，该黏着层是以一蒸镀机蒸镀于该基板的表面。
5.如权利要求2或3所述的双层微透镜阵列光学元件，其特征在于，该阻挡层及该黏着层均为不透光层。
6.如权利要求1所述的双层微透镜阵列光学元件，其特征在于，该第一光学微透镜阵列是设于该基板具有阵列排列的该多个针孔结构的一面。
7.如权利要求1所述的双层微透镜阵列光学元件，其特征在于，该第二光学微透镜阵列是设于该基板具有阵列排列的该多个针孔结构的一面。
CN201710686222.7A 2016-08-25 2017-08-11 双层微透镜阵列光学元件 Active CN107783206B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW105127612A TWI613534B (zh) 2016-08-25 2016-08-25 雙層微透鏡陣列光學元件
TW105127612 2016-08-25

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN107783206A true CN107783206A (zh) 2018-03-09
CN107783206B CN107783206B (zh) 2019-08-27

Family

ID=61242326

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201710686222.7A Active CN107783206B (zh) 2016-08-25 2017-08-11 双层微透镜阵列光学元件

Country Status (3)

Country Link
US (1) US20180059475A1 (zh)
CN (1) CN107783206B (zh)
TW (1) TWI613534B (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114690280A (zh) * 2020-12-30 2022-07-01 苏州晶方光电科技有限公司 彩色微透镜阵列、其制造方法及投影系统

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110836892B (zh) * 2019-11-26 2021-06-11 清华大学 衍射超分辨显微成像方法及系统
US11821075B2 (en) * 2020-06-15 2023-11-21 Vapor Technologies, Inc. Anti-microbial coating physical vapor deposition such as cathodic arc evaporation
US11740180B2 (en) * 2020-09-28 2023-08-29 Purdue Research Foundation Method of measuring diffusion in a medium
TWI812025B (zh) * 2021-02-25 2023-08-11 國立臺灣大學 全域式軸向可調色散鏡組及其彩色共焦量測系統
US11733537B2 (en) * 2021-09-03 2023-08-22 Wisconsin Alumni Research Foundation Super-resolution optical microscope

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101072996A (zh) * 2004-12-10 2007-11-14 皇家飞利浦电子股份有限公司 多点检验设备
US7706070B2 (en) * 2006-09-29 2010-04-27 Oki Data Corporation Lens array, exposure device, image forming apparatus and LED head

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003040830A2 (en) * 2001-11-07 2003-05-15 Applied Materials, Inc. Optical spot grid array printer
US8097217B2 (en) * 2007-07-06 2012-01-17 Uion Co., Ltd Atmospheric pressure plasma generating apparatus by induction electrode
TW201006646A (en) * 2008-08-01 2010-02-16 Hon Hai Prec Ind Co Ltd Microlens compounded apparatus and method for making same
JP5917923B2 (ja) * 2012-01-23 2016-05-18 株式会社アドテックエンジニアリング 露光光学系、露光装置および露光方法
JP6065470B2 (ja) * 2012-08-31 2017-01-25 セイコーエプソン株式会社 撮像装置、検査装置、及び電子デバイスの製造方法
US9945988B2 (en) * 2016-03-08 2018-04-17 Microsoft Technology Licensing, Llc Array-based camera lens system

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101072996A (zh) * 2004-12-10 2007-11-14 皇家飞利浦电子股份有限公司 多点检验设备
US7706070B2 (en) * 2006-09-29 2010-04-27 Oki Data Corporation Lens array, exposure device, image forming apparatus and LED head

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114690280A (zh) * 2020-12-30 2022-07-01 苏州晶方光电科技有限公司 彩色微透镜阵列、其制造方法及投影系统

Also Published As

Publication number Publication date
CN107783206B (zh) 2019-08-27
US20180059475A1 (en) 2018-03-01
TWI613534B (zh) 2018-02-01
TW201807510A (zh) 2018-03-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107783206B (zh) 双层微透镜阵列光学元件
JP7142701B2 (ja) 自動車投光器用の投射装置、及び投射装置を製造するための方法
JP2011203792A (ja) 撮像装置
TWI395978B (zh) 光學元件與製造光學元件的方法
TWI358615B (en) Illumination system
JPS597359A (ja) 照明装置
TW200935178A (en) Illumination optical system, exposure apparatus and device manufacturing method
JP2012155330A5 (ja) 露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法
TW200813646A (en) Illuminating optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
CN109031899A (zh) 一种高分辨率高效率投影光刻成像系统及曝光方法
US11868050B2 (en) Non-telecentric light guide elements
JP2015534654A (ja) ２つの方向においてテレセントリックであるフォトリソグラフィック照明器
JPH07306304A (ja) オプチカル・ホモジナイザー
JP2007072371A (ja) 露光装置
CN111965739A (zh) 一种双焦距微透镜阵列结构的简便制备方法
JP2008242238A (ja) 露光装置
CN107845584B (zh) 用于检测基板表面缺陷的装置、系统和方法
JP2007010951A (ja) 焦点検出装置及び撮像装置
JP4294261B2 (ja) 集光型光スプリッタ及びその作製方法
JPH06130255A (ja) Ｌｅｄ用光カプラー及び情報読取り装置
Yamaguchi et al. Fabrication of a dihedral corner reflector array for a floating image manufactured by x-ray lithography using synchrotron radiation
KR102100285B1 (ko) 마스크리스 노광장치의 제조 방법
JP3410813B2 (ja) オプチカル・ホモジナイザー
CN214042006U (zh) 一种基于双波长光子筛和双光源的光刻对准系统
Voelkel et al. Wafer-level micro-optics: trends in manufacturing, testing, and packaging

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant