CN107759109A - 一种常温下脱除玻璃、陶瓷上镀层的褪镀液 - Google Patents

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    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/53—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone involving the removal of at least part of the materials of the treated article, e.g. etching, drying of hardened concrete
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    • C04B41/91—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics involving the removal of part of the materials of the treated articles, e.g. etching

Abstract

本发明涉及一种常温下脱除玻璃、陶瓷上多余镀层的褪镀液，由溶剂A、溶剂B、溶剂C组成，其中：溶剂A按各组分在溶液中的质量百分含量计包括：含过氧化氢的过氧化物15‑30％，水65％‑94％,助剂1‑5％；溶剂B按各组分在水溶液中的质量百分含量计包括：含有氢氧化钠或氢氧化钾的碱15‑28％，ETDA四钠1‑10％，水57‑93％，助剂1％‑3％；溶剂C按各组分在水溶液中的质量百分含量计包括：氢氧化钾或氢氧化纳10‑30％，碳酸钠1‑8％，柠檬酸钠2‑20％，ETDA四钠1‑5％，水37％‑86％。通过本发明的褪镀液处理，在不损害玻璃、陶瓷、宝石盖板的结构和外观以及其上的油墨层的前提下可褪除盖板上的铜、银、钛、硅、铝等复合镀层。

Description

一种常温下脱除玻璃、陶瓷上镀层的褪镀液
技术领域
本发明涉及电镀层处理领域，特别是一种常温、低温下脱除手机玻璃、陶瓷盖板，电脑玻璃，陶瓷面板，手表玻璃，陶瓷面板上镀层的褪镀液。
背景技术
现有技术无法在对玻璃、陶瓷本身，以及其上的油墨层不影响的情况下褪除其上的铜、银、钛、铬、硅、铝等复合镀层，更无法做到在常温、低温情况下褪除。特别是，尚没有完美去除电镀镀层的作用，主要是针对玻璃触摸盖板、背板，宝石、陶瓷盖板、触摸屏盖板，背板等。
发明内容
针对现有技术中的缺陷，本发明可以在不损坏玻璃宝石，陶瓷等基材以及其油墨层情况下，在常温、低温条件下，把镀层作为催化剂，而把镀层脱除，是通过如下技术方案实现的。
一种常温下脱除玻璃、陶瓷上镀层的褪镀液，包括溶剂A、溶剂B、溶剂C，其中：
溶剂A按各组分在溶液中的质量百分含量计包括：含过氧化氢的过氧化物5-30％，水65％-94％,助剂1-5％；
溶剂B按各组分在溶液中的质量百分含量计包括：含有氢氧化钠或氢氧化钾的碱5-30％，ETDA四钠1-10％，水57-93％，助剂1％-3％；
助剂包括无机添加剂(如镀铜用的镉盐)和有机添加剂(如镀镍用的香豆素等)、络合剂、光亮剂、表面活性剂、整平剂、应力消除剂、除杂剂和润湿剂。
溶剂C按各组分在溶液中的质量百分含量计包括：氢氧化钾(钠)10-30％，碱酸钠1-8％，柠檬酸钠2-20％，ETDA四钠1-5％，水37％-86％。
利用过氧化物与碱性物混合反应，将镀层中的金属单质当催化剂，同时把金属单质反应生成氧化物或盐，镀层中的金属单质镀层褪除。
优选的，溶剂C中的氢氧化钾可以由其他碱性物替换。
优选的，所述过氧化物包括过氧化氢。
优选的，所述碱性物包括氢氧化钾或氢氧化纳。
优选的，金属单质包括铜、银、钛、硅、铝中的一种。
本发明有益效果是：在不损害玻璃、陶瓷、宝石盖板的结构和外观以及装饰油墨层的前提下可褪除盖板上的多余铜、银、钛、硅、铝等复合镀层，同时因为不损坏油墨层，而保留了油墨层下的镀层。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例一：
本发明提供的一种常温下脱除玻璃、陶瓷上镀层的褪镀液，包括溶剂A、溶剂B、溶剂C，其中，一般镀层通过溶剂A+B即可完成，镀层复杂或者较厚时，在溶剂A+B中退镀不明显时，再将镀层放入溶剂C中：
溶剂A按各组分在溶液中的质量百分含量计包括：含过氧化氢的过氧化物15％，水84％,助剂1％，搅拌混匀获得溶剂A；
溶剂B按各组分在溶液中的质量百分含量计包括：含有氢氧化钠或氢氧化钾的碱15％，ETDA四钠1％，水82％，助剂2％,搅拌混匀获得溶剂B；
溶剂C按各组分在溶液中的质量百分含量计包括：氢氧化钾(钠)15％，碱酸钠3％，柠檬酸钠15％，ETDA四钠2％，水65％，搅拌混匀获得溶剂C。
将待处理的玻璃或陶瓷片上的金属镀层，以钛为例，常温下放入具有溶剂A+B的褪镀槽中，反应生成二氧化钛，再将A+B溶剂浸泡后的玻璃片再放入具有溶液C的褪镀槽中及有溶液C的褪镀槽中，二氧化钛与溶液C中的碱溶液发生化学反应，达到退镀效果，最后进行清洗完成整个退镀过程。退除部分镀层时，由溶剂A+B的浸泡就可完成退镀。
实施例二：
一种常温下脱除玻璃、陶瓷上镀层的褪镀液，包括溶剂A、溶剂B、溶剂C组成，其中：
溶剂A按各组分在溶液中的质量百分含量计包括：含过氧化氢的过氧化物30％，水65％,助剂5％，搅拌混匀获得溶剂A；
溶剂B按各组分在溶液中的质量百分含量计包括：含有氢氧化钠或氢氧化钾的碱30％，ETDA四钠2％，水66％，助剂2％,搅拌混匀获得溶剂B；
溶剂C按各组分在溶液中的质量百分含量计包括：氢氧化钾(钠)25％，碱酸钠8％，柠檬酸钠15％，ETDA四钠5％，水47％，搅拌混匀获得溶剂C。
将待处理的玻璃或陶瓷片上的金属镀层，以钛为例，常温下放入具有溶剂A、溶剂B的褪镀槽中，反应生成二氧化钛或钛酸盐，再将溶剂浸泡后的玻璃片再放入具有溶液C的褪镀槽中，二氧化钛与溶液C中的碱溶液发生化学反应生成钛酸盐，达到完美退镀效果，最后进行清洗完成整个退镀过程.
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (5)

1.一种常温下脱除玻璃、陶瓷上镀层的褪镀液，包括溶剂A、溶剂B，其中：
溶剂A按各组分在溶液中的质量百分含量计包括：含过氧化氢的过氧化物5-30％，水65％-94％,助剂1-5％；
溶剂B按各组分在溶液中的质量百分含量计包括：含有氢氧化钠或氢氧化钾的碱5-30％，ETDA四钠1-10％，水57-93％，助剂1％-3％；
将具有镀层的基体放入溶剂A加溶剂B中，利用过氧化物与碱性物混合反应，将镀层中的金属单质当催化剂，同时把金属单质反应生成氧化物或盐，镀层中的金属单质镀层褪除。
2.根据权利要求1所述的表面处理液，其特征在于，所述退镀液还包括溶剂C,镀膜层过厚或镀层种类过多时配合使用溶剂C，溶剂C按各组分在溶液中的质量百分含量计包括：氢氧化钾或氢氧化纳10-30％，碱酸钠1-8％，柠檬酸钠2-20％，ETDA四钠1-5％，水37％-86％。
3.根据权利要求1所述的表面处理液，其特征在于，所述过氧化物包括过氧化氢。
4.根据权利要求2所述的表面处理液，其特征在于，所述碱性物包括氢氧化钾或氢氧化纳。
5.根据权利要求1所述的表面处理液，其特征在于，金属单质包括铜、铬、银、钛、硅、铝中的一种。
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