CN107755388A - 光学玻璃的清洗方法 - Google Patents

Abstract

一种光学玻璃的清洗方法，包括：形成第一清洗剂，所述第一清洗剂为酸性清洗剂；提供待清洗玻璃；采用所述第一清洗剂对所述待清洗玻璃进行第一湿法清洗处理。本发明光学玻璃的清洗方法，采用第一清洗剂对所述待清洗玻璃进行第一湿法清洗，且所述第一清洗剂为酸性清洗剂，可以有效的清洗所述待清洗玻璃，去除所述待清洗玻璃的表面杂质，而且可以避免对所述待清洗玻璃表面造成损伤。所以本发明光学玻璃的清洗方法不会对光学玻璃表面造成损伤，不会影响光学玻璃的二次使用，有利于延长光学玻璃的使用寿命。

Description

光学玻璃的清洗方法

技术领域

本发明涉及玻璃领域，特别涉及一种光学玻璃的清洗方法。

背景技术

光学玻璃是光电技术产业的基础和重要组成部分。特别是在20世纪90年代以后，随着光学与电子信息科学、新材料科学的不断融合，作为光电子基础材料的光学玻璃在光传输、光储存和光电显示三大领域的应用更是突飞猛进，成为社会信息化尤其是光电信息技术发展的基础条件之一。

光学玻璃是指在玻璃中加入光敏材料，从而使玻璃具有改变光的传播方向，并能够改变紫外、可见或红外光的相对光谱分布的玻璃。光学玻璃可用于制造光学仪器中的透镜、棱镜、反射镜及窗口等。由光学玻璃构成的部件是光学仪器中的关键性元件。

在使用过程中，光学玻璃的表面往往会沾染各种挥发物，形成杂质。特别是在金属熔炼过程中，所使用光学仪器中的光学玻璃在高温下会沾染金属挥发物。金属挥发物在光学玻璃表面形成金属杂质。金属杂质的形成影响了光学玻璃的光学性能和透光性，影响光学玻璃构成光学仪器的使用。

但是现有技术中去除光学玻璃上杂质的清洗方法，会对光学玻璃造成损伤，从而影响光学玻璃的二次使用，影响了光学玻璃的寿命。

发明内容

本发明解决的问题是提供一种光学玻璃的清洗方法，以清洗玻璃并避免对玻璃造成损伤，延长玻璃的使用寿命。

为解决上述问题，本发明提供一种光学玻璃的清洗方法，包括：

形成第一清洗剂，所述第一清洗剂为酸性清洗剂；提供待清洗玻璃；采用所述第一清洗剂对所述待清洗玻璃进行第一湿法清洗处理。

可选的，所述待清洗玻璃上具有杂质，所述杂质的材料包括金属；所述清洗方法用于去除所述待清洗玻璃上的杂质。

可选的，形成第一清洗剂的步骤中，所述第一清洗剂包括硫酸、氢氟酸和水。

可选的，形成第一清洗剂的步骤包括：提供硫酸溶液、氢氟酸溶液和水；将所述硫酸溶液和所述氢氟酸溶液加入水中，形成所述第一清洗剂。

可选的，提供所述硫酸溶液和所述氢氟酸溶液的步骤中，按质量百分比，所述硫酸溶液的浓度大于或等于70％；所述氢氟酸溶液的浓度在40％到60％范围内。

可选的，提供所述硫酸溶液、所述氢氟酸溶液和水的步骤中的步骤中，按质量百分比，硫酸溶液、氢氟酸溶液和水的比值在2:2:3到1:1:4范围内。

可选的，采用所述第一清洗剂对所述待清洗玻璃进行第一湿法清洗处理的步骤包括：将所述待清洗玻璃浸没于所述第一清洗剂中进行浸泡。

可选的，将所述待清洗玻璃浸没于所述第一清洗剂中进行浸泡的步骤中，浸泡时间在10分钟到20分钟范围内。

可选的，将所述待清洗玻璃浸没于所述第一清洗剂中进行浸泡的步骤中，所述第一清洗剂的温度在25℃到30℃范围内。

可选的，采用所述第一清洗剂对所述待清洗玻璃进行第一湿法清洗处理的步骤中，采用超声波清洗装置对所述待清洗玻璃进行第一湿法清洗处理。

可选的，采用所述第一清洗剂对所述待清洗玻璃进行第一湿法清洗处理之后，所述清洗方法还包括：采用第二清洗剂对经第一清洗剂清洗的待清洗玻璃进行第二湿法清洗处理。

可选的，所述第二清洗剂为水。

可选的，采用第二清洗剂对经第一清洗剂清洗的待清洗玻璃进行第二湿法清洗处理处理的步骤中，所述第二清洗剂的温度在40℃到60℃范围内。

可选的，采用第二清洗剂对经第一清洗剂清洗的待清洗玻璃进行第二湿法清洗处理的步骤包括：采用第二清洗剂冲洗经第一清洗剂清洗的待清洗玻璃。

与现有技术相比，本发明的技术方案具有以下优点：

本发明光学玻璃的清洗方法，采用第一清洗剂对所述待清洗玻璃进行第一湿法清洗，且所述第一清洗剂为酸性清洗剂，可以有效的清洗所述待清洗玻璃，去除所述待清洗玻璃的表面杂质，而且可以避免对所述待清洗玻璃表面造成损伤。所以本发明光学玻璃的清洗方法不会对光学玻璃表面造成损伤，不会影响光学玻璃的二次使用，有利于延长光学玻璃的使用寿命。

附图说明

图1是本发明光学玻璃清洗方法一实施例的流程示意图；

图2是图1所示实施例中步骤S100的流程示意图。

具体实施方式

由背景技术可知，现有技术中光学玻璃的清洗方法存在会对玻璃造成损伤的问题。现结合一种光学玻璃的清洗方法分析其损伤问题的原因：

金属杂质的形状比较稳定，难以通过一般的清洗方法去除。所以现有技术中往往采用砂纸刮擦的干法方式去除所述挥发物。但是砂纸刮擦的方式去除挥发物的做法，往往会对光学玻璃的表面造成损伤，在光学玻璃表面留下划痕，从而会影响光学玻璃的光学性能。

而且砂纸刮擦也会造成光学玻璃表面粗糙度的增大，从而使光学玻璃的表面吸附能力增强，导致光学玻璃在再次使用过程中，光学玻璃表面更容易再次形成杂质，而且再次形成的杂质与光学玻璃表面的连接更紧密，更加难以去除，进而造成光学玻璃无法再次使用。

为解决所述技术问题，本发明提供一种光学玻璃的清洗方法，包括：

形成第一清洗剂，所述第一清洗剂为酸性清洗剂；提供待清洗玻璃；采用所述第一清洗剂对所述待清洗玻璃进行第一湿法清洗处理。

本发明光学玻璃的清洗方法，采用第一清洗剂对所述待清洗玻璃进行第一湿法清洗，且所述第一清洗剂为酸性清洗剂，可以有效的清洗所述待清洗玻璃，去除所述待清洗玻璃的表面杂质，而且可以避免对所述待清洗玻璃表面造成损伤。所以本发明光学玻璃的清洗方法不会对光学玻璃表面造成损伤，不会影响光学玻璃的二次使用，有利于延长光学玻璃的使用寿命。

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施例做详细的说明。

参考图1，是本发明光学玻璃清洗方法一实施例的流程示意图。

如图1所示，执行步骤S100，形成第一清洗剂，所述第一清洗剂为酸性清洗剂；执行步骤S200，提供待清洗玻璃。

所述待清洗玻璃为光学玻璃，可用于制造光学仪器中的透镜、棱镜、反射镜及窗口等。具体的，所述待清洗玻璃为金属熔炼过程中所使用光学仪器中的光学玻璃。

金属熔炼过程是一种高温过程。金属熔炼过程会产生挥发物，挥发物附着在光学玻璃表面形成杂质，影响光学玻璃的光学性能和透视性能。所以提供待清洗玻璃的步骤中，所述待清洗玻璃上具有杂质，所述杂质的材料包括金属。所以杂质与光学玻璃表面的连接性能较强，难以通过一般的清洗方法去除。本发明技术方案的清洗方法用于去除所述待清洗玻璃上的杂质。

具体的，本实施例中，所述待清洗玻璃为金属钛熔炼过程中所使用光学仪器中的光学玻璃，所以所述待清洗玻璃上杂质的材料包括金属钛。

所述第一清洗剂用于去除所述待清洗玻璃上的杂质。

本实施例中，形成所述第一清洗剂的步骤中，所述第一清洗剂包括硫酸、氢氟酸和水。

所述第一清洗剂中的硫酸和氢氟酸能够与材料包括金属的杂质发生反应，从而形成可溶性的物质，从而使所述杂质与所述待清洗玻璃分离，从而实现清洗。

参考图2，示出了图1所示实施例中步骤S100的流程示意图。

首先执行步骤S110，提供硫酸溶液、氢氟酸溶液和水。

具体的，提供硫酸溶液、氢氟酸溶液和水的步骤中，硫酸溶液为浓硫酸，氢氟酸溶液为浓氢氟酸。也就是说，按质量百分比，所述硫酸溶液的浓度大于或等于70％；所述氢氟酸溶液的浓度大于40％。

本实施例中，提供硫酸溶液、氢氟酸溶液和水的步骤中，硫酸的浓度为95％，氢氟酸的浓度为60％。

提供高浓度的硫酸溶液和氢氟酸溶液的做法，使高浓度的硫酸溶液和高浓度的氢氟酸溶液与水混合形成浓度较低的溶液，有利于降低形成所述第一清洗剂步骤的工艺难度，提高工艺效率。

需要说明的是，提供所述硫酸溶液、所述氢氟酸溶液和水的步骤中，所述硫酸溶液和所述氢氟酸溶液与水的比值不宜太小，也不宜太大。

如果所述硫酸溶液和所述氢氟酸溶液与水的比值太小，后续所形成第一清洗剂中硫酸与氢氟酸的含量太低，所形成第一清洗剂的腐蚀性太弱，难以溶解杂质难以达到清洗的目的，或者所形成第一清洗剂溶解杂质的速度太慢，造成清洗效率下降；如果所述硫酸溶液和所述氢氟酸溶液与水的比值太大，所形成第一清洗剂中硫酸和氢氟酸的含量太高，所形成第一清洗剂的腐蚀性太强，会对待清洗玻璃造成工艺风险。

因此本实施例中，提供所述硫酸溶液、所述氢氟酸溶液和水的步骤中的步骤中，按质量百分比，硫酸溶液、氢氟酸溶液和水的比值在2:2:3到1:1:4范围内。

还需要说明的是，提供所述硫酸溶液、所述氢氟酸溶液和水的步骤中，水为软水，也就是说，水为不含或含有较少可溶性化合物的水。软水中可溶性化合物较少，不易形成水垢，所以软水具有较好的清洗能力，采用软水形成所述第一清洗剂能够降低水中可溶性化合物对第一湿法清洗处理的干扰，提高第一湿法清洗处理的清洗效果。

之后，执行步骤S120，将所述硫酸溶液和所述氢氟酸溶液加入水中，形成所述第一清洗剂。

由于本实施例中所提供的硫酸溶液为浓硫酸，浓硫酸的密度大于水的密度，而且浓硫酸在于水混合的过程中会释放大量的热量，因此在形成所述第一清洗剂的步骤中，将所述硫酸溶液和所述氢氟酸溶液加入水中，从而使浓硫酸在溶解过程中释放的热量能够均匀扩散到溶液中，从而避免液体外溅造成伤害。

继续参考图1，形成第一清洗剂之后，执行步骤S300，采用所述第一清洗剂对所述待清洗玻璃进行第一湿法清洗处理。

所述第一湿法清洗处理用于清洗待清洗玻璃，去除所述待清洗玻璃表面的杂质。

具体的，采用所述第一清洗剂对所述待清洗玻璃进行第一湿法清洗处理的步骤包括：将所述待清洗玻璃浸没于所述第一清洗剂中进行浸泡。将所述待清洗玻璃浸没于所述第一清洗剂中进行浸泡的做法，能够使所述第一清洗剂与所述待清洗玻璃上的杂质充分反应，从而提高清洗效果，减少杂质残余。

需要说明的是，将所述待清洗玻璃浸没于所述第一清洗剂中进行浸泡的时间如果太长，则所述待清洗玻璃与所述第一清洗剂的接触时间过长，第一清洗剂具有一定的腐蚀性，所述待清洗玻璃与所述第一清洗剂的接触时间过长可能会对所述待清洗玻璃造成损伤，从而增加工艺风险；将所述待清洗玻璃浸没于所述第一清洗剂中进行浸泡的时间如果太短，则所述第一清洗剂与杂质的接触时间过短，杂质无法完全溶解于所述第一清洗剂中，从而造成杂质残留，影响清洗效果。具体的，本实施例中，将所述待清洗玻璃浸没于所述第一清洗剂中进行浸泡的步骤中，浸泡时间在10分钟到20分钟范围内。

此外，在所述待清洗玻璃浸泡于所述第一清洗剂的过程中，所述第一清洗剂的温度会影响杂质的溶解度以及溶解效率。在浸泡过程中，如果所述第一清洗剂的温度过低，则杂质的溶解度较低，溶解速度较慢，不利于完全溶解杂质，也不利于提高清洗效率；如果所述第一清洗剂的温度过高，由于第一清洗剂中含有氢氟酸，所以过高的第一清洗剂温度会加剧氢氟酸的挥发，从而对操作人员造成危险，而且第一清洗剂的温度过高也会使所述第一清洗剂的腐蚀性增强，可能会引入不必要的工艺风险。具体的，本实施例中，将所述待清洗玻璃浸没于所述第一清洗剂中进行浸泡的步骤中，所述第一清洗剂的温度在25℃到30℃范围内。

还需要说明的是，采用所述第一清洗剂对所述待清洗玻璃进行第一湿法清洗处理的步骤中，采用超声波清洗装置对所述待清洗玻璃进行第一湿法清洗处理，以提高清洗效果和清洗效率。

在完成浸泡，待清洁玻璃表面的杂质均被溶解后，将所述待清洁玻璃从所述第一清洗剂中取出。

需要说明的是，形成第一清洗剂后，所形成的第一清洗剂可以进行多次第一湿法清洗处理。但是为了保证清洗效果，避免二次污染，同时使所述第一清洗剂中的硫酸和氢氟酸与所述杂质充分反应，降低清洗成本，本实施例中，形成所述第一清洗剂之后，所述第一清洗剂可以进行10次到20次所述第一湿法清洗处理，当所述第一清洗剂变得浑浊后更换，以减少第一清洗溶液的浪费，降低清洗成本，提高清洗效率。

第一湿法清洗处理中所采用的第一清洗剂为水溶剂，与所述待清洗玻璃的表面具有一定的亲和性。所以在第一湿法清洗处理之后，所述待清洗玻璃表面可能会有第一清洗剂的残留。为了去除表面残留的第一清洗剂，提高清洗效果，所以参考图1，采用所述第一清洗剂对所述待清洗玻璃进行第一湿法清洗处理之后，所述清洗方法还包括：执行步骤S400，采用第二清洗剂对经第一清洗剂清洗的待清洗玻璃进行第二湿法清洗处理。

所述第二湿法清洗处理用于去除待清洗玻璃表面残留的第一清洗剂，提高清洗效果。

所述第二湿法清洗处理的步骤中，所述第二清洗剂为水，以降低工艺成本。

本实施例中，所述第二湿法清洗处理的步骤包括，采用第二清洗剂冲洗经第一湿法清洗处理的待清洗玻璃。采用冲洗的方式进行所述第二湿法清洗处理的做法，有利于避免清洗剂残留，避免二次污染，有利于提高清洗效果和清洗效率。

需要说明的是，第二湿法清洗处理的步骤中，如果所述第二清洗剂的温度太低，会影响第二湿法清洗处理的清洗效果；如果所述第二清洗剂的温度太高，由于玻璃是热的不良导体，所以可能会存在不必要的工艺风险。具体的，本实施例中，第二湿法清洗处理的步骤中，所述第二清洗剂的温度在40℃到60℃范围内。

综上，本发明光学玻璃的清洗方法，采用包括酸性清洗剂的第一清洗剂对所述待清洗玻璃进行湿法清洗，可以有效的清洗所述待清洗玻璃，去除所述待清洗玻璃的表面杂质，而且可以避免对所述待清洗玻璃表面造成损伤。所以本发明光学玻璃的清洗方法不会对光学玻璃表面造成损伤，不会影响光学玻璃的二次使用，有利于延长光学玻璃的使用寿命。

虽然本发明披露如上，但本发明并非限定于此。任何本领域技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与修改，因此本发明的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。

Claims (14)

1.一种光学玻璃的清洗方法，其特征在于，包括：

形成第一清洗剂，所述第一清洗剂为酸性清洗剂；

提供待清洗玻璃；

采用所述第一清洗剂对所述待清洗玻璃进行第一湿法清洗处理。

2.如权利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述待清洗玻璃上具有杂质，

所述杂质的材料包括金属；所述清洗方法用于去除所述待清洗玻璃上的杂质。

3.如权利要求1所述的清洗方法，其特征在于，形成第一清洗剂的步骤中，

所述第一清洗剂包括硫酸、氢氟酸和水。

4.如权利要求3所述的清洗方法，其特征在于，形成第一清洗剂的步骤包括：

提供硫酸溶液、氢氟酸溶液和水；

将所述硫酸溶液和所述氢氟酸溶液加入水中，形成所述第一清洗剂。

5.如权利要求4所述的清洗方法，其特征在于，提供所述硫酸溶液和所述氢氟酸溶液的步骤中，按质量百分比，所述硫酸溶液的浓度大于或等于70％；

所述氢氟酸溶液的浓度在40％到60％范围内。

6.如权利要求4所述的清洗方法，其特征在于，提供所述硫酸溶液、所述氢氟酸溶液和水的步骤中的步骤中，按质量百分比，硫酸溶液、氢氟酸溶液和水的比值在2:2:3到1:1:4范围内。

7.如权利要求1所述的清洗方法，其特征在于，采用所述第一清洗剂对所述待清洗玻璃进行第一湿法清洗处理的步骤包括：将所述待清洗玻璃浸没于所述第一清洗剂中进行浸泡。

8.如权利要求7所述的清洗方法，其特征在于，将所述待清洗玻璃浸没于所述第一清洗剂中进行浸泡的步骤中，浸泡时间在10分钟到20分钟范围内。

9.如权利要求7所述的清洗方法，其特征在于，将所述待清洗玻璃浸没于所述第一清洗剂中进行浸泡的步骤中，所述第一清洗剂的温度在25℃到30℃范围内。

10.如权利要求1所述的清洗方法，其特征在于，采用所述第一清洗剂对所述待清洗玻璃进行第一湿法清洗处理的步骤中，采用超声波清洗装置对所述待清洗玻璃进行第一湿法清洗处理。

11.如权利要求1所述的清洗方法，其特征在于，采用所述第一清洗剂对所述待清洗玻璃进行第一湿法清洗处理之后，所述清洗方法还包括：采用第二清洗剂对经第一清洗剂清洗的待清洗玻璃进行第二湿法清洗处理。

12.如权利要求11所述的清洗方法，其特征在于，所述第二清洗剂为水。

13.如权利要求11所述的清洗方法，其特征在于，采用第二清洗剂对经第一清洗剂清洗的待清洗玻璃进行第二湿法清洗处理处理的步骤中，所述第二清洗剂的温度在40℃到60℃范围内。

14.如权利要求11所述的清洗方法，其特征在于，采用第二清洗剂对经第一清洗剂清洗的待清洗玻璃进行第二湿法清洗处理的步骤包括：采用第二清洗剂冲洗经第一清洗剂清洗的待清洗玻璃。