CN107723656B - 一种含Au纳米粒子梯度耐磨涂层的制备方法 - Google Patents
一种含Au纳米粒子梯度耐磨涂层的制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN107723656B CN107723656B CN201710776679.7A CN201710776679A CN107723656B CN 107723656 B CN107723656 B CN 107723656B CN 201710776679 A CN201710776679 A CN 201710776679A CN 107723656 B CN107723656 B CN 107723656B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- technical pure
- target
- coating
- gradient
- wear
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C14/028—Physical treatment to alter the texture of the substrate surface, e.g. grinding, polishing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C14/027—Graded interfaces
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/16—Metallic material, boron or silicon on metallic substrates or on substrates of boron or silicon
- C23C14/165—Metallic material, boron or silicon on metallic substrates or on substrates of boron or silicon by cathodic sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
- C23C14/352—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering using more than one target
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/58—After-treatment
- C23C14/5846—Reactive treatment
- C23C14/5853—Oxidation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/58—After-treatment
- C23C14/5873—Removal of material
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本发明公开了一种含Au纳米粒子梯度耐磨涂层的制备方法,为工业纯Ti表面上含Au纳米粒子梯度耐磨涂层的制备方法。该方法主要包括工业纯Ti的再结晶退火、表面机械研磨处理、磁控共溅射、硝酸选择性溶解、热氧化。本发明通过具有良好润滑和韧性的Au纳米粒子和高硬度的TiO2的结合获得具有高韧性和高硬度的耐磨表层,同时通过设计并获得的梯度涂层有效改善涂层与金属基体之间界面应力、提高了涂层与基体的结合,从而使工业纯Ti的摩擦磨损性能得到明显提高。
Description
技术领域
本发明涉及一种耐磨涂层的制备方法,特别涉及工业纯Ti表面一种含有Au纳米粒子的梯度耐磨涂层的制备方法,属于表面改性领域。
背景技术
Ti材料因其低密度、高比强度、优异的抗腐蚀性、耐高温、无磁性、生物相容性好等特点,在航空航天、海洋工程、石油化工、医疗、体育运动器具等领域的应用日益广泛。但是Ti材料尤其是工业纯Ti耐磨性较差、易擦伤及粘附限制了其推广应用。对工业纯Ti进行表面改性以增强其耐磨性成为该领域的一个研究热点。
涂层表面组成对其性能具有重要影响,为达到改善工业纯Ti耐磨性的目的,设计并制备复合涂层是目前的一个研究热点。
中国专利公开号CN105386040A,公开日2016年3月9日,发明创造的名称为一种在Ti合金表面制备WC/石墨复合涂层的方法。该申请案公开了一种在Ti合金表面制备WC/石墨复合涂层的方法:一、对Ti合金基材进行表面预处理去除表面氧化膜;二、将碳化钨粉末和金刚石粉末混合均匀,得到混合粉末,然后向混合粉末中加入聚乙烯醇水溶液搅拌均匀,得到熔覆材料;三、将熔覆材料预置于Ti合金基材表面,烘干后得到预置层;四、对具有预置层的Ti合金基材表面进行激光熔覆处理,制备得到WC/石墨复合涂层。本发明通过激光熔覆处理过程产生的热量使Ti合金基材表面预置层中的金刚石发生同素异构转变生成石墨,克服现有技术中不能通过激光技术制备石墨涂层的缺陷,在Ti合金表面制备得到WC/石墨复合涂层,在改善Ti合金表面耐磨性能的同时降低其摩擦系数。其不足之处在于该方法主要是仅考虑了涂层表面高硬度(WC)与润滑材料(石墨)的结合获得耐磨表层,而未考虑涂层与基体的界面结合,涂层与基体热膨胀系数差异容易导致内应力的变化而导致涂层失效;同时在大气环境下,摩擦过程中产生的瞬时高温(闪温)也容易造成石墨的氧化而失效。
中国专利公开号CN105904167A,公开日2016年8月31日,发明创造的名称为两级原位自生Ti合金表面可控耐磨涂层的制备方法。该申请案公开了一种Ti合金表面可控耐磨涂层的制备方法:一、混粉:按质量百分比将TiB2粉和TC4Ti合金粉进行球磨混粉,得到混好的复合粉末;二、热压烧结:将混好的复合粉末装入真空热压烧结炉中进行热压烧结,得到原位自生的高硬质相含量复合材料;三、切割薄片:将原位自生的高硬质相含量复合材料采用线切割机切割成薄片,并用砂纸打磨去掉表面杂质,得到表面光滑的薄片;四、熔覆:将表面光滑的薄片平铺在TC4Ti合金表面,然后在氩气保护的条件下置于钨极氩弧焊机下进行熔覆,得到覆有耐磨涂层的TC4Ti合金。本发明的涂层采用TiB2与TC4Ti合金的混合粉末进行制备,由于涂层中含有与基体成分一致的TC4Ti合金从而有效降低了涂层与金属基体的界面应力,同时钨极氩弧熔覆可在大气环境中进行,工艺简单,可提高效率降低成本。该方法的不足之处在于,由于涂层是采用真空热压得到烧结锭坯,再采用切割成薄片,这就限制了薄片的厚度下限不能太薄(该发明中薄片厚度大于0.5mm),从而导致最终的涂层下限不会太薄,而通常功能涂层在几百纳米甚至几微米以上就能发挥效果,该发明的涂层厚度局限造成了一定的材料浪费。
根据前人研究成果,贵金属Au、Ag、Pd等的纳米粒子具有良好的润滑性能,有效降低了基体材料的磨损速率(S.W.Zhang,L.T.Hu,H.Z.Wang,D.P.Alng,TribologyInternational,55(2012)1-6.)。贵金属在宽的温度范围内具有低剪切强度、良好的热化学稳定性及抗氧化性,即使在高温环境下也保持了良好的润滑性能;而传统的润滑材料如石墨、MoS2材料在350℃以上发生快速氧化而失效(C.P.Mulligan,D.Gall,Surface andCoatings Technology,200(2005)1495-1500.)。Au、Ag在碳化物、氮化物、氧化物、金属合金中均具有良好的润滑性能。(C.P.Mulligan,T.A.Blanchet,D.Gall,Wear,269(2010)125-131.)。
我们在实验过程也发现,并不是材料硬度越高,耐磨性越好,对于脆性的高硬度材料而言,材料越脆,裂纹扩展越快,会加速材料损失。如果能在工业纯Ti表面制备出一种涂层,其特征为:一、表面具有高硬度的同时也具有良好的韧性,即实现硬度与韧性的最佳配合;二、同时从涂层表面到金属基体材料结构呈现梯度变化,即有效降低界面应力,工业纯Ti构件的摩擦性能将得到显著提高。检索大量文献资料后,至今未见有表面机械研磨处理、磁控共溅射、硝酸选择性溶解与热氧化应用于制备工业纯Ti表面梯度耐磨涂层的相关报道。本发明将表面机械研磨处理、磁控共溅射、硝酸选择性溶解与热氧化应用到工业纯Ti表面梯度耐磨涂层的制备中,通过具有良好润滑和韧性的Au纳米粒子和高硬度的TiO2的结合获得具有高韧性和高硬度的耐磨表层,同时通过设计并获得梯度涂层有效改善涂层与金属基体之间界面应力、提高涂层与基体的结合,从而使工业纯Ti的摩擦磨损性能得到明显提高。
发明内容
本发明的目的在于提供一种新的工业纯Ti表面梯度耐磨涂层制备方法,制备出涂层与金属基体具有良好冶金结合的表面梯度耐磨涂层。其制备过程按下列步骤进行:
(1)对工业纯Ti进行机械抛光处理并采用丙酮超声清洗3~10分钟,随后在真空条件下对工业纯Ti进行再结晶退火,获得具有均匀微观结构的工业纯Ti,再结晶退火处理的温度为700~900℃,处理时间为1~4h,真空度为1x10-3~1x10-4Pa;
(2)将经过步骤(1)预处理的工业纯Ti置于密闭真空容器顶部,底部放置不锈钢球,对工业纯Ti进行表面机械研磨处理,钢球的数量为200~300颗,钢球直径为6~8mm,表面机械研磨处理时间为30~120min,振动频率为50Hz;
(3)将步骤(2)处理好的工业纯Ti采用丙酮超声清洗3~10分钟,随后,将工业纯Ti固定于磁控溅射源系统的样品台上,工业纯Ti表面中心与Au靶和Al靶表面中心距离相等,距离为30~60mm;
(4)采用双磁控溅射源系统,抽真空至1x10-3Pa以下,随后通入Ar气,气压调节至0.5~2Pa,功率调节为20~100W,对纯度至少为99.99wt%的Au靶和纯度至少为99.95wt%的Al靶进行溅射清洗3~10分钟,溅射清洗时采用挡板装置隔开工业纯Ti;随后,调节气压至0.8~6Pa,调节功率至50~350W,移开挡板,进行Au靶和Al靶的共溅射,溅射时通过分别调整Au靶和Al靶所在的磁控溅射源的功率得到功率的不同配比,共溅射时间为0.5~3小时,从而实现制备出不同成分配比、不同厚度的Au/Al复合涂层;
(5)对(4)处理好的工业纯Ti在5~20wt%的硝酸溶液中浸泡5~30min,除去沉积的Al,得到多孔Au层;
(6)对(5)处理好的工业纯Ti在空气中进行热氧化处理,选择的温度低于工业纯Ti的再结晶温度,处理时间为1~3h,得到所需的梯度涂层。
本发明的梯度涂层其最表层的Au/TiO2复合层厚度为1~20μm,纳米Au粒子尺寸为2-40nm。
本发明的优点是,首先,本发明中首先通过表面机械研磨处理获得晶粒尺寸从最表面到基体芯部呈现梯度变化的梯度结构层,其中最表层为工业纯Ti的纳米晶层;随后,通过磁控共溅射获得了纳米Au/纳米Al的复合表层;通过选择性化学溶解去除Al,得到均匀的多孔Au层;随后在低于工业纯Ti再结晶温度下进行热氧化,最表层的工业纯Ti转变为TiO2,而抗氧化的纳米Au则保持不变,形成均匀的Au/TiO2复合表层,通过具有良好润滑和韧性的Au纳米粒子和高硬度的TiO2的结合获得具有高韧性和高硬度的耐磨表层;其次在Au/TiO2复合表层之下,由于热氧化的作用及TiO2为致密氧化层结构,有效阻止了Ti的进一步氧化,同时由于热氧化的温度选择在工业纯Ti的再结晶温度以下,在亚表层的梯度结构Ti基本保持不变,这种梯度涂层有效改善涂层与金属基体之间界面应力、提高了涂层与基体的结合,从而使工业纯Ti的摩擦磨损性能得到明显提高,本方法可广泛用于金属材料表面梯度结构涂层的制备。
附图说明
图1为工业纯Ti表面梯度结构涂层示意图。
图2为TA0在表面机械研磨处理后、共溅射Au和Al获得的涂层扫描电镜照片。
图3为TA0在表面机械研磨处理后、共溅射Au和Al、硝酸处理后获得的多孔Au层的扫描电镜照片。
图4为TA0在表面机械研磨处理后、共溅射Au和Al、硝酸处理、热氧化后涂层表面的扫描电镜照片。
具体实施方式
结合图1~4对本发明的具体实施方式作进一步描述。
实施例1
选择的原料为牌号为TA0的工业纯Ti(O0.20wt%,C0.10wt%,N0.02wt%,H0.015wt%,Fe0.25wt%,Si0.10wt%,余量为Ti)。首先,对TA0进行机械抛光处理并采用丙酮超声清洗3分钟;随后,在真空条件下对TA0进行再结晶退火,温度为700℃,处理时间为4h,真空度为1x10-3Pa;随后,将TA0置于密闭真空容器顶部,底部放置不锈钢球,对TA0进行表面机械研磨处理,钢球的数量为200颗,钢球直径为8mm,表面机械研磨处理时间为60min,振动频率为50Hz;随后,TA0采用丙酮超声清洗3分钟,将TA0固定于双磁控溅射源系统的样品台上,TA0表面中心与Au靶和Al靶表面中心距离相等,距离为30mm;采用双磁控溅射源系统,抽真空至5x10-4Pa,随后通入Ar气,气压调节至0.5Pa,功率调节为40W,对纯度为99.99wt%的Au靶和纯度为99.95wt%的Al靶进行溅射清洗3分钟,溅射清洗时采用挡板装置隔开TA0基材;随后,调节气压至2Pa,调节Au靶所在的磁控溅射源的功率至50W,调节Al靶所在磁控溅射源的功率至150W,移开挡板,进行Au靶和Al靶的共溅射,共溅射时间为1h;随后,对处理好的TA0在5wt%的硝酸溶液中浸泡10min,除去沉积的Al,得到多孔Au层;最后,对TA0在空气中进行热氧化处理,温度为400℃,处理时间为1h,得到所需的梯度涂层。
涂层结构示意图如图1所示,从基体到表层的结构依次是,工业纯Ti的无应变粗晶层、工业纯Ti的变形态晶粒层、工业纯Ti的超细晶层、工业纯Ti的纳米晶层、Au/TiO2复合层。图2为TA0在表面机械研磨处理后、共溅射Au和Al获得的涂层扫描电镜照片,可见在共溅射后表面形成了致密的复合涂层;经过硝酸处理后,表面的Al被选择性溶解,表面形成了均匀的多孔Au层,涂层表面形貌结果如图3所示;在经过热氧化处理后,表面形成了致密的Au/TiO2复合层,Au颗粒尺寸为10nm,涂层表面形貌结果如图4所示。Au/TiO2复合层厚度6.5μm,与金属结合良好,无任何开裂,而其下的4层:TA0的纳米晶层、TA0的超细晶层、TA0的变形态晶粒层、TA0的无应变粗晶层之间无明显界面。采用球盘式摩擦磨损试验机,在10N载荷,总运动距离30m,线速度20mm/s,摩擦副为6mm的钢球、干摩擦的条件下,测得平均摩擦系数为0.12,磨损率为1.5x10-4mm3。
对比例1
选择的原料为牌号为TA0的工业纯Ti(O0.20wt%,C0.10wt%,N0.02wt%,H0.015wt%,Fe0.25wt%,Si0.10wt%,余量为Ti)。首先,对TA0进行机械抛光处理并采用丙酮超声清洗3分钟;随后,在真空条件下对TA0进行再结晶退火,温度为700℃,处理时间为4h,真空度为1x10-3Pa;随后,TA0采用丙酮超声清洗3分钟,将TA0固定于双磁控溅射源系统的样品台上,TA0表面中心与Au靶和Al靶表面中心距离相等,距离为30mm;采用双磁控溅射源系统,抽真空至5x10-4Pa,随后通入Ar气,气压调节至0.5Pa,功率调节为40W,对纯度为99.99wt%的Au靶和纯度为99.95wt%的Al靶进行溅射清洗3分钟,溅射清洗时采用挡板装置隔开TA0基材;随后,调节气压至2Pa,调节Au靶所在的磁控溅射源的功率至50W,调节Al靶所在磁控溅射源的功率至150W,移开挡板,进行Au靶和Al靶的共溅射,共溅射时间为1h;随后,对处理好的TA0在5wt%的硝酸溶液中浸泡10min,除去沉积的Al,得到多孔Au层;最后,对TA0在空气中进行热氧化处理,温度为400℃,处理时间为1h,得到所需的梯度涂层。
采用球盘式摩擦磨损试验机,在10N载荷,总运动距离30m,线速度20mm/s,摩擦副为6mm的钢球、干摩擦的条件下,测得平均摩擦系数为0.25,磨损率9.7x10-4mm3。
实施例2
选择的原料为牌号为TA1的工业纯Ti(O0.20wt%,C0.10wt%,N0.03wt%,H0.015wt%,Fe0.25wt%,Si0.10wt%,余量为Ti)。首先,对TA1进行机械抛光处理并采用丙酮超声清洗5分钟;随后,在真空条件下对TA1进行再结晶退火,温度为900℃,处理时间为1h,真空度为3x10-4Pa;随后,将TA1置于密闭真空容器顶部,底部放置不锈钢球,对TA1进行表面机械研磨处理,钢球的数量为300颗,钢球直径为8mm,表面机械研磨处理时间为120min,振动频率为50Hz;随后,TA1采用丙酮超声清洗5分钟,将TA1固定于双磁控溅射源系统的样品台上,TA1表面中心与Au靶和Al靶表面中心距离相等,距离为45mm;采用双磁控溅射源系统,抽真空至6x10-4Pa,随后通入Ar气,气压调节至1.5Pa,功率调节为90W,对纯度为99.99wt%的Au靶和纯度为99.95wt%的Al靶进行溅射清洗5分钟,溅射清洗时采用挡板装置隔开TA1;随后,调节气压至3Pa,调节Au靶所在的磁控溅射源的功率至100W,调节Al靶所在磁控溅射源的功率至250W,移开挡板,进行Au靶和Al靶的共溅射,共溅射时间为2h;随后,对处理好的纯Ti在10wt%的硝酸溶液中浸泡15min,除去沉积的Al,得到多孔Au层;最后,对TA1在空气中进行热氧化处理,温度为380℃,处理时间为3h,得到所需的梯度涂层。
梯度涂层表面为TiO2和Au构成的复合层;Au粒子的平均尺寸为25nm;涂层最表层的Au/TiO2复合层厚度为13.5μm,与金属结合良好,无任何开裂,而其下的4层:TA1的纳米晶层、TA1的超细晶层、TA1的变形态晶粒层、TA1的无应变粗晶层之间无明显界面。采用球盘式摩擦磨损试验机,在25N载荷,总运动距离100m,线速度40mm/s,摩擦副为6mm的钢球、干摩擦的条件下,测得平均摩擦系数为0.25,磨损率为6.9x10-4mm3。
对比例2
选择的原料为牌号为TA1的工业纯Ti(O0.20wt%,C0.10wt%,N0.03wt%,H0.015wt%,Fe0.25wt%,Si0.10wt%,余量为Ti)。首先,对TA1进行机械抛光处理并采用丙酮超声清洗5分钟;随后,在真空条件下对TA1进行再结晶退火,温度为900℃,处理时间为1h,真空度为3x10-4Pa;随后,TA1采用丙酮超声清洗5分钟,将TA1固定于双磁控溅射源系统的样品台上,TA1表面中心与Au靶和Al靶表面中心距离相等,距离为45mm;采用双磁控溅射源系统,抽真空至6x10-4Pa,随后通入Ar气,气压调节至1.5Pa,功率调节为90W,对纯度为99.99wt%的Au靶和纯度为99.95wt%的Al靶进行溅射清洗5分钟,溅射清洗时采用挡板装置隔开TA1;随后,调节气压至3Pa,调节Au靶所在的磁控溅射源的功率至100W,调节Al靶所在磁控溅射源的功率至250W,移开挡板,进行Au靶和Al靶的共溅射,共溅射时间为2h;随后,对处理好的纯Ti在10wt%的硝酸溶液中浸泡15min,除去沉积的Al,得到多孔Au层;最后,对TA1在空气中进行热氧化处理,温度为380℃,处理时间为3h,得到所需的梯度涂层。
采用球盘式摩擦磨损试验机,在25N载荷,总运动距离100m,线速度40mm/s,摩擦副为6mm的钢球、干摩擦的条件下,测得平均摩擦系数为0.32,磨损率为1.6x10-3mm3。
实施例3
选择的原料为牌号为TA2的工业纯Ti(O0.25wt%,C0.10wt%,N0.05wt%,H0.015wt%,Fe0.30wt%,Si0.10wt%,余量为Ti)。首先,对TA2进行机械抛光处理并采用丙酮超声清洗3分钟;随后,在真空条件下对TA2进行再结晶退火,温度为800℃,处理时间为2h,真空度为6x10-4Pa;随后,将TA2置于密闭真空容器顶部,底部放置不锈钢球,对TA2进行表面机械研磨处理,钢球的数量为250颗,钢球直径为8mm,表面机械研磨处理时间为80min,振动频率为50Hz;随后,TA2采用丙酮超声清洗5分钟,将TA2固定于双磁控溅射源系统的样品台上,TA2表面中心与Au靶和Al靶表面中心距离相等,距离为50mm;采用双磁控溅射源系统,抽真空至4x10-4Pa,随后通入Ar气,气压调节至1Pa,功率调节为60W,对纯度为99.99wt%的Au靶和纯度为99.95wt%的Al靶进行溅射清洗3分钟,溅射清洗时采用挡板装置隔开TA2基材;随后,调节气压至3Pa,调节Au靶所在的磁控溅射源的功率至80W,调节Al靶所在磁控溅射源的功率至200W,移开挡板,进行Au靶和Al靶的共溅射,共溅射时间为1.5h;随后,对处理好的纯Ti在20wt%的硝酸溶液中浸泡25min,除去沉积的Al,得到多孔Au层;最后,对TA2在空气中进行热氧化处理,温度为350℃,处理时间为2h,得到所需的梯度涂层。
梯度涂层表面为TiO2和Au构成的复合层;Au粒子的平均尺寸为40nm;涂层最表层的Au/TiO2复合层厚度18.5μm,与金属结合良好,无任何开裂,而其下的4层:TA2的纳米晶层、TA2的超细晶层、TA2的变形态晶粒层、TA2的无应变粗晶层之间无明显界面。采用球盘式摩擦磨损试验机,在20N载荷,总运动距离60m,线速度15mm/s,摩擦副为6mm的钢球、干摩擦的条件下,测得平均摩擦系数为0.18,磨损率为3.4x10-4mm3mm3。
实施例4
选择的原料为牌号为TA3的工业纯Ti(O0.30wt%,C0.10wt%,N0.05wt%,H0.015wt%,Fe0.40wt%,Si0.15wt%,余量为Ti)。首先,对TA3进行机械抛光处理并采用丙酮超声清洗8分钟;随后,在真空条件下对TA3进行再结晶退火,温度为850℃,处理时间为1.5h,真空度为7x10-4Pa;随后,将TA3置于密闭真空容器顶部,底部放置不锈钢球,对TA3进行表面机械研磨处理,钢球的数量为180颗,钢球直径为6mm,表面机械研磨处理时间为120min,振动频率为50Hz;随后,TA3采用丙酮超声清洗8分钟,将TA3固定于双磁控溅射源系统的样品台上,TA3表面中心与Au靶和Al靶表面中心距离相等,距离为45mm;采用双磁控溅射源系统,抽真空至2x10-4Pa,随后通入Ar气,气压调节至2Pa,功率调节为80W,对纯度为99.99wt%的Au靶和纯度为99.95wt%的Al靶进行溅射清洗8分钟,溅射清洗时采用挡板装置隔开TA3基材;随后,调节气压至5Pa,调节Au靶所在的磁控溅射源的功率至100W,调节Al靶所在磁控溅射源的功率至300W,移开挡板,进行Au靶和Al靶的共溅射,共溅射时间为1h;随后,对处理好的纯Ti在12.5wt%的硝酸溶液中浸泡15min,除去沉积的Al,得到多孔Au层;最后,对TA3在空气中进行热氧化处理,温度为450℃,处理时间为3h,得到所需的梯度涂层。
梯度涂层表面为TiO2和Au构成的复合层;Au粒子的平均尺寸为35nm;涂层最表层的Au/TiO2复合层厚度15.5μm,与金属结合良好,无任何开裂,而其下的4层:TA3的纳米晶层、TA3的超细晶层、TA3的变形态晶粒层、TA3的无应变粗晶层之间无明显界面。采用球盘式摩擦磨损试验机,在30N载荷,总运动距离80m,线速度30mm/s,摩擦副为6mm的钢球、干摩擦的条件下,测得平均摩擦系数为0.22,磨损率为5.8x10-4mm3。
Claims (5)
1.一种含Au纳米粒子梯度耐磨涂层的制备方法,其特征在于,由下列加工工艺步骤构成:
(1)对工业纯Ti进行机械抛光处理并采用丙酮超声清洗3~10分钟,随后在真空条件下对工业纯Ti进行再结晶退火,获得具有均匀微观结构的工业纯Ti,再结晶退火处理的温度为700~900℃,处理时间为1~4h,真空度为1×10-3~1×10-4Pa;
(2)将经过步骤(1)预处理的工业纯Ti置于密闭真空容器顶部,底部放置不锈钢球,对工业纯Ti进行表面机械研磨处理,钢球的数量为200~300颗,钢球直径为6~8mm,表面机械研磨处理时间为30~120min,振动频率为50Hz;
(3)将步骤(2)处理好的工业纯Ti采用丙酮超声清洗3~10分钟,随后,将工业纯Ti固定于双磁控溅射源系统的样品台上,工业纯Ti表面中心与Au靶和Al靶表面中心距离相等,距离为30~60mm;
(4)采用双磁控溅射源系统,抽真空至1×10-3Pa以下,随后通入Ar气,气压调节至0.5~2Pa,功率调节为20~100W,对纯度至少为99.99wt%的Au靶和纯度至少为99.95wt%的Al靶进行溅射清洗3~10分钟,溅射清洗时采用挡板装置隔开工业纯Ti;随后,调节气压至0.8~6Pa,调节功率至50~350W,移开挡板,进行Au靶和Al靶的共溅射,溅射时通过分别调整Au靶和Al靶所在的磁控溅射源的功率得到功率的不同配比,共溅射时间为0.5~3小时,从而实现制备出不同成分配比、不同厚度的Au/Al复合涂层;
(5)对(4)处理好的工业纯Ti在5~20wt%的硝酸溶液中浸泡5~30min;
(6)对(5)处理好的工业纯Ti在空气中进行热氧化处理,处理时间为1~3h,得到所需的梯度涂层。
2.如权利要求1所述一种含Au纳米粒子梯度耐磨涂层的制备方法,其特征在于:所述梯度涂层从工业纯Ti基体芯部到涂层最表面,其组成依次为工业纯Ti的无应变粗晶层、工业纯Ti的变形态晶粒层、工业纯Ti的超细晶层、工业纯Ti的纳米晶层、Au/TiO2复合层。
3.如权利要求1所述一种含Au纳米粒子梯度耐磨涂层的制备方法,其特征在于:工业纯Ti进行硝酸处理目的是为了选择性溶解Al,得到多孔Au层。
4.如权利要求1所述一种含Au纳米粒子梯度耐磨涂层的制备方法,其特征在于:工业纯Ti选择的热氧化处理温度低于工业纯Ti的再结晶温度。
5.如权利要求1所述一种含Au纳米粒子梯度耐磨涂层的制备方法,其特征在于:梯度涂层最表层的Au/TiO2复合层厚度为1~20μm,纳米Au粒子尺寸为2-40nm。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201710776679.7A CN107723656B (zh) | 2017-08-31 | 2017-08-31 | 一种含Au纳米粒子梯度耐磨涂层的制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201710776679.7A CN107723656B (zh) | 2017-08-31 | 2017-08-31 | 一种含Au纳米粒子梯度耐磨涂层的制备方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN107723656A CN107723656A (zh) | 2018-02-23 |
CN107723656B true CN107723656B (zh) | 2019-08-30 |
Family
ID=61205730
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201710776679.7A Active CN107723656B (zh) | 2017-08-31 | 2017-08-31 | 一种含Au纳米粒子梯度耐磨涂层的制备方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN107723656B (zh) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101869725A (zh) * | 2010-06-25 | 2010-10-27 | 昆明贵金属研究所 | 一种含有纳米Ag粒子的抗菌型生物活性复合涂层及制备方法 |
-
2017
- 2017-08-31 CN CN201710776679.7A patent/CN107723656B/zh active Active
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101869725A (zh) * | 2010-06-25 | 2010-10-27 | 昆明贵金属研究所 | 一种含有纳米Ag粒子的抗菌型生物活性复合涂层及制备方法 |
Non-Patent Citations (3)
Title |
---|
Ag/TiO2纳米复合材料的制备及结构研究;闻明等;《贵金属》;20100228;第31卷(第1期);全文 |
Space tribological properties of metal matrix space lubricant coating;Chun Guo et.al.;《Surface & Coatings Technology》;20140312(第246期);40-45页 |
钛合金Ti-6Al-4V的磨损失效及其表面耐磨处理技术;王宏宇等;《轻金属》;20051231(第5期);全文 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN107723656A (zh) | 2018-02-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Qu et al. | Microstructure and mechanical property of laser melting deposition (LMD) Ti/TiAl structural gradient material | |
CN107614744B (zh) | 溅射靶的制造方法 | |
JP3962690B2 (ja) | Pt−Co系スパッタリングターゲット | |
JP4885305B2 (ja) | 焼結体ターゲット及び焼結体の製造方法 | |
JP5818139B2 (ja) | Cu−Ga合金ターゲット材およびその製造方法 | |
CN107779814B (zh) | 一种含Ag纳米粒子梯度耐磨涂层的制备方法 | |
CN107815645B (zh) | 一种低摩擦系数MoS2基金属复合固体润滑膜 | |
CN111014669A (zh) | 一种原位纳米TiB晶须增强钛基复合材料的制备方法 | |
CN113061779B (zh) | 一种基于电子束选区熔化的纳米颗粒增强钛基复合材料的增材制造方法 | |
CN109778050B (zh) | 一种WVTaTiZr难熔高熵合金及其制备方法 | |
JPWO2015178484A1 (ja) | 超硬合金および被覆超硬合金 | |
Wei et al. | TiC/Ti6Al4V functionally graded composite fabricated by in-situ laser additive manufacturing via gas–liquid reaction | |
CN114393209A (zh) | 一种核壳结构的钛基复合粉末及其制备方法和应用 | |
CN107557782A (zh) | 钛合金表面激光原位合成TiBx‑TiN/Ti3Al复合涂层及制备方法 | |
CN107723656B (zh) | 一种含Au纳米粒子梯度耐磨涂层的制备方法 | |
CN111136265B (zh) | 一种钛硅合金靶材及其制造方法 | |
JP5672252B2 (ja) | Cu−Gaスパッタリングターゲット及びその製造方法 | |
Li et al. | Microstructure and wear behavior of AlCoCrFeNiTi0. 5 high entropy alloy coating prepared by electron beam cladding on Ti-6Al-4V substrate | |
Chang et al. | Spark plasma coating of tungsten-coated SiC particles | |
CN114807719A (zh) | 一种实现AlxCoFeNi高熵合金晶粒细化的激光熔化沉积方法 | |
JP4172754B2 (ja) | TiCN基サーメットおよびその製造方法 | |
JP6651438B2 (ja) | 銅−ガリウムスパッタリングターゲット | |
TW201410874A (zh) | 用於工具透鏡生產之惰性高硬度材料 | |
CN106834866A (zh) | 钛硅碳在硬质合金中的应用 | |
CN109666894A (zh) | 一种银氧化锡复合涂层及其制备方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |