CN107683453A - 触摸窗 - Google Patents

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Abstract

根据实施方式的触摸窗包括：基板；布置在基板上的感测电极；以及布置在感测电极上的防反射层，其中，防反射层包括：布置在感测电极的第一表面上的第一子防反射层；布置在与第一表面相对的第二表面上的第三子防反射层；以及布置在分别连接第一表面和第二表面的两个侧表面上的第二子防反射层。另外，根据实施方式的触摸窗包括：基板；包括布置在基板上的图案部的基底构件；布置在图案部内的感测电极；以及包围感测电极的防反射层，其中，防反射层包括：布置在感测电极的下表面上的第一子防反射层；布置在感测电极的两个侧表面上的第二子防反射层；以及布置在感测电极的上表面上的第三子防反射层，并且第二子防反射层分别包括倾斜表面。另外，根据实施方式的触摸窗包括：基板；基板上的感测电极；布置在感测电极的第一表面上的第一子防反射层；以及布置在感测电极的第二表面上的第三子防反射层，其中，感测电极、第一子防反射层和第三子防反射层中的至少之一具有相对于基板的表面以锐角倾斜的侧表面。

Description

触摸窗
技术领域
实施方式涉及触摸窗。
背景技术
近来，触摸窗以如下方式被应用于各种电子装置：输入装置例如手指或手写笔与显示在显示装置上的图像接触以执行输入操作。
在这样的触摸窗中，感测电极和连接至感测电极的接线电极被设置在基板上。当触摸在其上设置有感测电极的区域时，可以感测电容的变化以检测位置。
作为最广泛用作触摸窗的透明电极的铟锡氧化物(ITO)是昂贵的，并且在物理上容易受到基板弯折和翘曲的影响，从而使作为电极的特性劣化。因此，存在ITO不适用于柔性装置的问题。另外，当将ITO应用于大尺寸的触摸面板时，存在产生高电阻的问题。
为了解决这些问题，已经研究通过形成网格形状的电极材料来取代ITO。
另外，感测电极可以包括导电材料例如金属。这样的金属存在触摸窗的可见性劣化的问题，这是因为由于金属的独特的反射光特性(shining characteristic)，从外部能看到从外部入射的光。
另外，存在由于电极的腐蚀导致触摸灵敏度劣化的问题。
另外，当在上基板上形成第一电极，在下基板上形成第二电极，并且上基板和下基板通过光学透明粘合剂(OCA)或光学透明树脂(OCR)彼此粘附时，存在触摸窗的整体厚度厚并且加工成本增加的问题。
因此，需要具有能够解决上述问题的新结构的触摸窗。
发明内容
技术问题
实施方式提供了一种具有改进的可靠性和可见性的触摸窗。
技术解决方案
根据实施方式的触摸窗包括：基板；设置在基板上的感测电极；以及设置在感测电极上的防反射层，其中，防反射层包括：设置在感测电极的一个表面上的第一子防反射层；设置在与所述一个表面相对的另一表面上的第三子防反射层；以及设置在将所述一个表面连接至所述另一表面的两个侧表面中的每一个上的第二子防反射层。
此外，根据实施方式的触摸窗包括：基板；基底构件，其设置在基板上并且包括图案部；设置在图案部中的感测电极；以及包围感测电极的防反射层，其中，防反射层包括：设置在感测电极的底表面上的第一子防反射层；设置在感测电极的两个侧表面中的每一个上的第二子防反射层；以及设置在感测电极的顶表面上的第三子防反射层。
另外，根据实施方式的触摸窗包括：基板；设置在基板上的感测电极；设置在感测电极的一个表面上的第一子防反射层；以及设置在感测电极的另一表面上的第三子防反射层，其中，感测电极、第一子防反射层和第三子防反射层的至少一个侧表面相对于基板的一个表面以锐角倾斜。
有益效果
在根据实施方式的触摸窗中，感测电极可以被设置成被防反射层包围，以防止由于感测电极的顶表面、底表面以及两个侧表面的腐蚀而导致可靠性劣化。
另外，可以防止由于感测电极的顶表面、底表面和两个侧表面的反射光而导致可见性的劣化。
另外，感测电极可以与基板不直接接触以防止感测电极分层。因此，可以提高触摸窗的可靠性。
另外，在根据实施方式的触摸窗中，感测电极可以以均匀厚度设置在图案部内，并且设置在图案部中的感测电极的特性可以是均匀的以提高触摸窗的可靠性。
在根据实施方式的触摸窗中，感测电极可以分别设置在基板的一个表面和另一表面上。也就是说，与其中各电极分别设置在单独的基板上的结构相比，由于省略了粘附层和一个基板，从而减小触摸窗的整体厚度。
在根据实施方式的触摸窗中，由于感测电极、第一子防反射层和第三子防反射层中的至少之一的侧表面相对于基板的一个表面以锐角倾斜，所以可以将倾斜度小于感测电极的倾斜度的防反射层设置成面对用户，从而使从感测电极反射的反射光最小化并且改善了触摸窗的可见性。
另外，感测电极、第一子防反射层和第三子防反射层中的至少之一可以具有朝基板逐渐增加的宽度。另外，感测电极、第一子防反射层和第三子防反射层可以设置在基板的一个表面上，并且与所述一个表面相对的另一表面可以设置成面对用户，从而使从感测电极反射的反射光最小化并且改善了触摸窗的可见性。
附图说明
图1是根据第一实施方式的触摸窗的透视图。
图2至图6是沿图1的线A-A'截取的截面图。
图7是根据第二实施方式的触摸窗的透视图。
图8是根据第二实施方式的触摸窗的截面图。
图9是根据第二实施方式的触摸窗的另一截面图。
图10是根据第三实施方式的触摸窗的平面图。
图11是沿图10的线A-A'截取的截面图。
图12是沿图10的线A-A'截取的另一截面图。
图13是沿图10的线A-A'截取的又一截面图。
图14至图15是示出制造根据第三实施方式的触摸窗的过程的图。
图16是根据第三实施方式的触摸窗的透视图。
图17至图19是用于说明根据第一实施方式、第二实施方式和第三实施方式的各种类型的触摸窗的图。
图20至图22是用于说明根据第一实施方式、第二实施方式和第三实施方式的与触摸窗和显示面板耦接的触摸装置的图。
图23至图26是示出根据第一实施方式、第二实施方式和第三实施方式的应用触摸窗的触摸装置的示例的图。
具体实施方式
在对实施方式的描述中，应理解，当层(或膜)、区域、图案或结构被称为在另一层(或膜)、区域、焊盘或图案“上”和“下方”时，“在……上”和“在……下方”的术语包括“直接”和“间接”的含义二者。此外，将基于附图进行关于在每层“上”和“下方”的参考。
另外，当一个部分被称为“连接”至另一部分时，应当理解，该一个部分可以“直接连接”至所述另一部分，或者经由中间构件“间接连接”至所述另一部分。此外，当描述一个部件“包括(或包含或具有)”一些元件时，应当理解，如果没有特别限制，则该部件可以仅包括(或包含或具有)那些元件，或者该部件可以包括(或包含或具有)其他元件以及所述那些元件。
在附图中，为了便于描述和清楚起见，每个层(或膜)、区、图案或结构的大小和尺寸可能被放大、省略或示意性地示出。
在下文中，将参照附图详细描述示例性实施方式。
图1至图6是根据第一实施方式的触摸窗的图。
参照图1，根据第一实施方式的触摸窗可以包括盖基板100、基板110、感测电极200和接线电极300。
盖基板100可以是刚性的或柔性的。
例如，盖基板100可以包括玻璃或塑料。
详细地，盖基板100可以包括：化学增强或热增强玻璃，例如，钠钙玻璃或铝硅酸盐玻璃；增强或柔性塑料，例如，聚酰亚胺(PI)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、丙二醇(PPG)、聚碳酸酯(PC)等；或者蓝宝石。
另外，盖基板100可以包括光学各向同性膜。例如，盖基板100可以包括环烯烃共聚物(COC)、环烯烃聚合物(COP)、光学各向同性聚碳酸酯(PC)或光学各向同性聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)。
蓝宝石具有优异的电特性例如介电常数，这不仅显著提高触摸响应速度，还易于实现例如悬停(hovering)等空间触摸，并且由于蓝宝石具有高的表面强度所以蓝宝石适用于盖基板。在此，悬停表示即使在距显示器很小的距离处也能识别坐标的技术。
另外，盖基板100可以部分地弯折成具有弯曲表面。也就是说，盖基板100可以部分地具有平面并且可以部分地弯折成具有弯曲表面。详细地，盖基板100的端部可以被弯折成具有弯曲表面，或者可以被弯折或被弯曲成具有随机曲率的表面。
另外，盖基板100可以是具有柔性特性的柔性基板。
另外，盖基板100可以是弯曲或弯折的基板。也就是说，包括盖基板100的触摸窗也可以具有柔性特性、弯曲特性或弯折特性。因此，根据实施方式的触摸窗可以容易地携带，并且根据实施方式的触摸窗可以在设计上进行各种改变。
在盖基板100上可以设置有感测电极200、接线电极300和印刷电路板。也就是说，盖基板101可以是支承基板。
在盖基板100上可以限定有源区和非有源区。
可以在有源区上显示画面，并且不可以在设置在有源区周围的非有源区上显示画面。
另外，输入单元(例如，手指、手写笔等)的位置可以在有源区和非有源区中的至少一种区域上被感测。如上所述，当输入单元例如手指、手写笔等与触摸窗接触时，在输入单元的接触部分处可能产生电容差。因此，可以将产生电容差的部分检测为接触位置。
基板110可以设置在盖基板100上。盖基板100和基板110可以通过粘合层彼此粘附。基板110可以支承感测电极200和接线电极300。也就是说，基板110可以是支承感测电极200和接线电极300的支承基板。
也就是说，感测电极200、接线电极300和印刷电路板可以由基板110支承，并且基板110和盖基板100可以通过粘合层彼此组合(粘附)。
基板110可以包括与上述盖基板100的材料相同或相似的材料。另外，基板110可以像盖基板100那样弯折并且包括柔性基板。另外，基板110可以是弯曲或弯折的基板。
感测电极200可以设置在基板110上。详细地，感测电极200可以设置在基板110的有源区和非有源区中的至少一种区域上。例如，感测电极200可以设置在基板的有源区上。
感测电极200可以包括第一感测电极210和第二感测电极220。
第一感测电极210和第二感测电极220可以设置在基板110的一个表面和另一表面中的至少一个表面上。详细地，第一感测电极210和第二感测电极220可以分别设置在基板110的一个表面和另一表面上。也就是说，第一感测电极210可以设置在基板210的一个表面上，并且第二感测电极220可以设置在基板的与所述一个表面相对的另一表面上。
第一感测电极210和第二感测电极220可以沿彼此不同的方向延伸。例如，第一感测电极210可以沿一个方向延伸，并且第二感测电极220可以沿与所述一个方向不同的另一方向延伸。
第一感测电极210和第二感测电极220中的至少一个感测电极可以包括在不干扰光传输的情况下使得电流能够流动的透明导电材料。
例如，感测电极200可以包括金属氧化物，例如铟锡氧化物、铟锌氧化物、铜氧化物、锡氧化物、锌氧化物、钛氧化物。
替选地，第一感测电极210和第二感测电极220中的至少一个感测电极可以包括纳米线、光敏纳米线膜、碳纳米管(CNT)、石墨烯、导电聚合物或其混合物。
当使用纳米复合材料例如纳米线或碳纳米管(CNT)时，纳米复合材料可以具有黑色以控制颜色和反射率，同时通过控制纳米粉末的含量来确保导电性。
替选地，第一感测电极210和第二感测电极220中的至少一个感测电极可以包括各种金属。例如，感测电极200可以包括Cr、Ni、Cu、Al、Ag、Mo、Au、Ti及其合金中的至少之一。
例如，第一感测电极210和第二感测电极220中的每一个可以包括金属。
另外，感测电极200可以具有网格形状。详细地，感测电极200可以包括多个子电极。子电极可以设置成彼此交叉并设置成网格形状。
例如，第一感测电极210和第二感测电极220中的至少一个感测电极可以具有网格形状。详细地，设置在基板100的一个表面上的第一感测电极210和/或设置在基板100的另一表面上的第二感测电极220可以具有网格形状。
例如，第一感测电极210可以具有网格形状，并且第二感测电极220可以具有条形状。但是，实施方式不限于此。例如，第一感测电极210和第二感测电极220可以全部具有网格形状，或者第一感测电极210和第二感测电极220可以全部具有条形状。
详细地，感测电极可以包括由彼此交叉成网格形状的多个子电极限定的网格线LA以及在网格线LA之间的网格开口OA。
网格线LA可以具有约0.1μm至约10μm的线宽。可能无法制造网格线LA的线宽小于约0.1μm的网格线部分，或者所述网格线可能被短路。当网格线具有超过约10μm的线宽时，从外部能看到电极图案，从而使可见性劣化。更优选地，网格线LA可以具有约0.5μm至约7μm的线宽。更优选地，网格线可以具有约1μm至约3.5μm的线宽。
另外，网格开口OA可以具有各种形状。例如，网格开口OA可以具有各种形状，例如矩形形状、菱形形状、五边形形状、六边形的多边形形状；或圆形形状。另外，网格开口可以具有规则形状或随机形状。
由于感测电极具有网格形状，所以在有源区例如显示区域上不会看到感测电极的图案。也就是说，即使感测电极由金属制成，也不会看到图案。另外，即使将感测电极应用于大尺寸的触摸窗，也可以减小触摸窗的电阻。
接线电极300可以设置在基板110上。详细地，接线电极300可以设置成被连接至基板110上的感测电极200。
接线电极300可以设置在基板110的有源区和非有源区中的至少一种区域上。例如，接线电极300可以设置在基板100的有源区上。
接线电极300可以包括第一接线电极310和第二接线电极320。例如，接线电极300可以包括连接至第一感测电极210的第一接线电极310和连接至第二感测电极220的第二接线电极320。
第一接线电极310和第二接线电极320中的每一个可以具有连接至感测电极200的一端和连接至印刷电路板的另一端。
接线电极300可以包括导电材料。例如，接线电极300可以包括与上述感测电极200的材料相同或相似的材料。
另外，与上述感测电极200类似，接线电极300可以具有网格形状。
图2至图6是示出根据第一实施方式的触摸窗的感测电极的一个表面的截面图。尽管在图2至图6中示出感测电极，但是在以下描述中可以设置接线电极。
参照图2至图6，感测电极200可以设置在基板110的一个表面和另一表面中的至少一个表面上。感测电极200可以包括第一感测电极210和第二感测电极220。
参照图2，感测电极可以设置在基板110的所述一个表面和所述另一表面中的每一个上。
可以在感测电极上设置防反射层400。
防反射层400可以设置在第一感测电极210和第二感测电极220中的每一个的整个表面上。例如，防反射层400可以设置在第一感测电极210和第二感测电极220中的每一个的至少两个表面上。例如，防反射层400可以设置在第一感测电极210和第二感测电极220的四个表面上。详细地，防反射层400可以设置在感测电极的顶表面和底表面以及将顶表面连接至底表面的侧表面上。也就是说，防反射层400可以被设置成包围感测电极200的整个表面。
参照图2，防反射层400可以包括第一子防反射层410、第二子防反射层420和第三子防反射层430。
第一子防反射层410可以被设置成与感测电极200以及基板100接触。例如，第一子防反射层410可以被设置成与感测电极200的一个表面以及基板100的一个表面接触。详细地，第一子防反射层410可以设置在感测电极200与基板100之间。
第二子防反射层420可以设置成与感测电极200接触。例如，第二子防反射层420可以设置成与感测电极200的侧表面接触。
第三子防反射层430可以被设置成与感测电极200接触。例如，第三子防反射层430可以被设置成与感测电极200的所述一个表面相对的另一表面接触。
因此，第一子防反射层410、第二子防反射层420和第三子防反射层430可以彼此连接并设置在感测电极200上。详细地，第二子防反射层420可将设置在感测电极200的所述一个表面上的子防反射层410连接至设置在面对所述一个表面的另一表面上的第三子防反射层430。
也就是说，第一子防反射层410、第二子防反射层420和第三子防反射层430可以分别设置在感测电极200的所述一个表面、所述另一表面和所述侧表面上即感测电极200的整个表面上。
另外，第一子防反射层410、第二子防反射层420和第三子防反射层430可以被设置成彼此连接。例如，第一子防反射层410、第二子防反射层420和第三子防反射层430可以设置为一体。
因此，第一子防反射层410、第二子防反射层420和第三子防反射层430可以设置成包围感测电极200的整个表面。
在根据第一实施方式的触摸窗中，防反射层400可以设置在感测电极200的整个表面上，以防止感测电极200被外部环境氧化或腐蚀。也就是说，防反射层可以设置在感测电极上以用作为保护层，从而保护感测电极免受外部杂质的影响。因此，可以提高根据第一实施方式的触摸窗的可靠性。
另外，感测电极200可以设置在防反射层400上，而与由与感测电极200的材料不同的材料制成的基板110不直接接触，以防止感测电极200与基板110分层。也就是说，防反射层400可以用作基板110与感测电极200之间的缓冲层，以提高感测电极200与基板110之间的附接性。因此，可以提高根据第一实施方式的触摸窗的可靠性。
例如，设置在基板110的所述一个表面和所述另一表面上的第一感测电极210和第二感测电极220可以设置为一体。
例如，第一感测电极210和第二感测电极220中的每一个可以是镀覆层。例如，第一感测电极210和第二感测电极220中的每一个可以通过化学镀(electroless plating)在基板110上设置为一体。在此，化学镀可以表示在不从外部向水溶液施加电能的情况下进行的镀覆。详细地，第一感测电极210和第二感测电极220可以通过湿法工艺同时形成。因此，可以提高根据第一实施方式的触摸窗的工艺效率。
另外，感测电极200可以通过化学镀而具有薄的厚度。因此，可以减小根据第一实施方式的触摸窗的整体厚度。
感测电极200可以具有约200nm至约900nm的厚度T1。例如，感测电极200可以具有约200nm至约700nm的厚度T1。例如，感测电极200可以具有约200nm至约500nm的厚度T1。
例如，当感测电极200具有小于约200nm的厚度T1时，电极的电阻可能增加，从而使可靠性劣化。另外，当感测电极200具有超过约900nm的厚度T1时，触摸窗的整体厚度会增加，从而使工艺效率劣化。
另外，感测电极200可以通过化学镀以相同的厚度设置在基板110上。例如，第一感测电极210可以具有与第二感测电极220的厚度T2对应的厚度T1。因此，可以提高根据第一实施方式的触摸窗的可靠性。
防反射层400可以具有与感测电极200的厚度不同的厚度。例如，感测电极200可以具有比防反射层400的厚度大的厚度。
例如，防反射层400的厚度与感测电极200的厚度之比可以是约25:1或更小。例如，防反射层400的厚度与感测电极200的厚度之比的范围可以为约18:1至约25:1。例如，防反射层400的厚度与感测电极200的厚度之比的范围可以为18:1至20:1。当防反射层400的厚度与感测电极200的厚度之比超过约25:1时，可能会看到感测电极并且感测电极与基板之间的附接力可能劣化。
另外，防反射层400可以以相同的厚度设置在感测电极200上。例如，第一子防反射层410的厚度D1、第二子防反射层420的厚度D2和D3以及第三子防反射层430的厚度D4可以彼此对应。因此，可以提高根据第一实施方式的触摸窗的可靠性。
防反射层400可以具有约10μm至约50μm的厚度D。例如，防反射层400可以具有约10μm至约30μm的厚度D。例如，防反射层400可以具有约10μm至约20μm的厚度D。
当防反射层400具有小于约10μm的厚度D时，可能会看到感测电极200。
另外，当防反射层400具有超过约50μm的厚度D时，触摸窗的整体厚度可能增加，从而使工艺效率劣化。
在此，防反射层400的厚度D可以表示第一子防反射层410的厚度D1、第二子防反射层420的厚度D2和D3以及第三子防反射层430的厚度D4的平均厚度。
感测电极200可以包括与防反射层400的材料对应的材料。例如，感测电极200可以包括与防反射层400的金属对应的金属。例如，防反射层400可以包括金属氧化物。详细地，感测电极200可以包括金属，并且防反射层400可以包括包含该金属的氧化物，即金属氧化物。详细地，感测电极200可以包括第一金属，并且防反射层400可以包括包含该第一金属的氧化物，即第一金属氧化物。
然而，该实施方式不限于此。例如，感测电极200可以包括与防反射层400的材料不同的材料。防反射层400可以包括合金。例如，防反射层400可以包括Cu2Se和Cu-Pd中的至少一种化合物。例如，感测电极200可以相对于防反射层400单独形成。
防反射层400可以具有预定的颜色。
防反射层400可以具有约40或更小的明度指数L＊。例如，防反射层400可以具有约0至约40的明度指数L＊。例如，防反射层400可以具有约10至约40的明度指数L＊。当防反射层400具有小于约40的明度指数L＊时，可以防止从外部看到感测电极200。明度指数L＊可以是表示亮度的数值。也就是说，随着明度指数L＊接近100，呈现出白色，并且随着明度指数L＊接近0，呈现出黑色。
防反射层400的色度指数b＊可以具有负值。例如，防反射层400可以具有-10或更小的色度指数b＊。例如，防反射层400可以具有-15或更小的色度指数b＊。当防反射层400的色度指数b＊具有负值时，可以防止从外部看到感测电极200。色度指数b＊可以是色坐标系的单位。当色度指数具有负值时，可以呈现蓝色，并且当色度指数具有正值时，可以呈现黄色。另外，可以根据色度指数的值来增强蓝色或黄色。
例如，防反射层400可以具有基于黑色的颜色。详细地，防反射层400可以具有黑色、灰色及其混合颜色中的至少一种颜色。
例如，防反射层400可以由黑化材料制成。黑化材料可以是具有黑色的金属氧化物。例如，可以将选自CuO、CrO、FeO和Ni2O3中的一种材料应用于黑化材料，但是不限于此。例如，可以应用能够抑制感测电极200的反射率的基于黑色的材料。
也就是说，防反射层400可以防止感测电极200的反射。详细地，可以防止感测电极200的顶部、底部和侧表面由于其反射光而被看见。
例如，防反射层400可以像感测电极那样通过湿法工艺形成。因此，可以提高工艺效率。
虽然感测电极200在图2中以矩形形状设置，但是该实施方式不限于此。例如，感测电极200可以是倾斜的或具有弯曲的表面。
参照图3，感测电极200可以具有倾斜表面。例如，倾斜表面可以具有从感测电极200与基板100接触的一个表面朝与所述一个表面相对的另一表面逐渐减小的宽度。详细地，倾斜表面可以是线性形状或类似于线性形状的形状。
另外，防反射层400可以设置在感测电极200的整个表面上。也就是说，第一子防反射层410、第二子防反射层420和第三子防反射层430可以设置在具有倾斜表面的感测电极200的整个表面上。因此，第二子防反射层420可以相对于基板110成锐角倾斜，以将第一子防反射层410连接至第三防反射层430。
参照图4，感测电极200可以具有倾斜表面。例如，感测电极200可以具有与基板110接触的一个表面以及与所述一个表面相对的外表面。在此，另一表面可以具有弯曲表面。
另外，防反射层400可以设置在感测电极200的整个表面上。也就是说，第一子防反射层410可以设置在基板110与感测电极200的一个表面之间，并且第三子防反射层430可以具有弯曲表面并且设置在感测电极200的另一表面上。第一子防反射层410可以连接至第三子防反射层430。
尽管在图2至图4中感测电极210设置在基板上，但是本实施方式不限于此。例如，感测电极210可以设置在图案部中。
参照图5和图6，在基板100上还可以设置基底构件150。例如，基底构件150可以设置在基板100的所述一个表面或所述另一表面上，并且可以在基底构件150上设置多个凹入图案部P(engraved pattern part)。图案部P整体上可以具有网格形状。
基底构件150可以包括光固化树脂或热固性树脂，但是该实施方式不限于此。另外，基底构件150的凹入图案可以通过压印具有与凹入图案互补的形状的凸出图案来形成。
参照图5，感测电极200和设置成包围感测电极200的整个表面的防反射层400可以设置在基底构件150的凹入图案部P中。
根据实施方式的感测电极可以通过以下方式形成：在形成包括光固化树脂(UV树脂)或热固性树脂的基底构件150之后，并且在基底构件上形成具有网格形状的凹入图案之后，在凹入图案中填充导电材料。在此，基底构件150的凹入图案可以通过压印具有凸出图案的模具而形成。
参照图6，在基板100上可以设置其上形成有彼此不同尺寸的图案的基底构件150。
基底构件150可以包括第一图案150a和第二图案150b。详细地，基底构件150可以包括彼此具有不同宽度的第一图案150a和第二图案150b。另外，第一图案150a和第二图案150a中的每一个可以具有凸出图案。另外，第一图案150a可以具有几纳米(nm)的宽度，并且第二图案150b可以具有几微米(μm)的宽度。也就是说，第二图案150b的宽度可以大于第一图案150a的宽度。
第一图案150a和第二图案150b中的每一个可以通过压印具有凹入图案的模具来形成，该凹入图案具有与凸出图案互补的形状。
感测电极200和防反射层400可以设置在第二图案150b上。
在下文中，将参照图7至图9描述根据第二实施方式的触摸窗。在此，将省略与上述第一实施方式重复的描述。相同的组成部分将被赋予相同的附图标记。
参照图7，在根据第二实施方式的触摸窗中，第一感测电极210和第二感测电极220可以分别设置在基板110的一个表面和另一表面上，即，基板110的两个表面上。因此，由于第一感测电极210和第二感测电极220全部设置在一个基板110上，所以可以减小触摸窗的整体厚度。
也就是说，在根据该实施方式的触摸窗中，与其中感测电极210分别设置在单独的基板上的结构相比，由于省略粘合层和一个基板，所以减小了触摸窗的整体厚度。
设置在基板110的两个表面上的第一电极210和第二电极220中的每一个，即设置在基板110的一个表面上的第一感测电极210和/或设置在基板110的另一表面上的第二感测电极220可以具有网格形状。
网格线LA可以具有约0.1μm至约10μm的线宽。优选地，网格线LA可以具有约0.5μm至约7μm的线宽。更优选地，网格线可以具有约1μm至约3.5μm的线宽。
另外，网格线LA可以具有约100nm至约500nm的厚度。当网格线LA的厚度小于约100nm时，电极电阻可能会增加，从而使电特性劣化。当网格线LA具有大于约500nm的厚度时，触摸窗的整体厚度可能会增加，从而使工艺效率劣化。优选地，网格线LA可以具有约150nm至约200nm的厚度。更优选地，网格线LA可以具有约180nm至约200nm的厚度。
虽然在附图中未示出，但是可以在基板的非有源区上设置装饰层。装饰层可以设置在基板的非有源区上，并且通过以下方式形成：施加具有预定颜色的材料，使得从外部无法看到接线电极和将接线电极连接至外部电路的印刷电路板。
装饰层可以具有适合于期望外观的颜色，例如包括黑色或白色颜料的黑色或白色。替选地，通过使用各种色膜，装饰层可以具有各种颜色例如，红色和蓝色。
当装饰层被设置成膜时，可以在固化或柔性基板上设置装饰层时容易地设置装饰层。
另外，可以通过各种方式在装饰层上形成期望的标识。装饰层可以通过气相沉积、印刷和湿法涂覆来形成。
装饰层可以设置有至少一层。例如，装饰层可以被设置为一层或彼此具有不同宽度的两层。
装饰层可以设置在基板的所述一个表面和所述另一表面中的至少一个表面上。
参照图8，根据第二实施方式的触摸窗可以包括基板110上的基底构件150和基底构件150上的感测电极200。
基底构件150可以包括塑料。例如，基底构件150可以包括树脂。例如，基底构件150可以包括光固化树脂例如UV树脂或热固性树脂。
基底构件150可以包括图案部P。
例如，可以在基底构件150的一个表面和另一表面中的每一个上设置凹入图案部P。图案部P可以具有网格形状。详细地，图案部P可以具有彼此交叉的网格形状。
感测电极200可以设置在基底构件150上。例如，感测电极200可以设置在图案部P中。因此，感测电极200可以以网格形状设置在基底构件150上。
例如，可以在基板110的所述一个表面上设置第一基底构件151，可以在第一基底构件151的图案部P中设置第一感测电极210，可以在基板110的所述另一表面上设置第二基底构件152，并且可以在第二基底构件152的图案部P中设置第二感测电极220。
感测电极可以包括上述导电材料。例如，感测电极可以通过将包括导电材料的导电膏填充到图案部中而形成。
导电膏可以通过将导电粉末、溶剂和粘附剂彼此混合而形成。
导电粉末可以包括上述金属。也就是说，导电粉末可以是包括Cr、Ni、Cu、Al、Ag、Mo、Au、Ti中的至少一种金属及其合金的金属粉末。
粘附剂可以用于在金属粉末与基板之间产生粘附力。例如，粘附剂可以包括选自环氧树脂、酯、丙烯酸树脂和乙烯树脂中的至少一种，但不限于此。
另外，溶剂可以包括能够溶解粘附剂的有机溶剂。例如，溶剂可以包括选自醇、二元醇、多元醇、醚、乙二醇醚、乙二醇醚酯和酯中的至少一种，但不限于此。
在将导电膏施加至基底构件150之后，可以通过使用辊压构件将导电膏填充到基底构件的图案部中。
因此，可以将导电膏填充到图案部P中以形成整体上具有网格形状的感测电极200。
替选地，可以通过电镀覆或化学镀将感测电极200沉积在图案部中。当通过电镀覆或化学镀直接沉积感测电极200时，可以在基底构件150上沉积电特性优于膏的金属。因此，感测电极200可以以薄的厚度沉积以减少电极的厚度。
另外，由于感测电极200通过电镀覆或化学镀沉积，所以与施加膏的情况相比，电极可以以更均匀的厚度沉积在图案部中。因此，可以提高根据本实施方式的触摸窗的可靠性。
防反射层400可以设置在感测电极200上。例如，防反射层400可以设置在第一感测电极210和第二感测电极220中的每一个上。
防反射层400可以设置成与感测电极200接触。例如，防反射层400可以设置成与感测电极200直接接触。
防反射层400可以设置在感测电极200的整个表面上。例如，当感测电极200具有顶表面、底表面、左表面和右表面时，防反射层400可以设置在感测电极200的顶表面、底表面、左表面和右表面的整个表面上。
也就是说，感测电极200可以设置成包围防反射层400。因此，感测电极200和设置成包围感测电极200的防反射层400可以设置在图案部P中。
防反射层400可以包括设置在感测电极200的底表面上的第一子防反射层410、设置在感测电极200的两个侧表面中的每一个上的第二子防反射层420、以及设置在感测电极200的顶表面上的第三子防反射层430。
第一子防反射层410、第二子防反射层420和第三子防反射层430可以设置为一体。
另外，第一子防反射层410、第二子防反射层420和第三子防反射层430可以同时形成。
替选地，可以同时形成第一子防反射层410和第二子防反射层420，并且在第一子防反射层410和第二子防反射层420上形成感测电极200。然后，可以形成第三子防反射层430。
例如，可以通过表面处理来增加设置在基板110上的基底构件150的粗糙度。可以通过使用包含金属的有机溶剂来处理基底构件150。例如，可以通过使用包含Pd或Ag的有机溶剂来处理基底构件150。然后，可以使包含在有机溶剂中的金属还原以形成第一子防反射层410和第二子防反射层420。在此，第一子防反射层410和第二子防反射层420中的每一个可以是黑化层。随着基底构件150的表面的粗糙度增加，可以增加例如Pd或Ag的金属的附接性，因此，可以形成极好的黑化层。接下来，可以形成感测电极。可以通过使感测电极200的表面氧化或通过使用与用于形成第一子防反射层410和第二子防反射层420相同的形成方法来形成设置在感测电极200上的第三子防反射层430。
另外，第一子防反射层410、第二子防反射层420和第三子防反射层430可以包括相同的材料或彼此相似的材料。也就是说，第一子防反射层410、第二子防反射层420和第三子防反射层430可以包括彼此对应的材料。
另外，第一子防反射层410、第二子防反射层420和第三子防反射层430可以以相同的厚度或彼此相似的厚度设置。
防反射层400可以通过电镀覆或化学镀设置在感测电极200上。当通过电镀覆或化学镀沉积防反射层400时，防反射层可以以均匀厚度沉积在图案部中。也就是说，防反射层400可以是镀覆层。详细地，第一子防反射层410、第二子防反射层420和第三子防反射层430中的每一个可以是镀覆层。
第一子防反射层410可以设置在基底构件150与感测电极200之间以提高感测电极200与基底构件120之间的附接性。因此，可以防止感测电极200的分层或分离以提高触摸窗的可靠性。
另外，防反射层400可以设置在感测电极200上以用作感测电极200的保护层。例如，防反射层400可以防止感测电极的顶部、底部或两个侧表面由于露出于外部而被氧化或腐蚀，以提高触摸窗的可靠性。
由于防反射层400设置在图案部P中，所以第三子防反射层430可以具有与第一子防反射层410的宽度对应的宽度。然而，该实施方式不限于此。例如，图案部P可以形成有各种凹入图案。
防反射层400可以包括金属。详细地，防反射层400可以包括例如Cu2Se、Pd、Ag或Nb的金属。
例如，防反射层400可以包括金属氧化物。详细地，防反射层400可以包括例如CuO、CrO、FeO或Ni2O3的金属氧化物。但是，该实施方式不限于此。例如，防反射层400可以包括能够抑制感测电极的反射能力的各种金属或金属氧化物。
也就是说，防反射层400可以设置在感测电极200上以改善感测电极200的可见性。例如，第一子防反射层410可以设置在感测电极200的底表面上，第二子防反射层420可以设置在感测电极200的两个侧表面中的每一个上，并且第三子防反射层430可以设置在感测电极200的顶表面上以防止由于感测电极的顶部、底部或两个侧表面的反射光而使可见性劣化。
防反射层400可以具有颜色。例如，防反射层400可以具有基于黑色的颜色。详细地，防反射层400可以具有黑色、灰色及其混合颜色中的至少一种颜色。
防反射层400和感测电极200可以同时形成或者通过单独的工艺形成。
感测电极200可以具有与防反射层的厚度不同的厚度。例如，感测电极200的厚度可以大于防反射层的厚度。例如，当防反射层的厚度大于感测电极200的厚度时，根据实施方式的触摸窗的电特性可能劣化。
第二子防反射层420可以具有与基底构件150的图案部P的侧表面对应的倾斜度。也就是说，第二子防反射层420可以相对于设置在感测电极200的底表面上的第一子防反射层410具有90度的内角，并且相对于连接至设置在感测电极的顶表面上的第三子防反射层430具有90度的内角。因此，彼此面对的第二子防反射层420可以彼此平行地设置，在所述第二子防反射层420之间具有感测电极200。
图案部P可以具有与设置在图案部P中的感测电极200和防反射层400中的每一个的H2对应的高度H1。
参照图9，基底构件150的图案部P的侧表面可以包括倾斜表面。因此，感测电极200的底表面和顶表面可以具有彼此不同的宽度。
例如，感测电极200可以具有从与基底构件150接触的底表面朝与底表面相对的顶表面逐渐增加的宽度。详细地，与基底构件接触的感测电极的底部可以具有宽度W1，宽度W1小于与底表面相对的顶表面的宽度W2。更详细地，感测电极200可以具有朝基板(即，靠近基板)逐渐减小的宽度。
也就是说，由于防反射层400设置在图案部P中，所以第三子防反射层430可以具有与第一子防反射层410不同的宽度。例如，第三子防反射层430的宽度可以大于第一子防反射层410的宽度。因此，可以提高感测电极200的填充效率，从而提高触摸窗的可靠性。
第二子防反射层420可以具有与基底构件150的侧表面的倾斜度对应的倾斜度。也就是说，第二子防反射层420可以相对于设置在感测电极200的底表面上的第一子防反射层410具有超过90度的钝角，并且相对于连接至设置在感测电极的顶表面上的第三子防反射层430具有小于90度的锐角。因此，彼此面对的第二子防反射层420之间的间隔距离可以从感测电极200的顶表面朝底表面减小。
感测电极200可以具有与防反射层的厚度不同的厚度T1。例如，感测电极200可以具有比防反射层的厚度大的厚度T1。详细地，感测电极200可以具有比第一子防反射层410的厚度D1大的厚度T1。详细地，感测电极200可以具有比第三子防反射层430的厚度D4大的厚度T1。
因此，可以确保感测电极200的电特性，并且同时可以防止感测电极200被看到。
图案部P可以具有比设置在图案部P中的感测电极200和防反射层400中的每一个的高度H2大的高度H1。因此，可以防止感测电极200的分层，并且可以防止第三子防反射层430的损坏，以提高防反射层400对感测电极200的保护效果。
在根据实施方式的触摸窗中，由于触摸电极设置在基板的所述一个表面和所述另一表面上，所以可以减小触摸窗的厚度。另外，由于感测电极被设置成被防反射层包围，因此可以改善可靠性和可见性。另外，在根据实施方式的触摸窗中，由于设置在基板的所述一个表面和所述另一表面上的触摸电极以及包围感测电极的防反射层同时形成，所以可以提高工艺效率。
在下文中，将参照图10至图16描述根据第三实施方式的触摸窗。在此，将省略与上述第一实施方式重复的描述。相同的组成部分将被赋予相同的附图标记。
参照图10，在根据第三实施方式的触摸窗中，在基板110上可以设置有感测电极200、接线电极300和印刷电路板250。也就是说，基板110可以是支承基板。
接线电极300可以连接至感测电极200以延伸至非有源区UA，然后连接至非有源区UA上的印刷电路板250。
图11和图13是根据第三实施方式的触摸窗的截面图。
参照图11，可以在感测电极200上设置防反射层400。详细地，防反射层400可以设置在感测电极200的一个表面和另一表面中的至少一个表面上。更详细地，防反射层400可以设置在感测电极200的一个表面和另一表面中的每一个上。
参照图11，防反射层400可以包括设置在感测电极200的所述一个表面上的第一防反射层410和设置在与所述一个表面相对的另一表面上的第三防反射层430。
第一防反射层410可以设置成与感测电极200的所述一个表面直接或间接接触。另外，防反射层430可以设置成与感测电极200的所述另一表面直接或间接接触。
因此，第一防反射层410、感测电极200和第三防反射层430可以依次设置在基板110上。
感测电极200可以包括与防反射层400的材料对应的材料。例如，感测电极200可以包括金属，并且防反射层400可以包括包含金属的氧化物，即金属氧化物。但是，该实施方式不限于此。例如，感测电极200可以包括与防反射层400的材料不同的材料。
防反射层400可以是黑化材料层。例如，防反射层400可以包括具有黑色的金属氧化物。例如，防反射层400可以包括选自CuO、CrO、FeO和Ni2O3中的至少一种金属氧化物，但不限于此。例如，可以应用金属氧化物，没有限制，只要金属氧化物是能够抑制感测电极200的反射能力的基于黑色的材料即可。
防反射层400和感测电极200可以同时形成或者通过单独的工艺形成。
第一防反射层410可以设置在感测电极200的所述一个表面上，以防止由金属制成的感测电极200被氧化，从而提高可靠性，并且还防止产生由于金属的全反射特性而导致的反射，从而改善可见性。
另外，感测电极200可以与由与感测电极200的材料不同的材料制成的基板110不直接接触，而是设置在第一防反射层410上。因此，可以提高感测电极200的粘附力以防止与基板110分层。
也就是说，由于第一防反射层410用作基板110与感测电极200之间的缓冲层，因此可以提高感测电极200与基板110之间的附接性。因此，可以提高根据本实施方式的触摸窗的可靠性。
另外，第三防反射层430可以设置在感测电极200的另一表面上，以防止由金属制成的感测电极被氧化，并且防止产生由于金属的全反射特性而导致的反射。
感测电极200和/或防反射层400可以具有相对于基板倾斜的倾斜表面。
详细地，参照图11和图12，第一防反射层410可以具有相对于基板110倾斜的倾斜表面。例如，第一防反射层410可以具有与基板接触的一个表面、与所述一个表面相对的另一表面、以及将所述一个表面连接至所述另一表面的侧表面。在此，第一防反射层410的侧表面可以是相对于基板倾斜的倾斜表面。
另外，感测电极200可以具有相对于基板110倾斜的倾斜表面。例如，感测电极200可以具有与第一防反射层接触的一个表面、与所述一个表面相对的另一表面、以及将所述一个表面连接至所述另一表面的侧表面。在此，感测电极200的侧表面可以是相对于基板倾斜的倾斜表面。
另外，第三防反射层430可以具有相对于基板110倾斜的倾斜表面。例如，第三防反射层430可以具有与感测电极接触的一个表面、与所述一个表面相对的另一表面、以及将所述一个表面连接至所述另一表面的侧表面。在此，第三防反射层200的侧表面可以是相对于基板倾斜的倾斜表面。
第一防反射层410的侧表面可以相对于基板110以第一倾斜角度θ1倾斜。在此，第一倾斜角度θ1可表示第一防反射层410的内角。详细地，第一倾斜角度θ1可以是作为由第一防反射层410的侧表面P1与基板110的在其上设置有第一防反射层410的一个表面限定的角度的内角。
另外，感测电极200的侧表面可以相对于基板110以第二倾斜角度θ2倾斜。在此，第二倾斜角度θ2可以表示感测电极200的内角。详细地，第二倾斜角度θ2可以是作为由感测电极200的侧表面P2与基板110的在其上设置有感测电极200的一个表面限定的角度的内角。
另外，第三防反射层430的侧表面可以相对于基板110以第三倾斜角度θ3倾斜。在此，第三倾斜角度θ3可以表示第三防反射层430的内角。详细地，第三倾斜角度θ3可以是作为由第三防反射层430的侧表面P3与基板110的在其上设置有第三防反射层430的一个表面限定的角度的内角。
第一倾斜角度θ1、第二倾斜角度θ2和第三倾斜角度θ3中的每一个可以是锐角。详细地，第一倾斜角度θ1、第二倾斜角度θ2和第三倾斜角度θ3可以是彼此不同的锐角。
第一倾斜角度θ1可以不同于第二倾斜角度θ2。详细地，第一倾斜角度θ1可以具有小于第二倾斜角度θ2的倾斜度。也就是说，第一防反射层410的倾斜表面可以以小于感测电极200的倾斜表面的倾斜角度的倾斜角度倾斜。因此，可以增加第一防反射层410与基板110之间的接触表面以防止感测电极200与基板110分层或分离。
另外，第一倾斜角度θ1可以不同于第三倾斜角度θ3。详细地，第一倾斜角度θ1可以具有小于第三倾斜角度θ3的倾斜度。也就是说，第一防反射层410的倾斜表面可以以比第三防反射层430的倾斜表面的倾斜角度小的倾斜角度倾斜。在用户的观看方向上具有相对较小的倾斜度的第一防反射层410可以设置得比具有相对较大的倾斜度的第三防反射层430更靠近用户。因此，第一防反射层410可以防止感测电极200被看到。另外，第一防反射层410可以提高光透射率。
也就是说，第一倾斜角度θ1可以小于第二倾斜角度θ2和第三倾斜角度θ3中的至少之一。也就是说，第一防反射层410的倾斜表面可以以小于感测电极200和第三防反射层430中的至少之一的倾斜表面的倾斜角度的倾斜角度倾斜。
另外，第二倾斜角度θ2可以与第三倾斜角度θ3不同。详细地，第二倾斜角度θ2可以具有小于第三倾斜角度θ3的倾斜度。也就是说，感测电极200的倾斜表面可以以小于第三防反射层430的倾斜表面的倾斜角度的倾斜角度倾斜。
也就是说，第一倾斜角度θ1可以小于第二倾斜角度θ2和第三倾斜角度θ3中的至少之一，并且第二倾斜角度θ2可以小于第三倾斜角度θ3。也就是说，第一防反射层410的倾斜表面可以以小于感测电极200和第三防反射层430中的至少之一的倾斜表面的倾斜角度的倾斜角度倾斜，并且感测电极200的倾斜表面可以以小于第三防反射层430的倾斜表面的倾斜角度的倾斜角度倾斜。
第一倾斜角度θ1的范围可以为约7°至约20°。详细地，第一倾斜角度θ1的范围可以为约10°至约20°。更详细地，第一倾斜角度θ1的范围可以为约10°至约16°。
当第一倾斜角度θ1小于约7°时，第一防反射层410的侧表面P1(即，第一防反射层410的露出区域)可能增加。因此，由于入射光被扩散，所以雾度可能增加，或者透射率可能降低，从而使触摸窗的清晰度劣化或者亮度降低。
另外，第一防反射层410的露出表面可能增加，并且因此，从外部可能会看到第一防反射层410。因此，触摸窗的可见性可能劣化。
另外，当第一倾斜角度θ1超过约20°时，感测电极200的侧表面P2上的反射率可能增加，从而使触摸窗的可见性劣化。
第二倾斜角度θ2的范围可以为约20°至约70°。详细地，第二倾斜角度θ2的范围可以为约20°至约50°。更详细地，第二倾斜角度θ2的范围可以为约30°至约50°。
另外，当第二倾斜角度θ2小于约20°时，感测电极200的露出区域可能增加，从而由于感测电极200的侧表面P2上的金属反射光而导致触摸窗的可见性劣化。
另外，当感测电极200的侧表面P2的面积增大时，感测电极200的厚度减小的部分可能增加，并且因此感测电极200的电阻可能增加，从而使触摸窗的电特性劣化。
第三倾斜角度θ3的范围可以为约20°至约70°。详细地，第三倾斜角度θ3的范围可以为约35°至约70°。更详细地，第三倾斜角度θ3的范围可以为约35°至约65°。
当第三倾斜角度θ3小于约20°时，可能会降低用于保护感测电极200免受外部杂质影响的效果，从而使触摸窗的可见性劣化。另外，第三防反射层430的侧表面P3的面积可能增加，并且因此减少感测电极200的反射光的区域可能减小，从而使触摸窗的可见性劣化。
也就是说，第二倾斜角度θ2和第三倾斜角度θ3中的每一个的范围可以为约20°至约70°，并且在约20°至约70°的范围内，第二倾斜角度θ2可以小于第三倾斜角度θ3。
然而，该实施方式不限于此。例如，第一倾斜角度θ1、第二倾斜角度θ2和第三倾斜角度θ3的范围可以根据用于感测电极200和防反射层400的金属的种类、蚀刻溶液的种类以及蚀刻期间的温度而变化。
感测电极200、第一防反射层410和第三防反射层430中的至少之一可以具有沿基板110的方向逐渐增加的宽度。
第一防反射层410可以具有与基板接触的一个表面和与所述一个表面相对的另一表面。在此，所述一个表面的宽度可以不同于所述另一表面的宽度。例如，第一防反射层410的与基板接触的所述一个表面具有的宽度可以大于与所述一个表面相对的所述另一表面的宽度。详细地，第一防反射层410可以具有将所述一个表面连接至所述另一表面的侧表面。由于第一防反射层410的侧表面延伸以相对于基板成锐角倾斜，所以第一防反射层410可以具有从所述一个表面至所述另一表面逐渐减小的宽度。
感测电极200可以具有与第一防反射层410接触的一个表面和与所述一个表面相对的另一表面。在此，所述一个表面的宽度可以不同于所述另一表面的宽度。例如，感测电极200的与第一防反射层410接触所述一个表面具有的宽度可以大于与所述一个表面相对的所述另一表面的宽度。详细地，感测电极200可以具有将所述一个表面连接至所述另一表面的侧表面。由于感测电极200的侧表面延伸以相对于基板成锐角倾斜，所以感测电极200可以具有从所述一个表面至所述另一表面逐渐减小的宽度。
第三防反射层430可以具有与感测电极200接触的一个表面和与所述一个表面相对的另一表面。在此，所述一个表面的宽度可以不同于所述另一表面的宽度。例如，第三防反射层430的与感测电极200接触所述一个表面具有的宽度可以大于与所述一个表面相对的所述另一表面的宽度。详细地，第三防反射层430可以具有将所述一个表面连接至所述另一表面的侧表面。由于第三防反射层430的侧表面延伸以相对于基板以锐角倾斜，所以第三防反射层430可以具有从所述一个表面至所述另一表面逐渐减小的宽度。
感测电极200、第一防反射层410和第三防反射层430中的至少之一可以具有不同的宽度。
感测电极200、第一防反射层410和第三防反射层430中的每一个可以具有长宽度和短宽度。
感测电极200、第一防反射层410和第三防反射层430中的每一个可以在更靠近基板110的一端处具有长宽度，并且在与所述一端相对的远离基板110的另一端处具有短宽度。
第一防反射层410可以具有不同于感测电极200的宽度(即，感测电极的底表面的宽度W1)的长宽度W3。详细地，第一防反射层410可以具有比感测电极200的W1长的长宽度W3。
另外，第一防反射层410可以具有不同于第三防反射层430的W4的长宽度W3。详细地，第一防反射层410可以具有比第三防反射层430的W4长的长宽度W3。
也就是说，第一防反射层410可以具有比感测电极200的长宽度W1和第三防反射层430的长宽度W4中的至少之一长的长宽度W3。
另外，感测电极200可以具有不同于第三防反射层430的W4的长宽度W1。另外，感测电极200可以具有比第三防反射层430的W4长的长宽度W1。
也就是说，第一防反射层410可以具有比感测电极200的W1长的长宽度W3，并且感测电极200可以具有比第三防反射层430的W4长的长宽度W1。由于宽度大于感测电极200的宽度的第一防反射层410设置在用户的观看方向上，因此从感测电极200反射的光可以被最小化，以改善触摸窗的可见性。
感测电极200可以具有与第一防反射层410和第三防反射层430中的至少一个防反射层的厚度不同的厚度。
感测电极200可以具有比第一防反射层410的厚度D1大的厚度T1。感测电极200可以具有比第三防反射层430的厚度D4大的厚度T1。
感测电极200可以具有约110nm至约400nm的厚度T1。例如，感测电极200可以具有约110nm至约400nm的厚度T1。例如，感测电极200可以具有约150nm至约250nm的厚度T1。
例如，当感测电极200具有小于约110nm的厚度T1时，电极的电阻可能增加，以使触摸窗的电特性劣化，从而使触摸窗的可靠性劣化。另外，当感测电极200具有超过约400nm的厚度时，触摸窗的整体厚度可能增加，从而使工艺效率劣化。
例如，第一防反射层410可以具有约50nm至约200nm的厚度D1。例如，第一防反射层410可以具有约50nm至约150nm的厚度D1。例如，第一防反射层410可以具有约70nm至约130nm的厚度D1。
当第一防反射层410具有小于约50nm的厚度D1时，可能会看到感测电极200。另外，当第一防反射层410具有超过约200nm的厚度D1时，触摸窗的整体厚度可能增加，从而使工艺效率劣化。
例如，第三防反射层430可以具有约50nm至约200nm的厚度D4。例如，第三防反射层430可以具有约50nm至约150nm的厚度D4。例如，第三防反射层430可以具有约70nm至约130nm的厚度D4。
当第三防反射层430具有小于约50nm的厚度D1时，可能会看到感测电极200。另外，当第三防反射层430具有超过约200nm的厚度D4时，触摸窗的整体厚度可能增加，从而使工艺效率劣化。
参照图11，第一防反射层410、感测电极200和第三防反射层430中的至少之一可以具有阶梯部分并设置在基板110上。
第一防反射层410可以具有与感测电极200的侧表面P2间隔开的侧表面P1。例如，感测电极200的侧表面P2可以与第一防反射层410的顶表面接触。
感测电极200的侧表面P2可以被设置成与第三防反射层430的侧表面P3间隔开。例如，感测电极200的侧表面P2可以与第三防反射层430的底表面接触。
第三防反射层430可以具有不同于感测电极200的短宽度W2(即，感测电极200的顶表面的宽度)的长宽度W4。第三防反射层430可以具有大于感测电极200的短宽度W2的长宽度W4。此外，由于感测电极200的材料被蚀刻得比第三防反射层430的材料多，所以第三防反射层430可以具有大于感测电极200的短宽度W2的长宽度W4。
第一防反射层410可以具有大于感测电极200的长宽度W1的短宽度。另外，由于感测电极200的材料被蚀刻得比第一防反射层410的材料多，所以第一防反射层410可以具有比感测电极200的长宽度W1大的短宽度。
参照图12，第一防反射层410可以具有与感测电极200的侧表面P2接触的侧表面P1。感测电极200的侧表面P2可以与第三防反射层430的侧表面P3接触。
第三防反射层430可以具有对应于感测电极200的短宽度W2的长宽度W4。感测电极200可以具有与第一防反射层410的短宽度不同的长宽度W1。
参照图13，在基板110上可以设置在其上形成有尺寸彼此不同的图案的基底构件150。基底构件150可以包括光固化树脂(UV树脂)或热固性树脂。
基底构件150可以包括第一图案150a和第二图案150b。详细地，基底构件150可以包括具有彼此不同的宽度的第一图案150a和第二图案150b。另外，第一图案150a和第二图案150a中的每一个可以是凸出图案。另外，第一图案150a可以具有几纳米(nm)的宽度，并且第二图案150b可以具有几微米(μm)的宽度。也就是说，第二图案150b的宽度可以大于第一图案150a的宽度。
可以在第二图案150b上设置感测电极200和防反射层400。
图14和图15是示出根据第三实施方式的制造触摸窗的过程的图。
参照图14，可以同时形成或者通过单独的工艺形成感测电极200和防反射层400。然而，该实施方式不限于该制造过程。例如，该制造过程的顺序可以根据制造过程的特性而改变。
在根据一个实施方式的感测电极200中，可以在基板110的整个表面上设置金属层M。然后，可以将金属层M蚀刻成网格形状以形成具有网格形状的电极。例如，可以在由聚对苯二甲酸乙二醇酯制成的基板110的整个表面上沉积金属例如铜(Cu)，然后对其蚀刻以形成具有网格形状的凸出铜金属网格电极。
例如，在防反射层400中，可以在基板110的整个表面上沉积金属例如铜(Cu)，然后可以在氩气氛下通过使用氧气和/或氮气来执行溅射工艺以形成氧化物、氮化物和氮氧化物(例如，CuO、CuN、Cu2ON和CuON)中的至少一种化合物。但是，该实施方式不限于溅射工艺。例如，可以通过各种方法例如使用化学镀的沉积形成电极图案。
也就是说，可以在基板110上依次形成第一防反射层410、感测电极200和第三防反射层430。
然后，可以通过使用蚀刻溶液同时蚀刻第一防反射层410、感测电极200和第三防反射层430。
在根据一个实施方式的触摸窗中，可以使用一种蚀刻溶液通过单个工艺来形成图案以提高工艺效率。
感测电极200、第一防反射层410和第三防反射层430由于在进行蚀刻时与蚀刻溶液的粘附面积的差异而可以具有彼此不同的蚀刻速率。
也就是说，因为第三防反射层430露出同时与蚀刻溶液最直接接触，所以第三防反射层430可以被最多地去除。
由于与第三防反射层430相比感测电极200与蚀刻溶液具有相对小的接触面积，所以在感测电极200上可能发生较少的蚀刻。
另外，由于与感测电极200相比第三防反射层410与蚀刻溶液具有相对小的接触面积，所以在第三防反射层410上可能发生较少的蚀刻。
也就是说，随着感测电极200和防反射层400远离基板110，感测电极200和防反射层400可以被更频繁地蚀刻。
因此，第一防反射层410、感测电极200和第三防反射层430可以具有彼此不同的倾斜角度θ1、θ2和θ3。另外，第一防反射层410、感测电极200和第三防反射层430可以具有彼此不同的长宽度W1、W2和W3。
参照图15，可以通过压印具有凹入图案的模具700来形成第一图案150a和第二图案150b中的每一个，该凹入图案具有与凸出图案互补的形状。
可以通过溅射工艺在基底构件150上沉积Cr、Ni、Cu、Al、Ag、Mo及其合金的至少一个金属层。例如，如图13所示，可以在溅射条件下形成防反射层。
然后，可以对形成在第一图案150a和第二图案150b上的金属层M进行蚀刻以去除形成在第一图案150a上的金属层M1，并且形成在第二图案150b上的金属层M2可以保留以形成具有网格形状的金属电极。
在此，当蚀刻金属层M时，蚀刻速率可以根据第一图案150a与第二图案150b之间的粘附面积的差异而变化。也就是说，由于图案150b与金属层M之间的粘附面积大于第一图案150a与金属层之间的粘附面积，所以在形成在第二图案150b上的电极材料上可能发生较少的蚀刻，因此形成在第二图案150b上的金属层可以保留，并且可以根据相同的蚀刻速率对形成在第一图案150a上的待被去除的金属层进行蚀刻。因此，可以在基板上形成包括具有凸出或凹入网格形状的第二图案150b的金属电极。
也就是说，感测电极200和防反射层400可以设置在第二图案150b上。将省略对与图13的描述相同或相似的部分的描述。然而，该实施方式不限于该制造过程。例如，该制造过程的顺序可以根据制造过程而改变。
参照图16，在基板110上还可以设置盖基板100。
尽管未示出，但是可以在感测电极200和/或接线电极300中的至少一个表面上设置防反射层。详细地，可以在感测电极200和/或接线电极300的一个表面上设置第一防反射层，并且可以在与所述一个表面相对的另一表面上设置第二防反射层。
第一防反射层和第二防反射层中的至少一个防反射层的长宽度可以大于感测电极200和/或接线电极300的宽度。由于在用户的观看方向上设置具有大于感测电极200和/或接线电极300的宽度的长宽度的防反射层，所以可以使从感测电极200和/或接线电极300反射的光最小化，以改善触摸窗的可见性。
图17至图19是用于说明根据第一实施方式、第二实施方式和第三实施方式的各种类型的触摸窗的图。
参照图17，根据实施方式的触摸窗可以包括盖基板100。另外，可以在盖基板100上设置第一感测电极210和第二感测电极220。
例如，第一感测电极210和第二感测电极220可以设置在盖基板100的一个表面上。详细地，第一感测电极210和第二感测电极220可以设置在盖基板100的同一表面上。
在盖基板100的同一表面上可以设置有沿不同方向延伸的第一感测电极210和第二感测电极220、连接至第一感测电极210的第一接线电极310以及连接至第二感测电极220的第二接线电极320，并且第一感测电极和第二感测电极可以设置成在盖基板100的同一表面上彼此间隔开或者彼此绝缘。也就是说，第一感测电极210可以沿一个方向延伸，并且第二感测电极220可以沿不同于所述一个方向的另一方向延伸。
参照图18，根据实施方式的触摸窗可以包括盖基板100和设置在盖基板100上的基板110。
另外，第一感测电极210和第二感测电极220可以设置在基板110上。
例如，第一感测电极210和第二感测电极220可以设置在基板110的一个表面上。详细地，第一感测电极210和第二感测电极220可以设置在基板110的同一表面上。
在基板110的同一表面上可以设置有沿不同方向延伸的第一感测电极210和第二感测电极220、连接至第一感测电极210的第一接线电极310以及连接至第二感测电极220的第二接线电极320，并且第一感测电极210和第二感测电极220可以设置成在基板110的同一表面上彼此间隔开或者彼此绝缘。也就是说，第一感测电极210可以沿一个方向延伸，并且第二感测电极220可以沿不同于所述一个方向的另一方向延伸。
参照图19，根据实施方式的触摸窗可以包括盖基板100、设置在盖基板100上的第一基板110以及设置在第一基板110上的第二基板120。
盖基板100、第一基板110和第二基板120可以通过粘合层彼此粘附。
另外，可以在第一基板110上设置第一感测电极210，并且可以在第二基板120上设置第二感测电极220。
详细地，在第一基板110的一个表面上设置有沿一个方向延伸的第一感测电极210和连接至第一感测电极210的第一接线电极310，并且在第二基板120的一个表面上可以设置沿不同于第一感测电极210的延伸方向的方向延伸的第二感测电极220和连接至第二感测电极220的第二接线电极320。
在下文中，将参照图20至图22描述与上述触摸窗和显示面板耦接的触摸装置。
参照图20，根据实施方式的触摸装置可以包括设置在显示面板500上的触摸窗。
详细地，参照图20，触摸装置可以通过将包括盖基板100和基板110的触摸窗耦接至显示面板500来形成。基板110和显示面板500可以通过粘合层600彼此粘附。例如，基板110和显示面板500可以通过包括光学透明粘合剂(OCA)或光学透明树脂(OCR)的粘合层600彼此组合。
显示面板500可以包括第1'基板510和第2'基板520。
当显示面板500是液晶显示面板时，显示面板500可以具有这样的结构，其中包括薄膜晶体管(TFT)和像素电极的第1'基板510和包括滤色器层的第2'基板520组合，在第1'基板510与第2'基板520之间具有液晶层。
此外，显示面板500可以是具有晶体管上滤色器(OCT)结构的液晶显示面板，在该结构中在第1'基板510上形成有薄膜晶体管、滤色器和黑矩阵，并且第2'基板520和第1'基板510组合，在第2'基板520与第1'基板510之间具有液晶层。也就是说，在第1'基板510上可以形成有薄膜晶体管，在薄膜晶体管上形成有保护层，并且在保护层上可以形成有滤色器层。另外，在第1'基板510上形成有与薄膜晶体管接触的像素电极。在此，可以省略黑矩阵以提高开口率并简化掩模工艺。因此，公共电极可以共享黑矩阵的功能。
另外，当显示面板500是液晶显示面板时，显示装置还可以包括向显示面板500的背表面提供光的背光单元。
当显示面板500是有机电致发光显示面板时，显示面板500可以包括不需要单独光源的自发光装置。在显示面板500中，薄膜晶体管和与薄膜晶体管接触的有机发光装置可以设置在第1'基板510上。有机发光装置可以包括正电极、负电极以及设置在正电极与负电极之间的有机发光层。另外，显示面板500还可以包括第2'基板520，其用作用于封装的封装基板或有机发光装置上的阻挡基板。
参照图21，根据实施方式的触摸装置可以包括与显示面板500成一体的触摸窗。也就是说，可以省略至少支承感测电极的基板。
详细地，可以在显示面板500的至少一个表面上设置至少一个感测电极。也就是说，可以在第1'基板510或第2'基板520的至少一个表面上形成至少一个感测电极。
在此，可以在基板的设置在上侧的顶表面上形成至少一个感测电极。
参照图21，可以在盖基板100的一个表面上设置第一感测电极210。另外，可以设置连接至第一感测电极210的第一接线。另外，可以在显示面板500的一个表面上设置第二感测电极220。另外，可以设置连接至第二感测电极220的第二接线。
可以在盖基板100与显示面板500之间设置粘合层600以将盖基板与显示面板500组合。
另外，在盖基板100的下部上还可以设置偏光片。偏光片可以是线性偏光片或防外部光反射偏光片。例如，当显示面板500是液晶显示面板时，偏光片可以是线性偏光片。另外，当显示面板500是有机电致发光显示面板时，偏光片可以是防外部光反射偏光片。
另外，可以在偏光片的一个表面上设置至少一个感测电极。
在根据一个实施方式的触摸装置中，可以省略支承感测电极的至少一个基板。因此，可以形成薄且轻量的触摸装置。
接下来，参照图22，将描述根据另一实施方式的触摸装置。在此，将省略对与上述实施方式重复的描述。相同的组成部分将被赋予相同的附图标记。
参照图22，根据另一实施方式的触摸装置可以包括与显示面板500成一体的触摸窗。也就是说，可以省略至少支承感测电极的基板。
例如，可以在显示面板内部形成设置在有源区上用作用于感测触摸的传感器的感测电极以及用于向感测电极施加电信号的接线。详细地，可以在显示面板内部形成至少一个感测电极或至少一条接线。
显示面板包括第1'基板510和第2'基板520。在此，第一感测电极210和第二感测电极220中的至少一个感测电极可以设置在第1'基板510与第2'基板520之间。也就是说，可以在第1'基板510或第2'基板520中的至少一个表面上设置至少一个感测电极。
参照图22，可以在盖基板100的一个表面上设置第一感测电极210。另外，可以设置连接至第一感测电极210的第一接线。另外，可以在第1'基板510与第2'基板520之间设置第二感测电极220和第二接线。也就是说，第二感测电极和第二接线可以设置在显示面板的内部，并且第一感测电极210和第一接线可以设置在显示面板的外部。
第二感测电极220和第二接线可以设置在第1'基板510的顶表面或第2'基板520的背表面上。
另外，在盖基板100的下部上还可以设置偏光片。
另外，可以在偏光片的一个表面上设置至少一个感测电极。
当显示面板2为液晶显示面板并且第二感测电极设置在第1'基板510的顶表面上时，感测电极可以与薄膜晶体管(TFT)或像素电极一起形成。另外，当第二感测电极形成在第2'基板520的背表面上时，可以在感测电极上形成滤色器层，并且可以在滤色器层上形成感测电极。当显示面板为液晶显示面板并且第二感测电极设置在第1'基板510的顶表面上时，感测电极可以与薄膜晶体管或有机发光装置一起形成。
在根据一个实施方式的触摸装置中，可以省略支承感测电极的至少一个基板。因此，可以形成薄且轻量的触摸装置。此外，感测电极和接线可以与形成在显示面板上的装置一起形成，以简化过程并降低成本。
在下文中，将参照图23至图26描述应用根据前述实施方式的触摸窗的显示装置的示例。
参照图23，示出作为触摸装置的示例的移动终端。移动终端可以具有有源区AA和非有源区UA。有源区AA可以感测由手指等的触摸产生的触摸信号，并且可以在非有源区上形成命令图标图案部和标识。
参照图24，触摸窗可以包括可弯折的柔性触摸窗。因此，包括柔性触摸窗的触摸装置可以是柔性触摸装置。因此，触摸装置可以被用户的手弯折或弯曲。柔性触摸窗可以应用于可穿戴式触摸等。
参照图25，触摸窗可以应用于车辆导航以及触摸装置例如移动终端。
另外，参照图26，这样的触摸窗可以应用在车辆内部。也就是说，触摸窗可以被应用于车辆内可应用触摸窗的各个部件。因此，触摸窗可以应用于仪表板以及个人导航显示器(PND)以实现中心信息显示器(CID)。然而，实施方式可以不限于此，并且因此触摸装置可以用于各种电子产品。
以上实施方式中描述的特征，结构和效果被并入本发明的至少一个实施方式中，但不限于仅一个实施方式。此外，本领域技术人员可以容易地将一个实施方式中例示的特征、结构和效果组合和修改用于另一实施方式。因此，这些组合和修改应该被解释为落入本发明的范围内。
尽管已经参照大量说明性实施方式对实施方式进行了描述，但应该理解，本领域技术人员可以作出落在本发明的原则的精神和范围之内的大量其他修改和实施方式。更详细地，可以在公开内容、附图以及所附的权利要求的范围之内对主题组合布置的组成部分和/或布置进行各种变型和修改。除了组成部分和/或布置的变型和修改之外，替代性用途对本领域技术人员也是明显的。

Claims (20)

1.一种触摸窗，包括：
基板；
设置在所述基板上的感测电极；以及
设置在所述感测电极上的防反射层，
其中，所述防反射层包括：设置在所述感测电极的一个表面上的第一子防反射层；设置在与所述一个表面相对的另一表面上的第三子防反射层；以及设置在将所述一个表面连接至所述另一表面的两个侧表面中的每一个上的第二子防反射层。
2.根据权利要求1所述的触摸窗，其中，在所述基板上设置有基底构件，在所述基底构件上设置有图案部，并且
在所述基底构件的所述图案部中设置有所述感测电极和包围所述感测电极的防反射层。
3.根据权利要求2所述的触摸窗，还包括：
设置在所述基板的一个表面和另一表面中的每一个上的基底构件；
设置在所述基板的所述一个表面上的第一感测电极；以及
设置在所述基板的所述另一表面上的第二感测电极，
其中，所述第一感测电极和所述第二感测电极沿不同的方向延伸。
4.根据权利要求1所述的触摸窗，其中，所述感测电极具有网格形状。
5.根据权利要求1所述的触摸窗，其中，所述第三子防反射层的宽度大于所述第一子防反射层的宽度。
6.根据权利要求2所述的触摸窗，其中，所述感测电极具有朝所述基板逐渐减小的宽度。
7.根据权利要求1所述的触摸窗，其中，所述防反射层的明度指数(L*)小于40。
8.根据权利要求1所述的触摸窗，其中，所述防反射层的厚度与所述感测电极的厚度之比为25：1。
9.一种触摸窗，包括：
基板；
基底构件，其设置在所述基板上并且包括图案部；
设置在所述图案部中的感测电极；以及
包围所述感测电极的防反射层，
其中，所述防反射层包括：设置在所述感测电极的底表面上的第一子防反射层；设置在所述感测电极的两个侧表面中的每一个上的第二子防反射层；以及设置在所述感测电极的顶表面上的第三子防反射层。
10.根据权利要求9所述的触摸窗，其中，所述图案部的侧表面包括倾斜表面，并且
所述第二子防反射层具有与所述图案部的所述侧表面对应的倾斜度。
11.根据权利要求9所述的触摸窗，其中，所述第二子防反射层和所述第一子防反射层彼此连接以限定钝角，并且
所述第二子防反射层和所述第三子防反射层彼此连接以限定锐角。
12.根据权利要求9所述的触摸窗，其中，所述图案部的高度大于所述图案部内的所述感测电极和所述防反射层中的每一个的高度。
13.根据权利要求9所述的触摸窗，其中，所述第三子防反射层的宽度大于所述第一子防反射层的宽度。
14.根据权利要求9所述的触摸窗，其中，所述第一子防反射层、所述第二子防反射层和所述第三子防反射层中的每一个包括黑化层。
15.一种触摸窗，包括：
基板；
设置在所述基板上的感测电极；
设置在所述感测电极的一个表面上的第一子防反射层；以及
设置在所述感测电极的另一表面上的第三子防反射层，
其中，所述感测电极、所述第一子防反射层和所述第三子防反射层的至少一个侧表面相对于所述基板的一个表面以锐角倾斜。
16.根据权利要求15所述的触摸窗，其中，所述第一子防反射层的所述侧表面相对于所述基板的所述一个表面以第一倾斜角度倾斜，
所述感测电极的所述侧表面相对于所述基板的所述一个表面以第二倾斜角度倾斜，
所述第三子防反射层的所述侧表面相对于所述基板的所述一个表面以第三倾斜角度倾斜，并且
所述第一倾斜角度、所述第二倾斜角度以及所述第三倾斜角度彼此不同。
17.根据权利要求16所述的触摸窗，其中，所述第二倾斜角度大于所述第一倾斜角度，并且
所述第三倾斜角度大于所述第二倾斜角度。
18.根据权利要求17所述的触摸窗，其中，所述第一倾斜角度的范围为7°至20°，
所述第二倾斜角度的范围为20°至70°，并且
所述第三倾斜角度的范围为20°至70°。
19.根据权利要求15所述的触摸窗，其中，所述感测电极、所述第一子防反射层和所述第三防反射层具有彼此不同的宽度。
20.根据权利要求15所述的触摸窗，其中，所述感测电极、所述第一子防反射层和所述第三防反射层中的至少之一具有朝所述基板逐渐增加的宽度。
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