CN107664860A - 显示装置及其制造方法 - Google Patents

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金香律
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Abstract

公开了显示装置和显示装置的制造方法。显示装置包括第一衬底、滤色器、间隙维持图案、柱状间隔件和阻挡坝。第一衬底包括显示区域和围绕显示区域的外围区域。滤色器设置在显示区域中。间隙维持图案在与滤色器相同的层中设置在外围区域中。柱状间隔件设置在滤色器上。阻挡坝设置在与柱状间隔件相同的层中并且与间隙维持图案重叠。显示区域中第一衬底和第二衬底的间隙与外围区域中第一衬底和第二衬底的间隙之间的差异可减小。

Description

显示装置及其制造方法
技术领域
本公开的示例性实施方式涉及显示装置和制造显示装置的方法。更具体地，本公开的示例性实施方式涉及用于减少显示面板的边缘部分处的瑕疵并降低制造成本的显示装置以及制造显示装置的方法。
背景技术
随着信息技术的进步，对各种显示装置的需求已增加。相应地，已积极地研究了包括液晶显示(“LCD”)装置、等离子体显示面板(“PDP”)、场发射显示(“FED”)装置、电泳显示(“EPD”)装置、有机发光显示(“OLED”)装置的各种类型的显示装置。
液晶显示装置包括显示衬底(例如，薄膜晶体管衬底)、面对显示衬底的对向衬底、以及设置在显示衬底与对向衬底之间的液晶层。显示衬底上形成有多条栅极线、多条数据线、连接到栅极线和数据线的多个开关元件、以及连接到开关元件的多个像素电极。开关元件包括从栅极线延伸的栅电极、从数据线延伸并通过半导体图案连接到栅电极的源电极、以及与源电极相隔开并连接到半导体图案的漏电极。
显示衬底和对向衬底通过形成在显示衬底的外围部分处的密封剂彼此结合。然而，在附接显示衬底与对向衬底的过程中，密封剂的厚度可能不是均匀的，由此可能因显示衬底与对向衬底之间的不均匀间隙而形成的瑕疵对于用户可能是可见的。
发明内容
本公开的示例性实施方式提供用于减少缺陷的显示装置。
本公开的示例性实施方式还提供制造上述显示装置的方法。
在根据本公开的显示装置的示例性实施方式中，显示装置包括第一衬底、滤色器、间隙维持图案、柱状间隔件和阻挡坝。第一衬底包括显示区域和围绕显示区域的外围区域。滤色器设置在显示区域中。间隙维持图案在与滤色器相同的层中设置在外围区域中。柱状间隔件设置在滤色器上。阻挡坝设置在与柱状间隔件相同的层中并且与间隙维持图案重叠。
在示例性实施方式中，阻挡坝可包括第一阻挡坝和第二阻挡坝，其中第二阻挡坝与第一阻挡坝相邻并且在与第一阻挡坝平行的方向上延伸。
在示例性实施方式中，显示装置还可包括密封件，密封件设置在第一阻挡坝与第二阻挡坝之间。
在示例性实施方式中，第一阻挡坝与第二阻挡坝之间的距离可等于或大于约2.5mm且等于或小于约3.5mm。
在示例性实施方式中，滤色器可包括含有红色材料的第一滤色器、与第一滤色器相邻并且含有绿色材料的第二滤色器和与第二滤色器相邻并且含有蓝色材料的第三滤色器。
在示例性实施方式中，间隙维持图案可包括与第一滤色器的材料基本上相同的材料。
在示例性实施方式中，间隙维持图案的高度可等于或大于约1.5um且等于或小于约1.8um。
在示例性实施方式中，间隙维持图案可包括与第二滤色器的材料基本上相同的材料。
在示例性实施方式中，间隙维持图案的高度可等于或大于约1.5um且等于或小于约1.8um。
在示例性实施方式中，间隙维持图案可包括与第三滤色器的材料基本上相同的材料。
在示例性实施方式中，间隙维持图案的高度可等于或大于约1.7um且等于或小于约2.3um。
在示例性实施方式中，显示装置还可包括面对第一衬底的第二衬底和设置在第一衬底与第二衬底之间的液晶层。
在示例性实施方式中，显示装置还可包括设置在第二衬底上的栅电极、与栅电极重叠的源电极、与栅电极重叠并且与源电极相隔开的漏电极和电连接至漏电极的像素电极。
在示例性实施方式中，显示装置还可包括设置在滤色器与柱状间隔件之间的外覆层。
在根据本公开的制造显示装置的方法的示例性实施方式中，所述方法包括：在第一衬底上在相同层中形成滤色器和间隙维持图案；以及形成与滤色器重叠的柱状间隔件以及与间隙维持图案重叠的阻挡坝。滤色器可形成在显示装置的显示区域中，并且间隙维持图案可形成在显示装置的外围区域中。
在示例性实施方式中，阻挡坝可包括第一阻挡坝和第二阻挡坝，其中第二阻挡坝与第一阻挡坝相邻并且在与第一阻挡坝平行的方向上延伸。
在示例性实施方式中，方法还可包括在第一阻挡坝与第二阻挡坝之间形成密封件。
在示例性实施方式中，第一阻挡坝与第二阻挡坝之间的距离可等于或大于约2.5mm且等于或小于约3.5mm。
在示例性实施方式中，形成滤色器可包括：形成包括红色材料的第一滤色器、形成与第一滤色器相邻并且包括绿色材料的第二滤色器、以及形成与第二滤色器相邻并且包括蓝色材料的第三滤色器。
在示例性实施方式中，间隙维持图案可包括与第一滤色器的材料基本上相同的材料。
在示例性实施方式中，间隙维持图案的高度可等于或大于约1.5um且等于或小于约1.8um。
在示例性实施方式中，间隙维持图案可包括与第二滤色器的材料基本上相同的材料。
在示例性实施方式中，间隙维持图案的高度可等于或大于约1.5um且等于或小于约1.8um。
在示例性实施方式中，间隙维持图案可包括与第三滤色器的材料基本上相同的材料。
在示例性实施方式中，间隙维持图案的高度可等于或大于约1.7um且等于或小于约2.3um。
在示例性实施方式中，所述方法还可包括：在面对第一衬底的第二衬底上形成薄膜晶体管、以及在第一衬底与第二衬底之间形成液晶层。
在示例性实施方式中，形成薄膜晶体管可包括：在第二衬底上形成栅电极、在栅电极上形成源电极和漏电极、以及形成电连接至漏电极的像素电极。
在示例性实施方式中，所述方法还可包括：在滤色器与柱状间隔件之间形成外覆层。
根据本公开的显示装置和制造显示装置的方法，显示装置包括第一阻挡坝和第二阻挡坝，并且密封件设置在第一阻挡坝和第二阻挡坝之间。密封件设置在第一阻挡坝与第二阻挡坝之间以使得密封件的宽度可均匀地形成。显示区域中衬底的间隙与外围区域中衬底的间隙之间的差异可减小。可减少可能因显示区域中衬底的间隙与外围区域中衬底的间隙之间的差异而形成的瑕疵。
此外，阻挡坝以均匀的高度形成以使得密封间隔件可省略。因此，可降低显示装置的制造成本。
此外，显示装置包括与第一阻挡坝和第二阻挡坝重叠的间隙维持图案。间隙维持图案支承形成有第一阻挡坝和第二阻挡坝的区域，以使得衬底的间隙可均匀地形成在显示区域和外围区域中。
附图说明
通过参照附图详细描述本公开的示例性实施方式，本公开的上述和其它特征和优点将变得更加明确，在附图中：
图1是示出根据本公开示例性实施方式的显示装置的平面图；
图2是示出沿线I-I’切割的图1的显示装置的剖视图；
图3至图11是示出制造图2的显示装置的方法的剖视图；
图12是示出根据本公开示例性实施方式的显示装置的平面图；
图13是示出沿线II-II’切割的图12的显示装置的剖视图；
图14至图18是示出制造图13的显示装置的方法的剖视图；
图19是示出根据本公开示例性实施方式的显示装置的平面图；
图20是示出沿线III-III’切割的图19的显示装置的剖视图；以及
图21至图25是示出制造图20的显示装置的方法的剖视图。
具体实施方式
在下文中，将参照附图详细阐述本公开。
图1是示出根据本公开示例性实施方式的显示装置的平面图。图2是示出沿线I-I’切割的图1的显示装置的剖视图。
参照图1和图2，显示装置10包括显示区域DA和与显示区域DA相邻的外围区域PA。外围区域PA可围绕显示区域DA。显示区域DA可具有与显示装置10相似的形状。例如，显示区域DA可具有矩形形状。
显示装置10包括第一衬底210、面对第一衬底210的第二衬底110、以及设置在第一衬底210与第二衬底110之间的液晶层300。
遮光图案BM设置在第一衬底210上。遮光图案BM可设置在显示区域DA的滤色器之间和外围区域PA中。遮光图案BM可阻挡光。
滤色器设置在其上形成有遮光图案BM的第一衬底210上。滤色器对经过液晶层300的光提供颜色。滤色器可包括第一滤色器211、第二滤色器212和第三滤色器213。第一滤色器211可为包括红色材料的红色滤色器。第二滤色器212可为包括绿色材料的绿色滤色器。第三滤色器213可为包括蓝色材料的蓝色滤色器。第一滤色器211、第二滤色器212和第三滤色器213可与相应的像素区域对应地设置，以使得相邻像素表示彼此不同的颜色。例如，滤色器的一部分可在像素区域之间的边界处与相邻的滤色器重叠。第一滤色器211、第二滤色器212和第三滤色器213设置在显示区域DA中。
间隙维持图案214设置在显示装置10的外围区域PA中。在当前示例性实施方式中，间隙维持图案214可包括与第三滤色器213的材料基本上相同的材料。间隙维持图案214可在形成第三滤色器213的过程中形成。间隙维持图案214可具有与第三滤色器213的高度基本上相同的高度。例如，第三滤色器213的高度可等于或大于约1.7um且等于或小于约2.3um。间隙维持图案214的高度可等于或大于约1.7um且等于或小于约2.3um。
外覆层220形成在第一滤色器211、第二滤色器212和第三滤色器213以及间隙维持图案214上。外覆层220平坦化第一衬底210以使第一衬底210的厚度差最小化。另外，外覆层220可防止杂质流入液晶层300。然而，本公开不限于此，外覆层220可省略。
柱状间隔件231设置在外覆层220上。柱状间隔件231设置在显示区域DA中以维持第一衬底210与第二衬底110之间的均匀间隙。在一个实施方式中，柱状间隔件231可设置在第一衬底210的显示区域DA中并且被第一取向层AL1覆盖。
第一取向层AL1可形成在其上形成有柱状间隔件231的第一衬底210上。第一取向层AL1可包括聚酰亚胺化合物、聚酰胺酸化合物或它们的混合物。
阻挡坝形成在外围区域PA中。阻挡坝与间隙维持图案214重叠。阻挡坝设置在与柱状间隔件231相同的层中。阻挡坝可包括与柱状间隔件231的材料基本上相同的材料。阻挡坝的高度可与柱状间隔件231的高度基本上相同。
根据一个实施方式，阻挡坝包括第一阻挡坝232和第二阻挡坝233。第二阻挡坝233设置成与第一阻挡坝232相邻。第二阻挡坝233可在与第一阻挡坝232平行的方向上延伸。第一阻挡坝232与第二阻挡坝233之间的距离可等于或大于约2.5mm且等于或小于约3.5mm。
密封件240设置在第一阻挡坝232与第二阻挡坝233之间。密封件240可设置在由第一阻挡坝232和第二阻挡坝233限定的区域中。密封件240可将第一衬底210附接到第二衬底110。密封件240设置在第一阻挡坝232与第二阻挡坝233之间，以使得密封件240的宽度可均匀地形成。相应地，显示区域DA中第一衬底210和第二衬底110的间隙与外围区域PA中第一衬底210和第二衬底110的间隙之间的差异可减小。可能因显示区域DA中第一衬底210和第二衬底110的间隙与外围区域PA中第一衬底210和第二衬底110的间隙之间的差异而形成的瑕疵可减少。
此外，阻挡坝以均匀的高度形成以使得密封间隔件可省略。因此，可降低显示装置的制造成本。
阵列层TL和第二取向层AL2设置在第二衬底110上。
参照图11，阵列层TL包括栅电极GE、绝缘层120、有源图案AP、源电极SE、漏电极DE、有机层130和像素电极PE。
栅电极GE设置在第二衬底110上。栅电极GE电连接到栅极线。栅电极GE可包括铜(Cu)、银(Ag)、铬(Cr)、钼(Mo)、铝(Al)、钛(Ti)、锰(Mn)或它们的合金。栅电极GE可包括单层。可替换地，栅电极GE可包括含有不同金属的多个层。例如，栅电极GE可包括含有钛(Ti)的下层和设置在下层上并包含铜(Cu)的上层。
绝缘层120形成在栅电极GE上。绝缘层120覆盖第二衬底110和包括栅电极GE的导电图案。绝缘层120可包括无机绝缘材料。例如，绝缘层120可包括氧化硅(SiOx)或氮化硅(SiNx)。例如，绝缘层120可包括氧化硅(SiOx)并且具有的厚度。绝缘层120可具有包含不同材料的多个层。
有源图案AP形成在绝缘层120上。有源图案AP形成在形成有栅电极GE的区域中。有源图案AP与栅电极GE重叠。有源图案AP与源电极SE和漏电极DE部分地重叠。有源图案AP可设置在栅电极GE与源电极SE之间以及栅电极GE与漏电极DE之间。
源电极SE和漏电极DE形成在有源图案AP上。源电极SE和漏电极DE在有源图案AP上彼此相隔开。源电极SE和漏电极DE可形成在与数据线相同的层中。
源电极SE和漏电极DE可包括铜(Cu)、银(Ag)、铬(Cr)、钼(Mo)、铝(Al)、钛(Ti)、锰(Mn)或它们的合金。源电极SE和漏电极DE可包括单层。可替换地，源电极SE和漏电极DE可包括含有不同金属的多个层。例如，源电极SE和漏电极DE可包括铜(Cu)层和设置在铜(Cu)层上或铜(Cu)层下的钛(Ti)层。
有机层130形成在源电极SE和漏电极DE上。有机层130使第二衬底110的上表面平坦化，以使得可防止可能因不均匀上表面而出现的缺陷(例如信号布线的切断)。有机层130可为含有有机材料的绝缘层。
像素电极PE形成在有机层130上。像素电极PE通过接触孔电连接到漏电极DE。像素电极PE可包括透明材料和导电材料。例如，像素电极PE可包括氧化铟锡(ITO)或氧化铟锌(IZO)。可替换地，像素电极PE可包括钛(Ti)或钼和钛的合金(MoTi)。
图3至图11是示出制造图2的显示装置10的方法的剖视图。
参照图3，遮光图案BM形成在第一衬底210上。
遮光图案BM可设置在显示区域DA的滤色器之间和外围区域PA中。遮光图案BM可阻挡光。
参照图4，第一滤色器211形成在其上形成有遮光图案BM的第一衬底210上。
滤色器可包括第一滤色器211、第二滤色器212和第三滤色器213。第一滤色器211可为包括红色材料的红色滤色器。第二滤色器212可为包括绿色材料的绿色滤色器。第三滤色器213可为包括蓝色材料的蓝色滤色器。例如，第一滤色器211的高度可等于或大于约1.5um且等于或小于约1.8um。
参照图5，第二滤色器212形成在其上形成有第一滤色器211的第一衬底210上。
第二滤色器212可设置成与第一滤色器211相邻。第二滤色器212可为包括绿色材料的绿色滤色器。第二滤色器212的高度可与第一滤色器211的高度基本上相同。例如，第二滤色器212的高度可等于或大于约1.5um且等于或小于约1.8um。
参照图6，第三滤色器213和间隙维持图案214形成在其上形成有第二滤色器212的第一衬底210上。
第三滤色器213可设置成与第二滤色器212相邻。第三滤色器213可为包括蓝色材料的蓝色滤色器。例如，第三滤色器213的高度可等于或大于约1.7um且等于或小于约2.3um。
间隙维持图案214设置在显示装置10的外围区域PA中。在当前示例性实施方式中，间隙维持图案214可包括与第三滤色器213的材料基本上相同的材料。间隙维持图案214可在形成第三滤色器213的过程中形成。间隙维持图案214可具有与第三滤色器213的高度基本上相同的高度d1。例如，第三滤色器213的高度可等于或大于约1.7um且等于或小于约2.3um。间隙维持图案214的高度可等于或大于约1.7um且等于或小于约2.3um。
参照图7，外覆层220形成在其上形成有第三滤色器213和间隙维持图案214的第一衬底210上。
外覆层220形成在第一滤色器211、第二滤色器212和第三滤色器213以及间隙维持图案214上。外覆层220平坦化第一衬底210以使第一衬底210的厚度差最小化。另外，外覆层220可防止杂质流入液晶层300。然而，本公开不限于此，外覆层220可省略。
参照图8，柱状间隔件231、第一取向层AL1和阻挡坝形成在其上形成有外覆层220的第一衬底210上。
柱状间隔件231设置在外覆层220上。柱状间隔件231设置在显示区域DA中以维持第一衬底210与第二衬底110之间的均匀间隙。柱状间隔件231可设置在第一衬底210的显示区域DA中并且被第一取向层AL1覆盖。
第一取向层AL1可形成在其上形成有柱状间隔件231的第一衬底210上。第一取向层AL1可包括聚酰亚胺化合物、聚酰胺酸化合物或它们的混合物。
阻挡坝形成在外围区域PA中。阻挡坝与间隙维持图案214重叠。阻挡坝设置在与柱状间隔件231相同的层中。阻挡坝可包括与柱状间隔件231的材料基本上相同的材料。阻挡坝的高度可与柱状间隔件231的高度基本上相同。
根据一个实施方式，阻挡坝包括第一阻挡坝232和第二阻挡坝233。第二阻挡坝233设置成与第一阻挡坝232相邻。第二阻挡坝233可在与第一阻挡坝232平行的方向上延伸。第一阻挡坝232与第二阻挡坝233之间的距离可等于或大于约2.5mm且等于或小于约3.5mm。
密封件240设置在第一阻挡坝232与第二阻挡坝233之间。密封件240可设置在由第一阻挡坝232和第二阻挡坝233限定的区域中。密封件240可将第一衬底210附接到第二衬底110。密封件240设置在第一阻挡坝232与第二阻挡坝233之间，以使得密封件240的宽度可均匀地形成。相应地，显示区域DA中第一衬底210和第二衬底110的间隙与外围区域PA中第一衬底210和第二衬底110的间隙之间的差异可减小。可减少可能因显示区域DA中第一衬底210和第二衬底110的间隙与外围区域PA中第一衬底210和第二衬底110的间隙之间的差异而形成的瑕疵。
此外，阻挡坝以均匀的高度形成以使得密封间隔件可省略。因此，可降低显示装置的制造成本。
参考图9，栅电极GE和绝缘层120形成在第二衬底110上。
栅电极GE设置在第二衬底110上。栅电极GE电连接到栅极线。栅电极GE可包括铜(Cu)、银(Ag)、铬(Cr)、钼(Mo)、铝(Al)、钛(Ti)、锰(Mn)或它们的合金。栅电极GE可包括单层。可替换地，栅电极GE可包括含有不同金属的多个层。例如，栅电极GE可包括含有钛(Ti)的下层和设置在下层上并包含铜(Cu)的上层。
绝缘层120形成在栅电极GE上。绝缘层120覆盖第二衬底110和包括栅电极GE的导电图案。绝缘层120可包括无机绝缘材料。例如，绝缘层120可包括氧化硅(SiOx)或氮化硅(SiNx)。例如，绝缘层120可包括氧化硅(SiOx)并且具有的厚度。绝缘层120可具有含有不同材料的多个层。
参照图10，有源图案AP、源电极SE和漏电极DE形成在其上形成有绝缘层120的第二衬底110上。
有源图案AP形成在绝缘层120上。有源图案AP形成在形成有栅电极GE的区域中。有源图案AP与栅电极GE重叠。有源图案AP与源电极SE和漏电极DE部分地重叠。有源图案AP可设置在栅电极GE与源电极SE之间以及在栅电极GE与漏电极DE之间。
源电极SE和漏电极DE形成在有源图案AP上。源电极SE和漏电极DE在有源图案AP上彼此相隔开。源电极SE和漏电极DE可形成在与数据线相同的层上。
源电极SE和漏电极DE可包括铜(Cu)、银(Ag)、铬(Cr)、钼(Mo)、铝(Al)、钛(Ti)、锰(Mn)或它们的合金。源电极SE和漏电极DE可包括单层。可替换地，源电极SE和漏电极DE可包括含有不同金属的多个层。例如，源电极SE和漏电极DE可包括铜(Cu)层和设置在铜(Cu)层上或铜(Cu)层下的钛(Ti)层。
参照图11，有机层130、像素电极PE和第二取向层AL2形成在其上形成有源电极SE和漏电极DE的第二衬底110上。
有机层130形成在源电极SE和漏电极DE上。有机层130使第二衬底110的上表面平坦化，以使得可防止可能因不均匀上表面而导致的缺陷(例如信号布线的切断)。有机层130可为包含有机材料的绝缘层。
像素电极PE形成在有机层130上。像素电极PE通过接触孔电连接到漏电极DE。像素电极PE可包括透明材料和导电材料。例如，像素电极PE可包括氧化铟锡(ITO)或氧化铟锌(IZO)。可替换地，像素电极PE可包括钛(Ti)或钼和钛的合金(MoTi)。
第二取向层AL2可形成在有机层130和像素电极PE上。第二取向层AL2可包括聚酰亚胺化合物、聚酰胺酸化合物或它们的混合物。
图12是示出根据本公开示例性实施方式的显示装置的平面图。图13是示出沿线II-II’切割的图12的显示装置的剖视图。
参照图12和图13，显示装置20包括显示区域DA和与显示区域DA相邻的外围区域PA。显示区域DA可具有与显示装置20相似的形状。例如，显示区域DA可具有矩形形状。
显示装置20包括第一衬底1210、面对第一衬底1210的第二衬底1110、以及设置在第一衬底1210与第二衬底1110之间的液晶层1300。
遮光图案BM设置在第一衬底1210上。遮光图案BM可设置在显示区域DA的滤色器之间和外围区域PA中。遮光图案BM可阻挡光。
滤色器设置在其上形成有遮光图案BM的第一衬底1210上。滤色器对经过液晶层1300的光提供颜色。滤色器可包括第一滤色器1211、第二滤色器1212和第三滤色器1213。第一滤色器1211可为包括红色材料的红色滤色器。第二滤色器1212可为包括绿色材料的绿色滤色器。第三滤色器1213可为包括蓝色材料的蓝色滤色器。第一滤色器1211、第二滤色器1212和第三滤色器1213可与相应的像素区域对应地设置，以使得相邻像素表示彼此不同的颜色。例如，滤色器的一部分可在像素区域之间的边界处与相邻的滤色器重叠。第一滤色器1211、第二滤色器1212和第三滤色器1213设置在显示区域DA中。
间隙维持图案1214设置在显示装置20的外围区域PA中。在当前示例性实施方式中，间隙维持图案1214可包括与第一滤色器1211的材料基本上相同的材料。间隙维持图案1214可在形成第一滤色器1211的过程中形成。间隙维持图案1214可具有与第一滤色器1211的高度基本上相同的高度。例如，第一滤色器1211的高度可等于或大于约1.5um且等于或小于约1.8um。间隙维持图案1214的高度可等于或大于约1.5um且等于或小于约1.8um。
外覆层1220形成在第一滤色器1211、第二滤色器1212和第三滤色器1213以及间隙维持图案1214上。外覆层1220平坦化第一衬底1210以使第一衬底1210的厚度差最小化。另外，外覆层1220可防止杂质流入液晶层1300。然而，本公开不限于此，外覆层1220可省略。
柱状间隔件1231设置在外覆层1220上。柱状间隔件1231设置在显示区域DA中以维持第一衬底1210与第二衬底1110之间的均匀间隙。在一个实施方式中，柱状间隔件1231可设置在第一衬底1210的显示区域DA中并且被第一取向层AL1覆盖。
第一取向层AL1可形成在其上形成有柱状间隔件1231的第一衬底1210上。第一取向层AL1可包括聚酰亚胺化合物、聚酰胺酸化合物或它们的混合物。
阻挡坝形成在外围区域PA中。阻挡坝与间隙维持图案1214重叠。阻挡坝设置在与柱状间隔件1231相同的层中。阻挡坝可包括与柱状间隔件1231的材料基本上相同的材料。阻挡坝的高度可与柱状间隔件1231的高度基本上相同。
根据一个实施方式，阻挡坝包括第一阻挡坝1232和第二阻挡坝1233。第二阻挡坝1233设置成与第一阻挡坝1232相邻。第二阻挡坝1233可在与第一阻挡坝1232平行的方向上延伸。第一阻挡坝1232与第二阻挡坝1233之间的距离可等于或大于约2.5mm且等于或小于约3.5mm。
密封件1240设置在第一阻挡坝1232与第二阻挡坝1233之间。密封件1240可设置在由第一阻挡坝1232和第二阻挡坝1233限定的区域中。密封件1240可将第一衬底1210附接到第二衬底1110。密封件1240设置在第一阻挡坝1232与第二阻挡坝1233之间，以使得密封件1240的宽度可均匀地形成。相应地，显示区域DA中第一衬底1210和第二衬底1110的间隙与外围区域PA中第一衬底1210和第二衬底1110的间隙之间的差异可减小。可减少可能因显示区域DA中第一衬底1210和第二衬底1110的间隙与外围区域PA中第一衬底1210和第二衬底1110的间隙之间的差异而形成的瑕疵。
此外，阻挡坝以均匀的高度形成以使得密封间隔件可省略。因此，可降低显示装置的制造成本。
阵列层TL和第二取向层AL2设置在第二衬底1110上。
当前示例性实施方式的第二衬底1110与参照图1至图11阐述的前述示例性实施方式的显示装置10的第二衬底110基本上相同。因此，相同的附图标记将用于指示与参照图1至图11描述的前述示例性实施方式中所描述的那些相同或相似的部件。
参照图11，阵列层TL包括栅电极GE、绝缘层120、有源图案AP、源电极SE、漏电极DE、有机层130和像素电极PE。
栅电极GE设置在第二衬底1110上。栅电极GE电连接到栅极线。栅电极GE可包括铜(Cu)、银(Ag)、铬(Cr)、钼(Mo)、铝(Al)、钛(Ti)、锰(Mn)或它们的合金。栅电极GE可包括单层。可替换地，栅电极GE可包括含有不同金属的多个层。例如，栅电极GE可包括含有钛(Ti)的下层和设置在下层上并包含铜(Cu)的上层。
绝缘层120形成在栅电极GE上。绝缘层120覆盖第二衬底1110和包括栅电极GE的导电图案。绝缘层120可包括无机绝缘材料。例如，绝缘层120可包括氧化硅(SiOx)或氮化硅(SiNx)。例如，绝缘层120可包括氧化硅(SiOx)并且具有的厚度。绝缘层120可具有含有不同材料的多个层。
有源图案AP形成在绝缘层120上。有源图案AP形成在形成有栅电极GE的区域中。有源图案AP与栅电极GE重叠。有源图案AP与源电极SE和漏电极DE部分地重叠。有源图案AP可设置在栅电极GE与源电极SE之间以及栅电极GE与漏电极DE之间。
源电极SE和漏电极DE形成在有源图案AP上。源电极SE和漏电极DE在有源图案AP上彼此相隔开。源电极SE和漏电极DE可形成在与数据线相同的层上。
源电极SE和漏电极DE可包括铜(Cu)、银(Ag)、铬(Cr)、钼(Mo)、铝(Al)、钛(Ti)、锰(Mn)或它们的合金。源电极SE和漏电极DE可包括单层。可替换地，源电极SE和漏电极DE可包括含有不同金属的多个层。例如，源电极SE和漏电极DE可包括铜(Cu)层和设置在铜(Cu)层上或铜(Cu)层下的钛(Ti)层。
有机层130形成在源电极SE和漏电极DE上。有机层130使第二衬底1110的上表面平坦化，以使得可防止可能因不均匀上表面而发生的缺陷(例如信号布线的切断)。有机层130可为含有有机材料的绝缘层。
像素电极PE形成在有机层130上。像素电极PE通过接触孔电连接到漏电极DE。像素电极PE可包括透明材料和导电材料。例如，像素电极PE可包括氧化铟锡(ITO)或氧化铟锌(IZO)。可替换地，像素电极PE可包括钛(Ti)或钼和钛的合金(MoTi)。
图14至图18是示出制造图13的显示装置20的方法的剖视图。
参照图14，在第一衬底1210上形成遮光图案BM。随后，在其上形成有遮光图案BM的第一衬底1210上形成第一滤色器1211和间隙维持图案1214。
遮光图案BM形成在第一衬底1210上。遮光图案BM可设置在显示区域DA的滤色器之间和外围区域PA中。遮光图案BM可阻挡光。
滤色器可包括第一滤色器1211、第二滤色器1212和第三滤色器1213。第一滤色器1211可为包括红色材料的红色滤色器。第二滤色器1212可为包括绿色材料的绿色滤色器。第三滤色器1213可为包括蓝色材料的蓝色滤色器。例如，第一滤色器1211的高度可等于或大于约1.5um且等于或小于约1.8um。
间隙维持图案1214设置在显示装置20的外围区域PA中。在当前示例性实施方式中，间隙维持图案1214可包括与第一滤色器1211的材料基本上相同的材料。间隙维持图案1214可在形成第一滤色器1211的过程中形成。间隙维持图案1214可具有与第一滤色器1211的高度基本上相同的高度d2。例如，第一滤色器1211的高度可等于或大于约1.5um且等于或小于约1.8um。间隙维持图案1214的高度可等于或大于约1.5um且等于或小于约1.8um。
参照图15，第二滤色器1212形成在其上形成有第一滤色器1211和间隙维持图案1214的第一衬底1210上。
第二滤色器1212可设置成与第一滤色器1211相邻。第二滤色器1212可为包括绿色材料的绿色滤色器。第二滤色器1212的高度可与第一滤色器1211的高度基本上相同。例如，第二滤色器1212的高度可等于或大于约1.5um且等于或小于约1.8um。
参照图16，第三滤色器1213形成在其上形成有第二滤色器1212的第一衬底1210上。
第三滤色器1213可设置成与第二滤色器1212相邻。第三滤色器1213可为包括蓝色材料的蓝色滤色器。例如，第三滤色器1213的高度可等于或大于约1.7um且等于或小于约2.3um。
参照图17，外覆层1220形成在其上形成有第三滤色器1213的第一衬底1210上。
外覆层1220形成在第一滤色器1211、第二滤色器1212和第三滤色器1213以及间隙维持图案1214上。外覆层1220平坦化第一衬底1210以使第一衬底1210的厚度差最小化。另外，外覆层1220可防止杂质流入液晶层1300。然而，本公开不限于此，外覆层1220可省略。
参照图18，柱状间隔件1231、第一取向层AL1和阻挡坝形成在其上形成有外覆层1220的第一衬底1210上。
柱状间隔件1231设置在外覆层1220上。柱状间隔件1231设置在显示区域DA中以维持第一衬底1210与第二衬底1110之间的均匀间隙。柱状间隔件1231可设置在第一衬底1210的显示区域DA上并且被第一取向层AL1覆盖。
第一取向层AL1可形成在其上形成有柱状间隔件1231的第一衬底1210上。第一取向层AL1可包括聚酰亚胺化合物、聚酰胺酸化合物或它们的混合物。
阻挡坝形成在外围区域PA中。阻挡坝与间隙维持图案1214重叠。阻挡坝设置在与柱状间隔件1231相同的层中。阻挡坝可包括与柱状间隔件1231的材料基本上相同的材料。阻挡坝的高度可与柱状间隔件1231的高度基本上相同。
根据一个实施方式，阻挡坝包括第一阻挡坝1232和第二阻挡坝1233。第二阻挡坝1233设置成与第一阻挡坝1232相邻。第二阻挡坝1233可在与第一阻挡坝1232平行的方向上延伸。第一阻挡坝1232与第二阻挡坝1233之间的距离可等于或大于约2.5mm且等于或小于约3.5mm。
密封件1240设置在第一阻挡坝1232与第二阻挡坝1233之间。密封件1240可设置在由第一阻挡坝1232和第二阻挡坝1233限定的区域中。密封件1240可将第一衬底1210附接到第二衬底1110。密封件1240设置在第一阻挡坝1232与第二阻挡坝1233之间，以使得密封件1240的宽度可均匀地形成。相应地，显示区域DA中第一衬底1210和第二衬底1110的间隙与外围区域PA中第一衬底1210和第二衬底1110的间隙之间的差异可减小。可减少可能因显示区域DA中第一衬底1210和第二衬底1110的间隙与外围区域PA中第一衬底1210和第二衬底1110的间隙之间的差异而形成的瑕疵。
此外，阻挡坝以均匀的高度形成以使得密封间隔件可省略。因此，可降低显示装置的制造成本。
当前示例性实施方式的制造第二衬底1110的方法与参照图1至图11阐述的前述示例性实施方式的制造显示装置10的第二衬底110的方法基本上相同。因此，将省略与制造第二衬底1110的方法相关的任何重复说明。
图19是示出根据本公开示例性实施方式的显示装置的平面图。图20是示出沿线III-III’切割的图19的显示装置的剖视图。
参照图19和图20，显示装置30包括显示区域DA和与显示区域DA相邻的外围区域PA。显示区域DA可具有与显示装置30相似的形状。例如，显示区域DA可具有矩形形状。
显示装置30包括第一衬底2210、面对第一衬底2210的第二衬底2110、以及设置在第一衬底2210与第二衬底2110之间的液晶层2300。
遮光图案BM设置在第一衬底2210上。遮光图案BM可设置在显示区域DA的滤色器之间和外围区域PA中。遮光图案BM可阻挡光。
滤色器设置在其上形成有遮光图案BM的第一衬底2210上。滤色器对经过液晶层2300的光提供颜色。滤色器可包括第一滤色器2211、第二滤色器2212和第三滤色器2213。第一滤色器2211可为包括红色材料的红色滤色器。第二滤色器2212可为包括绿色材料的绿色滤色器。第三滤色器2213可为包括蓝色材料的蓝色滤色器。第一滤色器2211、第二滤色器2212和第三滤色器2213可与相应的像素区域对应地设置，以使得相邻像素表示彼此不同的颜色。例如，滤色器的一部分可在像素区域之间的边界处与相邻的滤色器重叠。第一滤色器2211、第二滤色器2212和第三滤色器2213设置在显示区域DA中。
间隙维持图案2214设置在显示装置30的外围区域PA中。在当前示例性实施方式中，间隙维持图案2214可包括与第二滤色器2212的材料基本上相同的材料。间隙维持图案2214可在形成第二滤色器2212的过程中形成。间隙维持图案2214可具有与第二滤色器2212的高度基本上相同的高度。例如，第二滤色器2212的高度可等于或大于约1.5um且等于或小于约1.8um。间隙维持图案2214的高度可等于或大于约1.5um且等于或小于约1.8um。
外覆层2220形成在第一滤色器2211、第二滤色器2212和第三滤色器2213以及间隙维持图案2214上。外覆层2220平坦化第一衬底2210以使第一衬底2210的厚度差最小化。另外，外覆层2220可防止杂质流入液晶层2300。然而，本公开不限于此，可省略外覆层2220。
柱状间隔件2231设置在外覆层2220上。柱状间隔件2231设置在显示区域DA中以维持第一衬底2210与第二衬底2110之间的均匀间隙。在一个实施方式中，柱状间隔件2231可设置在第一衬底2210的显示区域DA中并且被第一取向层AL1覆盖。
第一取向层AL1可形成在其上形成有柱状间隔件2231的第一衬底2210上。第一取向层AL1可包括聚酰亚胺化合物、聚酰胺酸化合物或它们的混合物。
阻挡坝形成在外围区域PA中。阻挡坝与间隙维持图案2214重叠。阻挡坝设置在与柱状间隔件2231相同的层中。阻挡坝可包括与柱状间隔件2231的材料基本上相同的材料。阻挡坝的高度可与柱状间隔件2231的高度基本上相同。
根据一个实施方式，阻挡坝包括第一阻挡坝2232和第二阻挡坝2233。第二阻挡坝2233设置成与第一阻挡坝2232相邻。第二阻挡坝2233可在与第一阻挡坝2232平行的方向上延伸。第一阻挡坝2232与第二阻挡坝2233之间的距离可等于或大于约2.5mm且等于或小于约3.5mm。
密封件2240设置在第一阻挡坝2232与第二阻挡坝2233之间。密封件2240可设置在由第一阻挡坝2232和第二阻挡坝2233限定的区域中。密封件2240可将第一衬底2210附接到第二衬底2110。密封件2240设置在第一阻挡坝2232与第二阻挡坝2233之间，以使得密封件2240的宽度可均匀地形成。相应地，显示区域DA中第一衬底2210和第二衬底2110的间隙与外围区域PA中第一衬底2210和第二衬底2110的间隙之间的差异可减小。可减少可能因显示区域DA中第一衬底2210和第二衬底2110的间隙与外围区域PA中第一衬底2210和第二衬底2110的间隙之间的差异而形成的瑕疵。
此外，阻挡坝以均匀的高度形成以使得密封间隔件可省略。因此，可降低显示装置的制造成本。
阵列层TL和第二取向层AL2设置在第二衬底2110上。
当前示例性实施方式的第二衬底2110与参照图1至图11阐述的前述示例性实施方式的显示装置10的第二衬底110基本上相同。因此，相同的附图标记将用于指示与参照图1至图11描述的前述示例性实施方式中所描述的那些相同或相似的部件。
参照图11，阵列层TL包括栅电极GE、绝缘层120、有源图案AP、源电极SE、漏电极DE、有机层130和像素电极PE。
栅电极GE设置在第二衬底1110上。栅电极GE电连接到栅极线。栅电极GE可包括铜(Cu)、银(Ag)、铬(Cr)、钼(Mo)、铝(Al)、钛(Ti)、锰(Mn)或它们的合金。栅电极GE可包括单层。可替换地，栅电极GE可包括含有不同金属的多个层。例如，栅电极GE可包括含有钛(Ti)的下层和设置在下层上并包含铜(Cu)的上层。
绝缘层120形成在栅电极GE上。绝缘层120覆盖第二衬底1110和包括栅电极GE的导电图案。绝缘层120可包括无机绝缘材料。例如，绝缘层120可包括氧化硅(SiOx)或氮化硅(SiNx)。例如，绝缘层120可包括氧化硅(SiOx)并且具有的厚度。绝缘层120可具有含有不同材料的多个层。
有源图案AP形成在绝缘层120上。有源图案AP形成在形成有栅电极GE的区域中。有源图案AP与栅电极GE重叠。有源图案AP与源电极SE和漏电极DE部分地重叠。有源图案AP可设置在栅电极GE与源电极SE之间以及栅电极GE与漏电极DE之间。
源电极SE和漏电极DE形成在有源图案AP上。源电极SE和漏电极DE在有源图案AP上彼此相隔开。源电极SE和漏电极DE可形成在与数据线相同的层中。
源电极SE和漏电极DE可包括铜(Cu)、银(Ag)、铬(Cr)、钼(Mo)、铝(Al)、钛(Ti)、锰(Mn)或它们的合金。源电极SE和漏电极DE可包括单层。可替换地，源电极SE和漏电极DE可包括含有不同金属的多个层。例如，源电极SE和漏电极DE可包括铜(Cu)层和设置在铜(Cu)层上或铜(Cu)层下的钛(Ti)层。
有机层130形成在源电极SE和漏电极DE上。有机层130使第二衬底1110的上表面平坦化，以使得可防止可能因不均匀上表面而发生的缺陷(例如信号布线的切断)。有机层130可为含有有机材料的绝缘层。
像素电极PE形成在有机层130上。像素电极PE通过接触孔电连接到漏电极DE。像素电极PE可包括透明材料和导电材料。例如，像素电极PE可包括氧化铟锡(ITO)或氧化铟锌(IZO)。可替换地，像素电极PE可包括钛(Ti)或钼和钛的合金(MoTi)。
图21至图25是示出制造图20的显示装置30的方法的剖视图。
参照图21，在第一衬底2210上形成遮光图案BM。随后，在其上形成有遮光图案BM的第一衬底2210上形成第一滤色器2211。
遮光图案BM形成在第一衬底2210上。遮光图案BM可设置在显示区域DA的滤色器之间和外围区域PA中。遮光图案BM可阻挡光。
滤色器可包括第一滤色器2211、第二滤色器2212和第三滤色器2213。第一滤色器2211可为包括红色材料的红色滤色器。第二滤色器2212可为包括绿色材料的绿色滤色器。第三滤色器2213可为包括蓝色材料的蓝色滤色器。例如，第一滤色器2211的高度可等于或大于约1.5um且等于或小于约1.8um。
参照图22，第二滤色器2212和间隙维持图案2214形成在其上形成有第一滤色器2211的第一衬底2210上。
第二滤色器2212可设置成与第一滤色器2211相邻。第二滤色器2212可为包括绿色材料的绿色滤色器。第二滤色器2212的高度可与第一滤色器2211的高度基本上相同。例如，第二滤色器2212的高度可等于或大于约1.5um且等于或小于约1.8um。
间隙维持图案2214设置在显示装置30的外围区域PA中。在当前示例性实施方式中，间隙维持图案2214可包括与第二滤色器2212的材料基本上相同的材料。间隙维持图案2214可在形成第二滤色器2212的过程中形成。间隙维持图案2214可具有与第二滤色器2212的高度基本上相同的高度d3。例如，第二滤色器2212的高度可等于或大于约1.5um且等于或小于约1.8um。间隙维持图案2214的高度可等于或大于约1.5um且等于或小于约1.8um。
参照图23，第三滤色器2213形成在其上形成有第二滤色器2212和间隙维持图案2214的第一衬底2210上。
第三滤色器2213可设置成与第二滤色器2212相邻。第三滤色器2213可为包括蓝色材料的蓝色滤色器。例如，第三滤色器2213的高度可等于或大于约1.7um且等于或小于约2.3um。
参照图24，外覆层2220形成在其上形成有第三滤色器2213的第一衬底2210上。
外覆层2220形成在第一滤色器2211、第二滤色器2212和第三滤色器2213以及间隙维持图案2214上。外覆层2220平坦化第一衬底2210以使第一衬底2210的厚度差最小化。另外，外覆层2220可防止杂质流入液晶层2300。然而，本公开不限于此，可省略外覆层2220。
参照图25，柱状间隔件2231、第一取向层AL1和阻挡坝形成在其上形成有外覆层2220的第一衬底2210上。
柱状间隔件2231设置在外覆层2220上。柱状间隔件2231设置在显示区域DA中以维持第一衬底2210与第二衬底2110之间的均匀间隙。柱状间隔件2231可设置在第一衬底2210的显示区域DA上并且被第一取向层AL1覆盖。
第一取向层AL1可形成在其上形成有柱状间隔件2231的第一衬底2210上。第一取向层AL1可包括聚酰亚胺化合物、聚酰胺酸化合物或它们的混合物。
阻挡坝形成在外围区域PA中。阻挡坝与间隙维持图案2214重叠。阻挡坝设置在与柱状间隔件2231相同的层中。阻挡坝可包括与柱状间隔件2231的材料基本上相同的材料。阻挡坝的高度可与柱状间隔件2231的高度基本上相同。
根据一个实施方式，阻挡坝包括第一阻挡坝2232和第二阻挡坝2233。第二阻挡坝2233设置成与第一阻挡坝2232相邻。第二阻挡坝2233可在与第一阻挡坝2232平行的方向上延伸。第一阻挡坝2232与第二阻挡坝2233之间的距离可等于或大于约2.5mm且等于或小于约3.5mm。
密封件2240设置在第一阻挡坝2232与第二阻挡坝2233之间。密封件2240可设置在由第一阻挡坝2232和第二阻挡坝2233限定的区域中。密封件2240可将第一衬底2210附接到第二衬底2110。密封件2240设置在第一阻挡坝2232与第二阻挡坝2233之间，以使得密封件2240的宽度可均匀地形成。相应地，显示区域DA中第一衬底2210和第二衬底2110的间隙与外围区域PA中第一衬底2210和第二衬底2110的间隙之间的差异可减小。可减少可能因显示区域DA中第一衬底2210和第二衬底2110的间隙与外围区域PA中第一衬底2210和第二衬底2110的间隙之间的差异而形成的瑕疵。
此外，阻挡坝以均匀的高度形成以使得密封间隔件可省略。因此，可降低显示装置的制造成本。
当前示例性实施方式的制造第二衬底2110的方法与参照图1至图11阐述的前述示例性实施方式的制造显示装置10的第二衬底110的方法基本上相同。因此，将省略与制造第二衬底2110的方法相关的任何重复说明。
根据当前示例性实施方式，显示装置包括第一阻挡坝和第二阻挡坝，并且密封件设置在第一阻坝和第二阻挡坝之间。密封件设置在第一阻挡坝与第二阻挡坝之间，以使得密封件的宽度可均匀地形成。相应地，显示区域中衬底的间隙与外围区域中衬底的间隙之间的差异可减小。可减少可能因显示区域中衬底的间隙与外围区域中衬底的间隙之间的差异而形成的瑕疵。
此外，阻挡坝以均匀的高度形成以使得密封间隔件可省略。因此，可降低显示装置的制造成本。
此外，显示装置包括与第一阻挡坝和第二阻挡坝重叠的间隙维持图案。间隙维持图案支承形成有第一阻挡坝和第二阻挡坝的区域，以使得衬底的间隙可均匀地形成在显示区域和外围区域中。
前述内容是对本公开的说明并且不应被解释为对其的限制。尽管已经描述了本公开的一些示例性实施方式，但是本领域技术人员将容易地理解，在实质上不脱离本公开的新颖性教导和优点的情况下能够对示例性实施方式进行诸多修改。相应地，这种修改旨在包括在本公开的范围内。在权利要求书中，装置加功能句式旨在覆盖本文中描述为执行所述功能的结构，并且不仅覆盖结构等同物，而且还覆盖等同结构。因此，应当理解，上述内容是对本公开的说明，并且不应被解释为限于所公开的具体示例性实施方式，并且对所公开的示例性实施方式以及其它示例性实施方式的修改旨在包括在本公开的范围内。

Claims (28)

1.显示装置，包括：
第一衬底，包括显示区域和围绕所述显示区域的外围区域；
滤色器，设置在所述显示区域中；
间隙维持图案，在与所述滤色器相同的层中设置在所述外围区域中；
柱状间隔件，设置在所述滤色器上；以及
阻挡坝，设置在与所述柱状间隔件相同的层中并且与所述间隙维持图案重叠。
2.如权利要求1所述的显示装置，其中，所述阻挡坝包括：
第一阻挡坝；以及
第二阻挡坝，与所述第一阻挡坝相邻并且在与所述第一阻挡坝平行的方向上延伸。
3.如权利要求2所述的显示装置，还包括：
密封件，设置在所述第一阻挡坝与所述第二阻挡坝之间。
4.如权利要求3所述的显示装置，其中，所述第一阻挡坝与所述第二阻挡坝之间的距离等于或大于2.5mm且等于或小于3.5mm。
5.如权利要求2所述的显示装置，其中，所述滤色器包括：
第一滤色器，包括红色材料；
第二滤色器，与所述第一滤色器相邻并且包括绿色材料；以及
第三滤色器，与所述第二滤色器相邻并且包括蓝色材料。
6.如权利要求5所述的显示装置，其中，所述间隙维持图案包括与所述第一滤色器的材料相同的材料。
7.如权利要求6所述的显示装置，其中，所述间隙维持图案的高度等于或大于1.5um且等于或小于1.8um。
8.如权利要求5所述的显示装置，其中，所述间隙维持图案包括与所述第二滤色器的材料相同的材料。
9.如权利要求8所述的显示装置，其中，所述间隙维持图案的高度等于或大于1.5um且等于或小于1.8um。
10.如权利要求5所述的显示装置，其中，所述间隙维持图案包括与所述第三滤色器的材料相同的材料。
11.如权利要求10所述的显示装置，其中，所述间隙维持图案的高度等于或大于1.7um且等于或小于2.3um。
12.如权利要求1所述的显示装置，还包括：
第二衬底，面对所述第一衬底；以及
液晶层，设置在所述第一衬底与所述第二衬底之间。
13.如权利要求12所述的显示装置，还包括：
栅电极，设置在所述第二衬底上；
源电极，与所述栅电极重叠；
漏电极，与所述栅电极重叠并且与所述源电极相隔开；以及
像素电极，电连接至所述漏电极。
14.如权利要求1所述的显示装置，还包括：
外覆层，设置在所述滤色器与所述柱状间隔件之间。
15.显示装置的制造方法，所述方法包括：
在第一衬底上在相同层中形成滤色器和间隙维持图案，其中所述滤色器形成在所述显示装置的显示区域中，并且所述间隙维持图案形成在所述显示装置的外围区域中；以及
形成与所述滤色器重叠的柱状间隔件以及与所述间隙维持图案重叠的阻挡坝。
16.如权利要求15所述的方法，其中，所述阻挡坝包括：
第一阻挡坝；以及
第二阻挡坝，与所述第一阻挡坝相邻并且在与所述第一阻挡坝平行的方向上延伸。
17.如权利要求16所述的方法，还包括：
在所述第一阻挡坝与所述第二阻挡坝之间形成密封件。
18.如权利要求17所述的方法，其中，所述第一阻挡坝与所述第二阻挡坝之间的距离等于或大于2.5mm且等于或小于3.5mm。
19.如权利要求15所述的方法，其中，形成所述滤色器包括：
形成包括红色材料的第一滤色器；
形成与所述第一滤色器相邻并且包括绿色材料的第二滤色器；以及
形成与所述第二滤色器相邻并且包括蓝色材料的第三滤色器。
20.如权利要求19所述的方法，其中，所述间隙维持图案包括与所述第一滤色器的材料相同的材料。
21.如权利要求20所述的方法，其中，所述间隙维持图案的高度等于或大于1.5um且等于或小于1.8um。
22.如权利要求19所述的方法，其中，所述间隙维持图案包括与所述第二滤色器的材料相同的材料。
23.如权利要求22所述的方法，其中，所述间隙维持图案的高度等于或大于1.5um且等于或小于1.8um。
24.如权利要求19所述的方法，其中，所述间隙维持图案包括与所述第三滤色器的材料相同的材料。
25.如权利要求24所述的方法，其中，所述间隙维持图案的高度等于或大于1.7um且等于或小于2.3um。
26.如权利要求15所述的方法，还包括：
在面对所述第一衬底的第二衬底上形成薄膜晶体管；以及
在所述第一衬底与所述第二衬底之间形成液晶层。
27.如权利要求26所述的方法，其中，形成所述薄膜晶体管包括：
在所述第二衬底上形成栅电极；
在所述栅电极上形成源电极和漏电极；以及
形成电连接至所述漏电极的像素电极。
28.如权利要求15所述的方法，还包括：
在所述滤色器与所述柱状间隔件之间形成外覆层。
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