TWI752954B - 顯示裝置及其製造方法 - Google Patents

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TWI752954B
TWI752954B TW106114280A TW106114280A TWI752954B TW I752954 B TWI752954 B TW I752954B TW 106114280 A TW106114280 A TW 106114280A TW 106114280 A TW106114280 A TW 106114280A TW I752954 B TWI752954 B TW I752954B
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金時珍
金香律
馬修 史密斯
鄭載勳
崔汶根
崔昇柱
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南韓商三星顯示器有限公司
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Abstract

一種顯示裝置包含一第一基板、一彩色濾光片、一間隙維持圖案、一柱間隔件、及一阻擋壩。該第一基板包含一顯示區及環繞該顯示區之一周邊區。該彩色濾光片設置於該顯示區中。該間隙維持圖案在該周邊區中與該彩色濾光片設置於同一層中。該柱間隔件設置於該彩色濾光片上。該阻擋壩與該柱間隔件設置於同一層且與該間隙維持圖案交疊。可減小該顯示區中第一基板與第二基板之間隙與該周邊區中第一基板第二基板之間隙之間的差異。

Description

顯示裝置及其製造方法
本發明之實例性實施例係關於一種顯示裝置及一種製造該顯示裝置之方法。更具體而言，本發明之實例性實施例係關於一種用於在一顯示面板之一邊緣部處減弱一斑紋(stain)並降低一製造成本之顯示裝置、以及一種製造該顯示裝置之方法。
隨著資訊技術進步，對各種顯示裝置之需求亦已增加。因此，人們已積極地研究了各種類型之顯示裝置，其中包含一液晶顯示(「liquid crystal display；LCD」)裝置、一電漿顯示面板(「plasma display panel；PDP」)、一場發射顯示(「field emission display；FED」)裝置、一電泳顯示(「electrophoretic display；EPD」)裝置、一有機發光顯示(「organic light emitting display；OLED」)裝置。
液晶顯示裝置包含一顯示基板(例如，薄膜電晶體)、面向該顯示基板之一反基板(counter substrate)及設置於顯示基板與反基板間之一液晶層。顯示基板上形成有複數個閘極線、複數個資料線、連接至該等閘極線及該等資料線之複數個切換元件、連接至該等切換元件之複數個畫素電極。切換元 件包含自閘極線延伸之一閘電極、自資料線延伸並經由一半導體圖案連接至該閘電極之一源電極、以及與該源電極間隔開並連接至該半導體圖案之一汲電極。
顯示基板與反基板藉由一密封劑而彼此組合，該密封劑係形成於顯示基板之一周邊部處。然而，在將顯示基板與反基板進行附裝之一製程中，密封劑之厚度可能並不均勻，以致一使用者可能會看到可因顯示基板與反基板間之一非均勻間隙而形成之一斑紋。
本發明之實例性實施例提供一種用於減弱一缺陷之顯示裝置。
本發明之實例性實施例亦提供一種製造上述顯示裝置之方法。
在根據本發明一種顯示裝置之一實例性實施例中，該顯示裝置包含一第一基板、一彩色濾光片、一間隙維持圖案、一柱間隔件、及一阻擋壩。該第一基板包含一顯示區及環繞該顯示區之一周邊區。該彩色濾光片設置於該顯示區中。該間隙維持圖案在該周邊區中與該彩色濾光片設置於同一層中。該柱間隔件設置於該彩色濾光片上。該阻擋壩與該柱間隔件設置於同一層且與該間隙維持圖案交疊。
在一實例性實施例中，該阻擋壩可包含：一第一阻擋壩；以及一第二阻擋壩，與該第一阻擋壩相鄰且沿平行於該第一阻擋壩之一方向延伸。
在一實例性實施例中，該顯示裝置可更包含設置於該第一阻擋壩與該第二阻擋壩間之一密封構件。
在一實例性實施例中，該第一阻擋壩與該第二阻擋壩間之一距離可等於或大於約2.5毫米(mm)且等於或小於約3.5毫米。
在一實例性實施例中，該彩色濾光片可包含：一第一彩色濾光片，包含一紅色材料；一第二彩色濾光片，與該第一彩色濾光片相鄰且包含一綠色材料；以及一第三彩色濾光片，與該第二彩色濾光片相鄰且包含一藍色材料。
在一實例性實施例中，該間隙維持圖案可包含與該第一彩色濾光片之該材料實質上相同之一材料。
在一實例性實施例中，該間隙維持圖案之一高度可等於或大於約1.5微米(um)且等於或小於約1.8微米。
在一實例性實施例中，該間隙維持圖案可包含與該第二彩色濾光片之該材料實質上相同之一材料。
在一實例性實施例中，該間隙維持圖案之一高度可等於或大於約1.5微米且等於或小於約1.8微米。
在一實例性實施例中，該間隙維持圖案可包含與該第三彩色濾光片之該材料實質上相同之一材料。
在一實例性實施例中，該間隙維持圖案之一高度可等於或大於約1.7微米且等於或小於約2.3微米。
在一實例性實施例中，該顯示裝置可更包含：一第二基板，面向該第一基板；以及一液晶層，設置於該第一基板與該第二基板之間。
在一實例性實施例中，該顯示裝置可更包含：一閘電極，設置於該第二基板上；一源電極，與該閘電極交疊；一汲電極，與該閘電極交疊且與該源電極間隔開；以及一畫素電極，電性連接至該汲電極。
在一實例性實施例中，該顯示裝置可更包含設置於該彩色濾光片與該柱間隔件間之一外覆層(overcoating layer)。
在根據本發明一種製造一顯示裝置之方法之一實例性實施例中，該方法包含：在一第一基板上形成一彩色濾光片及一間隙維持圖案；以及形成與該彩色濾光片交疊之一柱間隔件及與該間隙維持圖案交疊之一阻擋壩。該彩色濾光片可形成於該顯示裝置之一顯示區中，且該間隙維持圖案可形成於該顯示裝置之一周邊區中。
在一實例性實施例中，該阻擋壩可包含：一第一阻擋壩；以及一第二阻擋壩，與該第一阻擋壩相鄰且沿平行於該第一阻擋壩之一方向延伸。
在一實例性實施例中，該方法可更包含在該第一阻擋壩與該第二阻擋壩之間形成一密封構件。
在一實例性實施例中，該第一阻擋壩與該第二阻擋壩間之一距離可等於或大於約2.5毫米且等於或小於約3.5毫米。
在一實例性實施例中，該形成該彩色濾光片之步驟可包含：形成包含一紅色材料之一第一彩色濾光片；形成與該第一彩色濾光片相鄰且包含一綠色材料之一第二彩色濾光片；以及形成與該第二彩色濾光片相鄰且包含一藍色材料之一第三彩色濾光片。
在一實例性實施例中，該間隙維持圖案可包含與該第一彩色濾光片之該材料實質上相同之一材料。
在一實例性實施例中，該間隙維持圖案之一高度可等於或大於約1.5微米且等於或小於約1.8微米。
在一實例性實施例中，該間隙維持圖案可包含與該第二彩色濾光片之該材料實質上相同之一材料。
在一實例性實施例中，該間隙維持圖案之一高度可等於或大於約1.5微米且等於或小於約1.8微米。
在一實例性實施例中，該間隙維持圖案可包含與該第三彩色濾光片之該材料實質上相同之一材料。
在一實例性實施例中，該間隙維持圖案之一高度可等於或大於約1.7微米且等於或小於約2.3微米。
在一實例性實施例中，該方法可更包含：在面向該第一基板之一第二基板上形成一薄膜電晶體；以及在該第一基板與該第二基板之間形成一液晶層。
在一實例性實施例中，該形成該薄膜電晶體之步驟可包含：在該第二基板上形成一閘電極；在該閘電極上形成一源電極及一汲電極；以及形成電性連接至該汲電極之一畫素電極。
在一實例性實施例中，該方法可更包含在該彩色濾光片與該柱間隔件之間形成一外覆層。
根據本發明之顯示裝置及製造顯示裝置之方法，該顯示裝置包含第一阻擋壩及第二阻擋壩，且密封構件設置於第一阻擋壩與第二阻擋壩之間。密封構件設置於第一阻擋壩與第二阻擋壩之間，俾使密封構件之一寬度可被均勻地形成。可減小顯示區中各基板之間隙與周邊區中各基板之間隙之間的差異。可減弱可因顯示區中各基板之間隙與周邊區中各基板之間隙之間的差異而形成之一斑紋。
另外，阻擋壩係以一均勻高度形成，俾使一密封間隔件可被省略。因此，可降低顯示裝置之製造成本。
另外，顯示裝置包含與第一阻擋壩及第二阻擋壩交疊之一間隙維持圖案。該間隙維持圖案支撐其中形成有第一阻擋壩及第二阻擋壩之區，俾使各基板之間隙可在顯示區與周邊區中均勻地形成。
10:顯示裝置
20:顯示裝置
30:顯示裝置
110:第二基板
120:絕緣層
130:有機層
210:第一基板
211:第一彩色濾光片
212:第二彩色濾光片
213:第三彩色濾光片
214:間隙維持圖案
220:外覆層
231:柱間隔件
232:第一阻擋壩
233:第二阻擋壩
240:密封構件
300:液晶層
1110:第二基板
1210:第一基板
1211:第一彩色濾光片
1212:第二彩色濾光片
1213:第三彩色濾光片
1214:間隙維持圖案
1220:外覆層
1231:柱間隔件
1232:第一阻擋壩
1233:第二阻擋壩
1240:密封構件
1300:液晶層
2110:第二基板
2210:第一基板
2211:第一彩色濾光片
2212:第二彩色濾光片
2213:第三彩色濾光片
2214:間隙維持圖案
2220:外覆層
2231:柱間隔件
2232:第一阻擋壩
2233:第二阻擋壩
2240:密封構件
2300:液晶層
AL1:第一對準層
AL2:第二對準層
AP:主動圖案
BM:光阻擋圖案
d1:高度
d2:高度
d3:高度
DA:顯示區
DE:汲電極
GE:閘電極
PA:周邊區
PE:畫素電極
SE:源電極
TL:陣列層
I-I’:線
II-II’:線
III-III’:線
藉由參照附圖詳細地闡述本發明之實例性實施例，本發明之上述及其他特徵及優點將變得更加顯而易見，附圖中：第1圖係為例示根據本發明一實例性實施例之一顯示裝置之平面圖；第2圖係為例示第1圖所示顯示裝置沿著一線I-I’剖切而成之剖視圖；第3圖至第11圖係為例示一種製造第2圖所示顯示裝置之方法之剖視圖；第12圖係為例示根據本發明一實例性實施例之一顯示裝置之平面圖；第13圖係為例示第12圖所示顯示裝置沿著一線II-II’剖切而成之剖視圖；第14圖至第18圖係為例示一種製造第13圖所示顯示裝置之方法之剖視圖；第19圖係為例示根據本發明一實例性實施例之一顯示裝置之平面圖；第20圖係為例示第19圖所示顯示裝置沿著一線III-III’剖切而成之剖視圖；以及第21圖至第25圖係為例示一種製造第20圖所示顯示裝置之方法之剖視圖。
下文中，將參照附圖來詳細地解釋本發明。
第1圖係為例示根據本發明一實例性實施例之一顯示裝置之平面圖。第2圖係為例示第1圖所示顯示裝置沿著一線I-I’剖切而成之剖視圖。
參照第1圖及第2圖，顯示裝置10包含一顯示區DA及與顯示區DA相鄰之一周邊區PA。周邊區PA可環繞顯示區DA。顯示區DA可具有與顯示裝置10類似之一形狀。舉例而言，顯示區DA可具有一矩形形狀。
顯示裝置10包含一第一基板210、面向第一基板210之一第二基板110及設置於第一基板210與第二基板110間之一液晶層300。
一光阻擋圖案BM設置於第一基板210上。光阻擋圖案BM可設置於顯示區DA之複數個彩色濾光片之間以及周邊區PA中。光阻擋圖案BM可阻擋光。
彩色濾光片設置於上面形成有光阻擋圖案BM之第一基板210上。彩色濾光片為穿過液晶層300之光提供顏色。彩色濾光片可包含一第一彩色濾光片211、一第二彩色濾光片212及一第三彩色濾光片213。第一彩色濾光片211可係為包含一紅色材料之一紅色濾光片。第二彩色濾光片212可係為包含一綠色材料之一綠色濾光片。第三彩色濾光片213可係為包含一藍色材料之一藍色濾光片。彩色濾光片211、212及213可對應於各自之畫素區而被設置成使得相鄰畫素表示彼此不同之顏色。舉例而言，在各畫素區間之一邊界處，可使彩色濾光片之一部分與相鄰彩色濾光片交疊。彩色濾光片211、212及213設置於顯示區DA中。
一間隙維持圖案214設置於顯示裝置10之周邊區PA中。在本實例性實施例中，間隙維持圖案214可包含與第三彩色濾光片213之一材料實質上相同之一材料。間隙維持圖案214可係在形成第三彩色濾光片213之一製程中形成。間隙維持圖案214可具有與第三彩色濾光片213之一高度實質上相同之一高度。舉例而言，第三彩色濾光片213之高度可等於或大於約1.7微米(um)且等於或小於約2.3微米。間隙維持圖案214之高度可等於或大於約1.7微米且等於或小於約2.3微米。
一外覆層220形成於彩色濾光片211、212及213、以及間隙維持圖案214上。外覆層220將第一基板210平坦化，以使第一基板210之厚度差異最小 化。另外，外覆層220可防止液晶層300受流入之雜質影響。然而，本發明並不限於此，外覆層220可被省略。
一柱間隔件231設置於外覆層220上。柱間隔件231設置於顯示區DA中，以在第一基板210與第二基板110之間維持一均勻間隙。在一個實施例中，柱間隔件231可設置於第一基板210之顯示區DA中，並由一第一對準層AL1覆蓋。
第一對準層AL1可形成於上面形成有柱間隔件231之第一基板210上。第一對準層AL1可包含聚醯亞胺化合物(polyimide compound)、聚醯胺酸化合物(polyamic acid compound)、或其一混合物。
一阻擋壩形成於周邊區PA中。阻擋壩與間隙維持圖案214交疊。阻擋壩與柱間隔件231設置於同一層中。阻擋壩可包含與柱間隔件231之材料實質上相同之一材料。阻擋壩之一高度可與柱間隔件231之一高度實質上相同。
根據一個實施例，該阻擋壩包含一第一阻擋壩232及一第二阻擋壩233。第二阻擋壩233被設置成與第一阻擋壩232相鄰。第二阻擋壩233可沿平行於第一阻擋壩232之一方向延伸。第一阻擋壩232與第二阻擋壩233間之一距離可等於或大於約2.5毫米且等於或小於約3.5毫米。
一密封構件240設置於第一阻擋壩232與第二阻擋壩233之間。密封構件240可設置於由第一阻擋壩232與第二阻擋壩233所界定之一區中。密封構件240可將第一基板210附裝至第二基板110。密封構件240設置於第一阻擋壩232與第二阻擋壩233之間，俾使密封構件240之一寬度可被均勻地形成。因此，可減小顯示區DA中第一基板210與第二基板110之間隙與周邊區PA中第一基板210與第二基板110之間隙的差異。可減弱可因顯示區DA中第一基板210與第二基板110之間隙與周邊區PA中第一基板210與第二基板110之間隙之間的差異而形成之一斑紋。
另外，阻擋壩係以一均勻高度形成，俾使一密封間隔件可被省略。因此，可降低顯示裝置之製造成本。
一陣列層TL及一第二對準層AL2設置於第二基板110上。
參照第11圖，陣列層TL包含一閘電極GE、一絕緣層120、一主動圖案AP、一源電極SE、一汲電極DE、一有機層130、及一畫素電極PE。
閘電極GE設置於第二基板110上。閘電極GE電性連接至一閘極線。閘電極GE可包含銅(copper；Cu)、銀(silver；Ag)、鉻(chromium；Cr)、鉬(molybdenum；Mo)、鋁(aluminum；Al)、鈦(titanium；Ti)、錳(manganese；Mn)、或其一合金。閘電極GE可包含一單一層。另一選擇為，閘電極GE可包含複數個層，該等層包含不同金屬。舉例而言，閘電極GE可包含一下部層及一上部層，該下部層包含鈦(Ti)，該上部層設置於該下部層上且包含銅(Cu)。
絕緣層120形成於閘電極GE上。絕緣層120覆蓋第二基板110及一導電圖案，該導電圖案包含閘電極GE。絕緣層120可包含一無機絕緣材料。舉例而言，絕緣層120可包含氧化矽(silicon oxide；SiOx)或氮化矽(silicon nitride；SiNx)。舉例而言，絕緣層120可包含氧化矽(SiOx)且具有500埃(Å)之一厚度。絕緣層120可具有複數個層，該等層包含不同材料。
主動圖案AP形成於絕緣層120上。主動圖案AP形成於其中形成有閘電極GE之一區中。主動圖案AP與閘電極GE交疊。主動圖案AP與源電極SE及汲電極DE局部地交疊。主動圖案AP可設置於閘電極GE與源電極SE之間以及閘電極GE與汲電極DE之間。
源電極SE及汲電極DE形成於主動圖案AP上。源電極SE與汲電極DE在主動圖案AP上彼此間隔開。源電極SE及汲電極DE可與一資料線形成於同一層中。
源電極SE及汲電極DE可包含銅(Cu)、銀(Ag)、鉻(Cr)、鉬(Mo)、鋁(Al)、鈦(Ti)、錳(Mn)、或其一合金。源電極SE及汲電極DE可包含一單一層。另一選擇為，源電極SE及汲電極DE可包含複數個層，該等層包含不同金屬。舉例而言，源電極SE及汲電極DE可包含一銅(Cu)層及設置於該銅(Cu)層上或其下方之一鈦(Ti)層。
有機層130形成於源電極SE及汲電極DE上。有機層130將第二基板110之一上表面平坦化，俾可防止可因不均勻之上表面而出現之一缺陷，例如一訊號佈線之切斷。有機層130可係為包含一有機材料之一絕緣層。
畫素電極PE形成於有機層130上。畫素電極PE經由一接觸孔而電性連接至汲電極DE。畫素電極PE可包含一透明材料及一導電材料。舉例而言，畫素電極PE可包含氧化銦錫(indium tin oxide；ITO)或氧化銦鋅(indium zinc oxide；IZO)。另一選擇為，畫素電極PE可包含鈦(Ti)或鉬與鈦之一合金(MoTi)。
第3圖至第11圖係為例示一種製造第2圖所示顯示裝置10之方法之剖視圖。
參照第3圖，在第一基板210上形成光阻擋圖案BM。
光阻擋圖案BM可設置於顯示區DA之彩色濾光片之間以及周邊區PA中。光阻擋圖案BM可阻擋光。
參照第4圖，在上面形成有光阻擋圖案BM之第一基板210上形成第一彩色濾光片211。
彩色濾光片可包含第一彩色濾光片211、第二彩色濾光片212及第三彩色濾光片213。第一彩色濾光片211可係為包含一紅色材料之一紅色濾光片。第二彩色濾光片212可係為包含一綠色材料之一綠色濾光片。第三彩色濾光片213可係為包含一藍色材料之一藍色濾光片。舉例而言，第一彩色濾光片211之高度可等於或大於約1.5微米且等於或小於約1.8微米。
參照第5圖，在上面形成有第一彩色濾光片211之第一基板210上形成第二彩色濾光片212。
第二彩色濾光片212可被設置成與第一彩色濾光片211相鄰。第二彩色濾光片212可係為包含綠色材料之綠色濾光片。第二彩色濾光片212之一高度可與第一彩色濾光片211之高度實質上相同。舉例而言，第二彩色濾光片212之高度可等於或大於約1.5微米且等於或小於約1.8微米。
參照第6圖，在上面形成有第二彩色濾光片212之第一基板210上形成第三彩色濾光片213及間隙維持圖案214。
第三彩色濾光片213可被設置成與第二彩色濾光片212相鄰。第三彩色濾光片213可係為包含藍色材料之藍色濾光片。舉例而言，第三彩色濾光片213之一高度可等於或大於約1.7微米且等於或小於約2.3微米。
間隙維持圖案214設置於顯示裝置10之周邊區PA中。在本實例性實施例中，間隙維持圖案214可包含與第三彩色濾光片213之一材料實質上相同之一材料。間隙維持圖案214可係在形成第三彩色濾光片213之一製程中形成。間隙維持圖案214可具有與第三彩色濾光片213之一高度實質上相同之一高度d1。舉例而言，第三彩色濾光片213之高度可等於或大於約1.7微米且等於或小於約2.3微米。間隙維持圖案214之高度可等於或大於約1.7微米且等於或小於約2.3微米。
參照第7圖，在上面形成有第三彩色濾光片213及間隙維持圖案214之第一基板210上形成外覆層220。
外覆層220係形成於彩色濾光片211、212及213、以及間隙維持圖案214上。外覆層220將第一基板210平坦化，以使第一基板210之厚度差異最小化。另外，外覆層220可防止液晶層300受流入之雜質影響。然而，本發明並不限於此，外覆層220可被省略。
參照第8圖，在上面形成有外覆層220之第一基板210上形成柱間隔件231、第一對準層AL1及阻擋壩。
柱間隔件231係設置於外覆層220上。柱間隔件231設置於顯示區DA中，以在第一基板210與第二基板110之間維持一均勻間隙。柱間隔件231可設置於第一基板210之顯示區DA中，並由一第一對準層AL1覆蓋。
可在上面形成有柱間隔件231之第一基板210上形成第一對準層AL1。第一對準層AL1可包含聚醯亞胺化合物、聚醯胺酸化合物、或其一混合物。
阻擋壩係形成於周邊區PA中。阻擋壩與間隙維持圖案214交疊。阻擋壩與柱間隔件231設置於同一層中。阻擋壩可包含與柱間隔件231之材料實質上相同之一材料。阻擋壩之一高度可與柱間隔件231之一高度實質上相同。
根據一個實施例，該阻擋壩包含第一阻擋壩232及第二阻擋壩233。第二阻擋壩233被設置成與第一阻擋壩232相鄰。第二阻擋壩233可沿平行於第一阻擋壩232之一方向延伸。第一阻擋壩232與第二阻擋壩233間之一距離可等於或大於約2.5毫米且等於或小於約3.5毫米。
密封構件240設置於第一阻擋壩232與第二阻擋壩233之間。密封構件240可設置於由第一阻擋壩232與第二阻擋壩233所界定之一區中。密封構件240可將第一基板210附裝至第二基板110。密封構件240設置於第一阻擋壩232與第二阻擋壩233之間，俾使密封構件240之一寬度可被均勻地形成。因此，可減小顯示區DA中第一基板210與第二基板110之間隙與周邊區PA中第一基板210與第二基板110之間隙之間的差異。可減弱可因顯示區DA中第一基板210與第二基板110之間隙與周邊區PA中第一基板210與第二基板110之間隙之間的差異而形成之一斑紋。
另外，阻擋壩係以一均勻高度形成，俾使一密封間隔件可被省略。因此，可降低顯示裝置之製造成本。
參照第9圖，在第二基板110上形成閘電極GE及絕緣層120。
閘電極GE設置於第二基板110上。閘電極GE電性連接至一閘極線。閘電極GE可包含銅(Cu)、銀(Ag)、鉻(Cr)、鉬(Mo)、鋁(Al)、鈦(Ti)、錳(Mn)、或其一合金。閘電極GE可包含一單一層。另一選擇為，閘電極GE可包含複數個層，該等層包含不同金屬。舉例而言，閘電極GE可包含一下部層及一上部層，該下部層包含鈦(Ti)，該上部層設置於該下部層上且包含銅(Cu)。
絕緣層120形成於閘電極GE上。絕緣層120覆蓋第二基板110及一導電圖案，該導電圖案包含閘電極GE。絕緣層120可包含一無機絕緣材料。舉例而言，絕緣層120可包含氧化矽(SiOx)或氮化矽(SiNx)。舉例而言，絕緣層120可包含氧化矽(SiOx)且具有500埃之一厚度。絕緣層120可具有複數個層，該等層包含不同材料。
參照第10圖，在上面形成有絕緣層120之第二基板110上形成主動圖案AP、源電極SE及汲電極DE。
主動圖案AP形成於絕緣層120上。主動圖案AP形成於其中形成有閘電極GE之一區中。主動圖案AP與閘電極GE交疊。主動圖案AP與源電極SE及汲電極DE局部地交疊。主動圖案AP可設置於閘電極GE與源電極SE之間以及閘電極GE與汲電極DE之間。
源電極SE及汲電極DE形成於主動圖案AP上。源電極SE與汲電極DE在主動圖案AP上彼此間隔開。源電極SE及汲電極DE可與一資料線形成於同一層上。
源電極SE及汲電極DE可包含銅(Cu)、銀(Ag)、鉻(Cr)、鉬(Mo)、鋁(Al)、鈦(Ti)、錳(Mn)、或其一合金。源電極SE及汲電極DE可包含一單一層。另一選擇為，源電極SE及汲電極DE可包含複數個層，該等 層包含不同金屬。舉例而言，源電極SE及汲電極DE可包含一銅(Cu)層及設置於該銅(Cu)層上或其下方之一鈦(Ti)層。
參照第11圖，在上面形成有源電極SE及汲電極DE之第二基板110上形成有機層130、畫素電極PE及第二對準層AL2。
有機層130形成於源電極SE及汲電極DE上。有機層130將第二基板110之一上表面平坦化，俾可防止可因不均勻之上表面而引起之一缺陷，例如一訊號佈線之切斷。有機層130可係為包含一有機材料之一絕緣層。
畫素電極PE形成於有機層130上。畫素電極PE經由接觸孔而電性連接至汲電極DE。畫素電極PE可包含一透明材料及一導電材料。舉例而言，畫素電極PE可包含氧化銦錫(ITO)或氧化銦鋅(IZO)。另一選擇為，畫素電極PE可包含鈦(Ti)或鉬與鈦之一合金(MoTi)。
第二對準層AL2可形成於有機層130及畫素電極PE上。第二對準層AL2可包含聚醯亞胺化合物、聚醯胺酸化合物、或其一混合物。
第12圖係為例示根據本發明一實例性實施例之一顯示裝置之平面圖。第13圖係為例示第12圖所示顯示裝置沿著一線II-II’剖切而成之剖視圖。
參照第12圖及第13圖，顯示裝置20包含一顯示區DA及與顯示區DA相鄰之一周邊區PA。顯示區DA可具有與顯示裝置20類似之一形狀。舉例而言，顯示區DA可具有一矩形形狀。
顯示裝置20包含一第一基板1210、面向第一基板1210之一第二基板1110及設置於第一基板1210與第二基板1110間之一液晶層1300。
一光阻擋圖案BM設置於第一基板1210上。光阻擋圖案BM可設置於顯示區DA之複數個彩色濾光片之間以及周邊區PA中。光阻擋圖案BM可阻擋光。
彩色濾光片設置於上面形成有光阻擋圖案BM之第一基板1210上。彩色濾光片為穿過液晶層1300之光提供顏色。彩色濾光片可包含一第一彩色濾光片1211、一第二彩色濾光片1212及一第三彩色濾光片1213。第一彩色濾光片1211可係為包含一紅色材料之一紅色濾光片。第二彩色濾光片1212可係為包含一綠色材料之一綠色濾光片。第三彩色濾光片1213可係為包含一藍色材料之一藍色濾光片。彩色濾光片1211、1212及1213可對應於各自之畫素區而被設置成使得相鄰畫素表示彼此不同之顏色。舉例而言，在各畫素區間之一邊界處，可使彩色濾光片之一部分與相鄰彩色濾光片交疊。彩色濾光片1211、1212及1213設置於顯示區DA中。
一間隙維持圖案1214設置於顯示裝置20之周邊區PA中。在本實例性實施例中，間隙維持圖案1214可包含與第一彩色濾光片1211之一材料實質上相同之一材料。間隙維持圖案1214可係在形成第一彩色濾光片1211之一製程中形成。間隙維持圖案1214可具有與第一彩色濾光片1211之一高度實質上相同之一高度。舉例而言，第一彩色濾光片1211之高度可等於或大於約1.5微米且等於或小於約1.8微米。間隙維持圖案1214之高度可等於或大於約1.5微米且等於或小於約1.8微米。
一外覆層1220形成於彩色濾光片1211、1212及1213、以及間隙維持圖案1214上。外覆層1220將第一基板1210平坦化，以使第一基板1210之厚度差異最小化。另外，外覆層1220可防止液晶層1300受流入之雜質影響。然而，本發明並不限於此，外覆層1220可被省略。
一柱間隔件1231設置於外覆層1220上。柱間隔件1231設置於顯示區DA中，以在第一基板1210與第二基板1110之間維持一均勻間隙。在一個實施例中，柱間隔件1231可設置於第一基板1210之顯示區DA中，並由一第一對準層AL1覆蓋。
第一對準層AL1可形成於上面形成有柱間隔件1231之第一基板1210上。第一對準層AL1可包含聚醯亞胺化合物、聚醯胺酸化合物、或其一混合物。
一阻擋壩形成於周邊區PA中。阻擋壩與間隙維持圖案1214交疊。阻擋壩與柱間隔件1231設置於同一層中。阻擋壩可包含與柱間隔件1231之材料實質上相同之一材料。阻擋壩之一高度可與柱間隔件1231之一高度實質上相同。
根據一個實施例，該阻擋壩包含一第一阻擋壩1232及一第二阻擋壩1233。第二阻擋壩1233被設置成與第一阻擋壩1232相鄰。第二阻擋壩1233可沿平行於第一阻擋壩1232之一方向延伸。第一阻擋壩1232與第二阻擋壩1233間之一距離可等於或大於約2.5毫米(mm)且等於或小於約3.5毫米。
一密封構件1240設置於第一阻擋壩1232與第二阻擋壩1233之間。密封構件1240可設置於由第一阻擋壩1232與第二阻擋壩1233所界定之一區中。密封構件1240可將第一基板1210附裝至第二基板1110。密封構件1240設置於第一阻擋壩1232與第二阻擋壩1233之間，俾使密封構件1240之一寬度可被均勻地形成。因此，可減小顯示區DA中第一基板1210與第二基板1110之間隙與周邊區PA中第一基板1210與第二基板1110之間隙之間的差異。可減弱可因顯示區DA中第一基板1210與第二基板1110之間隙與周邊區PA中第一基板1210與第二基板1110之間隙之間的差異而形成之一斑紋。
另外，阻擋壩係以一均勻高度形成，俾使一密封間隔件可被省略。因此，可降低顯示裝置之製造成本。
一陣列層TL及一第二對準層AL2設置於第二基板1110上。
本實例性實施例之第二基板1110與參照第1圖至第11圖所解釋之前一實例性實施例之顯示裝置之第二基板之實質上相同。因此，將使用相同元 件符號來指代與參照第1圖至第11圖所述之前一實例性實施例中所述之部件相同或相似之部件。
參照第11圖，陣列層TL包含一閘電極GE、一絕緣層120、一主動圖案AP、一源電極SE、一汲電極DE、一有機層130、及一畫素電極PE。
閘電極GE設置於第二基板110上。閘電極GE電性連接至一閘極線。閘電極GE可包含銅(Cu)、銀(Ag)、鉻(Cr)、鉬(Mo)、鋁(Al)、鈦(Ti)、錳(Mn)、或其一合金。閘電極GE可包含一單一層。另一選擇為，閘電極GE可包含複數個層，該等層包含不同金屬。舉例而言，閘電極GE可包含一下部層及一上部層，該下部層包含鈦(Ti)，該上部層設置於該下部層上且包含銅(Cu)。
絕緣層120形成於閘電極GE上。絕緣層120覆蓋第二基板110及一導電圖案，該導電圖案包含閘電極GE。絕緣層120可包含一無機絕緣材料。舉例而言，絕緣層120可包含氧化矽(SiOx)或氮化矽(silicon nitride；SiNx)。舉例而言，絕緣層120可包含氧化矽(SiOx)且具有500埃之一厚度。絕緣層120可具有複數個層，該等層包含不同材料。
主動圖案AP形成於絕緣層120上。主動圖案AP形成於其中形成有閘電極GE之一區中。主動圖案AP與閘電極GE交疊。主動圖案AP與源電極SE及汲電極DE局部地交疊。主動圖案AP可設置於閘電極GE與源電極SE之間以及閘電極GE與汲電極DE之間。
源電極SE及汲電極DE形成於主動圖案AP上。源電極SE與汲電極DE在主動圖案AP上彼此間隔開。源電極SE及汲電極DE可與一資料線形成於同一層上。
源電極SE及汲電極DE可包含銅(Cu)、銀(Ag)、鉻(Cr)、鉬(Mo)、鋁(Al)、鈦(Ti)、錳(Mn)、或其一合金。源電極SE及汲電極 DE可包含一單一層。另一選擇為，源電極SE及汲電極DE可包含複數個層，該等層包含不同金屬。舉例而言，源電極SE及汲電極DE可包含一銅(Cu)層及設置於該銅(Cu)層上或其下方之一鈦(Ti)層。
有機層130形成於源電極SE及汲電極DE上。有機層130將第二基板110之一上表面平坦化，俾可防止可因不均勻之上表面而出現之一缺陷，例如一訊號佈線之切斷。有機層130可係為包含一有機材料之一絕緣層。
畫素電極PE形成於有機層130上。畫素電極PE經由一接觸孔而電性連接至汲電極DE。畫素電極PE可包含一透明材料及一導電材料。舉例而言，畫素電極PE可包含氧化銦錫(ITO)或氧化銦鋅(IZO)。另一選擇為，畫素電極PE可包含鈦(Ti)或鉬與鈦之一合金(MoTi)。
第14圖至第18圖係為例示一種製造第13圖所示顯示裝置20之方法之剖視圖。
參照第14圖，在第一基板1210上形成光阻擋圖案BM。隨後，在上面形成有光阻擋圖案BM之第一基板1210上形成第一彩色濾光片1211及間隙維持圖案1214。
光阻擋圖案BM係形成於第一基板1210上。光阻擋圖案BM可設置於顯示區DA之彩色濾光片之間以及周邊區PA中。光阻擋圖案BM可阻擋光。
彩色濾光片可包含第一彩色濾光片1211、第二彩色濾光片1212及第三彩色濾光片1213。第一彩色濾光片1211可係為包含一紅色材料之一紅色濾光片。第二彩色濾光片1212可係為包含一綠色材料之一綠色濾光片。第三彩色濾光片1213可係為包含一藍色材料之一藍色濾光片。舉例而言，第一彩色濾光片1211之高度可等於或大於約1.5微米且等於或小於約1.8微米。
間隙維持圖案1214設置於顯示裝置20之周邊區PA中。在本實例性實施例中，間隙維持圖案1214可包含與第一彩色濾光片1211之一材料實質上相 同之一材料。間隙維持圖案1214可係在形成第一彩色濾光片1211之一製程中形成。間隙維持圖案1214可具有與第一彩色濾光片1211之一高度實質上相同之一高度d2。舉例而言，第一彩色濾光片1211之高度可等於或大於約1.5微米且等於或小於約1.8微米。間隙維持圖案1214之高度可等於或大於約1.5微米且等於或小於約1.8微米。
參照第15圖，在上面形成有第一彩色濾光片1211及間隙維持圖案1214之第一基板1210上形成第二彩色濾光片1212。
第二彩色濾光片1212可被設置成與第一彩色濾光片1211相鄰。第二彩色濾光片1212可係為包含綠色材料之綠色濾光片。第二彩色濾光片1212之一高度可與第一彩色濾光片1211之高度實質上相同。舉例而言，第二彩色濾光片1212之高度可等於或大於約1.5微米且等於或小於約1.8微米。
參照第16圖，在上面形成有第二彩色濾光片1212之第一基板1210上形成第三彩色濾光片1213。
第三彩色濾光片1213可被設置成與第二彩色濾光片1212相鄰。第三彩色濾光片1213可係為包含藍色材料之藍色濾光片。舉例而言，第三彩色濾光片1213之一高度可等於或大於約1.7微米且等於或小於約2.3微米。
參照第17圖，在上面形成有第三彩色濾光片1213之第一基板1210上形成外覆層1220。
外覆層1220形成於彩色濾光片1211、1212及1213、以及間隙維持圖案1214上。外覆層1220將第一基板1210平坦化，以使第一基板1210之厚度差異最小化。另外，外覆層1220可防止液晶層1300受流入之雜質影響。然而，本發明並不限於此，外覆層1220可被省略。
參照第18圖，在上面形成有外覆層1220之第一基板1210上形成柱間隔件1231、第一對準層AL1及阻擋壩。
柱間隔件1231設置於外覆層1220上。柱間隔件1231設置於顯示區DA中，以在第一基板1210與第二基板1110之間維持一均勻間隙。柱間隔件1231可設置於第一基板1210之顯示區DA上，並由一第一對準層AL1覆蓋。
第一對準層AL1可形成於上面形成有柱間隔件1231之第一基板1210上。第一對準層AL1可包含聚醯亞胺化合物、聚醯胺酸化合物、或其一混合物。
阻擋壩形成於周邊區PA中。阻擋壩與間隙維持圖案1214交疊。阻擋壩與柱間隔件1231設置於同一層中。阻擋壩可包含與柱間隔件1231之材料實質上相同之一材料。阻擋壩之一高度可與柱間隔件1231之一高度實質上相同。
根據一個實施例，該阻擋壩包含第一阻擋壩1232及第二阻擋壩1233。第二阻擋壩1233被設置成與第一阻擋壩1232相鄰。第二阻擋壩1233可沿平行於第一阻擋壩1232之一方向延伸。第一阻擋壩1232與第二阻擋壩1233間之一距離可等於或大於約2.5毫米且等於或小於約3.5毫米。
密封構件1240設置於第一阻擋壩1232與第二阻擋壩1233之間。密封構件1240可設置於由第一阻擋壩1232與第二阻擋壩1233所界定之一區中。密封構件1240可將第一基板1210附裝至第二基板1110。密封構件1240設置於第一阻擋壩1232與第二阻擋壩1233之間，俾使密封構件1240之一寬度可被均勻地形成。因此，可減小顯示區DA中第一基板1210與第二基板1110之間隙與周邊區PA中第一基板1210與第二基板1110之間隙之間的差異。可減弱可因顯示區DA中第一基板1210與第二基板1110之間隙與周邊區PA中第一基板1210與第二基板1110之間隙之間的差異而形成之一斑紋。
另外，阻擋壩係以一均勻高度形成，俾使一密封間隔件可被省略。因此，可降低顯示裝置之製造成本。
本實例性實施例之製造第二基板1110之方法與參照第1圖至第11圖所解釋之前一實例性實施例之製造顯示裝置之第二基板之方法實質上相同。因此，將省略關於製造第二基板1110之方法之任何重複性解釋。
第19圖係為例示根據本發明一實例性實施例之一顯示裝置之平面圖。第20圖係為例示第19圖所示顯示裝置沿著一線III-III’剖切而成之剖視圖。
參照第19圖及第20圖，顯示裝置30包含一顯示區DA及與顯示區DA相鄰之一周邊區PA。顯示區DA可具有與顯示裝置30類似之一形狀。舉例而言，顯示區DA可具有一矩形形狀。
顯示裝置30包含一第一基板2210、面向第一基板2210之一第二基板2110及設置於第一基板2210與第二基板2110間之一液晶層2300。
一光阻擋圖案BM設置於第一基板2210上。光阻擋圖案BM可設置於顯示區DA之複數個彩色濾光片之間以及周邊區PA中。光阻擋圖案BM可阻擋光。
彩色濾光片設置於上面形成有光阻擋圖案BM之第一基板2210上。彩色濾光片為穿過液晶層2300之光提供顏色。彩色濾光片可包含一第一彩色濾光片2211、一第二彩色濾光片2212及一第三彩色濾光片2213。第一彩色濾光片2211可係為包含一紅色材料之一紅色濾光片。第二彩色濾光片2212可係為包含一綠色材料之一綠色濾光片。第三彩色濾光片2213可係為包含一藍色材料之一藍色濾光片。彩色濾光片2211、2212及2213可對應於各自之畫素區而被設置成使得相鄰畫素表示彼此不同之顏色。舉例而言，在各畫素區間之一邊界處，可使彩色濾光片之一部分與相鄰彩色濾光片交疊。彩色濾光片2211、2212及2213設置於顯示區DA中。
一間隙維持圖案2214設置於顯示裝置30之周邊區PA中。在本實例性實施例中，間隙維持圖案2214可包含與第二彩色濾光片2212之一材料實質上 相同之一材料。間隙維持圖案2214可係在形成第二彩色濾光片2212之一製程中形成。間隙維持圖案2214可具有與第二彩色濾光片2212之一高度實質上相同之一高度。舉例而言，第二彩色濾光片2212之高度可等於或大於約1.5微米且等於或小於約1.8微米。間隙維持圖案2214之高度可等於或大於約1.5微米且等於或小於約1.8微米。
一外覆層2220形成於彩色濾光片2211、2212及2213、以及間隙維持圖案2214上。外覆層2220將第一基板2210平坦化，以使第一基板2210之厚度差異最小化。另外，外覆層2220可防止液晶層2300受流入之雜質影響。然而，本發明並不限於此，外覆層2220可被省略。
一柱間隔件2231設置於外覆層2220上。柱間隔件2231設置於顯示區DA中，以在第一基板2210與第二基板2110之間維持一均勻間隙。在一個實施例中，柱間隔件2231可設置於第一基板2210之顯示區DA中，並由一第一對準層AL1覆蓋。
第一對準層AL1可形成於上面形成有柱間隔件2231之第一基板2210上。第一對準層AL1可包含聚醯亞胺化合物、聚醯胺酸化合物、或其一混合物。
一阻擋壩形成於周邊區PA中。阻擋壩與間隙維持圖案2214交疊。阻擋壩與柱間隔件2231設置於同一層中。阻擋壩可包含與柱間隔件2231之材料實質上相同之一材料。阻擋壩之一高度可與柱間隔件2231之一高度實質上相同。
根據一個實施例，該阻擋壩包含一第一阻擋壩2232及一第二阻擋壩2233。第二阻擋壩2233被設置成與第一阻擋壩2232相鄰。第二阻擋壩2233可沿平行於第一阻擋壩2232之一方向延伸。第一阻擋壩2232與第二阻擋壩2233間之一距離可等於或大於約2.5毫米且等於或小於約3.5毫米。
一密封構件2240設置於第一阻擋壩2232與第二阻擋壩2233之間。密封構件2240可設置於由第一阻擋壩2232與第二阻擋壩2233所界定之一區中。密封構件2240可將第一基板2210附裝至第二基板2110。密封構件2240設置於第一阻擋壩2232與第二阻擋壩2233之間，俾使密封構件2240之一寬度可被均勻地形成。因此，可減小顯示區DA中第一基板2210與第二基板2110之間隙與周邊區PA中第一基板2210與第二基板2110之間隙之間的差異。可減弱可因顯示區DA中第一基板2210與第二基板2110之間隙與周邊區PA中第一基板2210與第二基板2110之間隙之間的差異而形成之一斑紋。
另外，阻擋壩係以一均勻高度形成，俾使一密封間隔件可被省略。因此，可降低顯示裝置之製造成本。
一陣列層TL及一第二對準層AL2設置於第二基板2110上。
本實例性實施例之第二基板2110與參照第1圖至第11圖所解釋之前一實例性實施例之顯示裝置之第二基板實質上相同。因此，將使用相同元件符號來指代與參照第1圖至第11圖所述之前一實例性實施例中所述之部件相同或相似之部件。
參照第11圖，陣列層TL包含一閘電極GE、一絕緣層120、一主動圖案AP、一源電極SE、一汲電極DE、一有機層130、及一畫素電極PE。
閘電極GE設置於第二基板110上。閘電極GE電性連接至一閘極線。閘電極GE可包含銅(Cu)、銀(Ag)、鉻(Cr)、鉬(Mo)、鋁(Al)、鈦(Ti)、錳(Mn)、或其一合金。閘電極GE可包含一單一層。另一選擇為，閘電極GE可包含複數個層，該等層包含不同金屬。舉例而言，閘電極GE可包含一下部層及一上部層，該下部層包含鈦(Ti)，該上部層設置於該下部層上且包含銅(Cu)。
絕緣層120形成於閘電極GE上。絕緣層120覆蓋第二基板110及一導電圖案，該導電圖案包含閘電極GE。絕緣層120可包含一無機絕緣材料。舉例而言，絕緣層120可包含氧化矽(SiOx)或氮化矽(SiNx)。舉例而言，絕緣層120可包含氧化矽(SiOx)且具有500埃之一厚度。絕緣層120可具有複數個層，該等層包含不同材料。
主動圖案AP形成於絕緣層120上。主動圖案AP形成於其中形成有閘電極GE之一區中。主動圖案AP與閘電極GE交疊。主動圖案AP與源電極SE及汲電極DE局部地交疊。主動圖案AP可設置於閘電極GE與源電極SE之間以及閘電極GE與汲電極DE之間。
源電極SE及汲電極DE形成於主動圖案AP上。源電極SE與汲電極DE在主動圖案AP上彼此間隔開。源電極SE及汲電極DE可與一資料線形成於同一層中。
源電極SE及汲電極DE可包含銅(Cu)、銀(Ag)、鉻(Cr)、鉬(Mo)、鋁(Al)、鈦(Ti)、錳(Mn)、或其一合金。源電極SE及汲電極DE可包含一單一層。另一選擇為，源電極SE及汲電極DE可包含複數個層，該等層包含不同金屬。舉例而言，源電極SE及汲電極DE可包含一銅(Cu)層及設置於該銅(Cu)層上或其下方之一鈦(Ti)層。
有機層130形成於源電極SE及汲電極DE上。有機層130將第二基板110之一上表面平坦化，俾可防止可因不均勻之上表面而出現之一缺陷，例如一訊號佈線之切斷。有機層130可係為包含一有機材料之一絕緣層。
畫素電極PE形成於有機層130上。畫素電極PE經由一接觸孔而電性連接至汲電極DE。畫素電極PE可包含一透明材料及一導電材料。舉例而言，畫素電極PE可包含氧化銦錫(ITO)或氧化銦鋅(IZO)。另一選擇為，畫素電極PE可包含鈦(Ti)或鉬與鈦之一合金(MoTi)。
第21圖至第25圖係為例示一種製造第20圖所示顯示裝置30之方法之剖視圖。
參照第21圖，在第一基板2210上形成光阻擋圖案BM。隨後，在上面形成有光阻擋圖案BM之第一基板2210上形成第一彩色濾光片2211。
光阻擋圖案BM形成於第一基板2210上。光阻擋圖案BM可設置於顯示區DA之彩色濾光片之間以及周邊區PA中。光阻擋圖案BM可阻擋光。
彩色濾光片可包含第一彩色濾光片2211、第二彩色濾光片2212及第三彩色濾光片2213。第一彩色濾光片2211可係為包含一紅色材料之一紅色濾光片。第二彩色濾光片2212可係為包含一綠色材料之一綠色濾光片。第三彩色濾光片2213可係為包含一藍色材料之一藍色濾光片。舉例而言，第一彩色濾光片2211之高度可等於或大於約1.5微米且等於或小於約1.8微米。
參照第22圖，在上面形成有第一彩色濾光片2211之第一基板2210上形成第二彩色濾光片2212及間隙維持圖案2214。
第二彩色濾光片2212可被設置成與第一彩色濾光片2211相鄰。第二彩色濾光片2212可係為包含綠色材料之綠色濾光片。第二彩色濾光片2212之一高度可與第一彩色濾光片2211之高度實質上相同。舉例而言，第二彩色濾光片2212之高度可等於或大於約1.5微米且等於或小於約1.8微米。
間隙維持圖案2214設置於顯示裝置30之周邊區PA中。在本實例性實施例中，間隙維持圖案2214可包含與第二彩色濾光片2212之一材料實質上相同之一材料。間隙維持圖案2214可係在形成第二彩色濾光片2212之一製程中形成。間隙維持圖案2214可具有與第二彩色濾光片2212之一高度實質上相同之一高度d3。舉例而言，第二彩色濾光片2212之高度可等於或大於約1.5微米且等於或小於約1.8微米。間隙維持圖案2214之高度可等於或大於約1.5微米且等於或小於約1.8微米。
參照第23圖，在上面形成有第二彩色濾光片2212及間隙維持圖案2214之第一基板2210上形成第三彩色濾光片2213。
第三彩色濾光片2213可被設置成與第二彩色濾光片2212相鄰。第三彩色濾光片2213可係為包含藍色材料之藍色濾光片。舉例而言，第三彩色濾光片2213之高度可等於或大於約1.7微米且等於或小於約2.3微米。
參照第24圖，在上面形成有第三彩色濾光片2213之第一基板2210上形成外覆層2220。
外覆層2220係形成於彩色濾光片2211、2212及2213、以及間隙維持圖案2214上。外覆層2220將第一基板2210平坦化，以使第一基板2210之厚度差異最小化。另外，外覆層2220可防止液晶層2300受流入之雜質影響。然而，本發明並不限於此，外覆層2220可被省略。
參照第25圖，在上面形成有外覆層2220之第一基板2210上形成柱間隔件2231、第一對準層AL1及阻擋壩。
柱間隔件2231設置於外覆層2220上。柱間隔件2231設置於顯示區DA中，以在第一基板2210與第二基板2110之間維持一均勻間隙。柱間隔件2231可設置於第一基板2210之顯示區DA上，並由一第一對準層AL1覆蓋。
第一對準層AL1可形成於上面形成有柱間隔件2231之第一基板2210上。第一對準層AL1可包含聚醯亞胺化合物、聚醯胺酸化合物、或其一混合物。
阻擋壩形成於周邊區PA中。阻擋壩與間隙維持圖案2214交疊。阻擋壩與柱間隔件2231設置於同一層中。阻擋壩可包含與柱間隔件2231之材料實質上相同之一材料。阻擋壩之一高度可與柱間隔件2231之一高度實質上相同。
根據一個實施例，該阻擋壩包含第一阻擋壩2232及第二阻擋壩2233。第二阻擋壩2233被設置成與第一阻擋壩2232相鄰。第二阻擋壩2233可沿 平行於第一阻擋壩2232之一方向延伸。第一阻擋壩2232與第二阻擋壩2233間之一距離可等於或大於約2.5毫米且等於或小於約3.5毫米。
密封構件2240設置於第一阻擋壩2232與第二阻擋壩2233之間。密封構件2240可設置於由第一阻擋壩2232與第二阻擋壩2233所界定之一區中。密封構件2240可將第一基板2210附裝至第二基板2110。密封構件2240設置於第一阻擋壩2232與第二阻擋壩2233之間，俾使密封構件2240之一寬度可被均勻地形成。因此，可減小顯示區DA中第一基板2210與第二基板2110之間隙與周邊區PA中第一基板2210與第二基板2110之間隙之間的差異。可減弱可因顯示區DA中第一基板2210與第二基板2110之間隙與周邊區PA中第一基板2210與第二基板2110之間隙之間的差異而形成之一斑紋。
另外，阻擋壩係以一均勻高度形成，俾使一密封間隔件可被省略。因此，可降低顯示裝置之製造成本。
本實例性實施例之製造第二基板2110之方法與參照第1圖至第11圖所解釋之前一實例性實施例之製造顯示裝置之第二基板之方法實質上相同。因此，將省略關於製造第二基板2110之方法之任何重複性解釋。
根據本實例性實施例，顯示裝置包含第一阻擋壩及第二阻擋壩，且密封構件設置於第一阻擋壩與第二阻擋壩之間。密封構件設置於第一阻擋壩與第二阻擋壩之間，俾使密封構件之一寬度可被均勻地形成。因此，可減小顯示區中各基板之間隙與周邊區中各基板之間隙之間的差異。可減弱可因顯示區中各基板之間隙與周邊區中各基板之間隙之間的差異而形成之一斑紋。
另外，阻擋壩係以一均勻高度形成，俾使一密封間隔件可被省略。因此，可降低顯示裝置之製造成本。
另外，顯示裝置包含與第一阻擋壩及第二阻擋壩交疊之一間隙維持圖案。該間隙維持圖案支撐其中形成有第一阻擋壩及第二阻擋壩之區，俾使各基板之間隙可在顯示區與周邊區中均勻地形成。
上文係對本發明之例示，而不應被理解為係對本發明之限制。雖然已闡述了本發明之幾個實例性實施例，然而，熟習此項技術者將輕易瞭解，可對實例性實施例作出諸多潤飾，此本質上並不背離本發明之新穎教示內容及優點。因此，此等潤飾皆旨在包含於本發明之範圍內。在申請專利範圍中，元件加功能(means-plus-function)請求項旨在涵蓋本文中被闡述為執行所述功能之結構，且不僅涵蓋結構性等效物而且亦涵蓋等效結構。因此，應理解，上文係對本發明之例示而不應被理解為僅限於所揭露之特定實例性實施例，且對所揭露實例性實施例之潤飾以及其他實例性實施例皆旨在包含於本發明之範圍內。
110:第二基板
210:第一基板
211:第一彩色濾光片
212:第二彩色濾光片
213:第三彩色濾光片
214:間隙維持圖案
220:外覆層
231:柱間隔件
232:第一阻擋壩
233:第二阻擋壩
240:密封構件
300:液晶層
AL1:第一對準層
AL2:第二對準層
BM:光阻擋圖案
DA:顯示區
PA:周邊區
TL:陣列層
I-I’:線

Claims (10)

  1. 一種顯示裝置，包含：一第一基板，包含一顯示區及環繞該顯示區之一周邊區；一第二基板，面向該第一基板；一液晶層，設置於該第一基板與該第二基板之間，一彩色濾光片(color filter)，設置於該顯示區中；一間隙維持圖案(gap maintaining pattern)，在該周邊區中與該彩色濾光片設置於同一層中；一外覆層(overcoating layer)，形成在該彩色濾光片與該間隙維持圖案上；一柱間隔件(column spacer)，設置於該外覆層上；一對準層(alignment layer)，形成於該外覆層上且覆蓋該柱間隔件；以及一阻擋壩(blocking dam)，設置於該外覆層上而與該柱間隔件從同一水平面延伸；其中該阻擋壩與該第二基板接觸，且該阻擋壩包含：一第一阻擋壩；以及一第二阻擋壩，與該第一阻擋壩相鄰且沿平行於該第一阻擋壩之一方向延伸，且該第一阻擋壩及該第二阻擋壩皆與該間隙維持圖案重疊；其中該顯示裝置進一步包含設置於該第一阻擋壩與該第二阻擋壩間之一密封構件。
  2. 如請求項1所述之顯示裝置，其中該第一阻擋壩與該第二阻擋壩間之一距離等於或大於約2.5毫米(mm)且等於或小於約3.5毫米。
  3. 如請求項1所述之顯示裝置，其中該彩色濾光片包含：一第一彩色濾光片，包含一紅色材料；一第二彩色濾光片，與該第一彩色濾光片相鄰且包含一綠色材料；以及一第三彩色濾光片，與該第二彩色濾光片相鄰且包含一藍色材料。
  4. 如請求項3所述之顯示裝置，其中該間隙維持圖案包含與該第一彩色濾光片之該材料實質上相同之一材料。
  5. 如請求項4所述之顯示裝置，其中該間隙維持圖案之一高度等於或大於約1.5微米(um)且等於或小於約1.8微米。
  6. 如請求項3所述之顯示裝置，其中該間隙維持圖案包含與該第二彩色濾光片之該材料實質上相同之一材料。
  7. 如請求項6所述之顯示裝置，其中該間隙維持圖案之一高度等於或大於約1.5微米且等於或小於約1.8微米。
  8. 如請求項3所述之顯示裝置，其中該間隙維持圖案包含與該第三彩色濾光片之該材料實質上相同之一材料。
  9. 如請求項8所述之顯示裝置，其中該間隙維持圖案之一高度等於或大於約1.7微米且等於或小於約2.3微米。
  10. 如請求項1所述之顯示裝置，更包含：一閘電極，設置於該第二基板上； 一源電極，與該閘電極交疊；一汲電極，與該閘電極交疊且與該源電極間隔開；以及一畫素電極，電性連接至該汲電極。
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