CN107556470B - 一种全氟聚醚改性硅烷化合物及其表面处理组合物 - Google Patents

Abstract

本发明涉及全氟聚醚改性硅烷化合物及其表面处理组合物，所述全氟聚醚改性硅烷化合物结构如下：

Description

一种全氟聚醚改性硅烷化合物及其表面处理组合物

技术领域

本发明涉及氟硅材料和表面处理技术，尤其是一种全氟聚醚改性硅烷化合物及其表面处理组合物。

背景技术

抗反射涂层、光学滤光片、光学镜片、眼镜镜片、分束器、棱镜、反射镜和其它的光学组件和卫生器具在使用时容易被指印、皮肤油脂、汗水、化妆品等污染。这样的污渍一旦粘附上就很难被除去，尤其是附着于具有抗反射涂层的光学部件的污渍极为醒目，并且造成各种问题。

为了解决该问题，已经提出结合无机材料(如玻璃)和有机材料的所谓硅烷偶联技术。硅烷偶联剂在分子中具有与有机材料有良好亲和力的有机官能基团或化学结构并具有反应性烷氧基甲硅烷基。烷氧基甲硅烷基与空气中的水分发生自缩合反应，转化成硅氧烷从而形成涂层。同时，硅烷偶联剂与玻璃或金属表面形成化学和物理键，从而产生耐久的坚韧涂层。利用这些优点，硅烷偶联剂广泛用作各种基底的涂布剂或底涂料。

现有技术中公开了应用化学键合在硅烷偶联剂中引入全氟基团而获得的化合物作为具有良好成膜性、与基底的粘合性和耐久性的涂布剂，例如日本专利公开No.昭58-167597、日本专利公开No.昭58-122979、日本专利公开No.平10-232301和日本专利公开No.平2000-143991。根据这些专利，提到在具有硅烷偶联结构的的基底表面上引入全氟烷基改进了防污性(拒水和拒油性)。但是，这些化合物因(分子量)使全氟基团部分的长度受到限制，反之或若在全氟基团部分增加到足够长时，烷氧基甲硅烷基在含全氟基团整个分子中所占比例相对降低，因而导致粘合性或粘合耐久性变差，也没有足够的拒油性。

为了解决与防污有关的这些问题，迄今已经提出了采用各种表面处理组合物的技术。例如，日本审查专利公开第1994-29332号提出了一种防污的低反射塑料，其在表面上具有抗反射涂层，该抗反射涂层包含含有聚氟烷基的甲氧基硅烷和乙氧基硅烷化合物以及卤素、烷基或烷氧基硅烷化合物。近来，W02006/107083提出了一种表面处理组合物，所述组合物包含在氟聚合物链的末端具有烷氧基甲硅烷基官能团的有机硅化合物。该表面处理组合物提供了低表面能层，该低表面能层院止水分或污物附着在各种材料，尤其是抗反射膜等光学部件和玻璃的表面上。不过，通过现今己知的方法形成的防污涂层的防污性不够充分，特别是，当长期使用时它们的耐沾污性明显降低。因此，需要开发具有优异防污性和优异耐久性的防污涂层。

发明内容

本发明所要解决的问题是克服现有技术存在的不足，提供一种高度耐久性的表面处理组合物。为实现以上的目的，本发明藉由分子设计出发，经过反复实验，发现若以含全氟聚醚基酰氟或全氟聚醚基酯类化合物为起始物，先与亲核试剂反应，再与卤代烯烃化合物反应生成多个烯烃基化合物，最后与三甲氧基硅烷经氢硅加成反应，生成具多个官能基的最终产品。产品分子结构经由如此设计后，由于三个硅烷官能基的构建，使得产品的耐久性有了更好的保证，比较容易获得处理性能相当优越及爽滑性不错的抗指纹剂。

本发明所述的全氟聚醚改性硅烷化合物制备方法中，采用烯丙基溴或者3-氯丙烯作为卤代烯烃与聚合物SP1反应，相比于一般采用的BrCH₂CH-(CH＝CH₂)₂，使得生产工艺更为简单，所获得的全氟聚醚改性硅烷化合物具有更佳优异的性能。

具体方案如下：

一种全氟聚醚改性硅烷化合物，其结构如下：

其中，m，n为分别独立的数字，均为0以上，200以下整数，均优选为10以上，100以下的整数；a、b皆为独立数字，均为0以上，6以下整数，均优选0以上，4以下整数。

进一步的，所述的全氟聚醚改性硅烷化合物结构如下：

其中，m，n为分别独立的数字，为0以上，200以下整数，均优选为10以上，100以下的整数。

本发明还提供一种制备所述的全氟聚醚改性硅烷化合物的方法，包括以下步骤：

1)全氟聚醚基酰氟RM1或全氟聚醚基酯类RM2与亲核试剂反应，制备聚合物SP1；

2)步骤1)所得具有羟基的含氟代氧亚烷基的聚合物SP1与卤代烯烃反应，制备聚合物SP2，所述的聚合物SP2末端具有三个烯烃基；

3)步骤2)所得全氟聚醚化合物SP2与氢硅烷反应，制得所述的全氟聚醚基硅烷化合物；

其中，所述的全氟聚醚基酰氟RM1有如下通式：

F(CF₂CF₂O)m(CF₂O)nCF₂-C(＝O)F (RM1)

所述的全氟聚醚基酰氟RM1通式中，m，n为分别独立数字，为0以上，200以下整数，优选为10以上，100以下的整数；

所述的全氟聚醚基酯类RM2有如下通式：

F(CF₂CF₂O)m(CF₂O)nCF₂-C(＝O)O(CH₂)_jCH₃ (RM2)

所述的全氟聚醚基酯类RM2通式中，m，n为分别独立数字，为0以上，200以下整数，优选为10以上，100以下的整数；其中j为独立数字,为0～3的整数；

所述的聚合物SP1有如下通式：

所述的聚合物SP1通式中，m，n为分别独立数字，均为0以上，200以下整数，均优选为10以上，100以下的整数；a为独立数字，均为0以上，6以下整数，优选0以上，4以下整数；

所述的聚合物SP2有如下通式：

所述的聚合物SP2通式中，m，n为分别独立数字，均为0以上，200以下整数，均优选为10以上，100以下的整数；a、b皆为独立数字，均为0以上，6以下整数，均优选0以上，4以下整数。

进一步的，所述的步骤2)中卤代烯烃为烯丙基溴或者3-氯丙烯。

进一步的，所述的步骤3)中，氢硅烷为SiHX₃，式中X为可水解的基团，为-OR、-NHR或-NR₂，其中R独立地为C1-C22直链或支化的烷基，并且两个R基团能够形成环状胺，优选SiH(OCH₃)₃。

本发明还提供一种包含所述的全氟聚醚改性硅烷化合物的表面处理组合物，该表面处理组合物包含其总重量的0.1％-20％权利要求1所述全氟聚醚改性硅烷化合物和80％-99.9％的溶剂；

任选的，所述的溶剂为全氟丁基甲基醚、全氟丁基乙基醚、全氟己基甲基醚、氢氟醚中任意一种。

通过涂布所述的表面处理组合物获得的薄膜。

本发明还提供所述的薄膜的制备方法，是将所述的表面处理组合物稀释至千分之一的固含量浓度稀释液，之后涂布在基材上进行烘烤，冷却后获得所述的薄膜。

进一步的，所述涂布的方法为湿式涂布、物理气相沉积或化学气相沉积；任选的，所述烘烤的温度为80-120℃，烘烤的时间为10-30分钟，冷却终点为室温。

本发明还提供一种所述的薄膜的用途，用作光学部件的防污层和显示器件的抗指纹层。

进一步的，所述的光学部件包括抗反射膜、光学滤光片、光学镜片、眼镜镜片、分束器、棱镜和反射镜；

任选的，所述的显示器件包括手机盖片、计算机屏幕、电视屏幕。

有益效果：本发明提供一种全氟聚醚改性硅烷化合物，该化合物制备工艺简单，技术难度小，可用于形成具有高度耐擦伤性、较佳爽滑性及优秀的防水/油性、抗沾污性的复合薄膜，尤其用在交互式物理触摸屏上具有巨大的商业价值。

具体实施方式

下面结合实施例对本发明技术方案作进一步阐述。实施例中未注明具体技术或条件者，按照本领域内的文献所描述的技术或条件或者按照产品说明书进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市购获得的常规产品。实施例1合成含氟化合物(A)

步骤(1-1)：全氟聚醚基酰氟与烯丙基溴化镁反应

在氮气氛下向安装有回流冷凝器、温度计、搅拌机、恒压漏斗的1L的四口烧瓶中加入分子链的一端具有酰氟基团(-C(＝O)-F)的含有全氟氧烷基的聚合物200g(平均分子量4000)、1,3-双(三氟甲基)苯200g。在氮气氛下冷却至5℃后，缓慢滴加含有1M的烯丙基溴化镁的乙醚溶液250ml后，在室温下搅拌6小时。冷却至5℃，用饱和氯化铵水溶液中和。升温至室温，过滤不溶物。接着，在减压下蒸馏除去挥发成分后，将不挥发成分用全氟己烷稀释，用分液漏斗进行3次利用甲醇的清洗操作。接着，在减压下蒸馏除去挥发成分，由此得到在一端具有羟基的含有氟代氧亚烷基的聚合物183g(产率91.5％)。具有羟基的含氟代氧亚烷基的聚合物(A-1)：

上述分子结构是以¹H-NMR分析确认。

步骤(1-2):化合物(A-1)与烯丙基化合物反应

在配有回流冷凝器、温度计、搅拌器、恒压漏斗的1L反应器中加入上述步骤(1-1)合成的含氟代氧亚烷基的聚合物(A-1)200g、1,3-双(三氟甲基)苯200g、12.1g的烯丙基溴和0.34g四丁基硫酸氢铵，搅拌1小时。接着，添加30％氢氧化钠水溶液26.7g，然后在75℃下反应8小时。反应结束后冷却到室温，缓慢滴加66ml的10％盐酸水溶液中和。接着，通过分液操作分离出下层，用丙酮洗涤三次。得到181g(产率90.5％)的下式(A-2)的全氟聚醚基烯丙基化合物。

上述分子结构是以¹H-NMR分析确认。

步骤(1-3):化合物(A-2)与三甲氧基硅烷进行硅氢加成反应

在氮气条件下，向具有搅拌的500ml反应器中，分别加入100g上述步骤(1-2)合成的全氟聚醚基烯丙基化合物(A-2)、100g的Novec HFE7200氢氟醚(3M公司制)为反应溶剂、14.6g三甲氧基硅烷以及三乙酰氧基甲基硅烷和氯铂酸/乙烯基硅氧烷络合物的甲苯溶液，然后加热至70℃，在该温度下反应6小时，以TLC监控显示反应完全，并使用H¹-NMR分析确认结构。

上述合成得到的产品化合物(A)使用Novec HFE 7200氢氟醚(3M公司制)溶解配制成20％固含量的产品销售使用。

实施例2合成含氟化合物(A)

步骤(2-1)：全氟聚醚基酰氟与甲醇反应

在配有回流冷凝器、温度计、搅拌器、恒压漏斗的500ml反应器中，分别加入全氟聚醚基酰氟200g(平均分子量4000)、甲醇6.4g。温度设为30℃，当温度上升至30℃，维持反应温度反应3h，反应完成后，将产物移至1000ml分液漏斗中，加入100m L去离子水，摇晃后静置分层，上层为去离子水，下层为粘稠产物，去除上层溶液，留下层产物，重复去离子水洗两次。取下层产物进行减压浓缩，得到产物196g(产率98％)，用傅里叶变换红外光谱FT-IR及NMR分析确认全氟聚醚甲酯化产物A1-1：

F(CF₂CF₂O)m(CF₂O)nCF₂-C(＝O)OMe (A1-1)

步骤(2-2)：全氟聚醚甲酯化产物(A1-1)与烯丙基溴化镁反应

在氮气氛下向安装有回流冷凝器、温度计、搅拌机、恒压漏斗的1L的四口烧瓶中，分别加入全氟聚醚甲酯化产物200g、1,3-双(三氟甲基)苯200g。在氮气氛下冷却至5℃后，缓慢滴加含有1M的烯丙基溴化镁的乙醚溶液150ml后，在室温下搅拌6小时。冷却至5℃，用饱和氯化铵水溶液中和。升温至室温，过滤不溶物。接着，在减压下蒸馏除去挥发成分后，将不挥发成分用全氟己烷稀释，用分液漏斗进行3次利用甲醇的清洗操作。接着，在减压下蒸馏除去挥发成分，由此得到在一端具有羟基的含有氟代氧亚烷基的聚合物192g(产率96％)。具有羟基的含氟代氧亚烷基的聚合物(A-1)：

上述分子结构是以¹H-NMR分析确认。

步骤(2-3):化合物(A-1)与烯丙基溴反应

此步骤与实施例1步骤(1-2)相同。

步骤(2-4):化合物(A-2)与三甲氧基硅烷进行硅氢加成反应

此步骤与实施例1步骤(1-3)相同。

实施例3合成含氟化合物(B)

步骤(3-1):化合物(A-1)与4-溴丁烯反应

在配有回流冷凝器、温度计、搅拌器、恒压漏斗的1L反应器中加入上述步骤(1-1)合成的含氟代氧亚烷基的聚合物(A-1)200g、1,3-双(三氟甲基)苯200g、13.4g的4-溴丁烯和0.34g四丁基硫酸氢铵，搅拌1小时。接着，添加30％氢氧化钠水溶液26.7g，然后在75℃下反应8小时。反应结束后冷却到室温，缓慢滴加66ml的10％盐酸水溶液中和。接着，通过分液操作分离出下层，用丙酮洗涤三次。得到182g(产率91％)的下式(B-1)的全氟聚醚基烯烃基基化合物。

上述分子结构是以¹H-NMR分析确认。

步骤(1-3):化合物(B-1)与三甲氧基硅烷进行硅氢加成反应

在氮气条件下，向具有搅拌的500ml反应器中，分别加入100g上述步骤(1-2)合成的全氟聚醚基烯丙基化合物(B-1)、100g的Novec HFE7200氢氟醚(3M公司制)为反应溶剂、14.6g三甲氧基硅烷以及三乙酰氧基甲基硅烷和氯铂酸/乙烯基硅氧烷络合物的甲苯溶液，然后加热至70℃，在该温度下反应6小时，以TLC监控显示反应完全，并使用H¹-NMR分析确认结构。

上述合成得到的产品化合物(B)使用NovecHFE 7200氢氟醚(3M公司制)溶解配制成20％固含量的产品销售使用。

比较例1合成对比化合物C

步骤(4-1)：全氟聚醚基酰氟还原为全氟聚醚基醇(C-1)

在配备有搅拌器、滴液漏斗、回流冷凝器和温度计的3.0L四颈烧瓶中，装入600克二甘醇二甲醚及11.34g的NaBH₄，然后在氮气流条件下，缓慢滴加600g由化学式F-(CF₂CF₂O)_n(CF₂O)_n-CF₂-C(＝O)F(平均分子量4000)表示的全氟聚醚基的酰氟化合物。完成滴加后，使液相的温度升至约90℃，并使反应混合物在该反应温度进行6小时。反应后，使烧瓶内混合物搅拌下冷却至40℃以下，然后向其中慢慢加入600克的10％的盐酸水溶液进行上述反应生成的硼酸酯酸解及初次洗涤，然后再将分出下层含氟有机层，以600克的去离子水洗涤三次，除去所有水溶性物质。洗涤分离后的下层含氟层通过减压旋馏完全除去分离有机含氟层中的可挥发性物质，获得580克(产率96.7％)反应生成下列结构混合物(C-1)。

F(CF₂CF₂O)_m(CF₂O)_n-CF₂CH₂OH (C-1)

根据所得反应产物的IR分析，在来自-C(＝O)F官能基的1890cm^-1吸收峰完全消失，新出现来自-OH₂OH在3300cm-1的吸收峰。另外以¹H-NMR测试证明具备来自-OH₂OH的对等峰，平均分子量则以GPC来间接判定。如此分析后，反应生成物确认为上述化学式的全氟聚醚基醇(C-1)。

步骤(4-2)：化合物(C-1)与溴丙烯进行烯丙基化反应

向搅拌器、液漏斗、回流冷凝器和温度计的1L反应容器中，装入上述步骤(4-1)制得的全氟聚醚基醇(C-1)400g、烯丙基溴36.3g及四丁基硫酸氢铵2.0g，在50℃下搅拌3小时后，将30％氢氧化钠水溶液46.6g滴入所得的混合物中，在65℃下反应12小时。接着，向其加入200g的全氟己烷，搅拌20分钟。然后再将反应混合物进一步冷却至5℃以下，滴加100g的10％盐酸水溶液，搅拌后静置分层，放出下部有机含氟层。接着，用400g丙酮洗涤三次。进一步，取出下层，经过减压旋蒸完全除去分离有机含氟层中易挥发性物质，，从而获得388g(产率97％)下列结构反应混合产物(C-2)。

F(CF₂CF₂O)_m(CF₂O)_n-CF₂CH₂OCH₂CH＝CH₂ (C-2)

上述分子结构是以1H-NMR谱图确认的。

步骤(4-3):化合物(C-2)与三甲氧基硅烷进行硅氢加成反应

在氮气条件下，向具有搅拌的500ml反应器中，分别加入100g上述步骤(4-2)合成的全氟聚醚基烯丙基化合物(C-2)、100g的Novec HFE7200氢氟醚(3M公司制)为反应溶剂、2.2g三甲氧基硅烷以及三乙酰氧基甲基硅烷和氯铂酸/乙烯基硅氧烷络合物的甲苯溶液，然后加热至70℃，在该温度下反应6小时，以TLC监控显示反应完全，并使用H¹-NMR分析确认结构。

F(CF₂CF₂O)_m(CF₂O)_n-CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂Si(CH₃)₃(C)

上述合成得到的产品化合物(C)使用Novec HFE 7200氢氟醚(3M公司制)溶解配制成20％固含量的对比样品使用。

制备薄膜及其耐磨性评估测试

下列步骤涉及手机面板及眼科镜片的防污处理以及由此而得的衍生处理后的手机面板及眼科镜片，作为产品功能质量评估用。

i.预处理

必要时，得使用低温等离子表面处理机进行玻璃表面处理，如此可增加基材表面的光洁度及粗糙度下，因而可增加使用本发明新型表面处理组合物表面处理反应的完全度，进而可得到较好的耐磨效果。

ii.涂布及烘烤处理

将实施例及比较例所合成的表面处理组合物涂布于基材表面的方式包括湿式涂布、物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)等已知方法。湿式涂布法的实施例包括浸涂、旋涂、流涂、喷涂、棍涂、凹板式涂布(gravure coating)等方法。PVD法的实施例包括真空蒸发镀层、反应性沉积、离子束辅助沉积、溅射、离子镀层等方法。其中最常被采用的是湿式喷涂及真空蒸发镀层两种，本发明产品效果的评估是以上述实施例或比较例中所得的20％固含量的产品以Novec HFE7200氢氟醚稀释剂至千分之一的固含量浓度稀释液，然后采用湿式喷涂在基材表面及经120℃烘烤20分钟，冷却至室温后，再进行下列耐磨性评估测试。

iii.耐磨性评估测试

对上述实施例及比较例样品涂布及烘烤处理所产生的玻片基材样品的表面，使用接触角测量仪(DSA 100，由KRUSS Advancing Surface Science制造)，使用注射针在25℃将体积为4微升的水滴沉积在玻片上。水滴与表面之间的角被定义为“与水的静态接触角”。采用DSA 100的“drop shape analysis(滴形分析)”技术和设备软件测量角度。测量不确定度为+/-1.3°

(iiia)耐久性测试结果分析说明

首先，在形成表面处理层尚未有任何接触状态下(即磨擦次数为零)，所测得之角度为初始角。然后作为磨擦耐久性评价，实施钢丝绒磨擦耐久性评价，具体作法为使用#0000钢丝绒(尺寸5mm x 10mm x 10mm)与表面处理层接触，在其上施以1000gf的负载，然后在此施加负载接触状态下使钢丝绒140mm/秒的速度往复运动，每往复1000次测定水的静态接触角(度)，接触角的值低于100°时终止评价。

表1耐久性测试结果表

从表1可以看出，产品的硅烷基个数对耐玷污性及长久耐磨性有决定性的影响。这也就是说，单一分子结构内的硅烷基个数有很大的关联性，硅烷基的个数越多，其耐玷污性及长久耐磨性也越好。这也就是说将防止了因硅烷基官能团不足而不能获得充分交联缺点的发生，致使耐磨性低下的风险获得解决。至于上表中两个实施例(A和B间有略微差异，样品A则稍微优异些，这些差异有可能是由于分子结构设计的不同，所造成的合成反应转化率及选择率的不同，以及立体障碍而无法达到完全优良自我组装单分子涂层所体现出来的结果。总而言之，样品A、B的耐玷污性及长久耐磨性皆高于比较例。

(iiib)与水的初始静态接触角

表2初始接触角测试结果表

从表2可以看出，初始接触角与氟醚链结构有很大关系，同时单一分子结构内的硅烷基个数越多，其初始接触角也预期将会愈高。样品A、B的初始接触角皆大于比较例，表明产品的耐磨性较好。

(iiic)爽滑度测试评价

使用表面性测定仪(Labthink公司制造FPT-1)，并使用纸做为摩擦用具，依照ASTMD4917测定动摩擦系数(一)。具体而言，水平配置形成表面处理层的基材，使摩擦纸(2cm x2cm)与表面处理层旳露出表面接触，在其上施予200gf的负荷，然后在施加负载的状态下使摩擦纸以500mm/秒的速度平衡移动，测定动摩擦系数。

表3动摩擦系数测定结果表

从表3可以看出，产品效果之优劣可能主要取决于氟醚链结构之总含氧数量，以及由于硅烷基数量的不同，而造成基材表面覆盖的完整性而有所差异。样品A、B的动摩擦系数较低，产品具有较好的滑爽性。

尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本发明的限制，本领域的普通技术人员在不脱离本发明的原理和宗旨的情况下在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。

Claims (23)

1.一种全氟聚醚改性硅烷化合物，其特征在于：其结构如下：

其中，m，n为分别独立的数字，均为0以上，200以下整数；a、b皆为独立数字，均为0以上，6以下整数。

2.根据权利要求1所述的全氟聚醚改性硅烷化合物，其特征在于：m，n均为10以上，100以下的整数。

3.根据权利要求1所述的全氟聚醚改性硅烷化合物，其特征在于：a，b均为0以上，4以下整数。

4.根据权利要求1所述的全氟聚醚改性硅烷化合物，其特征在于：其结构如下：

其中，m，n为分别独立的数字，为0以上，200以下整数。

5.根据权利要求4所述的全氟聚醚改性硅烷化合物，其特征在于：m，n均为10以上，100以下的整数。

6.一种制备权利要求1所述的全氟聚醚改性硅烷化合物的方法，其特征在于：包括以下步骤：

1)全氟聚醚基酰氟RM1或全氟聚醚基酯类RM2与亲核试剂反应，制备聚合物SP1；

2)步骤1)所得具有羟基的含氟代氧亚烷基的聚合物SP1与卤代烯烃反应，制备聚合物SP2，所述的聚合物SP2末端具有三个烯烃基；

3)步骤2)所得全氟聚醚化合物SP2与氢硅烷反应，制得所述的全氟聚醚基硅烷化合物；

其中，所述的全氟聚醚基酰氟RM1有如下通式：

F(CF₂CF₂O)m(CF₂O)nCF₂-C(＝O)F (RM1)

所述的全氟聚醚基酰氟RM1通式中，m，n为分别独立数字，为0以上，200以下整数；

所述的全氟聚醚基酯类RM2有如下通式：

F(CF₂CF₂O)m(CF₂O)nCF₂-C(＝O)O(CH₂)_jCH₃ (RM2)

所述的全氟聚醚基酯类RM2通式中，m，n为分别独立数字，为0以上，200以下整数；其中j为独立数字,为0～3的整数；

所述的聚合物SP1有如下通式：

所述的聚合物SP1通式中，m，n为分别独立数字，均为0以上，200以下整数；a为独立数字，均为0以上，6以下整数；

所述的聚合物SP2有如下通式：

所述的聚合物SP2通式中，m，n为分别独立数字，均为0以上，200以下整数；a、b皆为独立数字，均为0以上，6以下整数。

7.根据权利要求6所述的制备全氟聚醚改性硅烷化合物的方法，其特征在于：所述的全氟聚醚基酰氟RM1通式中，m，n为10以上，100以下的整数。

8.根据权利要求6所述的制备全氟聚醚改性硅烷化合物的方法，其特征在于：所述的全氟聚醚基酯类RM2通式中，m，n为10以上，100以下的整数。

9.根据权利要求6所述的制备全氟聚醚改性硅烷化合物的方法，其特征在于：所述的聚合物SP1通式中，m，n均为10以上，100以下的整数。

10.根据权利要求6所述的制备全氟聚醚改性硅烷化合物的方法，其特征在于：所述的聚合物SP1通式中，a为0以上，4以下整数。

11.根据权利要求6所述的制备全氟聚醚改性硅烷化合物的方法，其特征在于：所述的聚合物SP2通式中，m，n为均为10以上，100以下的整数。

12.根据权利要求6所述的制备全氟聚醚改性硅烷化合物的方法，其特征在于：所述的聚合物SP2通式中，a，b均为0以上，4以下整数。

13.根据权利要求6所述的制备全氟聚醚改性硅烷化合物的方法，其特征在于：所述的步骤2)中卤代烯烃为烯丙基溴或者3-氯丙烯。

14.根据权利要求6所述的制备全氟聚醚改性硅烷化合物的方法，其特征在于：所述的步骤3)中，氢硅烷为SiH(OCH₃)3。

15.一种包含权利要求1所述的全氟聚醚改性硅烷化合物的表面处理组合物，其特征在于：包含其总重量的0.1％-20％权利要求1所述全氟聚醚改性硅烷化合物和80％-99.9％的溶剂。

16.根据权利要求15所述的表面处理组合物，其特征在于：所述的溶剂为全氟丁基甲基醚、全氟丁基乙基醚、全氟己基甲基醚、氢氟醚中任意一种。

17.通过涂布权利要求16所述的表面处理组合物获得的薄膜。

18.一种权利要求17所述的薄膜的制备方法，其特征在于：将所述的表面处理组合物稀释至千分之一的固含量浓度稀释液，之后涂布在基材上进行烘烤，冷却后获得所述的薄膜。

19.根据权利要求18所述的薄膜的制备方法，其特征在于：所述涂布的方法为湿式涂布、物理气相沉积或化学气相沉积。

20.根据权利要求18所述的薄膜的制备方法，其特征在于：所述烘烤的温度为80-120℃，烘烤的时间为10-30分钟，冷却终点为室温。

21.一种权利要求17所述的薄膜的用途，其特征在于：用作光学部件的防污层和显示器件的抗指纹层。

22.根据权利要求21所述的薄膜的用途，其特征在于：所述的光学部件包括抗反射膜、光学滤光片、光学镜片、眼镜镜片、分束器、棱镜和反射镜。

23.根据权利要求21所述的薄膜的用途，其特征在于：所述的显示器件包括手机盖片、计算机屏幕、电视屏幕。