CN107505737A - 一种用于热处理制程的支撑装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种用于热处理制程的支撑装置，包括：支架，支架的顶部表面设有多个凸起的支撑点；套环组件，套环组件包括：可旋转的连接在支架所设置的一支点上的旋转架、自旋转架的一侧延伸而设用以感应被支撑元件与支架接触状况的第一摆动件以及自旋转架的另一侧延伸而设与第一摆动件联动的第二摆动件，其中：被支撑元件触碰第一摆动件以支点为轴心在沿垂直于支架延伸方向的平面上旋转，第一摆动件通过旋转架联动第二摆动件摆动，用以拨动被支撑元件至支架的预定位置。实施本发明的用于热处理制程的支撑装置，避免被支撑元件在热处理制程中发生偏位导致取件异常，降低设备出错报警率；结构精简，易于装配、维修维护及成本控制。
Description
技术领域
本发明涉及显示面板制造领域，尤其涉及一种用于热处理制程的支撑装置。
背景技术
现有技术中，在TFT-LCD行业的热处理制程中大多都是采用固定式热处理制程支架，该固定式热处理制程支架因结构设计不合理，在高温环境中存在如下技术缺陷：
1、被支撑元件在进行热处理过程中容易因设备的震动或者吹热气加热时产生轻微偏位，一旦被支撑元件偏位就会导致在制程完成时取片异常，或是因过烤而导致被支撑元件报废。
2、结构繁琐，不利于维修、维护及成本控制。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于，提供一种用于热处理制程的支撑装置，避免被支撑元件在热处理制程中发生偏位导致取件异常，降低设备出错报警率；结构精简，易于装配、维修维护及成本控制。
为了解决上述技术问题，本发明的实施例提供了一种用于热处理制程的支撑装置，包括：用以支撑被支撑元件的支架，支架的顶部表面设有多个凸起的支撑点；用以防止被支撑元件在热制程过程中偏移支架的套环组件，套环组件包括：可旋转的连接在支架所设置的一支点上的旋转架、自旋转架的一侧延伸而设用以感应被支撑元件与支架接触状况的第一摆动件以及自旋转架的另一侧延伸而设与第一摆动件联动的第二摆动件，其中：被支撑元件触碰第一摆动件以支点为轴心在沿垂直于支架延伸方向的平面上旋转，第一摆动件通过旋转架联动第二摆动件摆动，用以拨动被支撑元件至支架的预定位置。
其中，第一摆动件的端部设有水平位置高于支点和支撑点的触碰端，被支撑元件抵压触碰端使第一摆动件旋转。
其中，第一摆动件呈L形。
其中，第二摆动件的端部设有水平位置高于支点的用以拨动被支撑元件至支架预定位置的拨动板。
其中，第二摆动件呈n形。
其中，第二摆动件及拨动板的质量总和大于第一摆动件的质量。
其中，被支撑元件的质量大于第一摆动件、第二摆动件及拨动板的质量总和。
其中，支架设为规则排列的多根，多根支架等距均匀排列，套环组件分别设置在位于端部的两根支架上。
其中，两根支架上的套环组件对称布置。
其中，套环组件使用与支架相同的材料制成。
实施本发明所提供的用于热处理制程的支撑装置，具有如下有益效果：
第一、被支撑元件触碰第一摆动件以支点为轴心在沿垂直于支架延伸方向的平面上旋转，第一摆动件通过旋转架联动第二摆动件摆动，用以拨动被支撑元件至支架的预定位置，当热处理制程完成时，被支撑元件处于矫正后的位置能够被顺利取出，避免被支撑元件在热处理制程中发生偏位导致取件异常，降低设备出错报警率。
第二、易于装配、维修维护及成本控制。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明实施例用于热处理制程的支撑装置的俯视结构示意图。
图2是本发明实施例用于热处理制程的支撑装置的截面结构示意图。
图3是本发明实施例用于热处理制程的支撑装置进行支撑状态改变时的效果示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
参见图1-图3所示，为本发明用于热处理制程的支撑装置的实施例一。
本实施例中的用于热处理制程的支撑装置，包括：用以支撑被支撑元件的支架1，支架1的顶部表面设有多个凸起的支撑点11；用以防止被支撑元件G在热制程过程中偏移支架的套环组件2，套环组件2包括：可旋转的连接在支架1所设置的一支点O上的旋转架21、自旋转架21的一侧延伸而设用以感应被支撑元件G与支架1接触状况的第一摆动件22以及自旋转架21的另一侧延伸而设与第一摆动件21联动的第二摆动件23，其中：被支撑元件G触碰第一摆动件22以支点O为轴心在沿垂直于支架1延伸方向的平面上旋转，第一摆动件22通过旋转架联动第二摆动件23摆动，用以拨动被支撑元件G至支架1的预定位置。
本实施例中，支架1是截面呈矩形的条杆结构，设为等距相互平行而设的三根。其它实施方式中可以根据实际需求调整支架1的数量以及排列的位置，并不影响实施。本实施例中的支架1采用耐高温材料制成用以适应热处理制程。
进一步的，支架1的顶部表面设有多个凸起的支撑点11，支撑点11在被支撑元件G放置在支架1上与支架1相触碰之前起到一定的缓冲作用。本实施例中的每根支架1上等距设置三个支撑点11，支撑点11为半圆形的石英珠，如此能够起到耐受高温，且提供平稳支撑的作用，使被支撑元件G保持水平。
支点O分别设置在端部的两根支架1上，也就是多根平行而设的支架1中位于最边侧的两根支架1上。
优选的，支架1设为规则排列的多根，多根支架等距均匀排列，用以提供均衡的支撑，被支撑元件G在本实施例中为玻璃。
进一步的，套环组件2的作用是：防止玻璃在热制程过程中因设备的震动或者吹热气加热时产生轻微偏位，也就是防止玻璃在热制程过程中偏移支架1的作用。本实施例中的套环组件2设为四个，分别位于多根平行而设的支架1中位于最边侧的两根支架1上，四个套环组件2布置为对称，分别设置在支撑装置的四角的位置上。
套环组件2包括：可旋转的连接在支架1所设置的一支点O上的旋转架21、自旋转架21的一侧延伸而设用以感应玻璃与支架1接触状况的第一摆动件22以及自旋转架21的另一侧延伸而设与第一摆动件21联动的第二摆动件23。
本实施例中的旋转架21呈三角状，其一端角部可旋转的连接在支点O上，旋转架21的往复旋转的轨迹为沿垂直于支架1延伸方向的平面。第一摆动件22呈L形，其一端刚性连接在旋转架21的一侧，相对的另一端的端部延伸至支架1的顶表面之上，第一摆动件22的端部设有水平位置高于支点1和支撑点11的触碰端22a，如此设置该触碰端22a的作用是，当放置玻璃时，玻璃能够抵压触碰端22a使第一摆动件22旋转。
进一步的，第二摆动件23呈n形，其自旋转架21的另一侧延伸而设，第二摆动件23的端部设有水平位置高于支点O的用以拨动玻璃至支架1预定位置的拨动板23a。其中，拨动板23a与水平面互成一定的角度，用以当改变其相对位置时能够对处于水平位置上的玻璃进行拨动。
具体实施时，第二摆动件23及拨动板23a的质量总和大于第一摆动件22的质量，而被支撑元件G，也就是本实施例中玻璃的质量大于第一摆动件22、第二摆动件23及拨动板23a的质量总和。如此设置的作用是：当玻璃未放置到支架1上时，使支撑装置第一摆动件22的触碰端22a高于支架1上的支撑点11。而当放置玻璃时，玻璃能够抵压触碰端22a使第一摆动件22旋转，第一摆动件22通过旋转架联动第二摆动件23摆动，用以拨动被支撑元件G至支架1的预定位置。
优选的，套环组件2使用与支架1相同的材料制成，用以适应热处理制程，且降低生产装配成本。
本发明所提供的用于热处理制程的支撑装置在具体实施时，当玻璃未放置到支架1上时，使支撑装置第一摆动件22的触碰端22a高于支架1上的支撑点11，如图3实线所示意。而当放置玻璃时，玻璃能够抵压触碰端22a使第一摆动件22旋转，第一摆动件22通过旋转架联动第二摆动件23摆动，用以拨动被支撑元件G至支架1的预定位置，如图3虚线所示意。由于套环组件2分别位于多根平行而设的支架1中位于最边侧的两根支架1上布置为对称，分别设置在支撑装置的四角的位置上的四个套环组件2能够始终对支撑装置上玻璃的位置进行限位，使其不会脱离由套环组件2所限定的边界的位置，也从而达到了阵列效果。
当热处理制程完成时，始终被套环组件2限定边界位置的玻璃被顺利取出；由于第二摆动件23及拨动板23a的质量总和大于第一摆动件22的质量，套环组件2进行复位。
实施本发明所提供的用于热处理制程的支撑装置，具有如下有益效果：
第一、被支撑元件触碰第一摆动件以支点为轴心在沿垂直于支架延伸方向的平面上旋转，第一摆动件通过旋转架联动第二摆动件摆动，用以拨动被支撑元件至支架的预定位置，当热处理制程完成时，被支撑元件处于矫正后的位置能够被顺利取出，避免被支撑元件在热处理制程中发生偏位导致取件异常，降低设备出错报警率。
第二、易于装配、维修维护及成本控制。
Claims (10)
1.一种用于热处理制程的支撑装置，其特征在于，包括：
用以支撑被支撑元件的支架，所述支架的顶部表面设有多个凸起的支撑点；
用以防止所述被支撑元件在热制程过程中偏移所述支架的套环组件，所述套环组件包括：可旋转的连接在所述支架所设置的一支点上的旋转架、自所述旋转架的一侧延伸而设用以感应所述被支撑元件与所述支架接触状况的第一摆动件以及自所述旋转架的另一侧延伸而设与所述第一摆动件联动的第二摆动件，其中：
所述被支撑元件触碰所述第一摆动件以所述支点为轴心在沿垂直于所述支架延伸方向的平面上旋转，所述第一摆动件通过所述旋转架联动所述第二摆动件摆动，用以拨动所述被支撑元件至所述支架的预定位置。
2.如权利要求1所述的用于热处理制程的支撑装置，其特征在于，所述第一摆动件的端部设有水平位置高于所述支点和所述支撑点的触碰端，所述被支撑元件抵压所述触碰端使所述第一摆动件旋转。
3.如权利要求2所述的用于热处理制程的支撑装置，其特征在于，所述第一摆动件呈L形。
4.如权利要求1所述的用于热处理制程的支撑装置，其特征在于，所述第二摆动件的端部设有水平位置高于所述支点的用以拨动所述被支撑元件至所述支架预定位置的拨动板。
5.如权利要求4所述的用于热处理制程的支撑装置，其特征在于，所述第二摆动件呈n形。
6.如权利要求4或5所述的用于热处理制程的支撑装置，其特征在于，所述第二摆动件及所述拨动板的质量总和大于所述第一摆动件的质量。
7.如权利要求6所述的用于热处理制程的支撑装置，其特征在于，所述被支撑元件的质量大于所述第一摆动件、所述第二摆动件及所述拨动板的质量总和。
8.如权利要求1所述的用于热处理制程的支撑装置，其特征在于，所述支架设为规则排列的多根，多根支架等距均匀排列，所述套环组件分别设置在位于端部的两根支架上。
9.如权利要求8所述的用于热处理制程的支撑装置，其特征在于，两根支架上的套环组件对称布置。
10.如权利要求1所述的用于热处理制程的支撑装置，其特征在于，所述套环组件使用与所述支架相同的材料制成。
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