CN107463019B - 一种显示基板的制备方法、显示基板及电子标签 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种显示基板的制作方法、显示基板及电子标签。所述方法包括：在基板上形成反射层，其中所述反射层包含金属或金属合金；刻蚀所述反射层的表面以使所述反射层表面粗糙。通过本发明实施例制备显示基板，提高了显示基板的吸光效果，同时反射层表面具有较高的粗糙度，增强了显示基板对光的散射度，降低了漏光、白斑等缺陷的产生，使显示基板显示黑态时具有更好的显示效果。
Description
技术领域
本发明涉及液晶显示技术领域，特别是涉及一种显示基板的制备方法、显示基板及电子标签。
背景技术
胆甾相液晶电子标签是利用光反射原理进行简单的图形显示。图形显示主要涉及简单数字、图案以及价格信息。在此类标签中，大多利用单一色显示所用信息，显示信息颜色包括蓝色、绿色和红色等，显示时的背景主要为黑色。当两种颜色的对比越强，其显示信息的效果越好。此时衬底膜层黑态的显示成为很重要的一点，提高黑色膜层的吸光/散射程度可以增强显示效果。
发明内容
本发明提供一种显示基板的制备方法、显示基板及电子标签，以提高黑色膜层的吸光/散射程度，增强显示效果。
为了解决上述问题，本发明公开了一种显示基板的制作方法，所述方法包括：
在基板上形成反射层，其中所述反射层中包含金属或金属合金；
刻蚀所述反射层的表面以使所述反射层表面粗糙。
可选地，所述在基板上形成反射层包括：
采用钼铝合金靶材在基板上淀积所述反射层，其中，所述钼铝合金靶材中铝含量在15％wt-30％wt之间。
可选地，所述刻蚀所述反射层的表面的步骤，包括：
采用湿法刻蚀工艺刻蚀所述反射层的表面，其中刻蚀溶液中含有2％wt-5％wt的硝酸及3％wt-8％wt的阴离子表面活性剂。
可选地，所述湿法刻蚀工艺的刻蚀时间为30s-60s，刻蚀温度为40℃-45℃。
为了解决上述问题，本发明还公开了一种显示基板，所述显示基板包括层叠设置的基板和反射层，其中所述反射层包含金属或金属合金；所述反射层的表面粗糙。
可选地，所述反射层为黑色。
可选地，所述反射层的厚度为
可选地，所述反射层为钼铝合金。
可选地，所述显示基板还包括层叠设置在所述反射层上的金属氧化膜和保护层。
为了解决上述问题，本发明还公开了一种电子标签，所述电子标签包括上述的显示基板，以及层叠设置在所述显示基板上的ITO下电极、胆甾相液晶、ITO上电极和盖板。
与现有技术相比，本发明包括以下优点：
依据本发明实施例，在基板上形成反射层，反射层包含金属或金属合金；刻蚀反射层的表面以使反射层表面粗糙。通过本发明实施例制备显示基板，提高了显示基板的吸光效果，同时反射层表面具有较高的粗糙度，增强了显示基板对光的散射度，降低了漏光、白斑等缺陷的产生，使显示基板显示黑态时具有更好的显示效果。
附图说明
图1示出了本发明实施例一的一种显示基板的制备方法的步骤流程图；
图2示出了本发明实施例一的形成有反射层的显示基板的结构示意图；
图3示出了本发明实施例一的反射层表面粗糙的显示基板的结构示意图；
图4示出了本发明实施例一的形成有金属氧化膜和保护层的显示基板的结构示意图；
图5示出了本发明实施例三的一种电子标签的结构示意图之一；
图6示出了本发明实施例三的一种电子标签的结构示意图之二。
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。
实施例一
详细介绍了本发明实施例提供的一种显示基板。
参照图1，示出了本发明实施例提供的一种显示基板的制备方法。所述方法包括：
步骤101，在基板上形成反射层，其中所述反射层包含金属或金属合金。
本实施例中，基板可以是玻璃，也可以是其他材质，本发明实施例对此不作详细限定，可以根据实际情况进行选取。在基板201上形成反射层202，见图2所示的形成有反射层的显示基板。反射层202可以包含多种金属，也可以包含多种金属的合金。
在基板201上形成反射层202的方式可以有多种，优选地，采用钼铝合金靶材在基板201上淀积所述反射层202，其中，所述钼铝合金靶材中铝含量在15％wt-30％wt之间。金属钼淀积在基板上呈黑色，可以作为黑态层。
步骤102，刻蚀所述反射层202的表面以使所述反射层202表面粗糙。
本实施例中，反射层202中含有多种金属或金属合金，刻蚀反射层202的表面，即刻蚀掉反射层202表面上的至少一种金属，从而反射层202的表面因刻蚀而变得粗糙，见图3所示的反射层表面粗糙的显示基板。
选择性刻蚀有多种方式，优选地，采用湿法刻蚀工艺刻蚀所述反射层202的表面，其中刻蚀溶液中含有2％wt-5％wt的硝酸及3％wt-8％wt的阴离子表面活性剂。阴离子表面活性剂作用是增加浸润性，可以选择油酸、肝胆酸钠、乙醇酸钠中的一种。具体地，湿法刻蚀工艺将钼铝合金的反射层202表面上的铝全部刻蚀掉，只留钼，从而使反射层202表面高度粗糙。
优选地，所述湿法刻蚀工艺的刻蚀时间为30s-60s，刻蚀温度为40℃-45℃。
在所述刻蚀反射层202表面之后，还可以包括如下步骤：
子步骤一，在反射层202的表面形成金属氧化膜203。由于反射层202表面粗糙，进入CVD(chemical vapor deposition,化学气相沉积)设备后会有电弧产生的风险，因此先在反射层202的表面形成金属氧化膜。具体地，可以在反射层202表面先淀积铝膜，铝膜的厚度可以是
然后将铝膜氧化为氧化铝。
子步骤二，在金属氧化膜203的表面形成保护层204。优选地，采用化学气相沉积工艺在金属氧化膜203的表面淀积氮化硅。氮化硅保护钼铝合金的反射层202和金属氧化膜203，见图4所示的形成有金属氧化膜和保护层的显示基板。
综上所述，本发明实施例中，在基板上形成反射层，反射层包含金属或金属合金；刻蚀反射层的表面以使反射层表面粗糙。通过本发明实施例制备显示基板，提高了显示基板的吸光效果，同时反射层表面具有较高的粗糙度，增强了显示基板对光的散射度，降低了漏光、白斑等缺陷的产生，使显示基板显示黑态时具有更好的显示效果。
实施例二
参照图3，示出了本发明实施例提供的一种显示基板。所述显示基板包括层叠设置的基板201和反射层202，其中反射层包含金属或金属合金；所述反射层202的表面粗糙。
本实施例中，显示基板中的反射层202吸收大部分光线后呈黑色可以作为显示背景，显示信息为彩色，反射层202的黑色与显示信息的彩色对比，使得显示信息的颜色更突出，显示效果更好。反射层202的表面粗糙，使得未被反射层202吸收的光线散射，进而使显示基板的黑态与显示信息的彩色对比更强烈。
优选地，所述反射层202为黑色。
优选地，所述反射层202的厚度为
优选地，所述反射层为钼铝合金。
优选地，所述显示基板还包括层叠设置在反射层202上金属氧化膜203和保护层204，见图4所示的形成有金属氧化膜和保护层的显示基板。
综上所述，本发明实施例中，显示基板包括层叠设置的基板和反射层；反射层的表面粗糙，不仅提高了显示基板的吸光效果，同时也增强了显示基板对光的散射度，降低了漏光、白斑等缺陷的产生，使显示基板显示黑态时具有更好的显示效果。
实施例三
本发明实施例提供了一种电子标签。所述电子标签包括实施例二所述的显示基板，以及层叠设置在所述显示基板上的ITO下电极、胆甾相液晶、ITO上电极和盖板。
本实施例中，电子标签包括实施例二所述显示基板，以及层叠设置在所述显示基板上的ITO下电极301、胆甾相液晶302、ITO上电极303和盖板304，见图5和图6所示的电子标签。胆甾相液晶302用于显示信息，显示信息可以是彩色的。显示基板20中反射层202可以是钼铝合金，并且反射层202表面的铝被刻蚀掉后表面粗糙。反射层202表面只留金属钼呈黑色，与胆甾相液晶302显示的彩色信息形成强烈对比，使得胆甾相液晶302的显示效果更好。
综上所述，本发明实施例中，电子标签包括显示基板以及层叠设置在显示基板上的ITO下电极、胆甾相液晶、ITO上电极和盖板，由于提高了显示基板的吸光效果，增强了显示基板对光的散射度，降低了漏光、白斑等缺陷的产生，使显示基板显示黑态时具有更好的显示效果，进一步使电子标签具有更好的显示效果。
本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可。
最后，还需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、商品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、商品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、商品或者设备中还存在另外的相同要素。
以上对本发明所提供的一种显示基板的制备方法、显示基板及电子标签，进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。
Claims (7)
1.一种显示基板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：
在基板上形成反射层，其中所述反射层包含多种金属或多种金属合金；
刻蚀所述反射层的表面的至少一种金属以使所述反射层表面粗糙；
在所述反射层表面形成金属氧化膜；
在所述金属氧化膜的表面形成保护层；
其中，所述刻蚀所述反射层的表面的步骤，包括：
采用湿法刻蚀工艺刻蚀所述反射层的表面，其中刻蚀溶液中含有2％wt-5％wt的硝酸及3％wt-8％wt的阴离子表面活性剂；
所述在所述反射层表面形成金属氧化膜的步骤包括：在所述反射层表面淀积铝膜，将所述铝膜氧化为氧化铝；所述铝膜的厚度为
所述在所述金属氧化膜的表面形成保护层的步骤包括：采用化学气相沉积工艺在所述金属氧化膜的表面淀积氮化硅；
所述在基板上形成反射层包括：
采用钼铝合金靶材在基板上淀积所述反射层，其中，所述钼铝合金靶材中铝含量在15％wt-30％wt之间；
所述湿法刻蚀工艺的刻蚀时间为30s-60s，刻蚀温度为40℃-45℃。
2.一种显示基板，其特征在于，包括层叠设置的基板、反射层、金属氧化膜和保护层，其中所述反射层包含多种金属或多种金属合金；所述反射层的表面粗糙；其中，通过刻蚀所述反射层的表面的至少一种金属以使所述反射层表面粗糙；其中，采用湿法刻蚀工艺刻蚀所述反射层的表面，其中刻蚀溶液中含有2％wt-5％wt的硝酸及3％wt-8％wt的阴离子表面活性剂；其中，通过在所述反射层表面淀积铝膜，将所述铝膜氧化为氧化铝以得到所述金属氧化膜；所述铝膜的厚度为
采用化学气相沉积工艺在所述金属氧化膜的表面淀积氮化硅以得到所述保护层；采用钼铝合金靶材在基板上淀积所述反射层，其中，所述钼铝合金靶材中铝含量在15％wt-30％wt之间；所述湿法刻蚀工艺的刻蚀时间为30s-60s，刻蚀温度为40℃-45℃。
3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述反射层为黑色。
4.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述反射层的厚度为
5.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述反射层为钼铝合金。
6.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括层叠设置在所述反射层上的金属氧化膜和保护层。
7.一种电子标签，其特征在于，所述电子标签包括权利要求2-6任一项所述的显示基板，以及层叠设置在所述显示基板上的ITO下电极、胆甾相液晶、ITO上电极和盖板。
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