CN107406309A - 玻璃板 - Google Patents

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三浦丈宜
宫坂聪史
林泰夫
山中彦
山中一彦
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Abstract

本发明的目的在于，提供一种即使对玻璃表面进行磨削处理或研磨处理、也能够有效地抑制化学强化后的翘曲的玻璃板。本发明涉及一种玻璃板，其为具有第1主面和在厚度方向上位于第1主面相反侧的第2主面的玻璃板，其中，由下述式(1)表示的X为‑0.29＜X＜0.29，并且通过下式(II)求出的F0‑3为0.02以上，A×Δ1H/30Si+B×ΔNa2O+C×ΔSn+D×ΔF＝X (1)F0‑3＝[第1主面中的深度0～3μm的由SIMS得到的平均氟浓度(重量％)]×3 (II)。

Description

玻璃板
技术领域
本发明涉及玻璃板。
背景技术
近年来，在手机或便携式信息终端(PDA)、个人计算机、电视机、车载导航显示装置等平板显示装置中，为了保护显示器和提高美观，进行将薄的板状保护玻璃以成为比图像显示部分大的区域的方式配置在显示器的正面的操作。
对这样的平板显示装置要求轻量和薄型化，因此，要求用于显示器保护用途的保护玻璃也变薄。
但是，使保护玻璃的厚度变薄时，强度降低，有时会由于在使用中或携带中的落下等导致保护玻璃自身破裂，存在无法发挥保护显示装置的本来的作用的问题。
因此，以往的保护玻璃通过对利用浮法制造的玻璃(以下有时称为浮法玻璃)进行化学强化而在表面形成压应力层来提高保护玻璃的耐划伤性。
据报道，浮法玻璃在化学强化后产生翘曲而损害平坦性。认为该翘曲是由于浮法成形时不与熔融锡等熔融金属接触的玻璃面(以下也称为顶面)和位于顶面相反侧且与熔融金属接触的玻璃面(以下也称为底面)性质不同、从而两面的化学强化的进行程度(入り方)不同而产生的。
化学强化的进行程度越强，所述浮法玻璃的翘曲越大。因此，在为了回应对高耐划伤性的要求而使表面压应力为以往以上、特别是600MPa以上的情况下，翘曲的问题变得更加显著。
为了抑制在玻璃的一个面和另一个面中产生化学强化的进行程度的差异，专利文献1公开了通过对化学强化前的玻璃表面进行脱碱处理来减小化学强化后的翘曲的方法，专利文献2公开了通过对化学强化前的玻璃表面进行氟化处理来减小化学强化后的翘曲的方法。
另外，从提高外观的观点考虑，有时采取以下应对方法：通过对玻璃表面进行磨削处理或研磨处理等，除去在玻璃制造时产生的表面损伤。特别是浮法玻璃的底面，由于在制造工序中与辊接触，因此比顶面容易产生表面损伤。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：国际公开第2014/104303号
专利文献2：国际公开第2013/146440号
发明内容
发明所要解决的问题
但是，在专利文献1和专利文献2所记载的方法中，在除去表面损伤时，在对玻璃表面进行磨削处理或研磨处理的情况下，会削去脱碱处理层、氟化处理层，存在脱碱处理、氟化处理的效果降低、化学强化后的翘曲恶化的问题。
因此，本发明的目的在于提供一种即使对玻璃表面进行磨削处理或研磨处理、也能够有效地抑制化学强化后的翘曲的玻璃板。
用于解决问题的手段
本发明人等发现，通过使玻璃表层的水分、钠、锡、氟的在玻璃两主面中的含量差的平衡最优化，可以实现上述目的，从而完成了本发明。
即本发明如下所述。
(1)
一种玻璃板，其具有第1主面和在厚度方向上位于第1主面相反侧的第2主面，其中，
由下述式(1)表示的X为-0.29＜X＜0.29，并且
通过下式(II)求出的F0-3为0.02以上，
A×Δ1H/30Si+B×ΔNa2O+C×ΔSn+D×ΔF＝X (1)
在此，式(1)中的各参数表示以下的含义，
Δ1H/30Si：从第1主面中的深度3μm～12μm的由二次离子质谱分析(SIMS)得到的平均1H/30Si计数中减去第2主面中的深度3μm～12μm的由SIMS得到的平均1H/30Si计数而得到的差值
ΔNa2O：从第1主面中的深度0～3μm的由XRF得到的平均Na2O浓度(重量％)中减去第2主面中的深度0～3μm的由XRF得到的平均Na2O浓度(重量％)而得到的差值
ΔSn：从第1主面中的深度0～10μm的由XRF得到的作为表示玻璃中的锡的含量的指标的锡计数(Tin count)的值中减去第2主面中的深度0～10μm的由XRF得到的作为表示玻璃中的锡的含量的指标的锡计数而得到的差值
ΔF：从第1主面中的深度0～12μm的由SIMS得到的平均氟浓度(重量％)×12中减去第2主面中的深度0～12μm的由SIMS得到的平均氟浓度(重量％)×12而得到的差值
A：-128.95
B：1
C：-0.0002428
D：-0.009922
F0-3＝[第1主面中的深度0～3μm的由SIMS得到的平均氟浓度(重量％)]×3 (II)。
(2)
如上述(1)所述的玻璃板，其中，由下式(I)表示的表层氟比例为大于等于0.2且小于0.9，
表层氟比例＝F0-3/F0-30 (I)
式(I)中，F0-3通过下式(II)求出：
F0-3＝[第1主面中的深度0～3μm的由SIMS得到的平均氟浓度(重量％)]×3 (II)
式(I)中，F0-30通过下式(III)而求出：
F0-30＝[第1主面中的深度0～30μm的由SIMS得到的平均氟浓度(重量％)]×30 (III)。
(3)
如上述(1)或(2)所述的玻璃板，其中，所述玻璃板为通过浮法制造的玻璃板。
(4)
一种化学强化玻璃板，其通过对上述(1)～(3)中任一项所述的玻璃板进行化学强化而得到。
发明效果
根据本发明，即使对玻璃表面进行磨削处理或研磨处理，也能够有效地抑制化学强化后的翘曲。
附图说明
图1为示意性地表示可以用于本发明的双向流动式的喷射器(両流しタイプのインジェクタ)的图。
图2为示意性地表示可以用于本发明的单向流动式的喷射器(片流しタイプのインジェクタ)的图。
图3(a)为在通过浮法进行的玻璃板的制造中通过横梁供给含有在其结构中存在氟原子的分子的气体从而对玻璃带的表面进行处理的方法的概略说明图。
图3(b)为图3(a)的A-A剖视图
图4(a)～(d)表示可将气体的量在玻璃带的宽度方向上三分而进行调节的横梁的剖视图。
图5(a)～(c)表示氟化处理后的钠钙玻璃的由SIMS得到的典型的氟浓度分布曲线。
图6表示钠钙玻璃的由SIMS得到的典型的1H/30Si分布曲线。
具体实施方式
1.玻璃板
在本发明中，所谓“玻璃板”也包含将熔融玻璃成形为板状而得到的物体，例如，浮抛窑内的所谓的玻璃带也是玻璃板。玻璃板的化学强化后的翘曲由于在玻璃板的一个面和另一个面中化学强化的进行程度不同而产生。具体而言，例如，在浮法玻璃的情况下，由于在浮法成形时不与熔融金属(通常为锡)接触的玻璃面(顶面)和与熔融金属接触的玻璃面(底面)中化学强化的进行程度不同而产生化学强化后的翘曲。因此，优选通过浮法制造的玻璃板，因为特别是容易发挥出作为本发明的效果的化学强化后的翘曲改善。
本发明的玻璃板为具有第1主面和在厚度方向上位于第1主面相反侧的第2主面的玻璃板，并且由下述式(1)表示的X满足-0.29＜X＜0.29。
A×Δ1H/30Si+B×ΔNa2O+C×ΔSn+D×ΔF＝X (1)
在此，式(1)中的各参数表示以下的含义，
Δ1H/30Si：从第1主面中的深度3μm～12μm的由二次离子质谱分析(SIMS)得到的平均1H/30Si计数中减去第2主面中的深度3μm～12μm的由SIMS得到的平均1H/30Si计数而得到的差值
ΔNa2O：从第1主面中的深度0～3μm的由XRF得到的平均Na2O浓度(重量％)中减去第2主面中的深度0～3μm的由XRF得到的平均Na2O浓度(重量％)而得到的差值
ΔSn：从第1主面中的深度0～10μm的由XRF得到的作为表示玻璃中的锡的含量的指标的锡计数的值中减去第2主面中的深度0～10μm的由XRF得到的作为表示玻璃中的锡的含量的指标的锡计数而得到的差值
ΔF：从第1主面中的深度0～12μm的由SIMS得到的平均氟浓度(重量％)×12(摄取氟量)中减去第2主面中的深度0～12μm的由SIMS得到的平均氟浓度(重量％)×12(摄取氟量)而得到的差值
A：-128.95
B：1
C：-0.0002428
D：-0.009922
在本说明书中，玻璃板的第1主面和第2主面是指在厚度方向上相反的一个面和另一个面。另外，玻璃板的两面(两主面)是指在厚度方向上相反的两面。在本发明的玻璃板为通过浮法制造的玻璃板的情况下，优选第1主面为顶面、第2主面为底面。
由式(1)表示的X为用于通过综合考虑对化学强化后的翘曲量有影响的各种因素而将翘曲量控制在最优化的范围内的数值的指标，通过X在-0.29＜X＜0.29的范围内，能够有效地减小化学强化后的翘曲量。认为通过玻璃表层或距离表层一定深度的区域的水分量、钠量、锡量、氟量在玻璃板的一个主面(第1主面)与在厚度方向上位于相反侧的另一个主面(第2主面)中存在差异，化学强化的进行程度受到影响。关于水分量，例如认为原因是水分从浮抛窑中的玻璃中的脱离程度的不同。关于钠量，例如认为原因是退火炉中的SO2处理的程度的不同。关于锡量，例如认为原因是第2主面与锡浴接触。关于氟量，例如通过对第1主面进行表面处理而产生差异。
不过，在个别地规定各含量的差的情况下，对化学强化后的翘曲的抑制是不充分的，通过对它们的各含量的差的平衡综合性地进行最优化，能够有效地抑制化学强化后的翘曲。
对于X而言，从防止由研磨导致的强化后翘曲恶化的观点考虑，优选-0.23＜X＜0.23，更优选-0.1＜X＜0.1。
从防止由研磨导致的强化后翘曲恶化的观点考虑，Δ1H/30Si优选为-0.004～-0.0010，更优选为-0.0029～-0.0018。
从防止由研磨导致的强化后翘曲恶化的观点考虑，ΔNa2O优选为-0.6～0.11，更优选为-0.2～0.1，进一步优选为-0.1～0.1。
从防止由研磨导致的强化后翘曲恶化的观点考虑，ΔSn优选为-1000～-400，更优选为-914～-512。
从防止由研磨导致的强化后翘曲恶化的观点考虑，ΔF优选为0.2～2.3，更优选为0.5～1.6。
为了将X调节为上述范围，优选控制Δ1H/30Si、ΔNa2O、ΔSn、ΔF各参数。
通过调节玻璃的两主面的水分量，可以控制Δ1H/30Si，可以列举例如：通过改变浮抛窑内的成形温度、浮抛窑的气氛中的水分浓度而进行的方法。
通过调节玻璃的两主面的Na2O量，可以控制ΔNa2O，可以列举例如：通过浮抛窑、退火炉中的脱碱表面处理而进行的方法。
通过调节玻璃的两主面的锡量，可以控制ΔSn，可以列举例如：通过变更浮抛窑内的成形温度、气氛中所含的氢浓度、以及对第1主面进行浮抛窑、退火炉中的含Sn气体处理而进行的方法。
通过调节玻璃的两主面的氟量，可以控制ΔF，可以列举例如：通过变更浮抛窑内的对第1主面进行表面处理时的接触气体浓度而进行的方法。
对于Δ1H/30Si而言，利用SIMS装置实施玻璃中的1H/30Si分布曲线测定，并通过以下的步骤由该分布曲线进行计算。图6表示钠钙玻璃的由SIMS得到的典型的1H/30Si分布曲线。在此，已知由SIMS得到的玻璃中的H(氢)元素与玻璃中的水分浓度相关性好，可以认为对1H/30Si曲线进行评价与对玻璃中的水分的浓度分布曲线进行评价是同义的。平均1H/30Si计数强度由深度3μm～12μm的由SIMS得到的1H/30Si计数强度的平均值计算。对于在玻璃的厚度方向上相反的两面计算深度3μm～12μm的由SIMS得到的平均1H/30Si计数强度而得到的值中，从第1主面的平均1H/30Si计数强度中减去第2主面的平均1H/30Si计数强度而得到的差值为Δ1H/30Si。
作为SIMS的分析条件而言，例如可以列举以下条件。需要说明的是，以下所示的分析条件为示例，应当根据测定装置、样品等而适当变更。另外，由SIMS得到的深度方向分布曲线的横轴的深度可以通过利用触针式膜厚计(例如Veeco公司制造的Dektak150)测定分析凹坑的深度而求出。
(分析条件)一次离子种类：Cs+
一次离子入射角：60°
一次加速电压：5kV
作为更具体的分析条件而言，例如可以列举以下的条件。
(分析条件)测定装置：具有四极质谱仪的二次离子质谱分析装置
一次离子种类：Cs+
一次加速电压：5.0kV
一次离子电流：1μA
一次离子入射角(与垂直于试样面的方向的角度)：60°
光栅尺寸：200×200μm2
检测区域：40×40μm2
二次离子极性：负
中和用的电子枪使用：有
作为具有四极质谱仪的二次离子质谱分析装置，可以列举例如ULVAC-PHI公司制造的ADEPT1010。
玻璃表层的平均Na2O浓度可以通过使用Na-Kα射线的XRF(X-ray FluorescenceSpectrometer，荧光X射线分析)进行评价。
XRF法的分析条件设定为以下条件。使用Na2O标准试样并通过校准曲线法进行定量。作为测定装置而言，可以列举株式会社理学制造的ZSX100。
输出功率：Rh 50kV-60mA
滤波器：输出(OUT)
衰减器：1/1
狭缝：标准
分光晶体：RX25
检测器：PC
峰角度(2θ/度)：46.42
峰测定时间(秒)：30
本底(2θ/度)：无
脉冲高度分析(PHA)：100-500
在该方法中，通常得到玻璃表层(0μm)～约3μm的深度中所含的Na2O的平均信息。从使用上述方法对于在玻璃的厚度方向上相反的两面计算出的第1主面的平均Na2O浓度(重量％)的值中减去第2主面的平均Na2O浓度(重量％)的值而得到的差值为ΔNa2O。
玻璃表层的锡含量可以通过使用Sn-Lα射线的XRF进行评价，将表示所得到的Sn的含量的指标值称为锡计数。
输出功率：Rh 50kV-50mA
滤波器：输出(OUT)
衰减器：1/1
狭缝：标准
分光晶体：LiF
检测器：PC
峰角度(2θ/度)：126.76
峰测定时间(秒)：10
本底(2θ/度)：123.55
本底测定时间(秒)：5
脉冲高度分析(PHA)：115-315
在该方法中，通常得到玻璃表层(0μm)～约10μm的深度中所含的SnO2的平均信息。从使用上述方法对于在玻璃的厚度方向上相反的两面计算出的第1主面的锡计数的值中减去第2主面的锡计数的值的值而得到的差值为ΔSn。
对于平均氟浓度而言，利用SIMS装置实施玻璃中的氟浓度分布曲线的测定，并通过以下的步骤(a1)～(a3)由该分布曲线进行计算。图5(a)～(c)表示经氟处理的钠钙玻璃的由SIMS得到的典型的氟浓度分布曲线。
(a1)测定浓度已知的标准试样和测定对象样品的由SIMS得到的氟浓度分布曲线[图5(a)]。
(a2)由标准试样的测定结果制作校准曲线，计算用于将19F/30Si计数转换为氟浓度(重量％)的系数[图5(b)]。
(a3)由工序(a2)中计算出的系数求出测定对象样品的摄取氟浓度(重量％·μm)。例如深度0～3μm的由SIMS得到的摄取氟量(重量％)为计算出深度0～3μm的氟浓度的平均值、并乘以深度3μm而得到的值[图5(c)]。
深度0～12μm的摄取氟量(重量％·μm)为计算出深度0～12μm的由SIMS得到的氟浓度的平均值、并乘以深度12μm而得到值。
通过该方法通常得到玻璃表层(0μm)～12μm的深度中所含的F的平均信息。从使用上述方法对于在玻璃的厚度方向上相反的两面计算出的第1主面的摄取氟量的值中减去第2主面的摄取氟量的值而得到的差值为ΔF。
对于深度0～30μm的由SIMS得到的摄取氟量(重量％·μm)也可以同样地求出。
另外，本发明的玻璃板的F0-3为0.02以上，优选为0.05以上，更优选为0.1以上。F0-3通过下述式(II)求出，表示存在于第1主面中的深度0～3μm的氟量。通过F0-3为所述范围，可以期待改善强化后翘曲的效果，因此优选。需要说明的是，从避免过度改善强化后翘曲的观点考虑，F0-3优选小于1.14，更优选为小于1.00。
F0-3＝[第1主面中的深度0～3μm的由二次离子质谱分析(SIMS)得到的平均氟浓度(重量％)]×3 (II)
平均氟浓度可以通过上述的方法求出。
本发明的玻璃板进一步优选由下式(I)表示的表层氟比例为大于等于0.2且小于0.9。
表层氟比例＝F0-3/F0-30 (I)
式(I)中，F0-3通过下式(II)求出。
F0-3＝[第1主面中的深度0～3μm的由二次离子质谱分析(SIMS)得到的平均氟浓度(重量％)]×3 (II)
式(I)中，F0-30通过下式(III)求出。
F0-30＝[第1主面中的深度0～30μm的由SIMS得到的平均氟浓度(重量％)]×30 (III)
由上述式(I)表示的表层氟比例为规定用于改善翘曲的适当的厚度方向的氟浓度分布的参数。玻璃的由化学强化导致的翘曲的原因是玻璃的两主面中的化学强化的进行程度的不同。通过在玻璃表层存在氟，由于各种因素，可以改善由玻璃的化学强化导致的翘曲，然而对于存在于玻璃中的氟浓度分布，考虑从主面起算的进入深度而设定上述参数。
平均氟浓度可以通过上述的方法求出。
通过将表层氟比例设定为0.2以上，能够有效地抑制化学强化后的玻璃的翘曲。表层氟比例优选为0.2以上，更优选为0.4以上。
通过将表层氟比例设定为小于0.9。可以避免研磨时的翘曲恶化。表层氟比例优选为0.6以下，更优选为0.5以下。特别是当表层氟比例为0.5以下时，以下的(1)的效果显著，因此更优选。(1)在对玻璃进行氟化处理后对玻璃进行研磨或蚀刻处理时，玻璃表面的氟减少，通过对玻璃进行氟化处理而实现的减小化学强化后的翘曲的效果减少。通过氟化处理将表层氟比例设定为0.6以下，特别是0.5以下，并加深氟在玻璃中的进入深度，由此，即使在化学强化前对玻璃进行研磨或蚀刻处理的情况下，也能够充分保证通过氟化处理实现的减小化学强化后的玻璃的翘曲的效果。
为了将表层氟比例调节为上述范围，可以列举如下方法：如下所述，在将玻璃板的玻璃化转变温度设为Tg的情况下，将含有其结构中存在氟原子的分子的气体或液体(以下也称为含氟流体)供给至输送中的该玻璃板的表面而对该表面进行处理时的该玻璃板的表面温度优选设定为(Tg+230℃)以上，更优选设定为(Tg+300℃)以上。
此外，作为用于将表层氟比例调节为0.6以下的方法而言，可以列举：延长利用氟进行处理的时间的方法、通过对玻璃进行氟化处理之后再次实施加热处理而使表面的氟扩散至玻璃内部的方法等。
SIMS中的元素M的同位素M1的二次离子强度IM1与一次离子强度IP、基体的溅射率Y、元素M的浓度CM(相对于总浓度的比)、同位素M1的存在概率α1、元素M的二次电离率βM以及质谱仪的传输效率η(包括检测器的检测效率)成比例。
IM1＝A·IP·Y·CM·α1·βM·η (式w)
在此，A为二次离子的检测面积相对于一次离子束的扫描范围之比。一般而言，由于难以求出装置的η，因此无法求出βM的绝对值。因此，通过将相同试样中的主成分元素等用作参比元素并得到与(式w)之比而消掉η。
在此，在将参比元素设为R、将其同位素设为Rj的情况下，可以得到(式x)。
IM1/IRj＝(CM·α1·βM)/(CR·αj·βR)＝CM/K (式x)
在此，K为元素M相对于元素R的相对灵敏度因子。
K＝(CR·αj·βR)/(α1·βM) (式y)
在这种情况下，元素M的浓度由(式z)求出。
CM＝K·IM1/IRj (式z)
在本发明中，H(氢)或F(氟)对应于M1，Si对应于Rj。因此，根据(式x)，两者的强度比(H/Si)或(F/Si)与玻璃中的水分浓度或氟浓度CM除以K所得到的值相等。即，H/Si、F/Si为玻璃中的水分浓度、氟浓度的直接指标。
2.玻璃板的制造方法
在本发明中，将熔融玻璃成形为板状的玻璃板的方法没有特别限制，另外，只要该玻璃为具有能够通过化学强化处理进行强化的组成的玻璃，则可以使用各种组成的玻璃。例如，可以通过如下方式制造：适量配制各种原料并加热熔融，然后通过脱泡或搅拌等进行均质化，并通过周知的浮法、下拉法(例如熔融法等)或压制法等而成形为板状，缓冷后切割为所期望的尺寸，并实施研磨加工。这些制造方法中，优选通过浮法制造的玻璃，因为特别是容易发挥作为本发明的效果的化学强化后的翘曲改善。
作为用于本发明的玻璃板而言，具体而言，可以列举例如：典型地包含钠钙硅酸盐玻璃、铝硅酸盐玻璃、硼酸盐玻璃、锂铝硅酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃等的玻璃板。
其中，优选含有Al的组成的玻璃。在与碱共存时，Al形成4配位而与Si同样地参与作为玻璃的骨架的网络的形成。4配位的Al增加时，碱离子的移动变得容易，从而在化学强化处理时离子交换变得容易进行。
玻璃板的厚度没有特别限制，可以列举例如：2mm、0.8mm、0.7mm、0.4mm等，为了有效地进行下述的化学强化处理，通常优选为5mm以下，更优选为3mm以下，进一步优选为1.5mm以下，特别优选为0.8mm以下。
通常对于厚度0.7mm的玻璃板的化学强化后的翘曲量而言，从发挥最终产品的防水性的观点考虑，或为了避免制造工序的成品率降低，要求在制成90mm见方的玻璃板时的翘曲量为±40μm以内。在此，在使第1主面(顶面)朝上时，将中央部分比周边高的情况设定为正值，在使第2主面(底面)朝上时，将中央部分比周边高的情况设定为负值。在90mm见方的玻璃板中，在CS为700MPa、DOL为11μm的情况下，化学强化后的翘曲量为约130μm。另一方面，化学强化后的玻璃板的翘曲量与板厚的平方处于反比的关系，因此玻璃板的厚度为2.0mm时的翘曲量为约16μm，实质上翘曲不再成为问题。因此，当玻璃板的厚度小于2mm、典型地为1.5mm以下时，有可能产生化学强化后的翘曲的问题。
作为本发明的玻璃板的组成而言，可以列举：在以质量％表示的组成中，含有60％～75％的SiO2、0.1％～12％的Al2O3、10％～20％的Li2O+Na2O+K2O、2％～13％的MgO、0～10％的CaO、0～3％的SrO、0～3％的BaO以及0～4％的ZrO2的玻璃，但没有特别限制。更具体而言，可以列举以下的玻璃的组成。需要说明的是，例如“含有0～10％的CaO”是指CaO不是必需的，但可以含有不超过10％的CaO。
(i)以质量％表示的组成中，含有65％～74％的SiO2、1％～9％的Al2O3、11％～17％的Na2O、0～2％的K2O、3％～6％的MgO和5％～9％的CaO的玻璃
(ii)以质量％表示的组成含有65％～74％的SiO2、1％～9％的Al2O3、12％～18％的Na2O、0～4％的K2O、6％～12％的MgO、0～6％的CaO和0～4％的ZrO2的玻璃
(iii)以质量％表示的组成含有60％～72％的SiO2、4.4％～12％的Al2O3、13％～19％的Na2O、0～5％的K2O、2％～13％的MgO、0～10％的CaO和0～4％的ZrO2的玻璃
本发明的玻璃板可以通过使用上述的玻璃、适当组合下述所说明的脱碱处理、氟化处理、缓冷区域(退火炉)中的脱碱处理等各种表面处理来制造。
(脱碱处理)
作为玻璃的脱碱处理而言，可以列举例如：使用浸涂法或CVD法等成膜法形成不含碱成分的扩散抑制膜的方法、利用与玻璃中的碱成分之间发生离子交换反应的液体或气体进行处理的方法(日本特表平7-507762号公报)、基于在电场的作用下的离子迁移的方法(日本特开昭62-230653号公报)、使含有碱成分的硅酸盐玻璃与120℃以上的液态的水(H2O)接触的方法(日本特开平11-171599号公报)等。
作为与玻璃中的碱成分之间发生离子交换反应的液体或气体，可以列举例如：含氟流体、硫或其化合物或氯化物、酸、氮化物的气体或液体。
作为含氟流体而言，可以列举例如：氟化氢(HF)、氟利昂(例如，含氯氟烃、碳氟化合物、氟氯烃化合物、氢氟烃和卤代烃(ハロン)等)、氢氟酸、氟单质、三氟乙酸、四氟化碳、四氟化硅、五氟化磷、三氟化磷、三氟化硼、三氟化氮和三氟化氯等。
作为硫或其化合物或氯化物的气体或液体而言，可以列举例如：亚硫酸、硫酸、过氧硫酸、硫代硫酸、连二亚硫酸、焦硫酸、过氧二硫酸、连多硫酸、硫化氢和二氧化硫、三氧化硫等。作为酸而言，可以列举：氯化氢、碳酸、硼酸和乳酸等。另外，作为氮化物而言，可以列举硝酸、一氧化氮、二氧化氮和一氧化二氮等。它们不限于气体或液体。
其中，从与玻璃板表面的反应性高的方面考虑，优选氯化氢、氟化氢、氟利昂或氢氟酸。另外，也可以将这些气体中的两种以上混合使用，更优选两种以上的酸的混合物(混合流体)，因为脱碱量增加。
作为混合流体而言，可以列举HCl与HF的混合物、SO3与HF的混合物、CO2与HF的混合物等。另外，由于氟单质在浮抛窑内的氧化力过强，因此优选不使用氟单质。
另外，在使用液体的情况下，既可以将液体原样、例如通过喷涂供给至玻璃板表面，也可以将液体气化后供给至玻璃板表面。另外，可以根据需要利用其它液体或气体进行稀释。
作为与玻璃中的碱成分之间发生离子交换反应的液体或气体而言，可以含有除这些液体、气体以外的液体或气体，该液体或气体优选为在常温下不和与玻璃中的碱成分之间发生离子交换反应的液体或气体发生反应的液体或气体。
作为上述液体或气体而言，可以列举例如：N2、空气、H2、O2、Ne、Xe、CO2、Ar、He和Kr等，但不限于这些。另外，也可以将这些气体中的两种以上混合使用。
作为与玻璃中的碱成分之间发生离子交换反应的气体的载气而言，优选使用N2、氩气等惰性气体。另外，在含有在其结构中存在氟原子的分子的气体中，可以还含有SO2。SO2在通过浮法等连续地生产玻璃板时使用，具有防止在缓冷区域内输送辊与玻璃板接触而在玻璃中产生瑕疵的作用。另外，也可以含有在高温下分解的气体。
此外，与玻璃中的碱成分之间发生离子交换反应的液体或气体中，可以含有水蒸气或水。水蒸气可以通过向加热后的水中鼓入氮气、氦气、氩气或二氧化碳等惰性气体来取得。在需要大量水蒸气的情况下，也可以采用将水送入气化器中而使其直接气化的方法。在以下的说明中，以使用HF气体作为与玻璃中的碱成分之间发生离子交换反应的液体或气体的情况为例进行叙述。
(氟化处理)
作为氟化处理的方法而言，使含氟流体与玻璃板或玻璃带的至少一面接触而进行表面处理。在使含氟流体与玻璃带的至少一面接触而进行表面处理的情况下，玻璃带的温度优选为650℃以上。通过设定为650℃以上，可以在抑制后述的凹部的产生的同时减小化学强化后的玻璃的翘曲量。
作为含氟流体而言，可以列举例如：氟化氢(HF)、氟利昂(例如，含氯氟烃、碳氟化合物、氟氯烃化合物、氢氟烃和卤代烃(ハロン))、氢氟酸、氟单质、三氟乙酸、四氟化碳、四氟化硅、五氟化磷、三氟化磷、三氟化硼、三氟化氮和三氟化氯等，但不限于这些气体或液体。
其中，从与玻璃板表面的反应性高的方面考虑，优选氟化氢、氟利昂或氢氟酸。另外，也可以将这些气体中的两种以上混合使用。另外，由于氟单质在浮抛窑内的氧化力过强，因此优选不使用氟单质。
另外，在使用液体的情况下，既可以将液体原样、例如通过喷涂供给至玻璃板表面，也可以将液体气化后供给至玻璃板表面。另外，可以根据需要利用其它液体或气体进行稀释。
作为含氟流体而言，可以含有除这些液体、气体以外的液体或气体，优选为在常温下不与存在氟原子的分子发生反应的液体或气体。
作为上述液体或气体而言，可以列举例如：N2、空气、H2、O2、Ne、Xe、CO2、Ar、He和Kr等，但不限于这些。另外，也可以将这些气体中的两种以上混合使用。
作为含有在其结构中存在氟原子的分子的气体的载气而言，优选使用N2、氩气等惰性气体。另外，在含有在其结构中存在氟原子的分子的气体中，可以还含有SO2。SO2在通过浮法等连续地生产玻璃板时使用，具有防止在缓冷区域内输送辊与玻璃板接触而在玻璃中产生瑕疵的作用。另外，也可以含有在高温下分解的气体。
此外，在含氟流体中，可以含有水蒸气或水。水蒸气可以通过向加热后的水中鼓入氮气、氦气、氩气或二氧化碳等惰性气体来取得。在需要大量水蒸气的情况下，也可以采用将水送入气化器中而使其直接气化的方法。在以下的说明中，以使用HF气体作为含氟流体的情况为例进行叙述。
(缓冷区域(退火炉)内的脱碱处理)
在浮法形成时，在缓冷区域(退火炉)内，为了防止输送时的损伤，有时从与熔融金属的接触面(第2主面、底面)侧喷吹二氧化硫或三氧化硫。由此，通过使这些硫化合物与玻璃中的碱成分反应，例如产生Na2SO4等固体，在玻璃与输送辊之间形成间隙。由此在底面侧产生二次脱碱，因此，为了调节与熔融金属的非接触面(第1主面、顶面)侧的脱碱，也从顶面侧进行喷雾二氧化硫或三氧化硫的处理。喷雾处理在缓冷区域内的上游侧进行，例如作为玻璃的温度优选400℃～600℃。
可以分别单独喷雾二氧化硫和三氧化硫，也可以与作为稀释气体的空气混合后进行喷雾。在以下的说明中，以喷雾处理三氧化硫(SO3)的情况为例进行叙述。
(浮法)
作为在本发明中将熔融玻璃成形为板状的玻璃板的方法的具体例，对浮法进行详述。浮法中，使用玻璃制造装置来制造玻璃板，所述玻璃制造装置具有将玻璃的原料熔化的熔融炉、使熔融玻璃浮在熔融金属(锡等)上并成形为玻璃带的浮抛窑和对该玻璃带进行缓冷的缓冷炉。
在熔融金属(锡)浴上将玻璃成形时，对于在熔融金属浴上进行输送的的玻璃板，可以从不与金属面接触的一侧进行上述的脱碱处理或氟化处理。在与熔融金属(锡)浴接续的缓冷区域内，玻璃板通过辊进行输送。
在此，缓冷区域不仅包括缓冷炉内，还包括从在浮抛窑内从上述熔融金属(锡)浴运出起直到输送至缓冷炉内为止的部分。在缓冷区域内，可以从不与熔融金属(锡)接触的一侧进行上述的缓冷区域内的脱碱处理。
图3(a)中示出在通过浮法进行的玻璃板的制造中、在浮抛窑内进行脱碱处理或氟化处理的方法的概略说明图。
在使熔融玻璃浮在熔融金属(锡等)上并成形为玻璃带101的浮抛窑中，利用插入到浮抛窑内的横梁102向该玻璃带101喷吹HF气体。如图3(a)所示，优选从玻璃带101不与熔融金属面接触的一侧向玻璃带101喷吹HF气体。箭头Ya表示玻璃带101在浮抛窑内流动的方向。
关于利用横梁102向玻璃带101喷吹HF气体的位置，在玻璃化转变温度为550℃以上的情况下，优选玻璃带101的温度优选为600℃～970℃、更优选为700℃℃～950℃、进一步优选为750℃～950℃的位置。另外，横梁102的位置可以在辐射栅(ラジエーションゲート)103的上游，也可以在辐射栅103的下游。向玻璃带101喷吹的HF气体的量以HF计优选为1×10-6～5×10-4摩尔/1cm2玻璃带。
图3(b)中示出图3(a)的A-A剖视图。利用横梁102从Y1的方向喷吹至玻璃带101的HF气体从“进(IN)”流入，从“出(OUT)”的方向流出。即，沿箭头Y4和Y5的方向移动，并暴露于玻璃带101。另外，沿箭头Y4的方向移动的HF气体从箭头Y2的方向流出，沿箭头Y5的方向移动的HF气体从箭头Y3的方向流出。
化学强化后的玻璃板的翘曲量有时也会根据玻璃带101的宽度方向的位置而发生变化，在这种情况下，优选对HF气体的量进行调节。即，优选：在翘曲量大的位置增加喷吹HF气体的量，在翘曲量小的位置减少喷吹HF气体的量。
在化学强化后的玻璃板的翘曲量根据玻璃带101的位置而发生变化的情况下，可以通过使横梁102的结构为能够在玻璃带101的宽度方向上调节HF气体量的结构以在玻璃带101的宽度方向上调节翘曲量。
作为具体例，图4(a)示出将玻璃带101的宽度方向110以I～III进行三分以对HF气体的量进行调节的横梁102的剖视图。气体系统111～113被隔板114、115分隔开，使HF气体分别从吹气孔116流出并喷吹到玻璃上。
图4(a)中的箭头表示HF气体的流动。图4(b)中的箭头表示气体系统111中的HF气体的流动。图4(c)中的箭头表示气体系统112中的HF气体的流动。图4(d)中的箭头表示气体系统113中的HF气体的流动。
作为向玻璃表面供给HF气体的方法而言，可以列举例如：使用喷射器的方法和使用导入管的方法等。
图1和图2中示出可用于本发明的喷射器的示意图。图1是示意性地表示双向流动式喷射器的图。另外，图2是示意性地表示单向流动式喷射器的图。
HF气体从中央狭缝1和外狭缝2向玻璃板20喷出，通过流路4在玻璃板20上流动，并从排气狭缝5排出。需要说明的是，图1和图2中的符号21为玻璃板20流动的方向，与流路4平行。
在由喷射器供给的“与玻璃中的碱成分之间发生离子交换反应的液体或气体”或“含氟流体”为气体的情况下，喷射器的气体喷出口与玻璃板之间的距离优选为50mm以下。
通过将上述距离设定为50mm以下，能够抑制气体扩散到大气中，相对于所期望的气体量，能够使足够量的气体到达玻璃板。相反地，与玻璃板之间的距离过短时，例如在对通过浮法生产的玻璃板进行在线处理时，有可能会由于玻璃带的变动而使玻璃板与喷射器接触。
另外，在由喷射器供给的“与玻璃中的碱成分之间发生离子交换反应的液体或气体”或“含氟流体”为液体的情况下，喷射器的液体喷出口与玻璃板之间的距离并没有特别限制，只要是能够均匀地对玻璃板进行处理的配置即可。
喷射器可以以双向流动方式或单向流动方式等中的任意一种方式使用，也可以在玻璃板的流动方向上串联地排列两个以上来对玻璃板表面进行处理。双向流动喷射器是指如图1所示HF气体从喷出至排气的流动相对于玻璃板的移动方向在正向和反向上均等分配的喷射器。
单向流动喷射器是指如图2所示HF气体从喷出到排气的流动相对于玻璃板的移动方向固定为正向或反向中的任意一个方向的喷射器。使用单向流动喷射器时，从气流稳定性的观点考虑，优选玻璃板上的HF气体的流动与玻璃板的移动方向相同。
另外，优选HF气体的供给口与未反应的HF气体以及与玻璃板反应而生成的气体、或者HF气体中的两种以上的气体反应而生成的气体的排气口存在于玻璃板的同一侧的面上。
向输送中的玻璃板表面喷雾SO3而进行脱碱处理时，例如，在玻璃板在输送机上流动的情况下，从不与输送机接触的一侧进行供给。另外，也可以通过使用网带等使玻璃板的一部分未被覆盖的网状材料作为输送带而从与输送机接触的一侧进行供给。
另外，可以通过将两台以上的输送机串联排列并在相邻的输送机之间设置喷射器而从与输送机接触的一侧喷雾SO3而对玻璃板表面进行处理。另外，在玻璃板在辊上流动的情况下，可以从不与辊接触的一侧喷雾SO3，也可以在与辊接触的一侧从彼此相邻的辊之间喷雾SO3。
可以从玻璃板的两侧喷雾相同或不同的气体。例如，可以从不与辊接触的一侧和与辊接触的一侧这两侧喷雾气体来对玻璃板进行脱碱处理。例如，在缓冷区域内从两侧喷雾气体的情况下，可以以夹着玻璃板而相向的方式配置喷射器，从不与辊接触的一侧和与辊接触的一侧这两侧对连续输送中的玻璃喷雾气体。
配置在与辊接触的一侧的喷射器和配置在不与辊接触的一侧的喷射器可以配置在玻璃板的流动方向上不同的位置。配置在不同位置时，可以将任意一个喷射器配置在玻璃板的流动方向的上游，也可以配置在玻璃板的流动方向的下游。
通过将利用浮法的玻璃制造技术与CVD技术组合而在线制造带透明导电膜的玻璃板已广为公知。已知在这种情况下，透明导电膜及其基底膜均通过从不与锡接触的面或不与辊接触的面供给气体而在玻璃板上成膜。
例如，在这种通过在线CVD进行的带透明导电膜的玻璃板的制造中，可以在与辊接触的面上配置喷射器，并从该喷射器向玻璃板供给与玻璃中的碱成分之间发生离子交换反应的液体或气体而对玻璃板表面进行处理。
在本发明中，当在退火炉内进行脱碱处理时，将与玻璃中的碱成分之间发生离子交换反应的液体或气体供给至输送中的玻璃板的表面而对该表面进行脱碱处理时的玻璃板的表面温度为缓冷区域内的上游侧的温度，例如优选400℃～600℃。
需要说明的是，在将玻璃板的玻璃化转变温度设为Tg时，在浮抛窑内进行脱碱处理、氟化处理的情况下的该玻璃板的表面温度优选为(Tg+230℃)以上，更优选为(Tg+300℃)以上。
另外，在浮抛窑内，将HF气体供给至玻璃板表面时的玻璃板表面的压力优选为从大气压-100帕斯卡到大气压+100帕斯卡的压力范围的气氛、更优选为从大气压-50帕斯卡到大气压+50帕斯卡的压力范围的气氛。
利用HF气体对玻璃板进行处理时，HF气体流量越多则化学强化处理时的翘曲改善效果越大，因此优选，在总气体流量相同的情况下，HF浓度越高，则化学强化处理时的翘曲改善效果越大。
在总气体流量与HF气体流量两者相同的情况下，对玻璃板进行处理的时间越长，则化学强化处理时的翘曲改善效果越大。即使是不能良好地控制总气体流量或HF流量的设备，通过适当控制玻璃板的输送速度，也能够改善化学强化后的翘曲。
3.化学强化
化学强化是通过在玻璃化转变温度以下的温度下通过离子交换将玻璃表面的离子半径较小的碱金属离子(典型地为Li离子或Na离子)交换为离子半径更大的碱金属离子(典型地为K离子)而在玻璃表面形成压应力层的处理。化学强化处理可以通过以往公知的方法进行。
本发明的经化学强化的玻璃板为改善了化学强化后的翘曲的玻璃板。化学强化后的玻璃板相对于化学强化前的玻璃板的翘曲的变化量(翘曲变化量)可以使用三维形状测定仪(例如株式会社NIDEK(平坦度测定器Flatnesstor FT-17)或三鹰光器株式会社制造)或表面粗糙度·轮廓形状测定仪(例如株式会社东京精密制造)进行测定。
在本发明中，化学强化后的翘曲的改善根据由以下所示的公式求出的Δ翘曲量进行评价。
Δ翘曲量＝化学强化后翘曲量-化学强化前翘曲量
玻璃板的CS(表面压应力)和DOL(压应力层的深度)可以利用表面应力计进行测定。众所周知，翘曲根据化学强化的程度而变化。为了比较相对的翘曲，基于翘曲与CS*DOL的值成比例的假定，可以换算成CS*DOL＝8000(MPa·μm)的情况下的翘曲，从而进行比较。
换算方法：翘曲量(换算值)＝翘曲量(实测值)×8000/(CS(实测值)×DOL(实测值))
实施例
以下，对本发明的实施例进行具体说明，不过本发明并不限定于此。
(玻璃板的组成)
在本试验例中，使用以下的组成的玻璃材料A的玻璃板制作了浮法玻璃。
(玻璃材料A)以质量％表示，含有68.5％的SiO2、5.0％的Al2O3、14.7％的Na2O、0.2％的K2O、4.1％的MgO、7.2％的CaO的玻璃
玻璃化转变温度(Tg)556℃
(Na2O浓度)
Na2O浓度通过上述的XRF(荧光X射线分析)法进行了测定。使用Na2O标准试样通过校准曲线法进行了定量。基于该测定结果求出了上述的ΔNa2O。
(平均1H/30Si计数、氟浓度)
使用上述的二次离子质谱分析(SIMS)测定了氟浓度和1H/30Si计数的厚度方向分布。基于该测定结果求出了上述的Δ1H/30Si、ΔF、表层氟比例(F0-3/F0-30)。
(锡浓度)
锡浓度通过上述的XRF(荧光X射线分析)法进行了测定。使用玻璃中的SnO2的标准试样通过校准曲线进行定量，计算出作为玻璃中的锡含量的指标的锡计数的值。基于该测定结果求出了上述的ΔSn。
(CS和DOL)
CS和DOL使用折原制作所社制造的表面应力计(FSM-6000LE)进行了测定。
(翘曲量的测定)
玻璃的翘曲量使用Flatness Tester FT-17(株式会社NIDEK制造)进行了测定。
下述各试验例中，例1～8为实施例，例9～18为比较例。
(例1～4)
在玻璃材料A的玻璃带所流动的浮抛窑中，使用HF气体，在下述所示的各条件下实施了顶面的氟化处理。
例1：HF气体6(体积％)、处理时间3.5秒、处理温度830℃
例2：HF气体5(体积％)、处理时间3.5秒、处理温度830℃
例3：HF气体4(体积％)、处理时间3.5秒、处理温度830℃
例4：HF气体2(体积％)、处理时间3.5秒、处理温度830℃
(例5～8)
在玻璃材料A的玻璃带所流动的浮抛窑中，使用HF气体，在下述所示的各条件下实施了顶面的氟化处理，然后在退火炉中，使用SO3，在下述所示的各条件下实施了顶面的脱碱处理。
例5：HF气体6(体积％)、处理时间3.5秒、处理温度830℃→在退火炉中，SO3约5(体积％)、温度500℃～550℃范围内喷雾处理
例6：HF气体5(体积％)、处理时间3.5秒、处理温度830℃→在退火炉中，SO3约5(体积％)、温度500℃～550℃范围内喷雾处理
例7：HF气体4(体积％)、处理时间3.5秒、处理温度830℃→在退火炉中，SO3约9(体积％)、温度500℃～550℃范围内喷雾处理
例8：HF气体2(体积％)、处理时间3.5秒、处理温度830℃→在退火炉中，SO3约7.5(体积％)、温度500℃～550℃范围内喷雾处理
(例9)
例9：在不进行氟化处理、脱碱处理的情况下制作了玻璃材料A。
(例10)
例10：与通常的制造时相比，将浮法成形时的温度比浮抛窑上游降低约30℃，进行了成形。
(例11～12)
例11：将投入浮抛窑内的氢浓度增加至10体积％。
例12：将投入浮抛窑内的氢浓度减少至1体积％。
(例13～15)
在玻璃材料A的玻璃带所流动的浮抛窑中，使用HF与HCl的混合气体，在下述各条件下实施了顶面的脱碱处理。
例13：HF:HCl＝4:8(体积％)、处理时间3.5秒、处理温度752℃
例14：HF:HCl＝6:12(体积％)、处理时间3.5秒、处理温度752℃
例15：HF:HCl＝6:6(体积％)、处理时间3.5秒、处理温度752℃
(例16～例18)
在玻璃材料A的玻璃带所流动的浮抛窑中，使用HF气体，在下述所示的各条件下实施了顶面的氟化处理。
例16：HF气体4(体积％)、处理时间3.5秒、处理温度725℃
例17：HF气体10(体积％)、处理时间3.5秒、处理温度830℃
例18：HF气体8(体积％)、处理时间3.5秒、处理温度830℃
将在上述各试验例中得到的板厚0.7mm的玻璃切割成100mm见方的三块，对该基板的相当于90mm见方的部分的翘曲进行测定，作为强化前的翘曲量。然后，将玻璃浸渍于加热至410℃的KNO3熔融盐中6小时而进行了化学强化。接着，对基板的相当于90mm见方的部分的翘曲进行测定，作为强化后的翘曲量。
另外，对化学强化前的各玻璃的两表面，使用玻璃研磨机进行3μm研磨，以与上述同样的方式进行了化学强化，然后以同样的方式测定了翘曲量。
由各翘曲量的实测值、CS和DOL基于下式计算出翘曲量的换算值，进而算出由下式表示的翘曲变化量(Δ翘曲量)。
翘曲量(换算值)＝翘曲量(实测值)×8000/(CS(实测值)×DOL(实测值))
Δ翘曲量(未研磨)＝化学强化后翘曲量-化学强化前翘曲量
Δ翘曲量(研磨后)＝研磨后且化学强化后翘曲量-研磨后且化学强化前翘曲量
对于翘曲变化量(Δ翘曲量)的容许范围而言，未研磨、研磨后均为±40μm。
将结果示于表1中。
从表1可知，X和F0-3在本发明的范围内的实施例的玻璃板不论未研磨还是经研磨，均有效地改善了化学强化后的翘曲。
参考特定的方式对本发明详细地进行了说明，但对于本领域技术人员而言显而易见的是，可以在不脱离本发明的精神和范围的情况下进行各种变更和修正。需要说明的是，本申请基于在2015年3月25日申请的日本专利申请(日本特愿2015-063309)，通过引用将其全部内容援引于此。另外，在本文中引用的全部的参考作为整体并入本文中。
附图标记
1 中央狭缝
2 外狭缝
4 流路
5 排气狭缝
20 玻璃板
101 玻璃带
102 横梁
103 辐射栅
110 玻璃带的宽度方向
111、112、113 气体系统
114、115 隔板
116 吹气孔

Claims (4)

1.一种玻璃板，其具有第1主面和在厚度方向上位于第1主面相反侧的第2主面，其中，
由下述式(1)表示的X为-0.29＜X＜0.29，并且
通过下式(II)求出的F0-3为0.02以上，
A×Δ1H/30Si+B×ΔNa2O+C×ΔSn+D×ΔF＝X (1)
在此，式(1)中的各参数表示以下的含义，
Δ1H/30Si：从第1主面中的深度3μm～12μm的由二次离子质谱分析(SIMS)得到的平均1H/30Si计数中减去第2主面中的深度3μm～12μm的由SIMS得到的平均1H/30Si计数而得到的差值
ΔNa2O：从第1主面中的深度0～3μm的由XRF得到的平均Na2O浓度(重量％)中减去第2主面中的深度0～3μm的由XRF得到的平均Na2O浓度(重量％)而得到的差值
ΔSn：从第1主面中的深度0～10μm的由XRF得到的作为表示玻璃中的锡的含量的指标的锡计数的值中减去第2主面中的深度0～10μm的由XRF得到的作为表示玻璃中的锡的含量的指标的锡计数而得到的差值
ΔF：从第1主面中的深度0～12μm的由SIMS得到的平均氟浓度(重量％)×12中减去第2主面中的深度0～12μm的由SIMS得到的平均氟浓度(重量％)×12而得到的差值
A：-128.95
B：1
C：-0.0002428
D：-0.009922
F0-3＝[第1主面中的深度0～3μm的由SIMS得到的平均氟浓度(重量％)]×3 (II)。
2.如权利要求1所述的玻璃板，其中，由下式(I)表示的表层氟比例为大于等于0.2且小于0.9，
表层氟比例＝F0-3/F0-30 (I)
式(I)中，F0-3通过下式(II)求出：
F0-3＝[第1主面中的深度0～3μm的由SIMS得到的平均氟浓度(重量％)]×3 (II)
式(I)中，F0-30通过下式(III)求出：
F0-30＝[第1主面中的深度0～30μm的由SIMS得到的平均氟浓度(重量％)]×30 (III)。
3.如权利要求1或2所述的玻璃板，其中，所述玻璃板为通过浮法制造的玻璃板。
4.一种化学强化玻璃板，其通过对权利要求1～3中任一项所述的玻璃板进行化学强化而得到。
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