CN107254695A - Pcb板电镀铜工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种PCB板化学镍金工艺,包括以下步骤:(1)除油,(2)水洗,(3)浸酸,(4)电镀,(5)水洗;步骤(4)采用全自动电镀设备包括PLC控制器,电镀车以及电镀槽,电镀车上设有电镀车控制器,电镀槽上设有电镀槽控制器,电镀槽中设有电镀液,电镀液由硫酸铜、硫酸、添加剂及活性炭组成,电镀槽中还设有槽腔及阳极导电母排,槽腔用于放置待电镀PCB板,槽腔的两侧均设有喷嘴,阳极导电母排上设有钛篮,钛篮套有阳极袋,钛篮下端设有阳极遮挡布,电镀车将待电镀PCB板运送至电镀槽,电镀车设有吊臂,吊臂用于将待电镀PCB板放置于槽腔中。本发明电镀的PCB的铜层厚度均匀,提高PCB板的耐腐蚀性和导电性。
Description
技术领域
本发明涉及电镀技术领域,尤其涉及一种PCB板电镀铜工艺。
背景技术
PCB板又称印刷电路板或印制电路板,是电子元器件电气连接的提供者。它的发展已经有100多年的历史了,设计主要是版图设计,采用电路板的主要优点是大大减少布线和装配的差错,提高了自动化水平和生产劳动率。由于集成电路封装密度增加,导致互连线的高度集中,因此双面板甚至多层板的使用成为必须,为了实现多层板之间的电气连接,必须进行钻孔。金属铜具有良好的导电性、导热性及电阻率低、可靠性高、延展性好等特性,目前被广泛用作超大集成电路和PCB板制造中的互连材料。
在PCB板制作过程中通过化学沉铜工艺在PCB板的板面及孔中获得极薄的一层铜,为了防止在后序工艺蚀刻过程中将铜层蚀刻掉,从而导致PCB板报废,因此必须增加铜的厚度。在制作PCB板的过程中,为了增加铜的厚度,电镀是必不可少的工序,通过电镀程序增加孔铜和面铜的厚度,提高PCB板的耐腐蚀性和导电性。
镀铜厚度是否均匀直接影响着PCB板电镀的质量,从而影响PCB板的的质量,因此在PCB板制作过程中必须镀铜的均匀性。
发明内容
本发明的目的在于提供一种PCB板电镀铜工艺,以解决现有技术中提出的问题。
为实现上述目的,本发明提供一种PCB板电镀铜工艺,包括以下步骤:(1)取待电镀PCB板放入酸性除油剂中除油,(2)水洗,(3)将步骤(2)处理后的PCB板放入酸中浸泡,(4)利用全自动电镀设备将步骤(3)处理后的PCB板电镀,(5)水洗,其中步骤(4)所述全自动电镀设备包括PLC控制器、电镀车以及电镀槽,所述电镀车上设有电镀车控制器,所述电镀槽上设有电镀槽控制器,所述电镀槽中设有电镀液,所述电镀液由硫酸铜溶液、硫酸、添加剂及活性炭组成,所述电镀槽中还设有槽腔及阳极导电母排,所述槽腔用于放置待电镀PCB板,所述槽腔的两侧均设有喷嘴,所述喷嘴交替喷射电镀液,所述喷嘴喷射方向平行于待电镀PCB板的面,所述阳极导电母排上设有钛篮,所述钛篮套有阳极袋,所述钛篮下端还设有阳极遮挡布,所述电镀车将待电镀PCB板运送至电镀槽,所述电镀车设有吊臂,所述吊臂通过所述电镀车控制器将待电镀PCB板放置所述槽腔中。
上述技术方案中,所述PLC控制器控制电镀槽控制器及电镀车控制器。
上述技术方案中,所述阳极遮挡布上设有电镀线,所述电镀线与电镀槽控制器连接。
上述技术方案中,步骤(1)所述的酸性除油剂的浓度为8mL/L~15mL/L,所述待电镀的PCB板除油时间为3~6分钟。
上述技术方案中,步骤(3)所述的酸为硫酸、硝酸或盐酸,所述酸的浓度为100mL/L~150mL/L,处理时间为10~30分钟。
上述技术方案中,所述硫酸铜的浓度为50g/L~100g/L,所述硫酸的浓度为90mL/L~120mL/L。
上述技术方案中,所述添加剂为氯离子、加速剂、抑制剂及整平剂。
上述技术方案中,所述氯离子为氯盐,所述氯离子的浓度为30mg/L~80mg/L,所述加速剂为脂肪族含硫化合物,所述加速剂的浓度为0.2mg/L~0.5mg/L,所述抑制剂为聚醚类化合物,所述抑制剂的浓度为15mg/L~25mg/L,所述整平剂为聚胺类化合物,所述整平剂的浓度为12mg/L~18mg/L。
上述技术方案中,所述活性炭用于处理添加剂所产生的的副产物。
本发明的有益效果在于:
(1)本发明的电镀液中加入添加剂,氯离子与其他添加剂的协同作用,可以降低待电镀PCB板极化,实现镀层的光亮平整;
(2)本发明的电镀液中加入添加剂,加速剂与其他添加剂协同作用,有利于电镀过程中晶核的形成,发挥着细化晶粒的作用,使晶核分布致密,促使度铜层变得平滑;
(3)本发明的电镀液中加入添加剂,在氯离子的协同作用下,抑制剂在待电镀的PCB板表面吸附使待电镀的PCB板上的电流区的差异降低,使铜能均匀持续沉积,同时可以降低待电镀的PCB板的表面张力,使电镀液更容易进入孔内,增加孔内的铜的厚度;
(4)本发明的电镀液中加入添加剂,整平剂与其他添加剂协同作用,可以抑制待电镀的PCB板上高电流区铜的沉积,从而提高镀铜层厚度的均匀性;
(5)本发明的电镀液中加入活性炭可以处理添加剂副产物,从而防止添加剂副产物对镀铜的影响;
(6)本发明钛篮外套有阳极袋,可以防止钛篮处产生的阳极泥渣进入电镀液中,延长电镀液的使用寿命,降低电镀槽的污染,从而降低生产成本;
(7)本发明电镀设备的PLC控制器可以根据待电镀的PCB板尺寸移动阳极遮挡布,将钛篮下端与待电镀的PCB板相比多出的部分遮挡屏蔽,防止钛篮产生的阳离子在待电镀的PCB板较短的一端被还原形成堆积铜层,提高铜层厚度的均匀性;
(8)本发明的电镀槽两侧设置的喷嘴交替喷流电镀液,且喷流的方向平行于待电镀的PCB板的板面,从而使待电镀的PCB板的孔产生负压,从而使孔内电镀的铜层的厚度增加,且铜层均匀;
具体实施方式
本发明提出的一种PCB板电镀铜工艺,包括以下步骤:
(1)取待电镀的PCB板放入浓度为8mL/L~15mL/L酸性除油剂中除油,处理时间为3~6分钟;
(2)高压水洗步骤(1)处理的PCB板,清洗残留的酸性除油剂;
(3)将步骤(2)处理后的PCB板放入浓度为100mL/L~150mL/L的硫酸、硝酸或盐酸中浸泡10~30分钟,除去板面氧化物;
(4)利用全自动电镀设备将步骤(3)处理后的PCB板进行电镀;
(5)利用高压水洗步骤(4)处理的PCB板,清洗残留的电镀液;
其中步骤(4)所述全自动电镀设备包括PLC控制器,电镀车以及电镀槽,所述电镀车上设有电镀车控制器,所述电镀槽上设有电镀槽控制器,电镀车控制器及电镀槽控制器通过PLC控制器控制,所述电镀槽中设有电镀液,所述电镀液成分由浓度为50g/L~100g/L的硫酸铜溶液、浓度为90mL/L~120mL/L的硫酸、添加剂及活性炭组成,其中添加剂由浓度为30mg/L~80mg/L的氯盐、浓度为0.2mg/L~0.5mg/L脂肪族含硫化合物、浓度为15mg/L~25mg/L的聚醚类化合物及浓度为12mg/L~18mg/L的聚胺类化合物组成,所述电镀槽中还设有槽腔及阳极导电母排,所述槽腔用于放置待电镀PCB板,所述槽腔的两侧均设有喷嘴,所述喷嘴交替喷射电镀液,所述喷嘴喷射方向平行于待电镀PCB板的面,所述阳极导电母排上设有钛篮,所述钛篮外套有阳极袋,所述钛篮下端还设有阳极遮挡布,阳极遮挡布上设有电镀线,电镀线由电镀槽控制器控制,电镀车上的控制器将待电镀的PCB板的尺寸信息传递给PLC控制器后,PLC控制器再将待电镀的PCB板的尺寸信息传递给电镀槽控制器,阳极遮挡布上的电镀线通过电镀槽控制器进行调节,将钛篮下端与待电镀的PCB板相比多出的部分遮挡屏蔽,所述电镀车用于运载待电镀PCB板,所述电镀车设有吊臂,所述吊臂用于将待电镀PCB板放置于所述槽腔中。
实施例1
(1)取待电镀的PCB板放入浓度为8mL/L酸性除油剂中除油,处理时间为3分钟;
(2)利用高压水洗步骤(1)处理的PCB板,清洗残留的除油剂;
(3)将步骤(2)处理后的PCB板放入浓度为100mL/L的硫酸中浸泡10分钟,除去板面氧化物;
(4)将步骤(3)处理后的PCB板装载在电镀车上运送至电镀槽,电镀车上的吊臂将PCB板放入电镀槽中的槽腔内进行电镀,电镀槽内加入电镀液及活性炭,电镀液由浓度为50g/L的硫酸铜溶液、浓度为90mL/L的硫酸、浓度为30mg/L的氯化钠、浓度为0.2mg/L聚二硫二丙烷磺酸钠、浓度为15mg/L的聚乙二醇及浓度为12mg/L的聚醚酰亚胺组成;
(5)利用高压水洗步骤(4)处理的PCB板,清洗残留的电镀液。
实施例2
(1)取待电镀的PCB板放入浓度为12mL/L酸性除油剂中除油,处理时间为5分钟;
(2)利用高压水洗步骤(1)处理的PCB板,清洗残留的除油剂;
(3)将步骤(2)处理后的PCB板放入浓度为125mL/L的硫酸中浸泡20分钟,除去板面氧化物;
(4)将步骤(3)处理后的PCB板装载在电镀车上运送至电镀槽,电镀车上的吊臂将PCB板放入电镀槽中的槽腔内进行电镀,电镀槽内加入电镀液及活性炭,电镀槽内的电镀液由浓度为75g/L的硫酸铜溶液、浓度为105mL/L的硫酸、浓度为60mg/L的氯化钠、浓度为0.4mg/L聚二硫二丙烷磺酸钠、浓度为20mg/L的聚乙二醇及浓度为15mg/L的聚醚酰亚胺组成;
(5)利用高压水洗步骤(4)处理的PCB板,清洗残留的电镀液。
实施例3
(1)取待电镀的PCB板放入浓度为15mL/L酸性除油剂中除油,处理时间为6分钟;
(2)利用高压水洗步骤(1)处理的PCB板,清洗残留的除油剂;
(3)将步骤(2)处理后的PCB板放入浓度为150mL/L的硫酸中浸泡30分钟,除去板面氧化物;
(4)将步骤(3)处理后的PCB板装载在电镀车上运送至电镀槽,电镀车上的吊臂将PCB板放入电镀槽中的槽腔内进行电镀,电镀槽内加入电镀液及活性炭,电镀槽内的电镀液由浓度为100g/L的硫酸铜溶液、浓度为120mL/L的硫酸、浓度为80mg/L的氯化钠、浓度为0.5mg/L聚二硫二丙烷磺酸钠、浓度为25mg/L的聚乙二醇及浓度为18mg/L的聚醚酰亚胺组成;
(5)利用高压水洗步骤(4)处理的PCB板,清洗残留的电镀液。
实施例4
(1)取待电镀的PCB板放入浓度为8mL/L酸性除油剂中除油,处理时间为3分钟;
(2)利用高压水洗步骤(1)处理的PCB板,清洗残留的除油剂;
(3)将步骤(2)处理后的PCB板放入浓度为100mL/L的硝酸中浸泡10分钟,除去板面氧化物;
(4)将步骤(3)处理后的PCB板装载在电镀车上运送至电镀槽,电镀车上的吊臂将PCB板放入电镀槽中的槽腔内进行电镀,电镀槽内加入电镀液及活性炭,电镀槽内的电镀液由浓度为50g/L的硫酸铜溶液、浓度为90mL/L的硫酸、浓度为30mg/L的氯化钠、浓度为0.2mg/L聚二硫二丙烷磺酸钠、浓度为15mg/L的聚乙二醇及浓度为12mg/L的聚醚酰亚胺组成;
(5)利用高压水洗步骤(4)处理的PCB板,清洗残留的电镀液。
实施例5
(1)取待电镀的PCB板放入浓度为12mL/L酸性除油剂中除油,处理时间为5分钟;
(2)利用高压水洗步骤(1)处理的PCB板,清洗残留的除油剂;
(3)将步骤(2)处理后的PCB板放入浓度为125mL/L的硝酸中浸泡20分钟,除去板面氧化物;
(4)将步骤(3)处理后的PCB板装载在电镀车上运送至电镀槽,电镀车上的吊臂将PCB板放入电镀槽中的槽腔内进行电镀,电镀槽内加入电镀液及活性炭,电镀槽内的电镀液由浓度为75g/L的硫酸铜溶液、浓度为105mL/L的硫酸、浓度为60mg/L的氯化钠、浓度为0.4mg/L聚二硫二丙烷磺酸钠、浓度为20mg/L的聚乙二醇及浓度为15mg/L的聚醚酰亚胺组成;
(5)利用高压水洗步骤(4)处理的PCB板,清洗残留的电镀液。
实施例6
(1)取待电镀的PCB板放入浓度为15mL/L酸性除油剂中除油,处理时间为6分钟;
(2)利用高压水洗步骤(1)处理的PCB板,清洗残留的除油剂;
(3)将步骤(2)处理后的PCB板放入浓度为150mL/L的硝酸中浸泡30分钟,除去板面氧化物;
(4)将步骤(3)处理后的PCB板装载在电镀车上运送至电镀槽,电镀车上的吊臂将PCB板放入电镀槽中的槽腔内进行电镀,电镀槽内加入电镀液及活性炭,电镀槽内的电镀液由浓度为100g/L的硫酸铜溶液、浓度为120mL/L的硫酸、浓度为80mg/L的氯化钠、浓度为0.5mg/L聚二硫二丙烷磺酸钠、浓度为25mg/L的聚乙二醇及浓度为18mg/L的聚醚酰亚胺组成;
(5)利用高压水洗步骤(4)处理的PCB板,清洗残留的电镀液。
实施例7
(1)取待电镀的PCB板放入浓度为8mL/L酸性除油剂中除油,处理时间为3分钟;
(2)利用高压水洗步骤(1)处理的PCB板,清洗残留的除油剂;
(3)将步骤(2)处理后的PCB板放入浓度为100mL/L的盐酸中浸泡10分钟,除去板面氧化物;
(4)将步骤(3)处理后的PCB板装载在电镀车上运送至电镀槽,电镀车上的吊臂将PCB板放入电镀槽中的槽腔内进行电镀,电镀槽内加入电镀液及活性炭,电镀槽内的电镀液由浓度为50g/L的硫酸铜溶液、浓度为90mL/L的硫酸、浓度为30mg/L的氯化钠、浓度为0.2mg/L聚二硫二丙烷磺酸钠、浓度为15mg/L的聚乙二醇及浓度为12mg/L的聚醚酰亚胺组成;
(5)利用高压水洗步骤(4)处理的PCB板,清洗残留的电镀液。
实施例8
(1)取待电镀的PCB板放入浓度为12mL/L酸性除油剂中除油,处理时间为5分钟;
(2)利用高压水洗步骤(1)处理的PCB板,清洗残留的除油剂;
(3)将步骤(2)处理后的PCB板放入浓度为125mL/L的盐酸中浸泡20分钟,除去板面氧化物;
(4)将步骤(3)处理后的PCB板装载在电镀车上运送至电镀槽,电镀车上的吊臂将PCB板放入电镀槽中的槽腔内进行电镀,电镀槽内加入电镀液及活性炭,电镀槽内的电镀液由浓度为75g/L的硫酸铜溶液、浓度为105mL/L的硫酸、浓度为60mg/L的氯化钠、浓度为0.4mg/L聚二硫二丙烷磺酸钠、浓度为20mg/L的聚乙二醇及浓度为15mg/L的聚醚酰亚胺组成;
(5)利用高压水洗步骤(4)处理的PCB板,清洗残留的电镀液。
实施例9
(1)取待电镀的PCB板放入浓度为15mL/L酸性除油剂中除油,处理时间为6分钟;
(2)利用高压水洗步骤(1)处理的PCB板,清洗残留的除油剂;
(3)将步骤(2)处理后的PCB板放入浓度为150mL/L的盐酸中浸泡30分钟,除去板面氧化物;
(4)将步骤(3)处理后的PCB板装载在电镀车上运送至电镀槽,电镀车上的吊臂将PCB板放入电镀槽中的槽腔内进行电镀,电镀槽内加入电镀液及活性炭,电镀槽内的电镀液由浓度为100g/L的硫酸铜溶液、浓度为120mL/L的硫酸、浓度为80mg/L的氯化钠、浓度为0.5mg/L聚二硫二丙烷磺酸钠、浓度为25mg/L的聚乙二醇及浓度为18mg/L的聚醚酰亚胺组成;
(5)利用高压水洗步骤(4)处理的PCB板,清洗残留的电镀液。
最后说明的是,以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非限制,尽管参照较佳实施例对本发明进行了详细说明,本领域的普通技术人员应当理解,可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换,而不脱离本发明技术方案的宗旨和范围,其均应涵盖在本发明的权利要求范围中。
Claims (9)
1.一种PCB板电镀铜工艺,包括以下步骤:
(1)取待电镀PCB板放入酸性除油剂中除油,
(2)水洗,
(3)将步骤(2)处理后的PCB板放入酸中浸泡,
(4)利用全自动电镀设备将步骤(3)处理后的PCB板电镀,
(5)水洗,
其特征在于:步骤(4)所述全自动电镀设备包括PLC控制器、电镀车及电镀槽,所述电镀车上设有电镀车控制器,所述电镀槽上设有电镀槽控制器,所述电镀槽中设有电镀液,所述电镀液由硫酸铜溶液、硫酸、添加剂及活性炭组成,所述电镀槽中还设有槽腔及阳极导电母排,所述槽腔用于放置待电镀PCB板,所述槽腔的两侧均设有喷嘴,所述喷嘴交替喷射电镀液,所述喷嘴喷射方向平行于待电镀PCB板的面,所述阳极导电母排上设有钛篮,所述钛篮套有阳极袋,所述钛篮下端还设有阳极遮挡布,所述电镀车将待电镀PCB板运送至电镀槽,所述电镀车上设有吊臂,所述吊臂通过所述电镀车控制器将待电镀PCB板放置所述槽腔中。
2.如权利要求1所述的PCB板电镀铜工艺,其特征在于:所述PLC控制器控制电镀槽控制器及电镀车控制器。
3.如权利要求1所述的PCB板电镀铜工艺,其特征在于:所述阳极遮挡布上设有电镀线,所述电镀线与电镀槽控制器连接。
4.如权利要求1所述的PCB板电镀铜工艺,其特征在于:步骤(1)所述的酸性除油剂的浓度为8mL/L~15mL/L,所述待电镀PCB板除油时间为3~6分钟。
5.如权利要求1所述的PCB板电镀铜工艺,其特征在于:步骤(3)所述的酸为硫酸、硝酸或盐酸,所述酸的浓度为100mL/L~150mL/L,浸泡时间为10~30分钟。
6.如权利要求1所述的PCB板电镀铜工艺,其特征在于:所述硫酸铜的浓度为50g/L~100g/L,所述硫酸的浓度为90mL/L~120mL/L。
7.如权利要求1所述的PCB板电镀铜工艺,其特征在于:所述添加剂为氯离子、加速剂、抑制剂及整平剂。
8.如权利要求5所述的PCB板电镀铜工艺,其特征在于:所述氯离子为氯盐,所述氯离子的浓度为30mg/L~80mg/L,所述加速剂为脂肪族含硫化合物,所述加速剂的浓度为0.2mg/L~0.5mg/L,所述抑制剂为聚醚类化合物,所述抑制剂的浓度为15mg/L~25mg/L,所述整平剂为聚胺类化合物,所述整平剂的浓度为12mg/L~18mg/L。
9.如权利要求1所述的PCB板电镀铜工艺,其特征在于:所述活性炭用于处理添加剂所产生的的副产物。
Priority Applications (1)
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Country Status (1)
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