CN107111257A - 电子照相感光体 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种感光体的强曝光暴露后的电位变化得到抑制、成膜及耐磨耗性的机械特性提高的电子照相感光体、盒、图像形成装置。本发明涉及一种电子照相感光体，其特征在于，其在导电性基体上具有电荷产生层及膜厚为15μm以上且40μm以下的电荷传输层，该电荷传输层为最外层，该电荷传输层含有无机填料和下述通式(1)所示的烃化合物。

Description

电子照相感光体
技术领域
本发明涉及电子照相感光体，详细而言，涉及耐强曝光特性提高且耐磨耗性及耐成膜性等机械特性、以及耐气体性也优良的电子照相感光体。
背景技术
近年的电子照相感光体对电特性方面及机械特性方面这两方面比以前更要求耐久性。其中，在机械特性方面，为了应对长期使用而提高感光体最外层表面的耐磨耗性成为课题之一。另外，为了使使用期间内所必需的设备维护等容易进行，抑制由维护时自然光或荧光灯的漫射光等引起的、对感光体的所谓强曝光暴露所引起的不良影响也是课题之一。
其中，就前者的机械特性方面而言，已知通过使保护层中含有金属氧化物颗粒而提高耐磨耗性等的技术(专利文献1)。通过使比感光层薄(1～5μm左右)的保护层中含有金属氧化物颗粒，可以抑制金属氧化物颗粒的使用量，是抑制对电特性的不良影响且以机械特性方面的改良为目标的合理方法。
另外，将对于后者的由自然光或荧光灯的漫射光等引起的强曝光暴露对感光体的损伤的耐受性称为耐强曝光特性，作为提高该特性的技术，已知在感光层中使用具有供电子性的修饰的氨基结构的特定化合物来改良耐强曝光特性的技术(专利文献2)。
该技术的本质在于，通过使感光层中含有特定化合物而发挥滤波器作用、抑制这些光给感光体造成的损伤，所述特定化合物具备在与自然光或荧光灯的漫射光相当的波长区具有吸收的供电子性骨架。
损伤产生的推定机理如下。由于感光层吸收自然光、荧光灯的漫射光，产生感光层的电荷传输物质的激发状态、或电荷传输物质与粘结剂树脂间的电荷移动络合物的激发状态，通过继而发生的与氧或臭氧的反应而发生电荷传输物质的劣化，这是感光体损伤的原因。
通过添加上述特定化合物来抑制感光层中的感光材料对自然光、荧光灯的漫射光等有害光的吸收的方法，作为感光体损伤的抑制对策是合理的。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2002-182416号公报
专利文献2：日本特开2004-206109号公报
发明内容
发明要解决的问题
但是，专利文献2中记载的上述添加特定化合物的技术中，具有供电子性骨架的特定化合物在电荷传输层中为相容化状态，因此容易限制电荷传输，其结果是，感光体的强曝光暴露后的电位变化的抑制不充分。
本发明是为了解决这样的课题而作出的。即，本发明的目的在于，提供一种强曝光暴露所引起的电特性变动少、机械特性和耐气体性也优良的电子照相感光体以及搭载有上述电子照相感光体的图像形成装置。
用于解决问题的方案
本发明人朝着通过在感光层中利用非相容的材料来解决课题的方向进行了深入研究，完成了提供感光体的耐强曝光特性良好、且机械特性和耐气体性也优良的感光体的技术。
即，本发明的主旨在于以下＜1＞～＜12＞。
＜1＞一种电子照相感光体，其特征在于，其在导电性基体上具备电荷产生层、及膜厚为15μm以上且40μm以下的电荷传输层，该电荷传输层为最外层，该电荷传输层含有无机填料和下述通式(1)所示的烃化合物，
通式(1)
＜2＞根据＜1＞所述的电子照相感光体，其中，所述无机填料为二氧化硅。
＜3＞根据＜2＞所述的电子照相感光体，其中，所述二氧化硅进行了表面修饰。
＜4＞根据＜1＞～＜3＞中的任一种所述的电子照相感光体，其中，所述无机填料的平均一次粒径为0.01μm以上且1μm以下。
＜5＞根据＜1＞～＜4＞中的任一种所述的电子照相感光体，其中，所述电荷传输层含有粘结剂树脂，所述无机填料的含量相对于该粘结剂树脂为5质量％以上且30质量％以下。
＜6＞根据＜1＞～＜5＞中的任一种所述的电子照相感光体，其中，所述通式(1)所示的烃化合物的比例相对于所述无机填料为10质量％以上且100质量％以下。
＜7＞根据＜1＞～＜6＞中的任一种所述的电子照相感光体，其中，所述电荷传输层含有通式(2)所示的化合物作为吸电子性化合物，
通式(2)
通式(2)中，X1，X2，X3，X4，Y1，Y2，Y3，Y4表示氢原子、烷基、芳基、酰基或2价的有机基团，可以形成含有X1和X2的环结构、含有X3和X4的环结构、含有Y1和Y2的环结构、含有Y3和Y4的环结构。
＜8＞根据＜7＞所述的电子照相感光体，其中，所述通式(2)所示的吸电子性化合物为下述通式(2a)～(2d)所示的化合物中的任一种，
通式(2a)
通式(2b)
通式(2c)
通式(2d)
＜9＞根据＜7＞或＜8＞所述的电子照相感光体，其中，所述通式(2)所示的吸电子性化合物的含有比例相对于所述二氧化硅为2质量％以上且50质量％以下。
＜10＞根据＜1＞～＜9＞中的任一种所述的电子照相感光体，其中，所述电荷产生层含有D型(Y型)氧钛酞菁，所述D型(Y型)氧钛酞菁在CuKα特性X射线衍射光谱中、在布拉格角2θ(±0.2゜)为27.1゜以上且27.3゜以下显示出明显的峰。
＜11＞根据＜1＞～＜10＞中的任一种所述的电子照相感光体，其中，所述电荷产生层含有D型(Y型)氧钛酞菁，所述D型(Y型)氧钛酞菁在CuKα特性X射线衍射光谱中、至少在布拉格角2θ±0.2゜＝27.2゜具有最大峰且在26.2゜不具有峰，并且，在差示扫描量热分析中除了伴随吸附水气化的峰以外，在50℃～400℃不具有因温度变化而产生的峰。
＜12＞根据＜1＞～＜11＞中的任一种所述的电子照相感光体，其具备阻挡层。
发明的效果
根据本发明，提供一种强曝光暴露所引起的电特性变动少、机械特性和耐气体性也优良的电子照相感光体。
附图说明
[图1]图1为示意性示出本发明的图像形成装置的主要部分结构的一例的图。
[图2]图2为本发明的实施例中使用的电荷产生材料的CuKα特性X射线衍射光谱。
具体实施方式
以下，详细说明本发明的实施方式，以下记载的构成要件的说明是本发明的实施方式的代表例，可以在不脱离本发明的主旨的范围内进行适当变形而实施。需要说明的是，本说明书中，Me表示甲基，Et表示乙基，tBu表示叔丁基。
<<电子照相感光体>>
以下说明本发明的电子照相感光体的构成。本发明的电子照相感光体是层叠型电子照相感光体，其在导电性支承体上(在设置阳极氧化覆膜、树脂层等阻挡层的情况下，在阻挡层上)具备电荷产生层及膜厚15μm以上且40μm以下的电荷传输层，该电荷传输层为最外层，电荷传输层含有电荷传输物质、粘结剂树脂、无机填料和通式(1)所示的化合物，另外还可以根据需要含有抗氧化剂、流平剂、其它添加物。
＜导电性支承体＞
关于导电性支承体，对其材质没有特别限制，主要列举例如：铝、铝合金、不锈钢、铜及镍等金属材料；添加金属、碳及氧化锡等导电性粉体从而赋予了导电性的树脂材料，以及在其表面蒸镀或涂布有铝、镍及ITO(氧化铟氧化锡)等导电性材料的树脂、玻璃以及纸等。这些可以单独使用1种，也可以以任意组合及比率组合使用2种以上。
作为导电性支承体的形态，可以列举例如：筒状、片状或带状等形态。进而，也可以使用为了导电性和表面性等的控制、覆盖缺陷而在金属材料的导电性支承体上涂布了具有适当电阻值的导电性材料的形态。
另外，使用铝合金等金属材料作为导电性支承体时，可以施加阳极氧化覆膜后使用。在施加了阳极氧化覆膜的情况下，优选通过公知的方法实施封孔处理。
支承体表面可以为平滑的表面，也可以通过使用特别的切削方法或实施粗面化处理来进行粗面化。另外，也可以通过在构成支承体的材料中混合适当粒径的颗粒来进行粗面化。另外，为了降低成本，也可以不实施切削处理而直接使用拉拔管。
＜阻挡层＞
本发明的电子照相感光体可以具有阻挡层。在引入阻挡层的情况下，例如，可以通过以下方式引入：在导电性支承体的金属管坯的表面设置氧化覆膜，在金属管坯的表面或者片状感光体的金属蒸镀面上设置含有树脂成分的层。
在引入含有树脂成分的层的情况下，可以仅为树脂，也可以含有无机填料，从优选湿度依赖性少的观点考虑，优选含有金属氧化物颗粒作为无机填料的树脂层。
作为金属氧化物颗粒，优选涂布液的分散稳定性高的物质，具体而言，可以列举例如：二氧化硅、氧化铝、氧化钛、钛酸钡、氧化锌、氧化铅及氧化铟那样的物质，这些之中，优选显示n型半导体特性的金属氧化物颗粒，更优选氧化钛、氧化锌及氧化锡，特别优选氧化钛。
对于氧化钛，结晶质、非晶质均可以使用，在结晶质的情况下，其晶型可以为锐钛矿型、金红石型或板钛矿型中的任意种，从吸水性、表面处理的效率等理由出发，通常使用锐钛矿型或金红石型。特别优选的是使用金红石型。
就金属氧化物颗粒的粒径而言，从在涂布液中的分散稳定性的理由出发，通常优选其平均粒径为100nm以下、特别优选为10～60nm。涂布液中使用的颗粒的粒径可以均匀，另外，也可以为不同粒径的复合体系。
在不同粒径的复合体系的情况下，优选具有粒径的最大峰处于150nm附近、最小粒径为约30nm到约500nm的粒径分布，例如可以混合使用平均粒径为0.1μm的颗粒与0.03μm的颗粒。
作为阻挡层所含有的粘结剂树脂，可以列举例如：聚乙烯醇缩醛、聚酰胺、酚醛树脂、聚酯、环氧树脂、聚氨酯及聚丙烯酸等树脂材料。其中，优选支承体的粘接性优良、对电荷产生层涂布液中使用的溶剂的溶解性小的聚酰胺树脂。其中，更优选在处理方面也优良的在醇系溶剂中也能使用的聚酰胺。
作为那样的聚酰胺，可以列举例如：东丽株式会社制的Amilan CM4000、CM8000等3元体系(6-66-610)或4元体系(6-66-610-12)共聚聚酰胺，Nagase ChemteX Corporation制的TORESINF-30K、MF-30、EF-30T，Namariichi Co.,Ltd.制的FINELEX FR-101、FR-104、FR-105、FR-301等甲氧基甲基化尼龙树脂，T&K TOKA CO.,LTD制的PA-100、PA-100A、PA-102A、PA-105A、PA-200、PA-201等聚合脂肪酸系聚酰胺，T&K TOKA CO.,LTD制的TPAE-12及TPAE-32等聚合脂肪酸系聚酰胺嵌段共聚物等市售聚酰胺；以及具有下述结构式1所示的二胺成分作为构成材料的醇溶性共聚聚酰胺树脂。
结构式1
就金属氧化物颗粒与粘结剂树脂的比率而言，从电特性方面出发，相对于粘结剂树脂100质量份通常为50质量份以上，优选为200质量份以上。从液体稳定性、涂布性的观点出发，通常为800质量份以下，优选为500质量份以下。
阻挡层的膜厚过薄时，对于局部性带电不良的效果不充分；此外，相反地，过厚时，则成为残余电位上升、或导电性基体与感光层之间的粘接强度降低的原因。
阻挡层的膜厚通常为0.1μm以上、优选为0.5μm以上、更优选为1μm以上，通常为20μm以下、优选为10μm以下、更优选为6μm以下。阻挡层的体积电阻值通常为1×1011Ω·cm以上、优选为1×1012Ω·cm以上；通常为1×1014Ω·cm以下、优选为1×1013Ω·cm以下。
为了得到含有金属氧化物颗粒和粘结剂树脂的阻挡层涂布液，在用行星磨、球磨机、砂磨机、珠磨机、油漆搅拌器、磨碎机或者超声波等粉碎或分散处理装置处理过的金属氧化物颗粒的浆料中混合粘结剂树脂、或将粘结剂树脂溶解于适当的溶剂中而得到的溶解液、并进行溶解及搅拌处理即可。相反，也可以在粘结剂树脂溶解液中添加金属氧化物颗粒，用如上所述的分散装置进行粉碎或分散处理。
＜电荷产生层＞
电荷产生层是通过用粘结剂树脂将电荷产生物质粘结而形成的。作为电荷产生物质，可以列举例如：硒及其合金、以及硫化镉等无机系光导电材料，和有机颜料等有机系光导电材料，优选有机系光导电材料，特别优选有机颜料。
作为有机颜料，可以列举例如：酞菁颜料、偶氮颜料、二硫代酮吡咯并吡咯颜料、角鲨烯(方酸鎓)颜料、喹吖啶酮颜料、靛蓝颜料、苝颜料、多环醌颜料、蒽嵌蒽醌颜料及苯并咪唑颜料等。这些之中，特别优选酞菁颜料或偶氮颜料。使用有机颜料作为电荷产生物质时，通常以将这些有机颜料的微粒用各种粘结剂树脂粘结而得到的分散层的形式使用。
使用无金属酞菁化合物、含金属酞菁化合物作为电荷产生物质时，能得到对波长较长的激光、例如具有780nm附近的波长的激光灵敏度高的感光体。另外，在使用单偶氮、二偶氮或三偶氮等偶氮颜料的情况下，能得到对白色光、具有660nm附近的波长的激光、或者波长较短的激光例如具有450nm或400nm附近的波长的激光具有充分的灵敏度的感光体。
使用酞菁颜料作为电荷产生物质时，具体而言，可以列举例如：无金属酞菁、具有配位有铜、铟、镓、锡、钛、锌、钒、硅、锗及铝等金属或其氧化物、卤化物、氢氧化物、醇盐等的酞菁类的各晶型的物质，以及将氧原子等作为交联原子而使用的酞菁二聚物类等。
特别优选作为灵敏度高的晶型的X型或τ型的无金属酞菁、A型(别名β型)、B型(别名α型)或D型(别名Y型)等氧钛酞菁(Titanylphthalocyanine)(别名：Oxytitaniumphthalocyanine)、氧钒酞菁、氯铟酞菁、羟基铟酞菁、II型等的氯镓酞菁、V型等的羟基镓酞菁、G型或I型等的μ-氧代-镓酞菁二聚体或II型等的μ-氧代-铝酞菁二聚体。
另外，这些酞菁之中，更优选A型(别名β型)、B型(别名α型)、及特征为在粉末X射线衍射的衍射角2θ(±0.2゜)为27.1゜、27.2゜、或者27.3゜处显示出明显的峰的D型(Y型)氧钛酞菁、II型氯镓酞菁、V型及特征为在28.1゜具有最强的峰、或者在26.2゜没有峰而在28.1゜具有明显的峰并且25.9゜的半峰宽W为0.1゜≤W≤0.4゜的羟基镓酞菁或G型μ-氧代-镓酞菁二聚体等。从灵敏度及电特性的稳定性的观点出发，进一步优选在CuKα特性X射线衍射光谱中，至少在布拉格角2θ±0.2゜＝27.2゜处具有最大峰、同时在26.2゜没有峰、并且在差示扫描量热分析中除了伴随吸附水气化的峰以外在50℃至400℃不具有因温度变化而产生的峰的D型(Y型)氧钛酞菁。
酞菁化合物可以使用单一的化合物，也可以使用几种的混合或混晶状态的化合物。作为此处的酞菁化合物和结晶状态下的混合状态，可以使用之后将各个构成要素混合而得到的化合物，可以为在合成、颜料化、结晶化等酞菁化合物的制造和/或处理工序中产生混合状态的化合物。作为这样的处理，已知有酸糊剂处理、磨碎处理、溶剂处理等。为了产生混晶状态，可以举出：如日本特开平10-48859号公报所记载的，将2种结晶在混合后进行机械磨碎、不定形化后，通过溶剂处理转变为特定的结晶状态的方法。
使用偶氮颜料作为电荷产生物质时，适合使用各种双偶氮颜料、三偶氮颜料。在使用有机颜料作为电荷产生物质的情况下，可以单独使用1种，也可以混合使用2种以上颜料。在这种情况下，优选组合使用在可见光区域和近红外区域的不同光谱区域下具有光谱灵敏度特性的2种以上电荷产生物质，其中更优选组合使用双偶氮颜料、三偶氮颜料和酞菁颜料。
对电荷产生层中使用的粘结剂树脂没有特别限制，可以列举例如：聚乙烯醇缩丁醛树脂、聚乙烯醇缩甲醛树脂、缩丁醛的一部分被缩甲醛或缩乙醛等改性后的部分缩醛化聚乙烯醇缩丁醛树脂等聚乙烯醇缩醛系树脂，聚芳酯树脂、聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、改性醚系聚酯树脂、苯氧基树脂、聚氯乙烯树脂、聚偏氯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、聚苯乙烯树脂、丙烯酸系树脂、甲基丙烯酸系树脂、聚丙烯酰胺树脂、聚酰胺树脂、聚乙烯基吡啶树脂、纤维素系树脂、聚氨酯树脂、环氧树脂、硅树脂、聚乙烯醇树脂、聚乙烯基吡咯烷酮树脂、酪蛋白、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、羟基改性氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、羧基改性氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物及氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐共聚物等氯乙烯-乙酸乙烯酯系共聚物，苯乙烯-丁二烯共聚物、偏氯乙烯-丙烯腈共聚物、苯乙烯-醇酸树脂、硅-醇酸树脂及苯酚-甲醛树脂等绝缘性树脂，聚-N-乙烯基咔唑、聚乙烯基蒽及聚乙烯基苝等有机光导电性聚合物等。这些粘结剂树脂可以单独使用任1种，也可以以任意组合混合使用2种以上。
具体而言，电荷产生层例如如下形成：在将上述粘结剂树脂溶解于有机溶剂而得的溶液中分散电荷产生物质，从而制备涂布液，将其涂布在导电性支承体上(在设置阻挡层的情况下，在阻挡层上)，由此形成。
就电荷产生层中粘结剂树脂和电荷产生物质的配混比(质量)而言，相对于粘结剂树脂100质量份，电荷产生物质通常为10质量份以上、优选为30质量份以上；另外，通常为1000质量份以下、优选为500质量份以下的范围，其膜厚通常为0.1μm以上、优选为0.15μm以上；另外，通常为10μm以下、优选为0.6μm以下的范围。电荷产生物质的比率过高时，有由于电荷产生物质的凝聚等而涂布液的稳定性降低之虞；而电荷产生物质的比率过低时，有导致作为感光体的灵敏度降低之虞。
作为使电荷产生物质分散的方法，可以列举例如：球磨机分散法、磨碎机分散法、砂磨机分散法、珠磨机分散等公知的分散法。此时，将颗粒微细化至通常0.5μm以下、优选为0.3μm以下、更优选为0.15μm以下的范围的颗粒尺寸是有效的。
＜电荷传输层＞
就本发明的电荷传输层而言，可以制备除了电荷传输物质等和粘结剂树脂以外还溶解或分散、混合无机填料和通式(1)所示的烃化合物而得的涂布液，将其涂布在电荷产生层上并干燥而得到。
就电荷传输层的膜厚而言，从电特性的观点出发为15μm以上，从耐强曝光特性的观点出发优选为17μm以上。从图像稳定性、分辨率的观点出发，为40μm以下，优选为35μm以下。
我们认为，在感光层中，非相容的无机填料不参与电荷移动，由于其的存在，电荷移动路径受到限制；而对于感光体的电特性，感光层的膜厚是支配着灵敏度及残余电位的重要控制因子，根据其平衡关系，结果是在上述膜厚范围内可获得优选的耐强曝光特性。
为了提高电荷传输层的成膜性、挠性、涂布性、耐污染性、耐气体性及耐光性等或为了进一步提高感光层的机械强度，还可以含有熟知的增塑剂、润滑剂、分散辅助剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂、吸电子性化合物、染料、颜料、敏化剂、流平剂、稳定剂、流动性赋予剂及交联剂等添加物。
作为抗氧化剂，可以列举例如：受阻酚化合物及受阻胺化合物等。另外，作为染料或颜料，可以列举例如：各种色素化合物及偶氮化合物等。作为流平剂，可以列举例如：硅油及氟系表面活性剂等。
[无机填料]
作为本发明中使用的无机填料，可以列举例如：氧化钛、氧化硅(二氧化硅)、氧化锡、氧化铝(Alumina)、氧化锆、氧化铟、氮化硅、氧化钙、氧化锌、硫酸钡及钛酸钡等典型元素及过渡元素的氧化物、氮化物或复合氧化物。这些之中，从在涂布液中的分散效率和电特性方面出发，优选二氧化硅。
二氧化硅通过气相法或液相法来制造，优选二氧化硅表面通过反应性有机硅化合物进行了表面修饰。上述进行了表面修饰的二氧化硅可以通过干式法及湿式法来制造。
在干式法的情况下，可以将表面处理剂与金属氧化物颗粒混合，从而覆盖金属氧化物颗粒，根据需要进行加热处理，从而制造。在湿式法的情况下，可以如下制作：对金属氧化物颗粒和在适当的溶剂中混合表面处理剂而得的液体充分搅拌至均匀附着为止；或者通过介质进行混合，而后干燥，根据需要进行加热处理。
作为反应性有机硅化合物，可以列举例如：硅烷偶联剂、硅烷处理剂及硅氧烷化合物等。这些之中，从对颗粒状有机硅化合物的反应性、另外从抑制容易残留未反应位点的反应性聚集颗粒的生成的观点出发，优选硅烷处理剂。
硅烷处理剂之中，优选具有碳数为1～3的烷基的硅烷处理剂。作为那样的硅烷处理剂，可以列举例如：六甲基二硅氮烷、三甲基甲氧基硅烷、三甲基乙氧基硅烷、三甲基氯硅烷、二甲基二氯硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、二甲基乙氧基硅烷、甲基二甲氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷及甲基三乙氧基硅烷等。
从耐裂纹的观点出发，上述二氧化硅的球度通常为0.95以上、优选为0.96以上、更优选为0.98以上。球度越大，二氧化硅的表面积越小，成为裂纹的原因的界面越少，因此不易产生裂纹。从抑制裂纹的观点、耐裂纹的观点出发，上述二氧化硅的密度通常为1.5g/cm3以上、优选为1.8g/cm3以上、更优选为2.0g/cm3以上。另外，通常为3.0g/cm3以下、优选为2.8g/cm3以下、更优选为2.5g/cm3以下。
从涂布液稳定性的观点出发，上述无机填料的平均一次粒径优选为1.0μm以下，更优选为0.8μm以下。另一方面，从耐磨耗性的观点出发，优选为0.01μm以上。另外，从耐成膜性的观点出发，更优选为0.1μm以上，进一步优选为0.3μm以上。平均一次粒径可以通过利用扫描型电子显微镜(SEM)或透射型电子显微镜(TEM)测定来把握。
上述无机填料的含量相对于电荷传输层中的粘结剂树脂优选为5质量％以上，从耐成膜的观点出发，更优选为6质量％以上。另一方面，为了保持强度以避免感光体变脆，上述无机填料的含量优选为30质量％以下，从电荷传输层中的分散性及电特性的观点出发，更优选为25质量％以下。
[烃化合物]
本发明中，电荷传输层中含有通式(1)所示的烃化合物。从无机填料的感光层内分散性的观点出发，通式(1)所示的烃化合物在电荷传输层中的含有比例相对于无机填料优选为10质量％以上，更优选为20质量％以上，从感光层的机械性质的观点出发，优选为100质量％以下，更优选为80质量％以下。
[电荷传输物质]
本发明中使用的电荷传输物质包括通常使用的公知的电荷传输物质，可以将所有的电荷传输物质单独使用或将2种以上组合而使用。另外，就所使用的电荷传输物质相对于电荷传输层中所使用的粘结剂树脂的比例而言，从电特性的观点出发，相对于粘结剂树脂100重量份通常为30重量份以上、优选为35重量份以上、更优选为40重量份以上；从耐磨耗性的观点出发，通常为100重量份以下、优选为90重量份以下、更优选为85重量份以下。
以下例示出适合于本发明的电荷传输物质的结构。以下结构是为了使本发明更为具体而例示的，只要没有脱离本发明的主旨则不受下述结构限定。
[粘结剂树脂]
以上述无机填料、通式(1)所示的烃化合物及电荷传输物质粘结在粘结剂树脂上的形态形成电荷传输层。作为电荷传输层中使用的粘结剂树脂，可以列举例如：聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚氯乙烯等乙烯基聚合物及其共聚物、聚碳酸酯、聚芳酯、聚酯、聚酯碳酸酯、聚砜、聚酰亚胺、苯氧树脂、环氧树脂、有机硅树脂等，另外，也可以使用它们的部分交联固化物。上述粘结剂树脂之中，从感光体的电特性的观点出发，特别优选聚碳酸酯树脂、聚芳酯树脂。这些树脂可以单独使用，也可以混合使用多种。
以下示出上述粘结剂树脂的合适结构的具体例。这些具体例是为了例示而示出的，只要不违反本发明的主旨，可以混合使用任何公知的粘结剂树脂。
粘均分子量(Mv)通常为20,000以上、优选为30,000以上、进一步优选为40,000以上。另外，通常为200,000以下、优选为100,000以下、进一步优选为80,000以下。
粘均分子量(Mv)过小时，有形成感光体等以膜形式得到时的机械强度降低的倾向。另外，粘均分子量(Mv)过大时，作为涂布液的粘度上升，有难以涂布成适当的膜厚的倾向，存在无机填料的分散性变差的可能性。
[吸电子性化合物]
本发明中，为了进一步提高抑制光疲劳的效果，还可以使用吸电子性化合物。作为吸电子性化合物，可以列举例如：四氰基醌二甲烷、二氰基醌甲烷或具有二氰基醌乙烯基的芳香族酯类等氰基化合物、2,4,6-三硝基芴酮等硝基化合物、苝等缩合多环芳香族化合物、联苯醌衍生物、醌类、醛类、酮类、酯类、酸酐、苯酞类、取代及未取代水杨酸的金属络合物、取代及未取代水杨酸的金属盐、芳香族羧酸的金属络合物以及芳香族羧酸的金属盐，其中，从电特性方面出发，优选通式(2)所示的联苯醌衍生物、醌衍生物。
通式(2)
通式(2)中，X1、X2、X3、X4、Y1、Y2、Y3、Y4表示氢原子、烷基、芳基、酰基或2价的有机基团，X1和X2之间、X3和X4之间、Y1和Y2之间、Y3和Y4之间可以具有环结构。
作为烷基，可以列举例如：甲基、乙基、正丙基、正丁基、正己基及正辛基等直链状烷基，异丙基、乙基己基及叔丁基等支链状烷基，以及环己基等环状烷基。这些之中，从电特性的观点出发，优选直链状烷基或支链状烷基。作为芳基，可以列举例如：苯基、萘基、联苯基、蒽基、菲基、甲苯基及茴香基等。这些之中，从电特性的观点出发，优选苯基。以下例示出通式(2)所示的化合物。
这些之中，具有烷基取代基的下述结构容易获得，是优选使用的。
从耐强曝光特性的观点出发，吸电子性化合物相对于电荷传输层中含有的无机填料通常为2质量％以上、优选为4质量％以上，从带电性及表面电位的观点出发，通常为50质量％以下、优选为40质量％以下。
[有机溶剂]
作为电荷传输层形成用涂布液中使用的有机溶剂，可以使用例如四氢呋喃、1,4-二氧六环及二甲氧基乙烷等醚类，甲酸甲酯及乙酸乙酯等酯类，丙酮、甲乙酮及环己酮等酮类，苯、甲苯及二甲苯等芳香族烃类，二氯甲烷、氯仿、1,2-二氯乙烷、1,1,2-三氯乙烷、1,1,1-三氯乙烷、四氯乙烷、1,2-二氯丙烷及三氯乙烯等氯化烃类，正丁胺、异丙醇胺、二乙胺、三乙醇胺、乙二胺及三亚乙基二胺等含氮化合物类，以及乙腈、N-甲基吡咯烷酮、N,N-二甲基甲酰胺及二甲基亚砜等非质子性极性溶剂类等。
这些之中，从抑制磨刷(brushing)的观点出发，优选以沸点为90℃以下的醚为主成分、进一步含有5质量％～50质量％的沸点为120℃以上的醚的有机溶剂。作为沸点为90℃以下的醚，从耐磨刷的方面及安全性的方面出发，优选沸点为50℃以上的醚、更优选为60℃以上。
作为那样的醚，可以列举例如：四氢呋喃、二甲氧基乙烷、二氧戊环、甲基四氢呋喃、四氢吡喃等。这些之中，从粘结剂树脂的溶解性的方面等出发，优选环状醚、特别优选四氢呋喃。
沸点为90℃以下的醚的含量在全部有机溶剂中优选为50质量％以上，从涂布膜的干燥速度的方面出发，更优选为60质量％以上、更优选为75质量％以上。另一方面，从耐磨刷的方面出发，优选为90质量％以下、更优选为85质量％以下。
作为沸点为120℃以上的醚，从干燥速度及残留溶剂的方面出发，优选沸点为200℃以下的醚、更优选170℃以下。作为那样的醚，可以列举例如：二乙氧基乙烷、茴香醚及2,2-二四氢糠基丙烷等，优选芳香族醚、特别优选茴香醚。
从耐磨刷的方面出发，沸点为120℃以上的醚的含量在全部有机溶剂中优选为10质量％以上、更优选为15质量％以上。另一方面，从涂布膜的干燥速度的方面出发，优选为30质量％以下、更优选为25质量％以下。
除了沸点为90℃以下的醚和沸点为120℃以上的醚以外，还可以在没有粘结剂树脂析出的范围内混合任意的有机溶剂。作为那样的有机溶剂，可以列举例如：沸点为90℃以上且120℃以下的醚及甲乙酮等酮，以及碳数为4以上的醇等。有机溶剂相对于涂布液整体优选为60～95质量％、更优选为70～90质量％、特别优选为75～85质量％。
＜各层的形成方法＞
就构成感光体的各层而言，在支承体上通过浸渍涂布、喷雾涂布、喷嘴涂布、棒涂、辊涂或刮刀涂布等公知的方法，将使各层中含有的物质溶解或分散于溶剂中而得到的涂布液对各层依次重复涂布及干燥工序，从而形成。
对使用的溶剂或分散介质没有特别限制，作为具体例，可以举出：四氢呋喃、1,4-二氧六环及二甲氧基乙烷等醚类，甲酸甲酯及乙酸乙酯等酯类，丙酮、甲乙酮及环己酮等酮类，苯、甲苯及二甲苯等芳香族烃类，二氯甲烷、氯仿、1,2-二氯乙烷、1,1,2-三氯乙烷、1,1,1-三氯乙烷、四氯乙烷、1,2-二氯丙烷及三氯乙烯等氯化烃类，正丁胺、异丙醇胺、二乙胺、三乙醇胺、乙二胺及三亚乙基二胺等含氮化合物类，以及乙腈、N-甲基吡咯烷酮及N,N-二甲基甲酰胺、二甲基亚砜等非质子性极性溶剂类等。另外，这些可以单独使用1种，也可以以任意的组合及种类组合使用2种以上。
对溶剂或分散介质的用量没有特别限制，优选考虑各层的目的、所选择的溶剂或分散介质的性质，以涂布液的固体成分浓度、粘度等物性达到期望的范围的方式进行适宜调整。
在电荷传输层的情况下，涂布液的固体成分浓度通常设为5质量％以上、优选设为10质量％以上，并且，通常设为40质量％以下，优选为35质量％以下的范围。另外，通常将涂布液的粘度设为10cps以上，优选设为50cps以上，并且，通常设为500cps以下，优选设为400cps以下的范围。
在电荷产生层的情况下，涂布液的固体成分浓度通常设为0.1质量％以上、优选设为1质量％以上，并且，通常设为15质量％以下、优选设为10质量％以下的范围。另外，涂布液的粘度通常设为0.01cps以上、优选设为0.1cps以上，另外，通常设为20cps以下、优选设为10cps以下的范围。
作为涂布液的涂布方法，可以列举例如：浸渍涂布法、喷雾涂布法、旋转涂布法、珠涂(bead coating)法、线棒涂布法、刮刀涂布法、辊涂布法、气刀涂布法及帘涂法等，也可以使用其他公知的涂布法。
<<图像形成装置>>
使用本发明的电子照相感光体的复印机、打印机等图像形成装置至少含有带电、曝光、显影、转印、清洁的各程序，任一程序均可以使用通常使用的方法中的任一种。
作为带电方法(带电机)，除了例如利用电晕放电的电晕器、栅控电晕器(scorotron)带电以外，还可以使用使施加了电压的直接带电构件接触感光体表面而使其带电的直接带电手段。作为直接带电手段，可以使用利用导电性辊或刷或者膜等的接触带电等中的任意者，还可以是伴随气体放电的手段、或不伴随气体放电的注入带电的手段中的任一者。其中，在使用电晕放电的带电方法中，为了使暗区电位保持恒定，优选栅控电晕带电。作为使用导电性辊等的接触带电装置时的带电方式，可以使用直流带电或交流叠加直流带电。
作为曝光光，可以列举例如：卤素灯、荧光灯、激光(半导体、He-Ne)、LED、感光体内部曝光方式等，作为数字式电子照相方式，优选使用激光、LED或光栅阵列(opticalshutter array)等。作为波长，除了780nm的单色光以外，还可以使用600～700nm范围的稍微偏短波长的单色光、及380～500nm范围的短波长单色光。
作为调色剂，除了粉碎的调色剂以外，还可以使用悬浮聚合、乳液聚合凝聚法等聚合调色剂。特别是聚合调色剂的情况下，使用平均粒径4～8μm左右的小粒径调色剂，从形状也接近球形的调色剂到马铃薯状的偏离了球形的形状的调色剂均可使用。聚合调色剂的带电均匀性及转印性优良，适用于高画质化。
转印工序使用电晕转印、辊转印或带转印等静电转印法、压力转印法或粘合转印法。定影使用热辊定影、闪光定影、烘箱定影或压力定影等。
作为清洁，可以列举例如：刷清洁器、磁刷清洁器、静电刷清洁器、磁辊清洁器及刮刀清洁器等。
除电工序多数情况下被省略，在使用的情况下，使用荧光灯、LED等，作为强度，大多使用曝光光的3倍以上的曝光能量。另外，除了这些程序以外，还可以具有前曝光工序、辅助带电工序的工艺。
关于使用本发明的电子照相感光体的图像形成装置的实施方式，使用示出装置的主要部分结构的图1来进行说明。但是，实施方式不受以下的说明限定，只要不脱离本发明的主旨则可以任意地变形而实施。
如图1所示，图像形成装置具备电子照相感光体1、带电装置2、曝光装置3及显影装置4而构成，进而，根据需要设置转印装置5、清洁装置6及定影装置7。
电子照相感光体1只要是上述本发明的电子照相感光体就没有特别限制，图1中，作为其一例，示出在圆筒状的导电性支承体的表面上形成有上述感光层的筒状的感光体。沿该电子照相感光体1的外周面分别配置有带电装置2、曝光装置3、显影装置4、转印装置5及清洁装置6。
带电装置2为使电子照相感光体1带电的装置，其使电子照相感光体1的表面均匀地带电成规定电位。图1中，作为带电装置2的一例，示出了辊型的带电装置(带电辊)，此外，也常使用电晕器(corotron)、栅控电晕器(scorotron)等电晕带电装置、带电刷等接触型带电装置等。
需要说明的是，电子照相感光体1及带电装置2大多以具备该两者的盒(以下有时称为感光体盒)的形式设计成能从图像形成装置的主体卸下来。
而且，例如在电子照相感光体1、带电装置2劣化的情况下，能够将该感光体盒自图像形成装置主体卸下、并将其它新的感光体盒安装到图像形成装置主体上。
另外，关于后述的调色剂，大多情况下存储在调色剂盒中，设计成能从图像形成装置主体上卸下来，在使用的调色剂盒中的调色剂变没有的情况下，能够将该调色剂盒自图像形成装置主体卸下、并安装其它新的调色剂盒。进而，有时也使用电子照相感光体1、带电装置2、调色剂全部具备的盒。
曝光装置3只要能够对电子照相感光体1进行曝光从而在电子照相感光体1的感光面上形成静电潜像，就不特别限制其种类。作为具体例，可以举出卤素灯、荧光灯、半导体激光及He-Ne激光等激光以及LED等。
另外，可以通过感光体内部曝光方式进行曝光。进行曝光时的光为任意的，例如可以用波长为780nm的单色光、波长600nm～700nm的稍微偏短波长的单色光、波长380nm～500nm的短波长的单色光等进行曝光。
调色剂T的种类是任意的，除了粉状调色剂以外，还可以采用使用悬浮聚合法或乳液聚合法等的聚合调色剂等。特别是使用聚合调色剂的情况下，优选粒径为4～8μm左右的小粒径的调色剂，另外，调色剂的颗粒的形状也可以是各种各样的，从接近球形的调色剂到马铃薯状的偏离了球形的形状的调色剂均可使用。聚合调色剂的带电均匀性、转印性优异，适用于高画质化。
对于转印装置5的种类没有特别限制，可以使用利用了电晕转印、辊转印或带转印等静电转印法、压力转印法或粘合转印法等任意方式的装置。此处，转印装置5由与电子照相感光体1相对配置的转印充电器、转印辊、转印带等构成。该转印装置5以与调色剂T的带电电位相反的极性施加规定电压值(转印电压)，将形成于电子照相感光体1上的调色剂图像转印到记录纸(纸张、介质)P上。
对清洁装置6没有特别限制，可以使用刷清洁器、磁刷清洁器、静电刷清洁器、磁辊清洁器或刮刀清洁器等任意清洁装置，本发明中，在刮刀清洁器的情况下容易发挥效果。清洁装置6是将附着于感光体1的残留调色剂用清洁构件刮落并回收残留调色剂的装置。
定影装置7由上部定影构件(定影辊)71及下部定影构件(定影辊)72构成，在定影构件71或72的内部具备加热装置73。需要说明的是，图1中示出在上部定影构件71的内部具备有加热装置73的例子。上部及下部的各定影构件71、72可以使用在不锈钢或铝等的金属管坯上覆盖有硅橡胶的定影辊、进而用TEFLON(注册商标)树脂覆盖的定影辊或定影片等公知的热定影构件。进而，各定影构件71、72可以制成为了提高脱模性而供给硅油等脱模剂的结构，也可以制成通过弹簧等相互强制施加压力的结构。
被转印至记录纸P上的调色剂在被加热至规定温度的上部定影构件71和下部定影构件72之间通过时，调色剂被加热至熔融状态，在通过后进行冷却，从而调色剂被定影到记录纸P上。需要说明的是，关于定影装置，对其种类也没有特别限定，以此处使用的种类为代表，可以设计利用热辊定影、闪光定影、烘箱定影或压力定影等任意方式的定影装置。
如上所述地构成的电子照相装置中，如下地进行图像的记录。即，首先，通过带电装置2使感光体1的表面(感光面)带电成规定的电位(例如-600V)。此时，可以通过直流电压使其带电，也可以通过在直流电压上叠加交流电压而使其带电。
然后，根据将要记录的图像，通过曝光装置3对带电的感光体1的感光面进行曝光，并在感光面上形成静电潜像。然后，在显影装置4中进行形成于该感光体1的感光面上的静电潜像的显影。
对于显影装置4，利用限制构件(显影刮板)45对通过供给辊43供给的调色剂T进行薄层化，使其摩擦带电为规定的极性，边负载在显影辊44上，边进行输送，从而与感光体1的表面接触。
若负载于显影辊44上的带电调色剂T与感光体1的表面接触，则在感光体1的感光面上形成对应于静电潜像的调色剂图像。然后，将该调色剂图像通过转印装置5转印到记录纸P上。然后，将未转印而残留在感光体1的感光面上的调色剂通过清洁装置6去除。
调色剂图像被转印到记录纸P上后，通过定影装置7将调色剂图像热定影到记录纸P上，由此得到最终的图像。
需要说明的是，对于图像形成装置，除了上述结构，例如还可以制成能够进行除电工序的结构。除电工序为通过对电子照相感光体进行曝光来进行电子照相感光体的除电的工序，作为除电装置，使用荧光灯或LED等。另外，除电工序中使用的光大多为具有曝光光的3倍以上的曝光能量的强度的光。
另外，图像形成装置也可以经进一步变形而构成，例如可以为能够进行前曝光工序或辅助带电工序等工序的构成，或者为进行胶版印刷的构成，进而还可以为使用多种调色剂的全彩串联方式的构成。
以下列举具体实施例来进一步详细说明本发明。但是，本发明不受这些例子限定。需要说明的是，实施例中的“份”表示“质量份”。
实施例
＜阻挡层涂布形成用分散液1的制造＞
将用甲基二甲氧基硅烷3％处理后的平均一次粒径40nm的金红石型白色氧化钛[石原产业(株)制、制品名TTO55N]在甲醇溶剂中进行5小时的球磨机分散，得到氧化钛分散浆料。
对上述氧化钛分散浆料、甲醇/1-丙醇/甲苯的混合溶剂、及由组成摩尔比率为60mol％/15mol％/5mol％/15mol％/5mol％的ε-己内酰胺[下式(A)所示的化合物]/双(4-氨基-3-甲基环己基)甲烷[下式(B)所示的化合物]/六亚甲基二胺[下式(C)所示的化合物]/十亚甲基二羧酸[下式(D)所示的化合物]/十八亚甲基二羧酸[下式(E)所示的化合物]形成的共聚聚酰胺树脂的料粒一边加热一边搅拌、混合，使聚酰胺料粒溶解后，进行1小时的超声波分散处理，进而利用孔径5μm的PTFE制膜滤器(Advantec制マイテックスLC)进行过滤，得到氧化钛/共聚聚酰胺的质量比为3/1，甲醇/1-丙醇/甲苯的混合溶剂的质量比为7/1/2且所含的固态成分的浓度为18.0质量％的阻挡层涂布形成用分散液1。
＜电荷传输层形成用涂布液的制造＞
(电荷传输层用涂布液1-1的制备例)
将用六亚甲基二硅氮烷进行表面处理后的平均一次粒径0.8μm的二氧化硅颗粒(对株式会社日本触媒制、制品名KE-S100进行表面处理)在四氢呋喃溶剂中进行3小时的超声波分散，得到二氧化硅颗粒浆料。
另一方面，准备将双酚Z型聚碳酸酯树脂(粘均分子量Mv＝40,000)、下述结构的电荷传输物质(CT1)、下述结构的烃化合物(HC1)、下述结构的吸电子性化合物(EW1)、抗氧化剂(BASF公司制、制品名Irganox1076)和硅油(信越有机硅公司制制品名KF-96)用四氢呋喃溶剂和茴香醚溶剂溶解而得的液体后，确认上述制作的二氧化硅颗粒浆料为均匀状态，然后进行混合。
由此制作了最终粘结剂树脂/电荷传输物质/二氧化硅/烃化合物/吸电子性化合物/抗氧化剂/硅油的质量比为100/60/10/5/2/4/0.05、四氢呋喃/茴香醚＝9/1、固态成分浓度22％的电荷传输层形成用涂布液(1-1)。
电荷传输物质(CT1)
烃化合物(HC1)
吸电子性化合物(EW1)
(电荷传输层用涂布液1-2～1-6)
与电荷传输层用涂布液1-1的制备例同样进行，但选择使用或不使用二氧化硅颗粒(KE-S100)、氧化铝颗粒、烃化合物(HC1、HC2)、吸电子性化合物(EW1)，按照下述表-1的内容来制作电荷传输层形成用涂布液1-2～1-6。
烃化合物(HC2)
[表1]
表-1
(电荷传输层用涂布液2-1的制备例)
使用下述的电荷传输物质CT2代替电荷传输层用涂布液1-1中使用的电荷传输物质CT1，使用下述的聚碳酸酯(PC1)(粘均分子量Mv＝20,000)代替双酚Z型聚碳酸酯，除此以外，通过与电荷传输层用涂布液1-1同样的涂布液制备方法制作最终的涂布液组成为粘结剂树脂(PC1)/电荷传输物质(CT2)/二氧化硅(KE-S100)/烃化合物(HC1)/吸电子性化合物(EW1)/抗氧化剂(Irganox1076)/硅油(KF-96)的质量比为100/55/10/5/2/4/0.05、固态成分浓度22％的电荷传输层形成用涂布液2-1。
电荷传输物质(CT2)
聚碳酸酯(PC1)
PC1为下述结构PA及PB的共聚聚碳酸酯，PA/PB＝51/49(摩尔比)。
PA
PB
(电荷传输层用涂布液2-2)
与电荷传输层用涂布液2-1的制备例同样进行但调整了溶剂量，制作了固态成分浓度为28％的电荷传输层形成用涂布液。
＜感光体的耐强曝光特性的评价＞
(评价用电子照相感光体的制作方法)
对于本发明的涂布液，为了进行制成感光体时的耐强曝光特性的评价，首先通过下述方法制作电子照相感光体。在表面蒸镀有铝的厚度75μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜上，按照干燥后的膜厚为1.3μm的方式涂布阻挡层涂布形成用分散液1，形成阻挡层。
然后，将在利用CuKα射线的X射线衍射中、在布拉格角(2θ±0.2)27.3゜显示强衍射峰且具有图2所示的粉末X射线衍射光谱的氧钛酞菁10质量份加入1,2-二甲氧基乙烷150质量份，用砂磨机进行粉碎分散处理，制作颜料分散液。
将这样得到的160质量份的颜料分散液加入聚乙烯醇缩丁醛[电气化学工业(株)制、商品名#6000C]的5质量％的1,2-二甲氧基乙烷溶液100质量份中，加入适量的1,2-二甲氧基乙烷，制作最终固态成分浓度4.0质量％的电荷产生层形成用涂布液。将该电荷产生层形成用涂布液按照干燥后的膜厚为0.4μm的方式用线棒涂布在上述阻挡层上后进行干燥，形成电荷产生层。
进而，用分配器将电荷传输层用涂布液涂布在上述电荷产生层上，风干后，在125℃下加热干燥20分钟，使干燥后的膜厚为下述的规定膜厚，设置电荷传输层。在使用电荷传输层用涂布液1-1～1-6的情况下，上述评价用电子照相感光体制作方法中，将电荷传输层的膜厚设为27μm而制作电子照相感光体1-1～1-6。
[表2]
表-2
在使用电荷传输层用涂布液2-1及2-2的情况下，在上述评价用电子照相感光体制作方法中，将电荷传输层的膜厚设为10μm、25μm、45μm而制作电子照相感光体2-1～2-3。
[表3]
表-3
(耐强曝光特性的评价)
得到的各感光体的耐强曝光特性的评价通过评价强曝光照射前后的电特性变动而进行。下面说明其评价方法。首先，将按照上述评价用电子照相感光体的制作方法而得到的各感光体安装在感光体特性试验装置[三菱化学(株)制]上，通过带电、曝光、电位测定、除电的循环来进行电特性的评价。
即，按照感光体的初始表面电位为-700V的方式使其带电，曝光中，使用将卤素灯的光通过干涉滤波器制成780nm的单色光的光，测定照射0.4μJ/cm2时的表面电位VL。将从曝光到电位测定为止的时间设为200毫秒。
然后，作为强曝光，将白色荧光灯(三菱オスラム社制ネオルミスーパーFL20SS·W/18)的光调整为感光体表面的光强度为2000勒克斯后，对这些感光体照射10分钟。并且，之后在暗处放置10分钟后，与上述强曝光照射前所进行的评价同样进行电特性的评价，进行表面电位VL的测定。
将各电子照相感光体的强曝光(白色荧光灯)照射前后的表面电位VL的变化量的绝对值设为ΔVL。ΔVL越小则VL的变动越小，因此是优选的。
(感光体1-1～1-7的评价)
对于感光体1-1～1-7，为了进行VL的变化量的绝对值ΔVL的相对比较，将以感光体1-5的VL的变化量ΔVL为100％时的、各感光体的ΔVL的百分比示于下述表-4。
[表4]
表-4
评价感光体 ΔVL(以感光体1-5的ΔVL为100％时的相对数值)
感光体1-1(实施例1) 41％
感光体1-2(实施例2) 87％
感光体1-3(比较例1) 92％
感光体1-4(比较例2) 96％
感光体1-5(参考例1) 100％
感光体1-6(比较例3) 96％
(感光体2-1～2-3的评价)
对于感光体2-1～2-3，为了进行VL的变化量的绝对值ΔVL的相对比较，将以感光体2-2的VL的变化量ΔVL为100％时的、各感光体的ΔVL的百分比示于下述表-5。
[表5]
表-5
由上述结果可知，本发明的感光体具有良好的耐强曝光特性。因此，处理中不需要花费特别的工夫，可以适用于图像形成装置、及鼓盒(drum cartridge)。
感光体的机械特性的评价
(涂布液及感光体的制作)
与电荷传输层用涂布液1-1的制备例同样进行，但选择使用或不使用二氧化硅A(将KE-S100用六甲基二硅氮烷进行表面处理、粒径0.8μm)、烃化合物(HC1)，按照下述表-6的内容制作电荷传输层形成用涂布液3-1～3-2。
需要说明的是，相对于100份聚碳酸酯PC1，将电荷传输剂的质量份数设为50份。另外，将二氧化硅颗粒变更为二氧化硅B(Evonik公司制R9200、用二甲基二氯硅烷进行表面处理、粒径12nm)，按照下述表6的内容同样制作电荷传输层用涂布液4-1～4-2。同样地，相对于100份聚碳酸酯PC1，将电荷传输剂的质量份数设为50份。
使用该电荷传输层用涂布液，与制作电子照相感光体1-1～1-2同样地制作电子照相感光体。即，在蒸镀有铝的厚度75μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜上依次制作使用了阻挡层涂布形成用分散液1的1.3μm的阻挡层及含有在利用CuKα射线的X射线衍射中、在布拉格角(2θ±0.2)27.3゜显示强衍射峰且具有图2所示的粉末X射线衍射光谱的氧钛酞菁的电荷产生层后，使用电荷传输层用涂布液3-1～3-2、及4-1～4-2，将电荷传输层的膜厚变更为25μm而制作表-7所示的电子照相感光体。
[表6]
表-6
[表7]
表-7
(机械特性的评价)
对于制作的各电子照相感光体，切成直径10cm的圆形，用Taber磨耗试验机(Taber公司制)进行磨耗评价。试验条件为23℃、50％RH的气氛下，使用磨耗轮CS-10F，通过比较试验前后的质量，来测定载荷500g下旋转1000转后的磨耗量。将测定结果示于表-8。
[表8]
表-8
感光体 磨耗量(mg)
3-1 3.49
3-2 3.63
4-1 4.29
4-2 4.14
如表8所示，可知使用大粒径二氧化硅的情况下，比使用小粒径二氧化硅时的耐磨耗性优异，但通过组合使用本申请的烃化合物，可以实现耐磨耗性的进一步改良。
用特定方式详细说明了本发明，但可以在不脱离本发明的主旨和范围的条件下进行各种变更及变形，这对本领域技术人员而言是不言自明的。需要说明的是，本申请基于2014年11月28日提出的日本专利申请(日本特愿2014-241987)，通过引用方式而援引其全部内容。

Claims (12)

1.一种电子照相感光体，其特征在于，其在导电性基体上具备电荷产生层以及膜厚为15μm以上且40μm以下的电荷传输层，该电荷传输层为最外层，该电荷传输层含有无机填料和下述通式(1)所示的烃化合物，
通式(1)
2.根据权利要求1所述的电子照相感光体，其中，所述无机填料为二氧化硅。
3.根据权利要求2所述的电子照相感光体，其中，所述二氧化硅进行了表面修饰。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的电子照相感光体，其中，所述无机填料的平均一次粒径为0.01μm以上且1μm以下。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的电子照相感光体，其中，所述电荷传输层含有粘结剂树脂，所述无机填料的含量相对于该粘结剂树脂为5质量％以上且30质量％以下。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的电子照相感光体，其中，所述通式(1)所示的烃化合物的比例相对于所述无机填料为10质量％以上且100质量％以下。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的电子照相感光体，其中，所述电荷传输层含有通式(2)所示的吸电子性化合物，
通式(2)
通式(2)中，X1，X2，X3，X4，Y1，Y2，Y3，Y4表示氢原子、烷基、芳基、酰基或2价的有机基团，可以形成含有X1和X2的环结构、含有X3和X4的环结构、含有Y1和Y2的环结构、含有Y3和Y4的环结构。
8.根据权利要求7所述的电子照相感光体，其中，所述通式(2)所示的吸电子性化合物为下述通式(2a)～(2d)所示的化合物中的任一种，
通式(2a)
通式(2b)
通式(2c)
通式(2d)
9.根据权利要求7或8所述的电子照相感光体，其中，所述通式(2)所示的化合物的含有比例相对于所述二氧化硅为2质量％以上且50质量％以下。
10.根据权利要求1～9中任一项所述的电子照相感光体，其中，所述电荷产生层含有D型(Y型)氧钛酞菁，所述D型(Y型)氧钛酞菁在CuKα特性X射线衍射光谱中、在布拉格角2θ(±0.2゜)为27.1゜以上且27.3゜以下显示出明显的峰。
11.根据权利要求1～10中任一项所述的电子照相感光体，其中，所述电荷产生层含有D型(Y型)氧钛酞菁，所述D型(Y型)氧钛酞菁在CuKα特性X射线衍射光谱中、至少在布拉格角2θ±0.2゜＝27.2゜具有最大峰且在26.2゜不具有峰，并且，在差示扫描量热分析中除了伴随吸附水气化的峰以外，在50℃～400℃不具有因温度变化而产生的峰。
12.根据权利要求1～11中任一项所述的电子照相感光体，其具备阻挡层。
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