CN107039485A - 一种像素排布结构、蒸镀掩膜板及异形显示屏体 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种像素排布结构、蒸镀掩膜板及异形显示屏体,该种像素排布结构适用于异形显示屏体的异形显示,所述像素排布结构设有若干排和/或若干列像素显示单元,相邻排和/或列部分像素显示单元并列或并排设置使像素显示单元排布在异形显示区域内。本发明通过相邻排和/或列部分像素显示单元并列或并排设置使像素显示单元排布在异形显示区域内的方式使显示区域边缘处无显示区域与非显示区域界面分辨不清的现象。
Description
技术领域
本发明属于有机电致发光显示领域,具体涉及一种用于异形显示的像素排布结构,用于制备异形显示的像素排布结构的蒸镀掩膜板及异形显示屏体。
背景技术
有机电致发光显示器(英文全称为Organic Light-Emitting Display,简称OLED)具有主动发光、轻薄、视角大、响应速度快、节能、温度耐受范围大、可实现柔性显示和透明显示等优点,被视为下一代最具潜力的新型平板显示技术。
随着人们对显示领域的多样性的需求,异形显示设备越来越受到欢迎。由于现有的像素排布结构为点阵式排布,异形显示区域的边缘处的像素采用阶梯状排布,这些阶梯状排布没有有序的规律,而且通常会超越显示区域较多,导致其他层材料的浪费的同时,异形显示屏体的边框难以实现窄化,导致显示区域与非显示区域界面分辨不清。
发明内容
本发明提供一种异形显示区域的像素排布结构,通过相邻排和/或列部分像素显示单元并列或并排设置使像素显示单元排布在异形显示区域内的方式使显示区域边缘处无显示与非显示区域界面分辨不清的现象。
本发明还提供了一种用于制备所述异形显示的像素排布结构的掩膜板,及具有异形显示屏体。
为解决上述技术问题,本发明是通过以下技术方案实现的:
一种像素排布结构,该种像素排布结构适用于异形显示屏体的异形显 示,所述像素排布结构设有若干排和/或若干列像素显示单元,相邻排和/或列部分像素显示单元并列或并排设置排布在异形显示区域内。
所述异形显示为单点显示、线显示、面显示或其组合。
所述单点显示适用于具有单点显示区域的屏体,所述单点显示区域设置有单个像素显示单元。
所述线显示适用于具有单线显示区域的屏体,所述的单线显示区域为直线显示区域、斜线显示区域和/或曲线显示区域。
所述斜线显示区域与水平面之间具有夹角θ,所述斜线显示区域内设有若干排和/或若干列像素显示单元,相邻排和/或列的部分像素显示单元并列或并排设置使位于显示区域最远距离的两个像素显示单元之间的连线与水平面的夹角为θ。根据θ角的变化,所述直线显示区域和斜线显示区域的像素显示单元排布结构如下:
当θ=90°或0°时,所述像素显示单元呈纵向或横向排布在显示区域;
当θ=30°或150°时,所述显示区域内设置有多排像素显示单元组,每个像素显示单元组包括3个横向并排设置的像素显示单元,每个像素显示单元组两端的像素显示单元分别和与其相邻的像素显示单元组中的单个像素显示单元并列设置;所述显示区域的一端最外侧一排设置有单个像素显示单元;位于所述显示区域最远距离的两个像素显示单元之间的连线与水平面的夹角为30°或150°;
当θ=45°或135°时,所述显示区域内设置有多排像素显示单元组,每个像素显示单元组包括2个横向并排设置的像素显示单元,每个像素显示单元组中的2个像素显示单元分别和与其相邻的像素显示单元组中的像素显示单元并列设置;位于所述显示区域最远距离的两个像素显示单元之间的连线与水平面的夹角为45°或135;
当θ=60°或120°时,所述显示区域内设置有多列像素显示单元组,每个像素显示单元组包括3个纵向并列设置的像素显示单元,每个像素显 示单元组两端的像素显示单元分别和与其相邻的像素显示单元组中的单个像素显示单元并排设置;所述显示区域的两端最外侧一列分别设置有单个像素显示单元;位于所述显示区域最远距离的两个像素显示单元之间的连线与水平面的夹角为60°或120°;
若45°<θ<60°,则像素显示单元按照θ=60°时排列方式占斜线的(60-θ)/(60-45),按照θ=45°时排列方式占斜线的(θ-45)/(60-45);所述显示区域长度为L,像素显示单元的长度为L0,所述显示区域设置有S1个横向排布的像素显示单元和S2个竖向排布的像素显示单元:
若60°<θ<90°,则像素显示单元按照θ=90°时排列方式占斜线的(90-θ)/(90-60),按照θ=60°时排列方式占斜线的(θ-60)/(90-60);所述显示区域长度为L,像素显示单元的长度为L0,所述显示区域设置有S3个横向排布的像素显示单元和S4个竖向排布的像素显示单元:
所述显示区域为曲线显示区域时,将曲线显示区域分解为小段不同角度的斜线段,每个斜线段设置有2-3个像素显示单元;
所述斜线显示区域内设有若干排和/或若干列像素显示单元,相邻排和/或列的部分像素显示单元并列或并排设置使位于斜线显示区域最远距离的两个像素显示单元之间的连线与水平面的夹角为θ。
所述的面显示适用于具有面显示区域的屏体,进行像素排布时,将面 显示区域分解为不同角度的斜线显示区域和边界线显示区域;
每个斜线段显示区域设有若干排和/或若干列像素显示单元,相邻排和/或列的部分像素显示单元并列或并排设置使位于斜线显示区域最远距离的两个像素显示单元之间的连线与水平面的夹角为等于斜线与水平面的夹角;
将边界线显示区域将曲线显示区域分解为小段不同角度的斜线段显示区域,每个斜线段显示区域内设置有2-3个像素显示单元;所述斜线段显示区域内设有若干排和/或若干列像素显示单元,相邻排和/或列的部分像素显示单元并列或并排设置使位于斜线段显示区域最远距离的两个像素显示单元之间的连线与水平面的夹角等于斜线与水平面的夹角。
所述像素显示单元包括红光子像素、绿光子像素、蓝光子像素中的一种或多种。
一种异形显示屏体,包括基板和设置在基板上的TFT驱动层,所述基板划分有异形显示区域和非显示区域,所述TFT驱动层上设置有若干像素限定层,所述像素限定层形成连续的网格结构,位于所述异形显示区域的像素限定层为开口结构,位于所述非显示区域的像素限定层为非开口状态,所述异形显示区域内设置有权利要求1-9任一项所述像素排布结构排布的像素显示单元。
一种用于制备异形显示屏体的蒸镀掩膜板,包括若干平行设置的掩膜条,所述掩膜条的外侧依次设有掩膜框架和掩膜荫罩,所述的掩膜条包括若干开窗区,所述的开窗区设有全刻蚀开孔区域和半刻蚀开孔区域,所述的全刻蚀开孔区域的所述异形显示区域的像素排布结构相适应。
一种所述异形显示屏体的制备方法,包括下述步骤:
在基板上制作TFT驱动层,并在TFT驱动层上涂覆有机光刻胶层,对异形显示区域内的有机光刻胶层进行曝光显影使其形成具有开口结构的像素限定层,所述开口结构像素限定层的排布结构与异形显示区域内的像素排布结构相适应,采用蒸镀掩膜板在具有开口结构的像素限定层中沉积像 素显示单元。
所述蒸镀掩膜板的全刻蚀开孔区域与所述异形显示区域的像素排布结构相适应。
本发明的上述技术方案相比现有技术具有以下优点:
(1)本发明提供的用于异形显示的像素排布结构,在异形显示区域内设置若干排和/或若干列像素显示单元,相邻排和/或列部分像素显示单元并列或并排设置使像素显示单元排布在异形显示区域内。根据异形显示区域的不同,采用不同的像素显示单元排布结构,能够最精确的控制异形显示区域,特别是异形显示区域的边缘,使得异形显示区域的边缘光滑、清晰。同时利于后续膜层的设计,不会导致材料的浪费。
(2)当异形显示区域为单点显示区域、线显示区域、面显示区域或其组合时,像素显示单元排布结构如下:
①异形显示区域为单点显示区域是:位于单点显示区域的像素限定层为开口结构,位于所述非显示区域的像素限定层为非开口状态,具有开口结构的像素限定层中设置有单个像素显示单元。
②形显示区域为直线或斜线显示区域时:位于线显示区域的像素限定层为开口结构,位于所述非显示区域的像素限定层为非开口状态,具有开口结构的像素限定层中设置有若干排和/或若干列像素显示单元,相邻排和/或列的部分像素显示单元并列或并排设置使位于显示区域最远距离的两个像素显示单元之间的连线与水平面的夹角为θ。θ角的角度不同如30°、45°、60°等,其像素显示单元的排布也不相同,随着斜线角度的变化调整像素显示单元的排布,最大可能的避免异形显示区域的边界分辨不清问题。
③异形显示区域为曲线显示区域时:将曲线显示区域分解为小段不同角度的斜线段,每个斜线段设置有2-3个像素显示单元;每个斜线段根据角度的不同,按照所述斜线显示区域的像素排布结构的规律进行排布。
④异形显示区域为面显示区域时:将面显示区域分解为不同角度的斜线显示区域和边界线显示区域;所述的斜线显示区域根据角度的不同,按照所述斜线显示区域的像素排布结构的规律进行排布;再将边界线显示区域将曲线显示区域分解为小段不同角度的斜线段显示区域,每个斜线段设置有2-3个像素显示单元;每个斜线段根据角度的不同,按照所述斜线显示区域的像素排布结构的规律进行排布。
(3)本发明的异形显示屏体的像素限定层根据分布区域的不同而不同,位于异形显示区域的像素限定层为开口结构,位于非显示区域的像素限定层为非开口状态,这种方式即可实现显示区域的定位,节省材料的浪费。
附图说明
为了使本发明的内容更容易被清楚的理解,下面结合附图,对本发明作进一步详细的说明,其中,
图1为本发明的异形显示区域的像素排布结构的结构示意图;
图2-1和图2-2为点异形显示区域的像素排布结构的结构示意图;
图3-1和图3-2为线异形显示区域的像素排布结构的结构示意图;
图4-1和图4-2为面异形显示区域的像素排布结构的结构示意图;
图5-1和图5-2为的面异形显示区域的像素排布结构另一实施方式的示意图;
图6-1至图6-5为像素显示单元排布结构示意图;
图7为像素显示单元示意图;
图8为蒸镀掩膜板的结构示意图;
图9为掩膜条的细节图;
图10为开窗区的结构示意图。
图中附图标记表示为:
101-基板,102-TFT驱动层,103-像素限定层,104-封装层,105-异形显示区域,106-像素显示单元,107-非显示区域,120-掩膜荫罩,121-掩膜框架,123-掩膜条,124-开窗区,125-半刻蚀开孔区域,126-全刻蚀开孔区域。
具体实施方式
为了使发明的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对发明的实施方式作进一步地详细描述。
发明可以以许多不同的形式实施,而不应该被理解为限于在此阐述的实施例。相反,提供这些实施例,使得本公开将是彻底和完整的,并且将把发明的构思充分传达给本领域技术人员,发明将仅由权利要求来限定。在附图中,为了清晰起见,会夸大层和区域的尺寸和相对尺寸。应当理解的是,当元件例如层、区域或基板被称作“形成在”或“设置在”另一元件“上”时,该元件可以直接设置在所述另一元件上,或者也可以存在中间元件。相反,当元件被称作“直接形成在”或“直接设置在”另一元件上时,不存在中间元件。
如图1至图7所示,本发明提供了一种像素排布结构,该类像素排布结构用于异形显示,以及设置有这种像素排布结构的异形显示屏体,所述的异形显示屏体如图1所示,包括基板101和封装层104,基板101和封装层104封装形成密闭空间,基板101划分有异形显示区域105和非显示区域107,所述基板101上依次堆叠设置TFT驱动层102,若干像素限定层103,所述像素限定层103形成连续的网格结构,位于所述异形显示区域105的像素限定层103为开口结构,位于所述非显示区域107的像素限定层103为非开口状态,所述异形显示区域105内的像素限定层103中设置有若干排和/或若干列像素显示单元106,相邻排和/或列部分像素显示单元106并列或并排设置使像素显示单元106排布在异形显示区域105内,所述像素显示单元106包括红光子像素、绿光子像素、蓝光子像素中的一种或多种。所述异形显示区域105为单点显示区域、线显示区域、面显示区域或其组合。
如图8至图10所示,本发明还提供了一种用于制备异形显示屏体的蒸镀掩膜板,包括若干平行设置的掩膜条123,所述掩膜条123的外侧依次设有掩膜框架121和掩膜荫罩120,所述的掩膜条123包括若干开窗区124,其特征在于,所述的开窗区124设有全刻蚀开孔区域126和半刻蚀开孔区域125,所述的全刻蚀开孔区域126的所述异形显示区域105的像素排布结构相适应,所述的半刻蚀区域25用于缓解掩膜条所承受的应力,防止全刻蚀开孔区域126的开孔发生变形。根据上述异形显示区域105为的形状,对全刻蚀开孔区域126的形状做相应调整,其中图8-10的蒸镀掩膜板适用于面显示的异形屏体的制备。
异形显示屏体的制备方法,包括下述步骤:在基板101上制作TFT驱动层102,并在TFT驱动层102上涂覆有机光刻胶层,对异形显示区域105内的有机光刻胶层进行曝光显影使其形成具有开口结构的像素限定层103,所述开口结构的像素限定层103的排布结构与异形显示区域105内的像素排布结构相适应,采用蒸镀掩膜板在具有开口结构的像素限定层103中沉积像素显示单元106。所述蒸镀掩膜板的全刻蚀开孔区域126与所述异形显示区域105的像素排布结构相适应。
根据异形显示区域105的不同,具有如下实施例:
实施例1单点显示的异形显示屏体
本实施例的异形显示屏体如图2-1和图2-2所示,包括基板101和封装层104,基板101和封装层104封装形成密闭空间,基板101划分有异形显示区域105和非显示区域107,所述基板101上依次堆叠设置TFT驱动层102,若干像素限定层103,所述像素限定层103形成连续的网格结构,位于所述异形显示区域105的像素限定层103为开口结构,位于所述非显示区域107的像素限定层103为非开口状态,所述异形显示区域105为单点显示区域,所述像素限定层103中设置有单个像素显示单元106。根据需要,也可以在同一屏体上设置多个单点显示区域,每个具有开口结构的像素限定层103中设置有单个像素显示单元106。
本实施例的单点显示的异形显示屏体的制备方法,包括下述步骤:
在基板101上制作TFT驱动层102,并在TFT驱动层102上涂覆有机光刻胶层,对单点显示区域内的有机光刻胶层进行曝光显影使其形成具有开口结构的像素限定层103,非显示区域107的光刻胶层不曝光,为非开口结构的像素限定层。所述开口结构像素限定层的排布结构与单点显示区域内的像素排布结构相适应,采用蒸镀掩膜板在具有开口结构的像素限定层103中沉积像素显示单元106。所述蒸镀掩膜板的全刻蚀开孔区域126与所述单点显示区域的像素排布结构相适应。
实施例2直线显示的异形显示屏体
本实施例的异型显示屏体结构同实施例1,其中异形显示区域105为水平直线或竖直直线,所述异形显示区域105内的像素排布结构如图6-1和图6-2所示,所述像素显示单元106呈横向或纵向排布在显示区域。
本实施例的直线显示的异形显示屏体的制备方法,包括下述步骤:
在基板101上制作TFT驱动层102,并在TFT驱动层102上涂覆有机光刻胶层,对直线显示区域内的有机光刻胶层进行曝光显影使其形成具有开口结构的像素限定层103,非显示区域107的光刻胶层不曝光,为非开口结构的像素限定层。所述开口结构像素限定层的排布结构与直线显示区域内的像素排布结构相适应,采用蒸镀掩膜板在具有开口结构的像素限定层103中沉积像素显示单元106。所述蒸镀掩膜板的全刻蚀开孔区域126与所述直线显示区域的像素排布结构相适应。
实施例3斜线显示的异形显示屏体
本实施例的异型显示屏体结构同实施例1,其中异形显示区域105为斜线显示区域,斜线与水平的夹角可以为锐角或钝角,考虑到锐角和钝角(如30°和150°、如45°和135°、如60°和120°等)的斜线在竖直方向为镜像结构,故本实施例针对锐角举例说明,相应钝角的斜线显示区域的排布方式在本实施例的基础上做镜像即可获得。
本实施例所述斜线显示区域与水平面之间具有夹角θ,所述斜线显示区域内设有若干排和/或若干列像素显示单元106,相邻排和/或列的部分像素 显示单元106并列或并排设置使位于显示区域最远距离的两个像素显示单元106之间的连线与水平面的夹角为θ。详细地,
当θ=30°,所述显示区域内设置有多排像素显示单元组,如图6-3所示,每个像素显示单元组包括3个横向并排设置的像素显示单元,每个像素显示单元组两端的像素显示单元分别和与其相邻的像素显示单元组中的单个像素显示单元并列设置;所述显示区域的一端最外侧一排设置有单个像素显示单元;位于所述显示区域最远距离的两个像素显示单元之间的连线与水平面的夹角为30°;具体地,以读者面向图的方式,如图6-3所示,显示区域内自下至上,第一排和第二排的像素显示单元组分别包括三个横向并排设置像素显示单元,所述第一排最右端的像素显示单元和第二排最左端的像素显示单元位于同一列,所述第三排设置单个像素显示单元,且与所述第二排最右端的像素显示单元位于同一列。以此类推,如果斜线显示区域长度比图中长,则重复第一排和第二排的像素排布结构即可。
当θ=45时,所述显示区域内设置有多排像素显示单元组,每个像素显示单元组包括2个横向并排设置的像素显示单元,每个像素显示单元组中的2个像素显示单元分别和与其相邻的像素显示单元组中的像素显示单元并列设置;位于所述显示区域最远距离的两个像素显示单元之间的连线与水平面的夹角为45°。具体地,以读者面向图的方式,如图6-4所示,显示区域内自下至上,第一排、第二排和第三排的像素显示单元组分别包括两个横向并排设置像素显示单元,所述第一排右端的像素显示单元和第二排左端的像素显示单元位于同一列,第二排右端的像素显示单元和第三排左端的像素显示单元位于同一列。以此类推,如果斜线显示区域长度比图中长,则重复第一排和第二排的像素排布结构即可。
当θ=60°时,所述显示区域内设置有多列像素显示单元组,每个像素显示单元组包括3个纵向并列设置的像素显示单元,每个像素显示单元组两端的像素显示单元分别和与其相邻的像素显示单元组中的单个像素显示单元并排设置;所述显示区域的两端最外侧一列分别设置有单个像素显示单元;位于所述显示区域最远距离的两个像素显示单元之间的连线与水平 面的夹角为60°或120°。具体地,以读者面向图的方式,如图6-5所示,显示区域内自左至右,第二列和第三列的像素显示单元组分别包括三个纵向并列设置像素显示单元,所述第一列最上端的像素显示单元和第二列最下端的像素显示单元位于同一排,第一列和第四列分别设置单个像素显示单元,所述第一列的单个像素显示单元与所述第二列最下端的像素显示单元位于同一排,所述第四列的单个像素显示单元与所述第三列最上端的像素显示单元位于同一排。以此类推,如果斜线显示区域长度比图中长,则重复第二列和第三列的像素排布结构即可。
若45°<θ<60°,则像素显示单元按照60°角斜线的排列方式占斜线的(60-θ)/(60-45),按照θ=45°时排列方式占斜线的(θ-45)/(60-45);具体地,当θ=50°,则像素显示单元按照60°角斜线的排列方式占斜线的(60-50)/(60-45)=10/15=2/3,则像素显示单元按照45°角斜线的排列方式占斜线的(50-45)/(60-45)=5/15=1/3。即该斜线显示区域内,有2/3的像素排布结构按照60°角斜线的像素排布规律排布,有1/3的像素排布结构按照45°角斜线的像素排布规律排布,位于所述显示区域最远距离的两个像素显示单元之间的连线与水平面的夹角为50°。所述显示区域长度为L,像素显示单元的长度为L0,所述显示区域设置有S1个横向排布的像素显示单元和S2个竖向排布的像素显示单元:
若60°<θ<90°,则像素显示单元按照θ=90°时排列方式占斜线的(90-θ)/(90-60),按照θ=60°时排列方式占斜线的(θ-60)/(90-60);所述显示区域长度为L,像素显示单元的长度为L0,所述显示区域设置有S3个横向排布的像素显示单元和S4个竖向排布的像素显示单元:
实施例4曲线显示区域
本实施例的异型显示屏体结构同实施例1,其中异形显示区域105为图4-1和图4-2所示的曲线显示区域。将曲线显示区域分解为小段不同角度的斜线段,每个斜线段设置有2-3个像素显示单元106;所述斜线显示区域内设有若干排和/或若干列像素显示单元106,相邻排和/或列的部分像素显示单元106并列或并排设置使位于斜线显示区域最远距离的两个像素显示单元106之间的连线与水平面的夹角为θ。每个斜线段根据其与水平均的夹角不同,像素显示单元106按照实施例3的方式排布。
本实施例的斜线显示的异形显示屏体的制备方法,包括下述步骤:
在基板101上制作TFT驱动层102,并在TFT驱动层102上涂覆有机光刻胶层,对斜线显示区域内的有机光刻胶层进行曝光显影使其形成具有开口结构的像素限定层103,非显示区域107的光刻胶层不曝光,为非开口结构的像素限定层103。所述开口结构像素限定层的排布结构与斜线显示区域内的像素排布结构相适应,采用蒸镀掩膜板在具有开口结构的像素限定层中沉积像素显示单元106。所述蒸镀掩膜板的全刻蚀开孔区域126与所述斜线显示区域的像素排布结构相适应。
实施例5面显示的异形显示屏体
本实施例的异型显示屏体结构同实施例1,其中异形显示区域105为图5-1和图5-2所示的曲线显示区域。将面显示区域分解为不同角度的斜线显示区域和边界线显示区域;
每个斜线段显示区域设有若干排和/或若干列像素显示单元106,相邻排和/或列的部分像素显示单元106并列或并排设置使位于斜线显示区域最远距离的两个像素显示单元106之间的连线与水平面的夹角为等于斜线与 水平面的夹角;具体地,每个斜线段根据其与水平均的夹角不同,像素显示单元106按照实施例3的方式排布。
将边界线显示区域将曲线显示区域分解为小段不同角度的斜线段显示区域,每个斜线段显示区域内设置有2-3个像素显示单元106;所述斜线段显示区域内设有若干排和/或若干列像素显示单元106,相邻排和/或列的部分像素显示单元106并列或并排设置使位于斜线段显示区域最远距离的两个像素显示单元106之间的连线与水平面的夹角等于斜线与水平面的夹角,具体地,每个斜线段根据其与水平均的夹角不同,像素显示单元106按照实施例3的方式排布。
本实施例的面显示的异形显示屏体的制备方法,包括下述步骤:
在基板101上制作TFT驱动层102,并在TFT驱动层102上涂覆有机光刻胶层,对面显示的异形显示区域105内的有机光刻胶层进行曝光显影使其形成具有开口结构的像素限定层103,非显示区域107的光刻胶层不曝光,为非开口结构的像素限定层103。所述开口结构像素限定层103的排布结构与面显示区域内的像素排布结构相适应,采用蒸镀掩膜板在具有开口结构的像素限定层103中沉积像素显示单元106。所述蒸镀掩膜板的全刻蚀开孔区域126与所述面显示区域的像素排布结构相适应。
显然,上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例,而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说,在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明创造的保护范围之中。
Claims (13)
1.一种像素排布结构,该种像素排布结构适用于异形显示屏体的异形显示,其特征在于,
所述像素排布结构设有若干排和/或若干列像素显示单元,相邻排和/或列部分像素显示单元并列或并排设置排布在异形显示区域内。
2.根据权利要求1所述的像素排布结构,其特征在于,所述异形显示为单点显示、线显示、面显示或其组合。
3.根据权利要求2所述的像素排布结构,其特征在于,所述单点显示适用于具有单点显示区域的屏体,所述单点显示区域设置有单个像素显示单元。
4.根据权利要求3所述的像素排布结构,其特征在于,所述线显示适用于具有单线显示区域的屏体,所述的单线显示区域为直线显示区域、斜线显示区域和/或曲线显示区域。
5.根据权利要求4所述的像素排布结构,其特征在于,所述斜线显示区域与水平面之间具有夹角θ,所述斜线显示区域内设有若干排和/或若干列像素显示单元,相邻排和/或列的部分像素显示单元并列或并排设置使位于显示区域最远距离的两个像素显示单元之间的连线与水平面的夹角为θ。
6.根据权利要求5所述的像素排布结构,其特征在于,根据θ角的变化,所述直线显示区域和斜线显示区域的像素显示单元排布结构如下:
当θ=90°或0°时,所述像素显示单元呈纵向或横向排布在显示区域;
当θ=30°或150°时,所述显示区域内设置有多排像素显示单元组,每个像素显示单元组包括3个横向并排设置的像素显示单元,每个像素显示单元组两端的像素显示单元分别和与其相邻的像素显示单元组中的单个像素显示单元并列设置;所述显示区域的一端最外侧一排设置有单个像素显示单元;位于所述显示区域最远距离的两个像素显示单元之间的连线与水平面的夹角为30°或150°;
当θ=45°或135°时,所述显示区域内设置有多排像素显示单元组,每个像素显示单元组包括2个横向并排设置的像素显示单元,每个像素显示单元组中的2个像素显示单元分别和与其相邻的像素显示单元组中的像素显示单元并列设置;位于所述显示区域最远距离的两个像素显示单元之间的连线与水平面的夹角为45°或135;
当θ=60°或120°时,所述显示区域内设置有多列像素显示单元组,每个像素显示单元组包括3个纵向并列设置的像素显示单元,每个像素显示单元组两端的像素显示单元分别和与其相邻的像素显示单元组中的单个像素显示单元并排设置;所述显示区域的两端最外侧一列分别设置有单个像素显示单元;位于所述显示区域最远距离的两个像素显示单元之间的连线与水平面的夹角为60°或120°;
若45°<θ<60°,则像素显示单元按照θ=60°时排列方式占斜线的(60-θ)/(60-45),按照θ=45°时排列方式占斜线的(θ-45)/(60-45);所述显示区域长度为L,像素显示单元的长度为L0,所述显示区域设置有S1个横向排布的像素显示单元和S2个竖向排布的像素显示单元:
1
若60°<θ<90°,则像素显示单元按照θ=90°时排列方式占斜线的(90-θ)/(90-60),按照θ=60°时排列方式占斜线的(θ-60)/(90-60);所述显示区域长度为L,像素显示单元的长度为L0,所述显示区域设置有S3个横向排布的像素显示单元和S4个竖向排布的像素显示单元:
7.根据权利要求5所述的像素排布结构,其特征在于,所述显示区域为曲线显示区域时,将曲线显示区域分解为小段不同角度的斜线段,每个斜线段设置有2-3个像素显示单元;
所述斜线显示区域内设有若干排和/或若干列像素显示单元,相邻排和/或列的部分像素显示单元并列或并排设置使位于斜线显示区域最远距离的两个像素显示单元之间的连线与水平面的夹角为θ。
8.根据权利要求2所述的像素排布结构,其特征在于,所述的面显示适用于具有面显示区域的屏体,进行像素排布时,将面显示区域分解为不同角度的斜线显示区域和边界线显示区域;
每个斜线段显示区域设有若干排和/或若干列像素显示单元,相邻排和/或列的部分像素显示单元并列或并排设置使位于斜线显示区域最远距离的两个像素显示单元之间的连线与水平面的夹角为等于斜线与水平面的夹角;
将边界线显示区域将曲线显示区域分解为小段不同角度的斜线段显示区域,每个斜线段显示区域内设置有2-3个像素显示单元;所述斜线段显示区域内设有若干排和/或若干列像素显示单元,相邻排和/或列的部分像素显示单元并列或并排设置使位于斜线段显示区域最远距离的两个像素显示单元之间的连线与水平面的夹角等于斜线与水平面的夹角。
9.根据权利要求1-8任一项所述的像素排布结构,其特征在于,所述像素显示单元包括红光子像素、绿光子像素、蓝光子像素中的一种或多种。
10.一种异形显示屏体,包括基板和设置在基板上的TFT驱动层,所述基板划分有异形显示区域和非显示区域,所述TFT驱动层上设置有若干像素限定层,所述像素限定层形成连续的网格结构,其特征在于,
位于所述异形显示区域的像素限定层为开口结构,位于所述非显示区域的像素限定层为非开口状态,所述异形显示区域内设置有权利要求1-9任一项所述像素排布结构排布的像素显示单元。
11.一种用于制备异形显示屏体的蒸镀掩膜板,包括若干平行设置的掩膜条(123),所述掩膜条(123)的外侧依次设有掩膜框架(121)和掩膜荫罩(120),所述的掩膜条(123)包括若干开窗区(124),其特征在于,所述的开窗区(124)设有全刻蚀开孔区域(126)和半刻蚀开孔区域(125),所述的全刻蚀开孔区域(126)的所述异形显示区域的像素排布结构相适应。
12.一种权利要求10所述异形显示屏体的制备方法,其特征在于,包括下述步骤:
在基板上制作TFT驱动层,并在TFT驱动层上涂覆有机光刻胶层,对异形显示区域内的有机光刻胶层进行曝光显影使其形成具有开口结构的像素限定层,所述开口结构像素限定层的排布结构与异形显示区域内的像素排布结构相适应,采用权利要求11所述的蒸镀掩膜板在具有开口结构的像素限定层中沉积像素显示单元。
13.根据权利要求12所述的异形显示屏体的制备方法,其特征在于,所述蒸镀掩膜板的全刻蚀开孔区域(126)与所述异形显示区域的像素排布结构相适应。
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
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Application publication date: 20170811 |