CN107001128A - 减反射的涂覆的玻璃制品 - Google Patents

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Abstract

涂覆的玻璃制品,包含玻璃基材和在玻璃基材上方形成的涂层。涂层包括沉积在玻璃基材的主表面上方的第一无机金属氧化物层。第一无机金属氧化物层的折射率为1.8以上。涂层还包括沉积在第一无机金属氧化物层上方的第二无机金属氧化物层。第二无机金属氧化物层的折射率为1.6以下。涂覆的玻璃制品显示出6.5％以下的总可见光反射率。

Description

减反射的涂覆的玻璃制品
相关申请的交叉引用
本申请根据35U.S.C.119(e)要求获得序列号62/073,167并于2014年10月31日提交的临时申请的权益，其全部内容通过引用并入本文。
背景技术
本发明涉及一种具有减反射涂层的涂覆的玻璃制品。更具体地，本发明涉及一种具有显示出高的薄层电阻的减反射涂层的涂覆的玻璃制品。
触控屏电子设备包括由玻璃制成的屏幕。触控屏过度的眩光可使电子设备难以阅读和难以使用。减少来自观看屏幕的眩光将改善设备的可读性和可用性。
玻璃上的薄膜涂层通常用于提供特定的可见光透射性。这样的涂层可以被设计为减反射的，以便减少可见光的反射率。通常，通过光学干涉的原理实现反射率的降低。当光照射在空气-膜、膜-膜和膜-玻璃界面上时，在每个界面处反射该光束的一部分。通过材料和厚度的适当选择，各个反射光束将相互破坏性地相互干涉，从而减少观察到的视觉反射率。
提供具有可用作电子设备中的触控屏的减反射涂层的涂覆的玻璃制品将会是有利的。对于某些应用，涂覆的玻璃制品显示出高的薄层电阻也是期望的。
发明内容
提供了涂覆的玻璃制品的实施方案。
在一个实施方案中，涂覆的玻璃制品包含玻璃基材和在玻璃基材上方形成的涂层。涂层包含沉积在玻璃基材的主表面上的第一无机金属氧化物层。第一无机金属氧化物层的折射率为1.8以上。涂层还包含沉积在第一无机金属氧化物层上方的第二无机金属氧化物层。第二无机金属氧化物层的折射率为1.6以下。涂覆的玻璃制品显示出6.5％以下的总可见光反射率。
在另一个实施方案中，涂覆的玻璃制品包含玻璃基材和在玻璃基材上方形成的涂层。涂层包含沉积在玻璃基材的主表面上方的第一无机金属氧化物层。第一无机金属氧化物层的折射率为1.8以上，且以50nm以下的厚度沉积。第二无机金属氧化物层直接沉积在第一无机金属氧化物层上。第二无机金属氧化物层的折射率为1.6以下，且以100nm以上的厚度沉积。第三无机金属氧化物层直接沉积在玻璃基材的主表面上。第三无机金属氧化物层的折射率为1.6以下，且以25nm以下的厚度沉积。涂覆的玻璃制品显示出6.0％以下的总可见光反射率、94％(照明体C)以上的总可见光透射率、1.0×107ohm/sq以上的薄层电阻。
附图的简要说明
当根据附图考虑时，从以下详细描述中，本发明的上述以及其他优点对于本领域技术人员将变得清楚，其中：
图1是根据本发明的涂覆的玻璃制品的实施方案的截面图；
图2是根据本发明的涂覆的玻璃制品的另一个实施方案的截面图；
图3是根据本发明的夹层玻璃单元的实施方案的截面图；和
图4是根据本发明的触控屏电子设备的实施方案的正视图。
具体实施方式
应当理解，本发明可以采取各种替代方向和步骤顺序，除非另有明确规定。还应当理解，在附图中示出并且在下面的说明书中描述的具体的层、制品、方法和过程仅仅是本发明构思的示例性实施方案。因此，与所公开的实施方案相关的具体尺寸、方向或其他物理性能不应视为限制性的，除非另有明确说明。
下面将描述根据本发明的涂覆的玻璃制品10,10A的实施方案。涂覆的玻璃制品10,10A的实施方案可以用作单个涂覆的玻璃片。例如，涂覆的玻璃制品10,10A可以用作电子设备或其它电子接口设备的触控屏的一部分。
此外，涂覆的玻璃制品10,10A的实施方案可以组合用于例如夹层玻璃单元中。此外，涂覆的玻璃制品10,10A的实施方案可以单独地或组合地用于例如窗玻璃和/或具有建筑、住宅、商业、光伏、汽车和航空用途。
图1-2示出了涂覆的玻璃制品10,10A的实施方案。
如图1-2所示，涂覆的玻璃制品10,10A包含玻璃基材12。玻璃基材12可以是本领域已知的任何常规玻璃组合物。在某些实施方案中，选择玻璃基材12的组成以使涂覆的玻璃制品10,10A显示特定的光谱性能。优选地，玻璃基材12是钠钙硅玻璃。在该实施方案中，基材12可以是浮法玻璃带。玻璃基材12可以对可见光基本透明。在一个实施方案中，玻璃基材12是透明的并且具有低铁组成。然而，玻璃基材可以具有另一种组成，例如硼硅酸盐组成。此外，玻璃基材的透明度或吸收特性可以在涂覆的玻璃制品的实施方案之间变化。例如，可以在涂覆的玻璃制品中使用着色玻璃基材。
玻璃基材厚度可以在涂覆的玻璃制品的实施方案之间变化。然而，在某些实施方案中，例如当将涂覆的玻璃制品用于触控屏电子装置时，优选玻璃基材12具有被选择以在制品的重量和刚度之间提供平衡的厚度。优选地，在这些实施方案中，玻璃基材12的厚度被选择为6毫米(mm)以下。更优选地，在这些实施方案中，选择玻璃基材12的厚度为2毫米(mm)以下。在另外的实施方案中，玻璃基材12的厚度在约1.0和2.0mm之间。更具体地，在一个实施方案中，玻璃基材12的厚度在1.5和1.7mm之间。
在玻璃基材12上方沉积涂层14,14A。涂层14,14A包括第一涂覆层16和第二涂覆层18。在某些实施方案中，图1所示的涂覆层14由上述的涂覆层16,18组成。涂覆层16,18可以通过任何合适的方法沉积，但优选通过常压化学气相沉积(APCVD)沉积。其它已知的沉积方法适用于沉积一个或多个涂覆层，例如溶胶-凝胶涂覆技术或溅射涂覆技术。在基材12是浮法玻璃带的实施方案中，优选将涂层14,14A施加在浮法玻璃工艺的加热区中。
第一涂覆层16沉积在玻璃基材12的主表面20上方，并且在某些实施方案中直接沉积在玻璃基材12的主表面20上。在某些实施方案中，第一涂覆层16是热解涂层。优选地，第一涂覆层16的折射率大于1.6。更优选地，第一涂覆层16的折射率为1.8以上。此外，对于某些实施方案，优选地，第一涂覆层16是具有相对高电阻的材料。
在某些实施方案中，第一涂覆层16由无机金属氧化物形成。优选地，在这些实施方案中，第一涂覆层16包含氧化锡(SnO2)、二氧化钛(TiO2)或其它合适的无机金属氧化物。当第一涂覆层16包含氧化锡的无机金属氧化物层时，折射率为1.8以上，并且当第一涂覆层16包含二氧化钛的无机金属氧化物层时，折射率为2.2以上。氧化锡和二氧化钛是优选的材料，因为它们的相对高的折射率和它们的相对高的电阻。因此，应当理解，对于这些实施方案优选的是，通过例如将掺杂剂诸如氟或其它材料添加到第一涂覆层16而不降低第一涂覆层的电阻。因此，当第一涂覆层16包含氧化锡时，优选的是，第一涂覆层16是未掺杂的并且包含锡、氧、以及可能痕量或更少的污染物，例如碳，并且当第一涂覆层16包含二氧化钛时，优选的是，第一涂覆层16是未掺杂的，并且包含钛、氧和可能痕量或更少的污染物，例如碳。
第一涂覆层16的厚度为50纳米(nm)以下。优选地，第一涂覆层16的厚度为40nm以下。更优选地，第一涂覆层16的厚度为35nm以下。在其他实施方案中，第一涂覆层16的厚度为30nm以下。在第一涂覆层16包含二氧化钛的实施方案中，第一涂覆层16的厚度可以为20nm以下。
在第一涂覆层16包含氧化锡的实施方案中，第一涂覆层16的厚度可以为15-50nm。优选地，在这些实施方案中，第一涂覆层16的厚度为15-35nm。在第一涂覆层16包含二氧化钛的实施方案中，第一涂覆层16的厚度可以为5-20nm。在第一涂覆层16包含二氧化钛的其它实施方案中，第一涂覆层16的厚度可以为15nm以下。在这些实施例中，第一涂覆层的厚度优选为5-15nm。
第二涂覆层18沉积在第一涂覆层16上方，优选地直接沉积在第一涂覆层16上。优选地，第二涂覆层18形成涂覆的玻璃制品10的最外层和最外表面22。此外，在某些实施方案中，第二涂覆层18是热解涂层。
优选地，第二涂覆层18的折射率低于第一涂覆层16的折射率。在一个实施方案中，第二涂覆层18的折射率为1.6以下，优选为1.5以下。在某些实施方案中，优选第二涂覆层18具有相对高的电阻。
在一个实施方案中，第二涂覆层18由具有低折射率的无机金属氧化物形成。优选地，在该实施方案中，第二涂覆层18包含二氧化硅(SiO2)。二氧化硅是用于第二涂覆层18的优选材料，因为其折射率约为1.46。此外，由于其相对高的电阻，二氧化硅是优选的材料。当第二涂覆层18包含二氧化硅时，优选第二涂覆层18包含硅、氧、以及可能痕量或更少的污染物，例如碳。
在第二涂覆层18包含二氧化硅的无机金属氧化物层的实施方案中，第二涂覆层18的厚度为100nm以上。优选地，在这些实施方案中，第二涂覆层18的厚度为100-125nm。更优选地，在第二涂覆层18是二氧化硅层的实施方案中，第二涂覆层18的厚度为110nm以上。甚至更优选地，在这些实施方案中，第二涂覆层18的厚度为110nm至125nm。
在如图2所示的实施方案中，涂层14A包括第三涂覆层24。在某些实施方案中，如图2所示的涂层14A，由第一涂覆层16、第二涂覆层18和第三涂覆层24组成。可以通过任何合适的方法沉积第三涂覆层24，但优选通过常压化学气相沉积(APCVD)沉积。在某些实施方案中，第三涂覆层24是热解涂层。其它已知的沉积方法适用于沉积第三涂覆层，例如溶胶-凝胶涂覆技术或溅射涂覆技术。
第三涂覆层24沉积在玻璃基材12的主表面20上方，优选地直接沉积在玻璃基材12的主表面20上。在图2所示的实施方案中，第一涂覆层16沉积在第三涂覆层24上方，优选地直接沉积在第三涂覆层24上。因此，在本实施方案中，第三涂覆层24形成涂层14A的最内层。
优选地，第三涂覆层24的折射率低于第一涂覆层16的折射率。在一个实施方案中，第三涂覆层24的折射率为1.6以下，优选为1.5以下。在某些实施方案中，优选第三涂覆层24具有相对高的电阻。
在一个实施方案中，第三涂覆层24由具有低折射率的无机金属氧化物形成。优选地，在该实施方案中，第三涂覆层24包含二氧化硅(SiO2)。二氧化硅是第三涂覆层24的优选材料，因为其折射率为约1.46。此外，由于其相对高的电阻，二氧化硅是优选的材料。当第三涂覆层24包含二氧化硅时，优选第三涂覆层24包含硅、氧、以及可能痕量或更少的污染物，例如碳。优选地，第三涂覆层24的厚度为25nm以下。在第三涂覆层24包含二氧化硅的无机金属氧化物层的实施方案中，第三涂覆层18的厚度优选为20nm以下。更优选地，在这些实施方案中，第三涂覆层24的厚度为10-20nm。
有利的是，涂覆的玻璃制品10,10A的实施方案显示出减反射性能，例如低的总可见光反射率。为了描述涂覆的玻璃制品10,10A，总可见光反射率是指从具有沉积在玻璃基材表面上的涂层的制品的侧面26测量的从涂覆的玻璃制品反射的可见光的百分比。在一个实施方案中，涂覆的玻璃制品10,10A显示出6.5％以下的总可见光反射率。优选地，涂覆的玻璃制品10,10A显示出的6.0％以下总可见光反射率。更优选地，涂覆的玻璃制品10,10A显示出5.5％以下的总可见光反射率。在某些实施方案中，涂覆的玻璃制品10,10A显示出5％以下的总可见光反射率。通过适当选择第一涂覆层和第二涂覆层中的每一个的组成和厚度，涂覆的玻璃制品显示出例如6.5％以下的总可见光反射率。
涂覆的玻璃制品10,10A还显示出例如大于1.0×105ohm/sq的高的薄层电阻。优选地，涂覆的玻璃制品10,10A显示出1.0×107ohm/sq以上的薄层电阻。在某些实施方案中，涂覆的玻璃制品10,10A显示出1.0×108ohm/sq以上的薄层电阻。通过适当选择第一涂覆层和第二涂覆层中的每一个的组成和厚度，涂覆的玻璃制品显示出例如大于1.0×105ohm/sq的薄层电阻。
涂覆的玻璃制品10,10A也可以显示出在某些应用中有利的其它性质。例如，还应该注意的是，涂覆的玻璃制品10,10A不仅显示出降低的总可见光反射率，而且当制品以90度入射角观察时，也可以显示出从制品的涂覆侧面26反射的可见光的中性反射颜色。为了描述本文公开的涂覆的玻璃制品10,10A的实施方案的目的，在CIELAB色标系统下定义反射或透射的光的中性色，其具有约6至约-6的a*值和约6至-6的ab*值。还应当注意，对于本文所述的某些实施方案或应用，非中性反射和/或透射的颜色可为期望的，并且可以由涂覆的玻璃制品显示出来。在某些实施方案中，对于a*值，来自制品10,10A的涂覆侧面26的反射颜色为约4至约10，且对于b*值为约-2至约-22。
此外，涂覆的玻璃制品10,10A可以显示出高的总可见光透射率。为了描述涂覆的玻璃制品，总可见光透射率是指从具有沉积在玻璃基材表面上的涂层的制品侧面测量的通过制品的可见光的百分比。在某些实施方案中，涂覆的玻璃制品10,10A显示出93％(照明体C)以上的总可见光透射率。优选地，涂覆的玻璃制品10,10A显示出94％(照明体C)以上的总可见光透射率。更优选地，涂覆的玻璃制品10,10A的总可见光透射率为95％(照明体C)以上。在其它实施方案中，涂覆的玻璃制品10,10A显示出低于0.6％的雾度值。更优选地，涂覆的玻璃制品10,10A可以显示出0.3％以下的雾度值。
在类似于如图3所示的实施方案的某些实施方案中，涂覆的玻璃制品10,10A用于夹层玻璃单元30中。夹层玻璃单元30可以用在窗玻璃中、触控屏电子设备中、或在另一合适的应用中。
有利地，由于涂层14,14A的存在，夹层玻璃单元30显示出减反射性能，例如低的总可见光反射率。夹层玻璃单元还可以显示出其它性能，在某些应用中它们是有利的。例如，由于涂层14,14A的存在，夹层玻璃单元30的外表面32可显示出高的薄层电阻。此外，当从夹层玻璃单元30的涂覆侧34入射的90度角观察时，该单元30可以显示出从该单元反射和/或透过该单元的可见光的中性反射颜色。还应当注意，对于本文所述的某些实施方案或应用，非中性反射和/或透射的颜色可能是期望的，并且可以由夹层玻璃单元显示出来。此外，夹层玻璃单元30可以显示出高的总可见光透射率。
优选地，夹层玻璃单元30还包含聚合物中间层36。聚合物中间层36提供在涂覆的玻璃制品10,10A和第二玻璃制品38之间。在某些实施方案中，第二玻璃制品38可以是涂覆的玻璃制品10,10A的实施方案之一。在其它实施方案中，第二玻璃制品38可以是未涂覆的玻璃制品或涂覆的玻璃制品，其包括不同于上述涂层14,14A的实施方案的涂层。在这些实施方案中，第二玻璃制品38可以包含玻璃基材，其如上所述用于涂覆的玻璃制品10,10A的玻璃基材12。
中间层36可以由任何合适的聚合物材料形成。优选地，当在涂覆的玻璃制品10,10A和第二玻璃制品38之间适当加热和压制时，这些合适的聚合物材料实际上会是透明的。这种合适的聚合物材料的实例是聚乙烯醇缩丁醛和聚氯乙烯。任选地，聚合物中间层可以被涂覆或以其他方式处理，使得其显示出太阳能控制性质。
在如图4所示的实施方案中，涂覆的玻璃制品10,10A用于触控屏电子装置40。或者，如图4所示，夹层玻璃单元30可以用在触控屏电子设备40中。触控屏电子设备40还可以包含壳体42。壳体42用于将涂覆的玻璃制品10,10A或夹层玻璃单元30以及触控屏电子装置40的其它部件固定在一起。
触控屏电子设备40可以是投影电容触控屏、光学或红外种类。在这些实施方案中，如图4所示，涂层14，14A从设备40面向外部。因此，当使用触控屏电子设备40时，用户通过触摸涂层14,14A控制设备40。
实施例
以下实施例仅用于进一步说明和公开涂覆的玻璃制品、夹层玻璃单元和触控屏电子装置的实施方案的目的。
在下面描述并在表1-5中说明了在本发明范围内的涂覆的玻璃制品的实施例。
在表1-5中，本发明范围内的涂覆的玻璃制品是Ex 1至Ex 55。
以下实验条件适用于Ex 1-Ex 9。对于Ex 1至Ex 9，当形成玻璃基材并与浮法玻璃制造工艺一起移动时，在玻璃基材的沉积表面上沉积涂层。玻璃基材是钠钙硅组合物。玻璃基材的厚度为1.6mm。通过沉积第一涂覆层和第二涂覆层形成涂层。通过利用APCVD法形成每个涂覆层。
对于Ex 1-Ex 9，第一涂覆层是包含热解氧化锡的无机金属氧化物层。将氧化锡涂覆层直接沉积在玻璃基材上。在沉积第一涂覆层后，沉积第二涂覆层。第二涂覆层是包含热解二氧化硅的无机金属氧化物层。二氧化硅涂层直接沉积在第一涂覆层上。
因此，Ex 1-Ex 9的涂覆的玻璃制品为玻璃/SnO2/SiO2布置。Ex 1-Ex9的第一涂覆层和第二涂覆层的厚度以纳米报告在表1中，并通过光学建模计算。Ex 1-Ex 9的涂覆的玻璃制品的薄层电阻(Rs)、总可见光反射率(Rf)、反射色(Ra*，Rb*)、总可见光透射率(Tvis)和雾度报告在表1中。使用分光光度计在涂覆的玻璃制品的涂覆侧面上测量总可见光反射率和反射颜色。总可见光反射率表示为百分比。也使用分光光度计测定总的可见光透射率，且以百分比表示。使用雾度计在涂覆的玻璃制品的涂覆侧面上测量雾度，且以百分比表示。使用电阻率测试夹具测量薄层电阻，并以ohm/sq表示。
表1
实施例 SnO2 SiO2 Rs Rf Ra* Rb* Tvis 雾度
Ex 1 30.0 104.5 2.61x107 5.38 6.48 -2.68 95.1 0.15
Ex 2 30.2 109.8 5.18x107 5.16 7.25 -6.91 95.3 0.15
Ex 3 28.9 116.9 1.93x107 5.15 8.16 -13.23 95.3 0.18
Ex 4 28.1 115.1 6.10x107 5.04 7.62 -11.8 95.4 0.18
Ex 5 29.5 115.4 8.32x107 5.09 7.53 -14.6 95.3 0.23
Ex 6 28.1 120.4 4.32x107 5.36 7.1 -19.1 95.1 0.2
Ex 7 28.9 118.1 6.61x107 5.05 7.57 -12.5 95.4 0.22
Ex 8 29.4 120.2 1.25x108 5.06 7.39 -15 95.4 0.17
Ex 9 27.8 119.4 1.65x108 5.35 7.08 -18.9 95.1 0.21
如表1所示，Ex 1-Ex 9的涂覆的玻璃制品显示出减反射性能。例如，Ex 1-Ex 9的涂覆的玻璃制品全部从玻璃基材的涂覆侧面显示出小于6％的总可见光反射率。
有利的是，Ex 1-Ex 9的涂覆的玻璃制品全部显示出小于5.5％的总可见光反射率。更优选的是，Ex 4和Ex 7的涂覆的玻璃制品的总可见光反射率为约5％。相比之下，来自具有钠钙硅组成的未涂覆玻璃基材的可见光反射率通常为约7-8％。
另外，Ex 1-Ex 9的涂覆的玻璃制品显示出有利的其他性质。例如，Ex 1-Ex 9的涂覆的玻璃制品都显示出大于1.0×105ohm/sq的薄层电阻。实际上，Ex 1-Ex 9的涂覆的玻璃制品都显示出大于1.0×107ohm/sq的薄层电阻。在某些实施方案中，例如实施方案8和实施方案9的涂覆的玻璃制品，显示出大于1.0×108ohm/sq的薄层电阻。例如，当涂覆的玻璃制品用于某些电子设备应用时，由Ex 1-Ex 9的涂覆的玻璃制品显示出的高的薄层电阻是有利的。
此外，对于Ex 1至Ex 9，涂覆的玻璃制品显示出高于95％(照明体C)的可见光透射率。另外，Ex 1-Ex 9的涂覆的玻璃制品显示出小于0.3％的浊度。对于Ex 1-Ex 4、Ex 6和Ex8的涂覆的玻璃制品，显示出0.2％以下的雾度。
在下面描述并于表2中说明了在本发明的范围内的涂覆的玻璃制品的其它实施例。在表2中，在本发明范围内的涂覆的玻璃制品是Ex 10-Ex 31。
Ex 10-Ex 31的涂覆的玻璃制品是预测性的，并使用与Ex 1-Ex 9报告的相似的输入参数进行建模。Ex 10-Ex 31的每个涂覆的玻璃制品都包含玻璃基材。每个玻璃基材具有1.6mm的厚度和钠钙硅组成。Ex 10-Ex 31的每个涂覆的玻璃制品还包含沉积在玻璃基材的沉积表面上的涂层。每个涂层包括第一涂覆层和第二涂覆层。
对于Ex 10-Ex 31的涂覆的玻璃制品中的每一个，第一涂覆层沉积在玻璃基材上，并且是包含氧化锡的无机金属氧化物层。第一涂覆层的厚度如表2所报告的那样。第二涂覆层沉积在第一涂覆层上，并且是包含二氧化硅的无机金属氧化物层。第二涂覆层的厚度如表2所报告的那样。
因此，Ex 10-Ex 31的涂覆的玻璃制品是玻璃/SnO2/SiO2布置。Ex 10-Ex 31的涂覆层的厚度以纳米报告在表2中。Ex 10-Ex 31的涂覆的玻璃制品的总可见光反射率(Rf)、反射颜色(Ra*，Rb*)和总可见光透射率(Tvis)也报告在表2中。通过光学建模计算了Ex 10-Ex31的涂覆的玻璃制品的总可见光反射率、反射颜色和总可见光透射率。报告了涂覆的玻璃制品的涂覆侧的总可见光反射率和反射颜色。总可见光反射率和总可见光透射率以百分比表示。
表2
实施例 SnO2 SiO2 Rf Ra* Rb* Tvis
Ex 10 22.5 120 5.2 5.3 -9.1 94.48
Ex 11 23.0 120 5.1 5.5 -9.4 94.49
Ex 12 23.5 120 5.1 5.6 -9.8 94.51
Ex 13 24.0 120 5.1 5.7 -10.1 94.52
Ex 14 24.5 120 5.1 5.8 -10.5 94.53
Ex 15 25.0 120 5.1 5.9 -10.9 94.54
Ex 16 25.5 120 5.1 6.0 -11.2 94.54
Ex 17 26.0 120 5.1 6.1 -11.6 94.55
Ex 18 26.5 120 5.1 6.2 -12.0 94.55
Ex 19 27.0 120 5.0 6.3 -12.3 94.56
Ex 20 27.5 120 5.0 6.4 -12.7 94.56
Ex 21 25.0 108 5.3 5.3 -2.2 94.30
Ex 22 25.0 110.4 5.2 5.5 -4.0 94.41
Ex 23 25.0 112.8 5.2 5.8 -5.8 94.48
Ex 24 25.0 115.2 5.1 5.9 -7.6 94.53
Ex 25 25.0 117.6 5.1 6.0 -9.3 94.55
Ex 26 25.0 120 5.1 5.9 -10.9 94.54
Ex 27 25.0 122.4 5.1 5.8 -12.3 94.50
Ex 28 25.0 124.8 5.2 5.6 -13.7 94.43
Ex 29 25.0 127.2 5.3 5.4 -14.9 94.34
Ex 30 25.0 129.6 5.4 5.0 -15.9 94.22
Ex 31 25.0 132.0 5.5 4.6 -16.8 94.08
如表2所示，Ex 10-Ex 31的涂覆的玻璃制品显示出减反射性能。如Ex 10-Ex 31的涂覆的玻璃制品所示，从玻璃基材的涂覆侧面显示出6％以下的可见光反射率。事实上，Ex10-Ex 31的涂覆的玻璃制品从玻璃基材的涂覆侧面显示出5.5％以下的可见光反射率。此外，Ex 19和Ex 20的涂覆的玻璃制品从玻璃基材的涂覆侧面显示出5％以下的可见光反射率。
此外，Ex 10-Ex 31的涂覆的玻璃制品显示出其他有利的性质。对于Ex 10-Ex 31，涂覆的玻璃制品显示出高于94％的可见光透射率(照明体C)。此外，Ex 21-Ex 23的涂覆的玻璃制品在反射中显示出中性色。还预期了Ex 10-Ex 31的涂覆的玻璃制品的薄层电阻为1.0×107ohm/sq以上。
如下描述并在表3中说明了在本发明的范围内的涂覆的玻璃制品的另外的实施例Ex 32。
以下实验条件适用于Ex 32。对于Ex 32，在形成玻璃基材和与浮法玻璃制造工艺一起移动时，在玻璃基材的沉积表面上沉积涂层。玻璃基材是钠钙硅组合物。玻璃基材的厚度为3.2mm。通过沉积第一涂覆层和第二涂覆层形成涂层。通过利用APCVD法形成每个涂覆层。
对于Ex 32，第一涂覆层是包含热解二氧化钛的无机金属氧化物层。二氧化钛涂层直接沉积在玻璃基材上。在沉积第一涂覆层后，沉积第二涂覆层。第二涂覆层是包含热解二氧化硅的无机金属氧化物层。二氧化硅涂层直接沉积在第一涂覆层上。
因此，Ex 32的涂覆的玻璃制品是玻璃/TiO2/SiO2布置。Ex 32的第一涂覆层和第二涂覆层的厚度以纳米报告在表3中，并通过光学建模计算。表3中也列出了Ex 32的涂覆的玻璃制品的薄层电阻(Rs)、总可见光反射率(Rf)、反射颜色(Ra*，Rb*)，总可见光透射率(Tvis)和雾度。
表3
实施例 TiO2 SiO2 Rs Rf Ra* Rb* Tvis 雾度
Ex 32 11.0 102.1 5.03x1014 5.19 5.33 -8.56 95.2 0.14
如表3所示，Ex 32的涂覆的玻璃制品显示出从玻璃基材的涂覆侧面的可见光反射率小于6.0％的减反射性能。事实上，Ex 32的涂覆的玻璃制品从玻璃基材的涂覆侧面显示小于5.5％的可见光反射率。此外，Ex 32的涂覆的玻璃制品显示出有利的其他性质。例如，Ex 32的涂覆的玻璃制品显示出高于95％的可见光透射率(照明体C)和大于1.0×1014ohm/sq的薄层电阻。此外，Ex 32的涂覆的玻璃制品的雾度小于0.2％。
在下面描述并于表4中说明了在本发明的范围内的涂覆的玻璃制品的其它实施例。在表4中，在本发明范围内的涂覆的玻璃制品是Ex 33-Ex 54。
Ex 33-Ex 54的涂覆的玻璃制品是预测性的，并且使用与用于Ex 1至Ex 9的报告相似的输入参数进行建模。Ex 33-Ex 54的每个涂覆的玻璃制品都包含玻璃基材。每个玻璃基材具有1.6mm的厚度和钠钙硅组成。Ex 33-Ex 54的每个涂覆的玻璃制品还包含沉积在玻璃基材的沉积表面上的涂层。每个涂层包含第一涂覆层和第二涂覆层。
对于Ex 33-Ex 54的涂覆的玻璃制品中的每一个，第一涂覆层沉积在玻璃基材上，并且是包含二氧化钛的无机金属氧化物层。第一涂覆层的厚度如表4所报告的那样。第二涂覆层沉积在第一涂覆层上，并且是包含二氧化硅的无机金属氧化物层。第二涂覆层的厚度如表4所报告的那样。
因此，Ex 33-Ex 54的涂覆的玻璃制品是玻璃/TiO2/SiO2布置。Ex 33-Ex 54的涂覆层的厚度以纳米报告在表4中。Ex 33-Ex 54的涂覆的玻璃制品的总可见光反射率(Rf)、反射颜色(Ra*，Rb*)和总可见光透射率(Tvis)也报告在表4中。通过光学建模计算了Ex 33-Ex54的涂覆的玻璃制品的总可见光反射率、反射颜色和总可见光透射率。报告了涂覆的玻璃制品的涂覆侧面的总可见光反射率和反射颜色。总可见光反射率和总可见光透射率以百分比表示。
表4
实施例 TiO2 SiO2 Rf Ra* Rb* Tvis
Ex 33 10.8 120 5.0 7.7 -11.77 94.76
Ex 34 11.04 120 5.0 7.9 -12.2 94.77
Ex 35 11.28 120 5.0 8.1 -12.7 94.78
Ex 36 11.52 120 5.0 8.3 -13.2 94.78
Ex 37 11.76 120 5.0 8.5 -13.8 94.78
Ex 38 12.0 120 5.0 8.7 -14.3 94.78
Ex 39 12.24 120 5.0 8.9 -14.8 94.78
Ex 40 12.48 120 5.0 9.1 -15.3 94.77
Ex 41 12.72 120 5.0 9.3 -15.9 94.76
Ex 42 12.96 120 5.1 9.5 -16.4 94.75
Ex 43 13.2 120 5.1 9.7 -16.9 94.74
Ex 44 12.0 112.5 5.6 6.7 -2.7 93.83
Ex 45 12.0 115.0 5.4 7.3 -5.1 94.07
Ex 46 12.0 117.5 5.3 7.8 -7.5 94.27
Ex 47 12.0 120.0 5.1 8.2 -9.8 94.44
Ex 48 12.0 122.5 5.1 8.6 -12.1 94.58
Ex 49 12.0 125.0 5.0 8.7 -14.3 94.68
Ex 50 12.0 127.5 5.0 8.8 -16.3 94.75
Ex 51 12.0 130.0 5.1 8.7 -18.1 94.78
Ex 52 12.0 132.5 5.1 8.5 -19.7 94.78
Ex 53 12.0 135.0 5.2 8.1 -21.1 94.74
Ex 54 12.0 137.5 5.4 7.7 -22.3 94.66
如表4所示，Ex 33-Ex 54的涂覆的玻璃制品显示出减反射性能。如Ex 33-Ex 54的涂覆的玻璃制品所示，从玻璃基材的涂覆侧面显示出6％以下的可见光反射率。事实上，Ex33-Ex 43和Ex 45-Ex 54的涂覆的玻璃制品从玻璃基材的涂覆侧面显示出5.5％以下的可见光反射率。此外，Ex 33-41和Ex 49-Ex 50的涂覆的玻璃制品从玻璃基材的涂覆侧面显示出5％以下的可见光反射率。
此外，Ex 33-Ex 54的涂覆的玻璃制品显示出其它有利的性质。例如，Ex 33-Ex 54的涂覆的玻璃制品显示出93％(照明体C)以上的可见光透射率。事实上，Ex 33-Ex 43和Ex45-Ex 54的涂覆的玻璃制品各自显示出高于94％的可见光透射率(照明体C)。此外，预期Ex33至Ex 54的涂覆的玻璃制品的薄层电阻将为1.0×107ohm/sq以上。
在下面描述并于表5中说明了在本发明的范围内的涂覆的玻璃制品的另一个例子，Ex 55。
以下实验条件适用于Ex 55。对于Ex 55，在形成玻璃基材并与浮法玻璃制造工艺一起移动时，在玻璃基材的沉积表面上沉积涂层。玻璃基材是钠钙硅组合物。玻璃基材的厚度为3.2mm。通过沉积第一无机金属氧化物涂覆层、第二无机金属氧化物涂覆层和第三无机金属氧化物涂覆层来形成涂层。通过利用APCVD工艺形成每个无机金属氧化物涂覆层。
对于Ex 55，涂覆的玻璃制品是玻璃/SiO2/SnO2/SiO2布置。直接沉积在玻璃基材上的无机金属氧化物层包含热解二氧化硅。在玻璃基材上沉积二氧化硅层之后，沉积包含热解二氧化锡的无机金属氧化物层。在沉积二氧化锡层之后，将包含热解二氧化硅的另一无机金属氧化物层直接沉积在氧化锡层上。
在表5中以纳米报告了Ex 55的涂覆层的厚度，并通过光学建模计算。Ex 55的涂覆的玻璃制品的薄层电阻(Rs)、总可见光反射率(Rf)、反射颜色(Ra*，Rb*)、总可见光透射率(Tvi s)和雾度也报告在表5中。
表5
实施方案 SiO2 TiO2 SiO2 Rs Rf Ra* Rb* Tvis 雾度
Ex 55 15.0 28.1 101.4 6.79x108 5.18 4.50 -6.88 95.1 0.10
如表5所示，Ex 55的涂覆的玻璃制品显示出从玻璃基材的涂覆侧面小于6.0％的可见光反射率的减反射性能。事实上，Ex 55的涂覆的玻璃制品从玻璃基材的涂覆侧面显示出小于5.5％的可见光反射率。此外，Ex 55的涂覆的玻璃制品显示出有利的其他性能。例如，Ex 55的涂覆的玻璃制品显示高于95％的可见光透射率(照明体C)和大于1.0×108ohm/sq的薄层电阻。此外，Ex 32的涂覆的玻璃制品显示出小于0.2％的雾度。
前面的描述被认为仅仅是本发明的原理的说明。此外，由于本领域技术人员将会容易想到许多修改和变化，所以不希望将本发明限于本文所示和所述的确切结构和方法。因此，可认为所有合适的修改和等同物落在本发明的范围内。

Claims (20)

1.一种涂覆的玻璃制品，包含：
玻璃基材；以及
沉积在所述玻璃基材上方的涂层，其中所述涂层包含：
i.沉积在所述玻璃基材的主表面上方的第一无机金属氧化物层，其中所述第一无机金属氧化物层的折射率为1.8以上，
ii.沉积在所述第一无机金属氧化物层上方的第二无机金属氧化物层，其中所述第二无机金属氧化物层的折射率为1.6以下，
其中所述涂覆的玻璃制品显示出6.5％以下的总可见光反射率。
2.根据权利要求1所述的涂覆的玻璃制品，其中选择所述第一无机金属氧化物层和所述第二无机金属氧化物层使得所述涂覆的玻璃制品显示出大于1.0×105ohm/sq的薄层电阻。
3.根据权利要求1所述的涂覆的玻璃制品，其中所述涂覆的玻璃制品显示出94％(照明体C)以上的总可见光透射率。
4.根据权利要求1所述的涂覆的玻璃制品，其中所述第一无机金属氧化物层包含氧化锡或二氧化钛。
5.根据权利要求1所述的涂覆的玻璃制品，其中所述第二无机金属氧化物层包含二氧化硅。
6.根据权利要求1所述的涂覆的玻璃制品，其中涂层由第一无机金属氧化物层和第二无机金属氧化物层组成，第一无机金属氧化物层直接沉积在玻璃基材的主表面上，且第二无机金属氧化物层直接沉积在第一无机金属氧化物层上并形成涂覆的玻璃制品的最外表面。
7.根据权利要求1所述的涂覆的玻璃制品，其中涂层还包含第三无机金属氧化物，第三无机金属氧化物层直接沉积在所述玻璃基材的主表面上且具有1.6以下的折射率，第一无机金属氧化物层直接沉积在第三无机金属氧化物层上。
8.根据权利要求1所述的涂覆的玻璃制品，其中所述涂覆的玻璃制品显示出总可见光反射率为6.0％以下。
9.根据权利要求2所述的涂覆的玻璃制品，其中所述涂覆的玻璃制品显示出1.0×107ohm/sq以上的薄层电阻。
10.根据权利要求4所述的涂覆的玻璃制品，其中以50nm以下的厚度沉积第一无机金属氧化物层。
11.根据权利要求5所述的涂覆的玻璃制品，其中以100nm以上的厚度沉积第二无机金属氧化物层。
12.根据权利要求7所述的涂覆的玻璃制品，其中第三无机金属氧化物层是二氧化硅。
13.根据权利要求10所述的涂覆的玻璃制品，其中以35nm以下的厚度沉积第一无机金属氧化物层。
14.根据权利要求11所述的涂覆的玻璃制品，其中以100-125nm的厚度沉积第二无机金属氧化物层。
15.根据权利要求12所述的涂覆的玻璃制品，其中以25nm以下的厚度沉积第三无机金属氧化物层。
16.一种涂覆的玻璃制品，包含：
玻璃基材；以及
沉积在所述玻璃基材上方的涂层，其中所述涂层包含：
i.沉积在玻璃基材的主表面上方的第一无机金属氧化物层，其中第一无机金属氧化物层的折射率为1.8以上，且以50nm以下的厚度沉积，
ii.直接在第一层上的第二无机金属氧化物层的折射率为1.6以下，且以100nm以上的厚度沉积，
iii.直接沉积在玻璃基材的主表面上的第三无机金属氧化物层，其中第三无机金属氧化物层具有1.6以下的折射率，且以25nm以下的厚度沉积，
其中涂覆的玻璃制品显示出6.0％以下的总可见光反射率、94％(照明体C)以上的总可见光透射率、和1.0×107ohm/sq以上的薄层电阻。
17.根据权利要求16所述的涂覆的玻璃制品，其中第一无机金属氧化物层包含未掺杂的氧化锡，并且第二无机金属氧化物层和第三无机金属氧化物层中的每一个包含二氧化硅。
18.根据权利要求16所述的涂覆的玻璃制品，其中第一无机金属氧化物层直接沉积在第三无机金属氧化物层上。
19.一种夹层玻璃单元，其包含权利要求1所述的涂覆的玻璃制品。
20.触控屏电子设备，其包含根据权利要求1所述的涂覆的玻璃制品。
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