CN106959582A - 光敏树脂组合物、用其制备的膜及包括该膜的oled装置 - Google Patents

光敏树脂组合物、用其制备的膜及包括该膜的oled装置 Download PDF

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Abstract

提供一种光敏树脂组合物、通过使用该光敏树脂组合物制备的膜以及包括该膜的有机发光显示装置。所述光敏树脂组合物包括由式1表示的第一粘合剂树脂。所述光敏树脂组合物可在低温(例如，大约0℃至大约100℃、大约40℃至大约100℃或大约70℃至大约100℃)下被固化。该膜可由光敏树脂组合物形成。有机发光显示(OLED)装置可包括由光敏树脂组合物制备的膜。

Description

光敏树脂组合物、用其制备的膜及包括该膜的OLED装置
本申请要求于2016年1月11日在韩国知识产权局提交的第10-2016-0003269号韩国专利申请和于2016年11月3日在韩国知识产权局提交的第10-2016-0145827号韩国专利申请的优先权和权益，该两个韩国专利申请中的每个的全部内容通过引用包含于此。
技术领域
一个或更多个实施例涉及一种光敏树脂组合物、通过使用该光敏树脂组合物制备的膜以及包括该膜的有机发光显示(OLED)装置。
背景技术
OLED装置通常包括偏振膜，以防止或减少外部光的反射。偏振膜可防止或减少外部光的反射，但也可使OLED装置的发射效率劣化并增加制造成本。
因此，已经使用抗反射的滤色器来代替偏振膜。然而，与可以在例如200℃或更高的温度的高温下制备的液晶显示(LCD)装置中使用的滤色器不同，在OLED装置中使用的滤色器通过低温工艺来制造。
发明内容
一个或更多个实施例包括能够在低温下被固化的光敏树脂组合物。
一个或更多个实施例包括通过使该光敏树脂组合物固化而制备的具有优异的抗反射效果的膜。
一个或更多个实施例包括包含该膜的有机发光显示(OLED)装置。
额外的方面将部分地在下面的描述中进行阐述，并且部分地通过描述将是清楚的或者可通过实践提出的实施例而了解。
根据一个或更多个实施例，光敏树脂组合物包括由式1表示的第一粘合剂树脂：
式1
在式1中，
R1至R4和R11至R13均独立地选自于氢、氘、取代的或未取代的C1-C20烷基、取代的或未取代的C2-C20烯基、取代的或未取代的C2-C20炔基、取代的或未取代的C1-C20烷氧基、取代的或未取代的C3-C10环烷基、取代的或未取代的C1-C10杂环烷基、取代的或未取代的C3-C10环烯基、取代的或未取代的C1-C10杂环烯基、取代的或未取代的C6-C30芳基、取代的或未取代的C6-C30芳氧基、取代的或未取代的C6-C30芳硫基和取代的或未取代的C1-C30杂芳基，
R5至R7均独立地为包括不饱和乙烯类基团的基团，
包括不饱和乙烯类基团的基团不包括邻苯二甲酸酯基，
a1和a11至a13均独立地选自于1至5的整数，
a2选自于0至5的整数，
b11至b13均独立地选自于0至3的整数，
k1、k2、k3、m和n均独立地为在相应的重复单元中的摩尔比，
k1和k2的和选自于1至20的整数，
k3选自于1至10的整数，
m和n均独立地选自于1至10的整数，
从取代的C1-C20烷基、取代的C2-C20烯基、取代的C2-C20炔基、取代的C1-C20烷氧基、取代的C3-C10环烷基、取代的C1-C10杂环烷基、取代的C3-C10环烯基、取代的C1-C10杂环烯基、取代的C6-C30芳基、取代的C6-C30芳氧基、取代的C6-C30芳硫基和取代的C1-C30杂芳基的取代基中选择的至少一个取代基选自于
氘、-F、-Cl、-Br、-I、羟基、氰基、环氧基、硝基、脒基、肼基、腙基、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C1-C6烷氧基和C6-C20芳基。
根据一个或更多个实施例，通过使光敏树脂组合物固化形成膜。
根据一个或更多个实施例，有机发光显示装置(OLED)包括该膜。
附图说明
通过下面结合附图对实施例的描述，这些和/或其它方面将变得明显且更容易理解，在附图中：
图1是示出根据示例1制备的光敏树脂组合物的光谱特性的图；
图2是示出根据示例2制备的光敏树脂组合物的光谱特性的图；
图3是示出根据示例3制备的光敏树脂组合物的光谱特性的图；以及
图4至图13分别是样品11至样品20的图案的图像。
具体实施方式
现在将更详细地参照实施例，附图中示出了实施例的示例，其中，同样的附图标记始终指同样的元件。就这一点而言，给出的实施例可具有不同的形式并不应被解释为局限于在此所阐述的描述。因此，下面通过参照附图仅描述实施例以解释本描述的实施例的方面。诸如“……中的至少一个(种)”的表述在一列元件(要素)之后时修饰整列的元件(要素)，而不是修饰这列中的个别元件(要素)。
还将理解的是，在此使用的术语“包含”和/或“包括”表明所陈述的特征或者组件的存在，但是并不排除一个或更多个其它特征或者组件的存在或附加。
如在此使用的，术语“光敏树脂组合物”指低温固化型的光敏树脂组合物，术语“低温固化型的光敏树脂组合物”指在例如100℃或更低(例如，大约0℃至大约100℃、大约40℃至大约100℃或大约70℃至大约100℃)的低温下可被完全地固化(例如，基本上完全地固化)的光敏树脂组合物。
如在此描述的，取代的C1-C20烷基、取代的C2-C20烯基、取代的C2-C20炔基、取代的C1-C20烷氧基、取代的C3-C10环烷基、取代的C1-C10杂环烷基、取代的C3-C10环烯基、取代的C1-C10杂环烯基、取代的C6-C30芳基、取代的C6-C30芳氧基、取代的C6-C30芳硫基和取代的C1-C30杂芳基中的至少一个取代基可选自于氘、-F、-Cl、-Br、-I、羟基、氰基、环氧基、硝基、脒基、肼基、腙基、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C1-C6烷氧基和C6-C20芳基。
如在此使用的，*和*'均独立地表示与相邻原子的结合位。
在下文中，将更详细地描述光敏树脂组合物的组分。
第一粘合剂树脂
在一个实施例中，光敏树脂组合物可包括可以是碱溶性的粘合剂树脂的第一粘合剂树脂。光敏树脂组合物可包括具有设定的或特定的结构的第一粘合剂树脂，使得光敏树脂组合物具有改善的光固化程度和改善的热固化程度(例如，光敏树脂可通过光固化和/或热固化的方式实现更完全的固化)。
如在此使用的，术语“碱溶性的”表示物体可溶解在碱水溶液中。
第一粘合剂树脂可以是热可交联的，并可包括不饱和乙烯类基团(unsaturatedethylene-based group)，因此，第一粘合剂树脂可对UV光作出反应。
第一粘合剂树脂可由式1表示：
式1
在式1中，
R1至R4和R11至R13均可独立地选自于氢、氘、取代的或未取代的C1-C20烷基、取代的或未取代的C2-C20烯基、取代的或未取代的C2-C20炔基、取代的或未取代的C1-C20烷氧基、取代的或未取代的C3-C10环烷基、取代的或未取代的C1-C10杂环烷基、取代的或未取代的C3-C10环烯基、取代的或未取代的C1-C10杂环烯基、取代的或未取代的C6-C30芳基、取代的或未取代的C6-C30芳氧基、取代的或未取代的C6-C30芳硫基和取代的或未取代的C1-C30杂芳基。
在各种实施例中，在式1中，R1至R4和R11至R13均可独立地为氢、氘或者取代的或未取代的C1-C20烷基，但式1的实施例不限于此。
在各种实施例中，在式1中，R5至R7均可独立地为包括不饱和乙烯类基团的基团，并且包括不饱和乙烯类基团的基团可不包括邻苯二甲酸酯基。
在各种实施例中，在式1中，包括不饱和乙烯类基团的基团的不饱和乙烯类基团可以是丙烯酰基、丙烯酸酯基、乙烯基、苯乙烯基、芳基或它们的任何组合。如在此使用的，术语“它们的一个组合”和“它们的多个组合”可指组分的化学组合(例如，合金或化学化合物)、混合物或层叠结构。
在各种实施例中，在式1中，R5至R7均可独立地为包括丙烯酸酯基的基团，但式1的实施例不限于此。
在各种实施例中，在式1中，R5至R7均可独立地为由*-RaOC(＝O)CH＝CH2表示的基团，Ra可以是取代的或未取代的C1-C20亚烷基。
在各种实施例中，在式1中，取代的C1-C20亚烷基中的至少一个取代基可选自于氘、-F、-Cl、-Br、-I、羟基、氰基、环氧基、硝基、脒基、肼基、腙基、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C1-C6烷氧基和C6-C20芳基，*表示与相邻原子的结合位。
在一些实施例中，包括不饱和乙烯类基团的基团可通过不包括邻苯二甲酸酯基而具有依赖于时间(time-dependent)的稳定性。
在式1中，a1和a11至a13均可独立地选自于1至5的整数，a2可选自于0至5的整数，b11至b13均可独立地选自于0至3的整数。
在式1中，a1表示*-C(R1)(R2)-*'的数目，当a1是2或更大时，两个或更多个*-C(R1)(R2)-*'可彼此相同或彼此不同。
在式1中，a11至a13均独立地表示*-CH2-*'的数目。
在式1中，a2表示*-C(R3)(R4)-*'的数目，当a2是2或更大时，两个或更多个*-C(R3)(R4)-*'可彼此相同或彼此不同。
在式1中，b11表示R11的数目，当b11是2或更大时，两个或更多个R11可彼此相同或彼此不同。
在式1中，b12表示R12的数目，当b12是2或更大时，两个或更多个R12可彼此相同或彼此不同。
在式1中，b13表示R13的数目，当b13是2或更大时，两个或更多个R13可彼此相同或彼此不同。
在式1中，k1、k2、k3、m和n均可独立地为相应的重复单元的摩尔比。
在式1中，k1和k2的和可选自于1至20的整数。例如，k1和k2的和可选自于1至10的整数。
在式1中，k3可选自于1至10的整数。例如，k3可选自于1至5的整数。
在式1中，m和n均可独立地选自于1至10的整数。例如，m和n均可独立地选自于1至5的整数。
在式1中，摩尔比m:n可在大约10:90至大约50:50的范围内。例如，摩尔比m:n可在大约20:80至大约40:60的范围内。
在式1中，当摩尔比m:n在前述范围内时，包括第一粘合剂树脂的光敏树脂可以在显影工艺之后具有优异的图案平直度。
在各种实施例中，第一粘合剂树脂可由式1A表示：
式1A
由式1表示的第一粘合剂树脂可通过将i)用于碱溶性的邻苯二甲酸类酐(phthalic-based anhydride)和ii)用于提高光固化程度的不饱和乙烯类基团部分地引入到双酚环氧树脂来制备。
由式1表示的第一粘合剂树脂可以通过包括双酚环氧树脂和包括不饱和乙烯类基团的基团而能够在低温下(例如，在大约0℃至大约100℃、大约40℃至大约100℃或大约70℃至大约100℃下)被固化。
此外，由式1表示的第一粘合剂树脂可通过包括具有羟基(-OH)的重复单元而具有优异的粘附强度(例如，对被第一粘合剂树脂涂覆的基底的粘附强度)。
在各种实施例中，通过凝胶渗透色谱法测量的由式1表示的第一粘合剂树脂的重均分子量可在大约1,000g/mol至大约50,000g/mol的范围内。例如，由式1表示的第一粘合剂树脂的重均分子量可在大约1,000g/mol至大约25,000g/mol的范围内。例如，由式1表示的第一粘合剂树脂的重均分子量可在大约1,000g/mol至大约12,000g/mol的范围内。
当由式1表示的第一粘合剂树脂的重均分子量在前述范围内时，光敏树脂组合物可在柔性基底上容易地形成图案，并可相对于碱显影溶液具有优异的显影能力。
在各种实施例中，当由式1表示的第一粘合剂树脂的重均分子量小于大约1,000g/mol时，会在图像的显影期间发生图案破裂。另外，当由式1表示的第一粘合剂树脂的重均分子量大于大约50,000g/mol时，显影速率过慢，使得会发现剩余的膜。
在一个实施例中，由式1表示的第一粘合剂树脂的酸值可在大约50mgKOH/g至大约120mgKOH/g的范围内，或者例如，大约70mgKOH/g至大约100mgKOH/g的范围内。
当由式1表示的第一粘合剂树脂的酸值在前述范围内时，在图案形成期间相对于碱显影溶液的显影能力优异，从而可改善膜剩余比例和碱溶性的粘合剂树脂的平直度，因此不会发生(或者基本上不会发生)图案破裂。
当由式1表示的第一粘合剂树脂的酸值小于大约50mgKOH/g时，会使显影特性劣化，并因此会发现剩余的膜。另外，当由式1表示的第一粘合剂树脂的酸值大于大约120mgKOH/g时，显影速率过快，使得会使图案的平直度劣化，和/或会发生图案破裂。
在各种实施例中，基于光敏树脂组合物的总重量，由式1表示的第一粘合剂树脂的量可在大约3wt％至大约30wt％的范围内。
例如，基于光敏树脂组合物的总重量，由式1表示的第一粘合剂树脂的量可在大约3wt％至大约10wt％的范围内。
当由式1表示的第一粘合剂树脂的量在前述范围内时，通过使用该光敏树脂组合物形成的图案可具有优异的粘附性和优异的平直度，因此在微电路板的形成中可使用第一粘合剂树脂。
当第一粘合剂树脂的量小于大约3wt％时，图案粘附性减弱，并会使光固化程度劣化。另外，当第一粘合剂树脂的量大于大约30wt％时，由于显影时间的增加，会使图案平直度劣化。
第二粘合剂树脂
光敏树脂组合物可包括第二粘合剂树脂。例如，光敏树脂组合物还可包括除了第一粘合剂树脂之外的第二粘合剂树脂。
光敏树脂组合物还可包括具有设定的或特定的结构的第二粘合剂树脂，使得光敏树脂组合物具有优异的透明度和改善的低温固化性质。
例如，第二粘合剂树脂可包括环氧树脂。
例如，第二粘合剂树脂可包括含硅氧烷的环氧树脂。
在一些实施例中，第二粘合剂树脂可以是含硅氧烷的环氧树脂和无硅氧烷的环氧树脂的混合物。
第二粘合剂树脂可以是可对热作出反应的热可交联的粘合剂树脂。
例如，第二粘合剂树脂可由式2表示：
式2
在式2中，
R21至R24均可独立地选自于氢、氘、取代的或未取代的C1-C20烷基、取代的或未取代的C2-C20烯基、取代的或未取代的C2-C20炔基和取代的或未取代的C1-C20烷氧基，
R25和R26均可独立地选自于氢、氘、取代的或未取代的C1-C20烷基、取代的或未取代的C2-C20烯基、取代的或未取代的C2-C20炔基、取代的或未取代的C1-C20烷氧基、取代的或未取代的C6-C30芳基、取代的或未取代的C6-C30芳氧基、取代的或未取代的C6-C30芳硫基和取代的或未取代的C1-C30杂芳基，以及
R27可选自于氢、氘、取代的或未取代的C1-C20烷基、取代的或未取代的C2-C20烯基、取代的或未取代的C2-C20炔基、取代的或未取代的C1-C20烷氧基、取代的或未取代的C6-C30芳基、取代的或未取代的C6-C30芳氧基、取代的或未取代的C6-C30芳硫基、取代的或未取代的C1-C30杂芳基和由式3表示的基团。
在式2中，b1和b2均可独立地选自于0至4的整数。
在式2中，b1表示R21的数目，当b1是2或更大时，两个或更多个R21可彼此相同或彼此不同。
在式2中，b2表示R22的数目，当b2是2或更大时，两个或更多个R22可彼此相同或彼此不同。
在式2中，p和q均可独立地为相应的重复单元的摩尔比，p可选自于5至300的整数，q可选自于0至20(或1至20)的整数。
例如，p和q均可独立地为相应的重复单元的摩尔比，p可选自于5至300的整数，q可选自于5至20的整数。
例如，在式2中，p可选自于10至15的整数，q可选自于3至10的整数。
在式2中，当p小于5时，在图案堆叠期间会容易地发生与另一层的反应，当p大于300时，会使显影性质劣化。另外，当q大于20时，会使图案显影性质劣化。
在式2中，q表示含硅氧烷的重复单元的摩尔比，当q是1或更大时，可改善光敏树脂组合物的固化性质。
在式2中，R27可以是由式3表示的基团：
<式3>
在式3中，
R31和R32均可独立地选自于氢、氘、取代的或未取代的C1-C20烷基、取代的或未取代的C2-C20烯基、取代的或未取代的C2-C20炔基和取代的或未取代的C1-C20烷氧基，
R33、R34和R'均可独立地选自于氢、氘、取代的或未取代的C1-C20烷基、取代的或未取代的C2-C20烯基、取代的或未取代的C2-C20炔基、取代的或未取代的C1-C20烷氧基、取代的或未取代的C6-C30芳基、取代的或未取代的C6-C30芳氧基、取代的或未取代的C6-C30芳硫基和取代的或未取代的C1-C30杂芳基。
在式3中，c1和c2均可独立地选自于0至4的整数。
在式3中，c1表示R31的数目，当c1是2或更大时，两个或更多个R31可彼此相同或彼此不同。
在式3中，c2表示R32的数目，当c2是2或更大时，两个或更多个R32可彼此相同或彼此不同。
在一个实施例中，在式3中，R'可包括至少一个环氧基。
在各种实施例中，在式2中，
R23至R26均可独立地为取代的或未取代的C1-C20烷基，
R27可以是由式3表示的基团，
在式3中，
R'可以是取代有环氧基的C1-C20烷基或者取代有环氧基的C6-C30芳基，
p可选自于10至300的整数，
q可选自于3至20的整数，但实施例不限于此。
在各种实施例中，第二粘合剂树脂可由式2-1表示：
式2-1
在式2-1中，R21至R26、b1、b2、p、q、R31至R34、c1和c2均独立地与在此定义的相同。
在式2-1中，q可选自于1至20的整数。
在式2-1中，R25可以是甲基，R26可以是甲氧基。
在式2-1中，R23、R24、R33和R34均可以是C1-C10烷基，R25可以是甲基，R26可以是甲氧基，p可选自于10至15的整数，q可选自于3至10的整数。
例如，第二粘合剂树脂可以是从由式2A表示的含硅氧烷的环氧树脂与由式2B表示的无硅氧烷的环氧树脂中选择的至少一种：
式2A
式2B
第二粘合剂树脂还可包括普通的环氧树脂。例如，环氧树脂可选自于双酚A型环氧树脂、双酚F型环氧树脂、酚醛型环氧树脂和甲酚醛型环氧树脂。
双酚A型环氧树脂的示例可以是市场上可买到的，如Epikote 1001、1002、1003、1004、1007、1009、1010和828(Yuka Shell Epoxy有限公司)。双酚F型环氧树脂的示例可以是市场上可买到的，如Epikote 807和834(Yuka Shell Epoxy有限公司)。酚醛型环氧树脂的示例可以是市场上可买到的，如Epikote152、154和157H65(Yuka Shell Epoxy有限公司)，以及EPPN-201、EPPN-501N、EPPN-501H、EPPN-502N、EPPN-501HY和EOCN-1020(NipponKayaku有限公司)。甲酚醛型环氧树脂的示例可以是市场上可买到的，如EOCN-102S、EOCN-103S、EOCN-140S、EOCN-1020、EOCN-1025、EOCN-1027(Nippon Kayaku有限公司)以及Epikote 180S75(Yuka Shell Epoxy有限公司)。
其它可获得的环氧树脂的示例可以是NC-3000、NC-3000H(Nippon Kayaku有限公司)、CY175、CY177、CY179(BASF SE)以及它们的混合物。
基于光敏树脂组合物的总重量，第二粘合剂树脂的量可在大约1wt％至大约10wt％的范围内。
当第二粘合剂树脂的量在前述范围内时，由于第二粘合剂树脂的优异的低温固化性质，所以改善相对于碱显影溶液的显影性质，并可增大相对于基底的粘附强度。
光交联剂
光敏树脂组合物可包括光交联剂。
光交联剂可包括从具有不饱和乙烯类基团的交联单体与氨基甲酸酯(urethane)单体中选择的至少一种单体。
具有不饱和乙烯类基团的交联单体可选自于1,4-丁二醇二丙烯酸酯、1,3-丁二醇二丙烯酸酯、乙二醇二丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、二季戊四醇二丙烯酸酯、山梨醇三丙烯酸酯、双酚A二丙烯酸酯衍生物、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、二季戊四醇聚丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯和它们的甲基丙烯酸酯。另外，具有不饱和乙烯类基团的交联单体可包括包含无规键合的双键的树枝状聚合物。
氨基甲酸酯单体可以是具有氨基甲酸酯结构的普通的交联单体，并且氨基甲酸酯单体的类型(或种类)不限于此。
在一个实施例中，基于光敏树脂组合物的总重量，光交联剂的量可在大约3wt％至大约15wt％的范围内。
在各种实施例中，基于光敏树脂组合物的总重量，光交联剂的量可在大约3wt％至大约10wt％的范围内。
当光交联剂的量在前述范围内时，光敏树脂组合物在图案形成期间可具有优异的光固化程度、相对于碱显影溶液的优异的显影性质以及平直度。
当光交联剂的量小于大约3wt％时，会使固化程度降低，并且也会使耐化学性降低。另外，当光交联剂的量大于大约15wt％时，膜的粘附强度会由于膜变硬而降低。
在各种实施例中，光交联剂还可包括除了具有不饱和乙烯类基团的交联单体和/或氨基甲酸酯单体之外的硫醇类单体。
当光交联剂包括硫醇类单体时，基于光敏树脂组合物的总重量，硫醇类单体的量可在大约0.01wt％至大约1wt％的范围内，但实施例不限于此。
硫醇类单体可以是三元的或更多元的聚硫醇，或者例如可选自于三[2-(3-巯基丙酰氧基)乙基]异氰脲酸酯(TEMPIC)和[季戊四醇四(3-巯基丙酸酯)]。
当光交联剂还包括硫醇类单体时，光交联剂可使交联性质增强。此外，硫醇类单体可在低温(例如，大约0℃至大约100℃、大约40℃至大约100℃或大约70℃至大约100℃)下迅速地固化，因此，将强的粘附强度赋予光交联剂，并且改善针对溶剂的耐化学性。
在一个实施例中，光敏树脂组合物可包括第一粘合剂树脂和光交联剂。这里，光交联剂与第一粘合剂树脂的重量比可在大约1:0.6至大约1:2.5的范围内。
例如，光交联剂与第一粘合剂树脂的重量比可在大约1:0.6至大约1:2.0的范围内。
当光交联剂与第一粘合剂树脂的重量比在前述范围内时，改善在使用碱显影溶液的显影工艺期间图案与基底之间的粘附强度，并可防止或减少在图案堆叠期间的颜色改变。
当碱溶性的粘合剂树脂的混合比小于0.6倍(fold)时，在显影工艺期间会发生图案破裂。另外，当碱溶性的粘合剂树脂的混合比大于2.5倍时，交联性质降低，这会造成在图案堆叠期间的颜色改变。
热固化剂
光敏树脂组合物可包括热固化剂。热固化剂在室温下稳定，并且例如可在大约80℃至大约100℃范围内的温度下反应，但热固化剂的类型不限于此。
热固化剂可包括从脂肪胺类化合物、脂环胺类化合物、芳香胺类化合物、羧酸类化合物、酸酐类化合物、多元酚类化合物和咪唑类化合物中选择的至少一种。
芳香胺类化合物的作为在市场上可买到的热固化剂的示例可包括，例如异佛尔酮二胺(可从BASF获得，如EC 201)、PN-23、MY-24、PN-40J、PN-31、AH-300或MY-24(可从AJINOMOTO FINE TECHNO有限公司获得)。
基于光敏树脂组合物的总重量，热固化剂的量可在大约0.1wt％至大约5wt％的范围内，当热固化剂的量在前述范围内时，可提高低温固化程度，并可改善储存稳定性。
当热固化剂的量小于大约0.1wt％时，热固化性质降低，这会导致在图案堆叠期间颜色的混合。另外，当热固化剂的量大于大约5wt％时，依赖于时间的稳定性会降低。
光引发剂
光敏树脂组合物可包括光引发剂。在此使用的光引发剂响应于可见光线、UV光线和/或远UV光线的波长引发交联单体的聚合。
光引发剂可包括从肟类化合物、三嗪类化合物、苯偶姻类化合物、苯乙酮类化合物、呫吨酮类化合物和咪唑类化合物中选择的至少一种，但光引发剂不限于此。
光引发剂的示例可包括，例如，诸如可从BASF SE获得的OXE-01或OXE-02的肟类化合物；诸如2,4-双三氯甲基-6-对甲氧基苯乙烯基-s-三嗪、2-对甲氧基苯乙烯基-4,6-双三氯甲基-s-三嗪、2,4-三氯甲基-6-三嗪或2,4-三氯甲基-4-甲基萘基-6-三嗪的三嗪类化合物；诸如苯甲酮或对(二乙基氨基)苯甲酮的苯偶姻类化合物；诸如2,2-二氯-4-苯氧基苯乙酮、2,2-二乙氧基苯乙酮、2,2-二丁氧基苯乙酮、2-羟基-2-甲基苯丙酮或对叔丁基三氯苯乙酮的苯乙酮类化合物；诸如呫吨酮、噻吨酮、2-甲硫基呫吨酮、2-异丁基噻吨酮、2-十二烷基噻吨酮、2,4-二甲基噻吨酮或2,4-二乙基噻吨酮的呫吨酮类化合物；以及诸如2,2-双-2-氯苯基-4,5,4,5-四苯基-2-1,2-联咪唑或2,2-双(2,4,6-三氰基苯基)-4,4,5,5-四苯基-1,2-联咪唑的咪唑类化合物。
基于光敏树脂组合物的总重量，光引发剂的量可在大约0.3wt％至大约5wt％的范围内。例如，基于光敏树脂组合物的总重量，光引发剂的量可在大约0.5wt％至大约2wt％的范围内。
当光引发剂的量在前述范围内时，通过使用光引发剂提供的光敏树脂组合物可具有优异的固化性质、储存稳定性和图案平直度，并且通过使用该光敏树脂组合物可容易地形成图案。
当光引发剂的量小于0.3wt％时，使组合物的固化程度劣化，不会容易地形成图案，并且会使图案平直度劣化。另外，当光引发剂的量大于5wt％时，通过使用该组合物形成的图案会具有低的储存稳定性和低的分辨率，并且残余物会保留在除了图案之外的部分上。
颜料
光敏树脂组合物可包括颜料。
在本领域中可获得的任何合适的有机颜料和/或任何合适的无机颜料可用作颜料。有机颜料的示例可包括作为红色颜料的C.I.#177、#202、#209、#242、#254和#255；作为黄色颜料的C.I.#150、#138和#128；作为橙色颜料的C.I.#43；作为绿色颜料的C.I.#7、#36和#58；作为蓝色颜料的C.I.#15、#15:3和#15:6；作为紫色颜料的C.I.#23；以及作为黑色颜料的C.I.#1和#7。另外，无机颜料的示例包括氧化钛、钛黑和炭黑。可单独使用一种颜料，或者为了颜色组合，可混合两种类型或更多种类型的颜料。
基于光敏树脂组合物的总重量，颜料的量可在3wt％至15wt％的范围内。
颜料可直接添加到组合物或者可以以包括分散剂或溶剂的颜料分散液的形式添加。
这里，颜料分散液中的分散剂可选自于非离子分散剂、离子分散剂和阳离子分散剂，分散剂的示例可包括可单独使用或者以其适当的组合使用的聚亚烷基二醇及其酯；聚氧化烯；多元醇酯环氧烷烃加成物；醇环氧烷烃加成物；和烷基胺。另外，基于100重量份的颜料，在颜料分散液中的分散剂的量可在大约1重量份至大约5重量份的范围内。
另外，包括在颜料分散液组合物中的溶剂的示例可包括乙二醇乙酸酯、乙基溶纤剂、丙二醇甲醚乙酸酯、乳酸乙酯、聚乙二醇、环己酮和丙二醇甲醚。这里，可控制溶剂的量，使得颜料或颜料分散液的固体含量在大约5wt％至大约30wt％的范围内。
可考虑到分散稳定性和像素分辨率来确定颜料的颗粒直径，例如，颜料的数均粒径可在大约30nm至大约200nm的范围内。
基于光敏树脂组合物的总重量，颜料的量可在3wt％至15wt％的范围内。可考虑到根据颜料的使用的颜色再现范围、图案形成性质和固化特性来改变颜料的量。
溶剂
光敏树脂组合物可包括用于溶解度或涂覆性质的溶剂。
溶剂的示例可包括从丙二醇单乙醚乙酸酯、乙氧基丙酸乙酯、丁基乙酸、乙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单甲醚、丙二醇甲醚乙酸酯、二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲基乙基醚、环己酮、3-甲氧基丙酸乙酯和3-乙氧基丙酸甲酯中选择的至少一种。
在各种实施例中，溶剂可以是从丙二醇单乙醚乙酸酯、乙氧基丙酸乙酯和丁基乙酸中选择的至少一种。
溶剂的量根据组合物的粘度或组合物中的固体的总量而改变，因此溶剂的量可以以除了根据本公开的实施例的光敏组合物中的固体之外剩余的量来被包括。
染料和添加剂
光敏树脂组合物可包括染料。
光敏树脂组合物可包括添加剂。
在一个实施例中，光敏树脂组合物还可包括从染料和添加剂中选择的至少一种，基于光敏树脂组合物的总重量，染料的量在大约0.01wt％至大约15wt％的范围内，添加剂的量在大约0.01wt％至大约1wt％的范围内。
除了以上描述的颜料之外，根据本公开的实施例的光敏树脂组合物还可包括染料。染料在设定的或特定的波长范围内具有独特的光谱特性，通过与表现出设定的或特定的颜色的颜料的协同作用来影响由该组合物形成的滤色器的透光程度和透光宽度以改善色纯度，并且改善亮度和对比度。染料可以是从氟类化合物、偶氮类化合物、蒽醌类化合物、靛蓝类化合物、黄嘌呤类化合物、三苯甲烷类化合物、酞菁类化合物、亚胺类化合物和喹酞酮类化合物中选择的至少一种。
此外，基于光敏树脂组合物的总重量，染料的量可在0.01wt％至15wt％的范围内，或者例如0.01wt％至5wt％或者0.1wt％至3wt％的范围内，其中，根据染料的添加而产生光谱特性的增加的效果。
染料可被单独地直接加入到根据本公开的实施例的组合物，或者以包括分散剂或溶剂的染料分散液的形式加入到所述组合物。
可包括在染料分散液中的分散剂可以与可包括在颜料分散液中的分散剂相同或基本上相同。
基于100重量份的染料，可以包括在大约1重量份至大约5重量份的范围内的量的分散剂。
此外，可包括在染料分散液中的溶剂可以与可包括在颜料分散液中的溶剂相同或基本上相同。
可控制溶剂的量，使得染料分散液的固体含量在5wt％至30wt％的范围内。
此外，可考虑分散稳定性和像素分辨率来确定染料的颗粒直径，例如，染料的平均颗粒直径可在30nm至200nm的范围内。
此外，根据本公开的实施例的光敏树脂组合物可包括用于改善关于颜料的分散性的分散剂或者用于改善涂覆性质的添加剂。例如，分散剂和/或添加剂可包括聚酯类分散剂、聚氨酯类分散剂和/或聚丙烯酰类分散剂，和/或诸如硅基表面活性剂和/或氟基表面活性剂的表面活性剂。
在各种实施例中，为了改善固化效率和固化速率，添加剂可以是催化剂，诸如热潜伏性固化剂和/或光固化引发剂。添加剂的示例包括二氰二胺、二氢化物、咪唑、脲、锍盐、磷盐、辛酸以及诸如铂或锡的金属化合物。
基于光敏树脂组合物的总重量，添加剂的量可在大约0.01wt％至大约1wt％的范围内，或者例如大约0.1wt％至大约1wt％的范围内。
可使用光敏树脂组合物的成分的任何组合或量。
例如，光敏树脂组合物可包括第一粘合剂树脂、第二粘合剂树脂和热固化剂。
例如，光敏树脂组合物可包括第一粘合剂树脂、光交联剂、热固化剂、光引发剂、颜料和溶剂。
例如，光敏树脂组合物可包括第一粘合剂树脂、第二粘合剂树脂、光交联剂、热固化剂、光引发剂、颜料和溶剂。
例如，光敏树脂组合物可包括第一粘合剂树脂、光交联剂、热固化剂、光引发剂、颜料和溶剂，例如，基于100wt％的光敏树脂组合物，可包括在大约3wt％至大约30wt％的范围内的量的第一粘合剂树脂与在大约3wt％至大约15wt％的范围内的量的光交联剂。
例如，光敏树脂组合物可包括第一粘合剂树脂、第二粘合剂树脂、光交联剂、热固化剂、光引发剂、颜料和溶剂，例如，基于100wt％的光敏树脂组合物，可包括在大约3wt％至大约30wt％的范围内的量的第一粘合剂树脂、在大约1wt％至大约10wt％的范围内的量的第二粘合剂树脂以及在大约3wt％至大约15wt％的范围内的量的光交联剂。
例如，基于100wt％的光敏树脂组合物，光敏树脂组合物可包括在大约3wt％至大约30wt％的范围内的量的第一粘合剂树脂、在大约3wt％至大约15wt％的范围内的量的光交联剂、在大约0.1wt％至大约5wt％的范围内的量的热固化剂、在大约0.3wt％至大约5wt％的范围内的量的光引发剂、在大约3wt％至大约15wt％的范围内的量的颜料、在大约0.01wt％至大约15wt％的范围内的量的染料、在大约0.01wt％至大约1wt％的范围内的量的添加剂以及剩余的溶剂。
例如，基于100wt％的光敏树脂组合物，光敏树脂组合物可包括在大约2wt％至大约20wt％的范围内的量的第一粘合剂树脂、在大约1wt％至大约10wt％的范围内的量的第二粘合剂树脂、在大约3wt％至大约15wt％的范围内的量的光交联剂、在大约0.1wt％至大约5wt％的范围内的量的热固化剂、在大约0.3wt％至大约5wt％的范围内的量的光引发剂、在大约3wt％至大约15wt％的范围内的量的颜料、在大约0.01wt％至大约15wt％的范围内的量的染料、在大约0.01wt％至大约1wt％的范围内的量的添加剂以及剩余的溶剂。
光敏树脂组合物可包括从第一粘合剂树脂、第二粘合剂树脂、光交联剂、热固化剂、光引发剂、颜料、染料、添加剂和溶剂中选择的组分的任何合适的组合，使得组分的总重量可以是100wt％。此外，光敏树脂组合物可包括在不负面地影响光敏树脂组合物的性能的范围内的量的任何其它合适的组分。除非出现不期望的反应或沉积物，否则可以以任意合适的顺序混合组分。例如，可首先混合任意两个组分，然后可一起混合剩余的组分。例如，可同时或基本上同时地混合组分。
通过使光敏树脂组合物固化形成的膜和包括该膜的有机发光显示(OLED)装置
可通过使如上所述的光敏树脂组合物固化来制备膜。
该膜可用作滤色器(其用作抗反射膜)，并可用在OLED装置的制造中，以提高外部光的抗反射和OLED效率。
除了使用根据本公开的实施例的光敏树脂组合物之外，可通过使用本领域的任何合适的方法来制备膜。
例如，在膜上形成期望的图案的方法的一个实施例中，可通过使用旋涂或狭缝涂覆用光敏树脂组合物在基底上以大约1μm至大约5μm范围内的厚度涂覆膜，为了形成设定的或预定的图案而用光照射，使用显影溶液进行处理，并在大约80℃至大约100℃范围内的温度下烘焙30秒至5分钟。
在各种实施例中，可通过在低温(例如，大约0℃至大约100℃、大约40℃至大约100℃或大约70℃至大约100℃)下使光敏树脂组合物固化来制备膜。例如，光敏树脂组合物可在大约0℃至大约100℃的范围内的温度下或者例如在大约40℃至大约100℃的范围内的温度下或者在大约70℃至大约100℃的范围内的温度下固化。
OLED装置可包括基底、第一电极、面对第一电极的第二电极、设置在第一电极与第二电极之间并包括发射层的有机层以及通过使光敏树脂组合物固化制备的膜。
OLED装置示出大约60％或更大的高透射率。这样的高透射率可由与半峰全宽(FWHM)有关的高的颜色再现率引起，其中，FWHM在使用通过使光敏树脂组合物固化制备的膜的OLED装置中比在使用偏振膜而不是该膜的OLED装置中更窄。
OLED装置还可包括偏振膜。
在一个实施例中，通过使光敏树脂组合物固化制备的膜可不仅包括单层膜，而且可包括诸如以双层膜或三层膜为例的多层膜。
在各种实施例中，OLED装置可具有堆叠结构，该堆叠结构包括通过使光敏树脂组合物固化制备的第一膜和通过使光敏树脂组合物固化制备的第二膜。
在各种实施例中，通过使光敏树脂组合物固化制备的膜可位于从发射层发射的光的行进的至少一个方向上。
基底可包括多个子像素区，通过使光敏树脂组合物固化制备的膜可包括与多个子像素区分别对应的多个抗反射区。
此外，遮光区可形成在多个抗反射区中的每个之间。
在各种实施例中，多个抗反射区可包括防止或减少第一颜色的光的反射的第一抗反射区、防止或减少第二颜色的光的反射的第二抗反射区以及防止或减少第三颜色的光的反射的第三抗反射区，其中，第一颜色的光至第三颜色的光可彼此不同。
例如，第一颜色的光可以是红色的，第二颜色的光可以是绿色的，第三颜色的光可以是蓝色的。
在各种实施例中，OLED装置可具有这样的结构：第一电极是阳极，第二电极是阴极，有机层还包括位于第一电极与发射层之间的空穴传输区以及位于发射层与第二电极之间的电子传输区，其中，空穴传输区可包括空穴注入层、空穴传输层、发射辅助层、电子阻挡层或者它们的任何合适的组合，电子传输区可包括缓冲层、空穴阻挡层、电子控制层、电子传输层、电子注入层或者它们的任何合适的组合。
在下文中，将参照以下示例更详细地描述一个或更多个实施例。然而，这些示例不意图限制本公开的范围。
除非另行限定，否则在以下示例中百分比和混合比是基于重量。
[示例]
示例1至示例8、对比示例1和对比示例2
通过混合具有表1中示出的组成和量的组分中的每个来制备光敏树脂组合物。除非另行陈述，否则表1中的量的单位是wt％。
表1
A-1：由式1A表示的酸改性的双酚环氧丙烯酸酯树脂(基于固体含量，酸度-90(mgKOH/g)，重均分子量＝15,000道尔顿)：
式1A
A-2：苯乙烯/甲基丙烯酸/羟乙基甲基丙烯酸的共聚比为60/20/20的碱溶性的共聚物(重均分子量＝30000道尔顿)
AE-1：由式2A表示的含硅氧烷的环氧树脂：
式2A
AE-2：由式2B表示的环氧树脂：
式2B
B：二季戊四醇六丙烯酸酯(可从Nippon Kayaku有限公司以DPHA获得)
B-1：三[2-(3-巯基丙酰氧基)乙基]异氰脲酸酯(可从SC有机化学品有限公司以TEMPIC获得)
C：异佛尔酮二胺(可从BASF SE以EC 201获得)
D：肟类引发剂(可从BASF SE以OXE-01获得)
E-1：绿色颜料(可从Special Colorant Industry有限公司以C.I.G58获得)
E-2：蓝色颜料(可从Iridos有限公司以C.I.15:6获得)
E-3：红色颜料(可从SKC Hass有限公司以C.I.254获得)
F：紫色染料(可从Kyung-In Synthetic有限公司以V221获得)
G：氟类化合物(可从DIC有限公司以F445获得)
H：丙二醇单乙醚乙酸酯
评价示例1(单层膜样品的评价)
将示例1至示例8与对比示例1和对比示例2的光敏树脂组合物均旋涂在具有3μm厚度的各个玻璃基底(10cm x 10cm)上，然后，在90℃的温度下在热板上预烘焙2分钟，从而获得涂覆层。将光掩模放置在由此获得的涂覆层上，通过使用来自超高压汞灯的具有大约365nm的波长的光将光掩模以40mJ/cm2的曝光量暴露于光。然后，通过喷嘴将KOH显影溶液(DCD-260CF，可从Dongjin(Semichem有限公司)获得)施加60秒来显影图像，并在90℃下后烘焙60分钟，以获得样品1至样品10中的每个，是具有10cm x 10cm的尺寸的单层膜。
透射率测量
通过使用MCPD-3000光检测器光谱仪(可从Otsuka获得)来测量样品1至样品10中的每个的透射率(％)，在表2中示出结果。
图1是示出由根据示例1制备的光敏树脂组合物制备的膜的光谱特性的图。
参照图1，可确认的是，由根据示例1制备的光敏树脂组合物制备的膜的透射率在525nm至550nm范围内的波长附近是大约70％或更高。此外，由根据示例4或示例6制备的光敏树脂组合物制备的每个膜的透射率在525nm至550nm范围内的波长附近是大约70％或更高。
图2是示出由根据示例2制备的光敏树脂组合物制备的膜的光谱特性的图。
参照图2，可确认的是，由根据示例2制备的光敏树脂组合物制备的膜的透射率在450nm至475nm范围内的波长附近是大约65％或更高。此外，由根据示例5、示例7或示例8制备的光敏树脂组合物制备的每个膜的透射率在450nm至475nm范围内的波长附近是大约65％或更高。
图3是示出由根据示例3制备的光敏树脂组合物制备的膜的光谱特性的图。
参照图3，可确认的是，由根据示例3制备的光敏树脂组合物制备的膜的透射率在620nm或更高范围内的波长附近是大约70％或更高。
耐化学性的测量
在室温下将样品1至样品10中的每个沉浸在16ml的各个丙二醇甲醚乙酸酯(PGMEA)溶液中30分钟，通过使用色度仪(光检测器光谱仪，型号名称：MCPD-3000，可从Otsuka获得)来测量样品1至样品10的色差(ΔEab)。在表2中示出结果。
色差(ΔE*ab)是基于在沉浸之前和沉浸之后的膜的色纯度(L*、a*、b*)的测量，根据以下等式计算得到的值。这里，大的值表示颜色的显著改变：
反射率测量
通过使用可从KONICA MINOLTA获得的CM-5来测量样品1至样品10的反射率，在表2中示出结果。
表2
参照表2，确认的是，与分别通过使用对比示例1和对比示例2的光敏树脂组合物制备的样品9和样品10的膜的透射率、耐化学性和反射率相比，分别通过使用示例1至示例8的光敏树脂组合物制备的样品1至样品8的膜中的每个具有优异的透射率、改善的耐化学性和低的反射率。
评价示例2(对具有堆叠结构的膜样品的评价)
以与关于评价示例1描述的基本上相同的方式来制备样品11至样品20，均是具有相应的2层结构的膜，如表3中所示。以下面的方式来测量样品1至样品10的色差(ΔEab)，样品1至样品10中的每个分别是样品11至样品20的2层结构中的第一层，如下评价样品11至样品20的图案图像。
色差
通过使用色度仪(制造商：型号名称：MCPD-3000，可从Otsuka获得)来测量每个样品的堆叠结构的第一膜的色差(ΔE*ab)，在表3中示出结果。色差(ΔE*ab)是基于在堆叠之前和堆叠之后的第一膜的色纯度(L*、a*、b*)的测量，根据以下等式计算得到的值。这里，大的值表示颜色的显著改变：
表3
参照表3，确认的是，与分别通过使用对比示例1和对比示例2的光敏树脂组合物制备的样品9和样品10的膜的色差相比，分别通过使用示例1至示例8的光敏树脂组合物制备的样品1至样品8的膜具有更小的色差。
图案平直度
观察表3的样品11至样品20的图案图像，并在图4至图13中示出结果。
参照图4至图13，可确认的是，与样品19和样品20(见图12和图13)的图案平直度相比，样品11和样品18(见图4至图11)具有优异的图案平直度。
图案平直度可指在堆叠每个样品时，在低温(例如，大约0℃至大约100℃、大约40℃至大约100℃或大约70℃至大约100℃)下的固化程度。
评价示例3(OLED装置的制造和评价)
OLED装置1的制造
将包括金属材料的阳极、包括发光材料和发射层的有机层、包括导电材料的阴极以及样品1以此陈述的次序顺序地堆叠，从而完成OLED装置1的制造。
OLED装置2至OLED装置10的制造
除了用表4中示出的样品代替样品1作为所述膜之外，以与关于OLED装置1描述的基本上相同的方式来制备OLED装置2至OLED装置10。
反射率评价
通过使用可从KONICA MINOLTA获得的CM-3700A来测量OLED装置1至OLED装置10中的每个的反射率，在表4中示出结果。
表4
膜 反射率(％)
OLED装置1 样品1 5.75
OLED装置2 样品2 5.75
OLED装置3 样品3 5.70
OLED装置4 样品4 5.72
OLED装置5 样品5 5.05
OLED装置6 样品6 5.99
OLED装置7 样品7 5.63
OLED装置8 样品8 5.61
OLED装置9 样品9 6.03
OLED装置10 样品10 6.12
参照表4，可确认的是，与分别包括通过使用对比示例1和对比示例2的光敏树脂组合物制备的膜的OLED装置9和OLED装置10的反射率相比，分别包括通过使用示例1至示例8的光敏树脂组合物制备的膜的OLED装置1至OLED装置8中的每个具有低的反射率。
如上所述，根据一个或更多个实施例，光敏树脂组合物可以在例如大约100℃或更低的温度的低温(例如，大约0℃至大约100℃、大约40℃至大约100℃或大约70℃至大约100℃)下被固化。通过使光敏树脂组合物固化制备的膜从而可具有优异的透射率、改善的耐化学性、优异的图案平直度和/或改善的抗反射特性。
将理解的是，尽管可在此使用术语“第一”、“第二”、“第三”等来描述各种元件、组件、区、层和/或部分，但是这些元件、组件、区、层和/或部分不应受这些术语限制。这些术语用于将一个元件、组件、区、层或部分与另一元件、组件、区、层或部分区分开。因此，在不脱离本公开的精神和范围的情况下，以下描述的第一元件、组件、区、层或部分可称为第二元件、组件、区、层或部分。
在此使用的术语仅用于描述具体实施例的目的而不意图限制本公开。如在此使用的，除非上下文另行清楚地指示，否则单数形式“一个”、“一种(者)”和“该(所述)”也旨在包括复数形式，。还将理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”、“包括”和其变形时，指明存在所陈述的特征、整体、行为、操作、元件和/或组件，但是并不排除存在或附加一个或更多个其它特征、整体、行为、操作、元件、组件和/或它们的组。如在此使用的，术语“和/或”包括一个或更多个相关所列项目的任意和全部组合。
如在此使用的，术语“基本上”、“大约”和类似术语被用作近似术语而不用作程度术语，并意图解释能被本领域普通技术人员意识到的在测量值或计算值中的固有偏差。此外，描述本公开的实施例时使用的“可(以)”指的是“本公开的一个或更多个实施例”。如在此使用的，术语“使用”和其变形可被认为分别与术语“利用”和其变形同义。
此外，在此叙述的任何数值范围意图包括在该叙述的范围内包含的相同数值精度的所有子范围。例如，范围“1.0至10.0”意图包括在叙述的最小值1.0与叙述的最大值10.0之间的所有子范围(并包括叙述的最小值1.0和叙述的最大值10.0)，即，具有等于或大于1.0的最小值和等于或小于10.0的最大值，诸如，例如2.4至7.6。在此叙述的任何最大数值限制意图包括包含在此的所有的较低的数值限制，在此说明书中叙述的任何最小数值限制意图包括包含在此的所有的较高的数值限制。因此，申请人保留修改此说明书，包括权利要求书的权利，以明确地叙述在此明确地叙述的范围内包括的任何子范围。
应该理解的是，在此描述的实施例应仅以描述性的含义来考虑，而非出于限制的目的。对每个实施例中的特征或方面的描述应被典型地认为可用于其它实施例中的其它相似的特征或方面。
尽管已参照附图描述了一个或更多个实施例，但本领域普通技术人员将理解的是，在不脱离由权利要求及其等同物所限定的精神和范围的情况下，可在此做出形式和细节方面的各种改变。

Claims (20)

1.一种光敏树脂组合物，所述光敏树脂组合物包括：
由式1表示的第一粘合剂树脂：
式1
其中，在式1中，
R1至R4和R11至R13均独立地选自于氢、氘、取代的或未取代的C1-C20烷基、取代的或未取代的C2-C20烯基、取代的或未取代的C2-C20炔基、取代的或未取代的C1-C20烷氧基、取代的或未取代的C3-C10环烷基、取代的或未取代的C1-C10杂环烷基、取代的或未取代的C3-C10环烯基、取代的或未取代的C1-C10杂环烯基、取代的或未取代的C6-C30芳基、取代的或未取代的C6-C30芳氧基、取代的或未取代的C6-C30芳硫基和取代的或未取代的C1-C30杂芳基，
R5至R7均独立地为包括不饱和乙烯类基团的基团，
包括所述不饱和乙烯类基团的所述基团不包括邻苯二甲酸酯基，
a1和a11至a13均独立地选自于1至5的整数，
a2选自于0至5的整数，
b11至b13均独立地选自于0至3的整数，
k1、k2、k3、m和n均独立地为在相应的重复单元中的摩尔比，
k1和k2的和选自于1至20的整数，
k3选自于1至10的整数，
m和n均独立地选自于1至10的整数，
所述取代的C1-C20烷基、所述取代的C2-C20烯基、所述取代的C2-C20炔基、所述取代的C1-C20烷氧基、所述取代的C3-C10环烷基、所述取代的C1-C10杂环烷基、所述取代的C3-C10环烯基、所述取代的C1-C10杂环烯基、所述取代的C6-C30芳基、所述取代的C6-C30芳氧基、所述取代的C6-C30芳硫基和所述取代的C1-C30杂芳基的至少一个取代基选自于氘、-F、-Cl、-Br、-I、羟基、氰基、环氧基、硝基、脒基、肼基、腙基、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C1-C6烷氧基和C6-C20芳基。
2.根据权利要求1所述的光敏树脂组合物，其中，在式1中，R1至R4和R11至R13均独立地为氢、氘或者取代的或未取代的C1-C20烷基。
3.根据权利要求1所述的光敏树脂组合物，其中，在式1中，
R5至R7均独立地为由*-RaOC(＝O)CH＝CH2表示的基团，
Ra是取代的或未取代的C1-C20亚烷基，
所述取代的C1-C20亚烷基的至少一个取代基选自于氘、-F、-Cl、-Br、-I、羟基、氰基、环氧基、硝基、脒基、肼基、腙基、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C1-C6烷氧基和C6-C20芳基，
*表示与相邻原子的结合位。
4.根据权利要求1所述的光敏树脂组合物，其中，在式1中，摩尔比m:n在10:90至50:50的范围内。
5.根据权利要求1所述的光敏树脂组合物，其中，所述第一粘合剂树脂的酸值在50mgKOH/g至120mgKOH/g的范围内。
6.根据权利要求1所述的光敏树脂组合物，其中，基于所述光敏树脂组合物的总重量，所述第一粘合剂树脂的量在3wt％至30wt％的范围内。
7.根据权利要求1所述的光敏树脂组合物，所述光敏树脂组合物还包括第二粘合剂树脂，所述第二粘合剂树脂包括环氧树脂。
8.根据权利要求7所述的光敏树脂组合物，其中，所述第二粘合剂树脂由式2表示：
式2
其中，在式2中，
R21至R24均独立地选自于氢、氘、取代的或未取代的C1-C20烷基、取代的或未取代的C2-C20烯基、取代的或未取代的C2-C20炔基和取代的或未取代的C1-C20烷氧基，
R25和R26均独立地选自于氢、氘、取代的或未取代的C1-C20烷基、取代的或未取代的C2-C20烯基、取代的或未取代的C2-C20炔基、取代的或未取代的C1-C20烷氧基、取代的或未取代的C6-C30芳基、取代的或未取代的C6-C30芳氧基、取代的或未取代的C6-C30芳硫基和取代的或未取代的C1-C30杂芳基，
R27选自于氢、氘、取代的或未取代的C1-C20烷基、取代的或未取代的C2-C20烯基、取代的或未取代的C2-C20炔基、取代的或未取代的C1-C20烷氧基、取代的或未取代的C6-C30芳基、取代的或未取代的C6-C30芳氧基、取代的或未取代的C6-C30芳硫基、取代的或未取代的C1-C30杂芳基和由式3表示的基团，
b1和b2均独立地选自于0至4的整数，
p和q均独立地为相应的重复单元的摩尔比，
p选自于5至300的整数，
q选自于0至20的整数，
式3
在式3中，
R31和R32均独立地选自于氢、氘、取代的或未取代的C1-C20烷基、取代的或未取代的C2-C20烯基、取代的或未取代的C2-C20炔基和取代的或未取代的C1-C20烷氧基，
R33、R34和R'均独立地选自于氢、氘、取代的或未取代的C1-C20烷基、取代的或未取代的C2-C20烯基、取代的或未取代的C2-C20炔基、取代的或未取代的C1-C20烷氧基、取代的或未取代的C6-C30芳基、取代的或未取代的C6-C30芳氧基、取代的或未取代的C6-C30芳硫基和取代的或未取代的C1-C30杂芳基，
c1和c2均独立地选自于0至4的整数。
9.根据权利要求8所述的光敏树脂组合物，其中，在式2中，
R23至R26均独立地为取代的或未取代的C1-C20烷基，R27是由式3表示的基团，
在式3中，
R'是取代有环氧基的C1-C20烷基或者取代有环氧基的C6-C30芳基，
p选自于10至300的整数，
q选自于3至20的整数。
10.根据权利要求7所述的光敏树脂组合物，其中，所述第二粘合剂树脂由式2-1表示：
式2-1
11.根据权利要求7所述的光敏树脂组合物，其中，基于所述光敏树脂组合物的总重量，所述第二粘合剂树脂的量在1wt％至10wt％的范围内。
12.根据权利要求1所述的光敏树脂组合物，其中，所述光敏树脂组合物还包括光交联剂、热固化剂、光引发剂、颜料和溶剂。
13.根据权利要求12所述的光敏树脂组合物，其中，所述光交联剂包括从氨基甲酸酯单体和具有不饱和乙烯类基团的交联单体中选择的至少一种单体。
14.根据权利要求12所述的光敏树脂组合物，其中，所述光交联剂与所述第一粘合剂树脂的重量比在1:0.6至1:2.5的范围内。
15.根据权利要求12所述的光敏树脂组合物，其中，基于所述光敏树脂组合物的总重量，所述光交联剂的量在3wt％至15wt％的范围内。
16.根据权利要求13所述的光敏树脂组合物，其中，所述光交联剂还包括硫醇类单体。
17.根据权利要求12所述的光敏树脂组合物，其中，所述热固化剂包括从脂肪胺类化合物、脂环胺类化合物、芳香胺类化合物、羧酸类化合物、酸酐类化合物、多元酚类化合物和咪唑类化合物中选择的至少一种。
18.根据权利要求12所述的光敏树脂组合物，其中，所述光引发剂包括从肟类化合物、三嗪类化合物、苯偶姻类化合物、苯乙酮类化合物、呫吨酮类化合物和咪唑类化合物中选择的至少一种。
19.一种通过使根据权利要求1至权利要求18中的任意一项所述的光敏树脂组合物固化形成的膜。
20.一种包括根据权利要求19所述的膜的有机发光显示装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111116822A (zh) * 2019-12-31 2020-05-08 东莞市德聚胶接技术有限公司 一种丙烯酸树脂组合物
WO2021196352A1 (zh) * 2020-04-03 2021-10-07 Tcl华星光电技术有限公司 偏振发光材料及偏振发光层的制备方法

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102393376B1 (ko) 2017-04-10 2022-05-03 삼성디스플레이 주식회사 감광성 수지 조성물 및 이를 포함한 패턴 형성용 조성물의 경화물을 포함하는 전자 장치

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002294131A (ja) * 2001-03-30 2002-10-09 Goo Chemical Co Ltd フォトソルダーレジストインク
US20030118922A1 (en) * 2001-09-28 2003-06-26 Shinji Hayashi Curable resin for photo-patterning, process for producing the same, curable resin composition, color filter, liquid crystal panel substrate, and liquid crystal panel
JP2009003442A (ja) * 2007-05-23 2009-01-08 Mitsubishi Chemicals Corp 感光性樹脂組成物、液晶配向制御突起、スペーサー、カラーフィルター及び画像表示装置
CN101463106A (zh) * 2009-01-04 2009-06-24 成都金桨高新材料有限公司 含苯并噁嗪结构的共聚物成膜树脂及其深紫外负性化学增幅型光刻胶
JP2009192827A (ja) * 2008-02-14 2009-08-27 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント及び永久マスクレジスト
CN101845216A (zh) * 2009-03-23 2010-09-29 太阳油墨制造株式会社 固化性树脂组合物、使用其的干膜和印刷电路板

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6808865B1 (en) * 1999-06-07 2004-10-26 Goo Chemical Co., Ltd. Photosensitive resin composition of aqueous emulsion type
TWI369579B (en) * 2003-12-17 2012-08-01 Sumitomo Chemical Co Pigment dispersed resist
US8846195B2 (en) * 2005-07-22 2014-09-30 Canon Nanotechnologies, Inc. Ultra-thin polymeric adhesion layer
JP2010224204A (ja) * 2009-03-24 2010-10-07 Sumitomo Chemical Co Ltd 着色感光性樹脂組成物
KR101068622B1 (ko) * 2009-12-22 2011-09-28 주식회사 엘지화학 기판접착력이 향상된 고차광성 블랙매트릭스 조성물
JP5775701B2 (ja) * 2010-02-26 2015-09-09 富士フイルム株式会社 パターン形成方法及びレジスト組成物
US8993897B2 (en) * 2011-04-25 2015-03-31 Kaneka Corporation Photosensitive resin composition and use thereof
JP5834786B2 (ja) * 2011-11-07 2015-12-24 東レ株式会社 熱膨張係数の測定方法。
TW201348346A (zh) * 2012-03-07 2013-12-01 Fujifilm Corp 著色組成物、彩色濾光片、液晶顯示裝置、有機ｅｌ顯示裝置及固體攝影元件
JP5891090B2 (ja) * 2012-03-29 2016-03-22 富士フイルム株式会社 インプリント用下層膜組成物およびこれを用いたパターン形成方法
WO2015080217A1 (ja) * 2013-11-29 2015-06-04 三菱化学株式会社 着色樹脂組成物、カラーフィルタ、液晶表示装置及び有機ｅｌ表示装置
KR101705757B1 (ko) * 2014-02-17 2017-02-10 제일모직 주식회사 신규한 염료 화합물, 상기 염료 화합물을 포함하는 감광성 수지 조성물, 및 컬러 필터

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002294131A (ja) * 2001-03-30 2002-10-09 Goo Chemical Co Ltd フォトソルダーレジストインク
US20030118922A1 (en) * 2001-09-28 2003-06-26 Shinji Hayashi Curable resin for photo-patterning, process for producing the same, curable resin composition, color filter, liquid crystal panel substrate, and liquid crystal panel
JP2009003442A (ja) * 2007-05-23 2009-01-08 Mitsubishi Chemicals Corp 感光性樹脂組成物、液晶配向制御突起、スペーサー、カラーフィルター及び画像表示装置
JP2009192827A (ja) * 2008-02-14 2009-08-27 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント及び永久マスクレジスト
CN101463106A (zh) * 2009-01-04 2009-06-24 成都金桨高新材料有限公司 含苯并噁嗪结构的共聚物成膜树脂及其深紫外负性化学增幅型光刻胶
CN101845216A (zh) * 2009-03-23 2010-09-29 太阳油墨制造株式会社 固化性树脂组合物、使用其的干膜和印刷电路板

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111116822A (zh) * 2019-12-31 2020-05-08 东莞市德聚胶接技术有限公司 一种丙烯酸树脂组合物
WO2021196352A1 (zh) * 2020-04-03 2021-10-07 Tcl华星光电技术有限公司 偏振发光材料及偏振发光层的制备方法

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