CN1068976C - X光图像增强管及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明的目的在于提供一种既可抑制直接的附着输入屏的真空容器的铝材制X光人射窗的变形，同时又具有高可靠性的密封接合部并具有良好辉度分布及高析像清晰度特性的X光图像增强管及其制造方法。包括使硬钎焊片与X光入射窗的周缘部密封接合的钎焊材料不到达输入屏形成区域的结构，并设有将靠近X光入射窗周缘部的平面状部的凸球面部从真空空间侧进行机械固定的结构。

Description

X光图像增强管及其制造方法
本发明涉及X光图像变换为可见光图像或电子图像信号的X光图像增强管及其制造方法。
X光图像增强管采用与将照射到人体或物体上的X光的透过浓度分布或X光图像变换为可见光图像或电子图像信号，对于检查人体或物体的内部结构很有用。
对X光图像增强管的要求是将X光图像的对比度和析像清晰度忠实地、高效地变换为可见光图像或电子图像信号，但其忠实程度实际上取决于内部各构成要素。尤其是因为X光输入部分的变换特性与输出部分相比较差，故输出图像的忠实程度在很大程序上取决于其输入部分的特性。输入部的结构以往是采取在真空容器的X光入射窗的内侧配置一块很薄的铝基板并在该基板内面附着作为输入屏的荧光层和光电阴极层，这种结构存在着入射X光的缩合透过率很低，而且X光散乱较多、难以得到很高的对比度特性和析像清晰度特性的问题。
因此，在日本专利公开1981年第45556号公报和欧洲专利公开第540391A1号公报中已提出了一种将由荧光层和光电阴极层组成的输入屏直接附着形成在构成真空容器一部分的X光入射窗的里面的结构。这种结构由于透过X光的基板仅为真空容器的X光入射窗，故能减少入射X光的透过率、减少X光的散乱，得到较高的对比度及析像清晰度特性。
另一方面，由荧光层和光电阴极层组成的输入屏被设定为将由电子透镜系统产生的输出屏上的图像歪斜度减小到最低限度所要求的最适宜曲面。为此，输入屏被设定为抛物面和双曲面的情况比为单一曲率半径要多。
但是，这种将由荧光层和光电阴极层组成的输入屏直接附着形成真空容器的X光入射窗里面的结构虽然作为技术已经广为人知，却还未完全进入实用阶段。其主要原因是真空容器的X光入射窗因大气压而变形，从而使输入屏不能稳定地附着或容易发生因电子透镜系统产生的图像歪斜度。在一般的X光图像增强管中即使对包含输入屏的电子透镜系统采用最优化设计，只要输入屏在真空侧或大气侧作0.5mm的部分变形移动，就会因电子透镜系统的歪斜度而不能得到满意的输出图像。
还有，特别是输入屏的X光激发荧光体层为得到较高的析像清晰度和X光检测效率、采取微细方面较厚膜厚的柱状结晶构造而采用真空镀膜加以成膜。但在将X光入射窗放入成膜装置内部进行真空镀膜的方法中，X光入射窗的基板温度对所得荧光体层的结晶构造有很大影响。例如由于由钠(Na)活化铯(CsI)组成的荧光体层被堆积到大约400μm的厚度，就不能忽视因蒸发材料附着在入射窗基板上时的升华热和从蒸发装置发出的幅射热等引起的基板温度的上升。如在短时间内成膜为所用厚度，则基板温度急刷上升，就得不到非常细的柱状结晶。由于X光的透射率高，故入射窗越薄，则成膜时窗基板的温度上升显著，就得不到非常细的柱状结晶。为了避免这种问题，最好是减少单位时间内基板上的附着量，但这样一来堆积到所用厚度所需真空镀膜的时间就变得非常长，因此缺乏工业实用性。
作为将较薄的铝制X光入射窗密封连接到较厚的铁合金制支承架的技术，通过加热和加压进行连接的热压接已进入实用。但那样做的主要目的是构成真空容器的一部分，作为将输入屏直接附着形成在这样制作的X光入射窗内面的X光图像增强管在实用性方面仍感缺乏。其原因是由于热压接时的加压力高，X光入射窗的变形不可避免，从而得不到很高的析像清晰度。
另一方面，在日本专利公开1976年第253166号公报和日本专利公布1989年第25704号公报中揭示了一种在铁合金制支承架和铝材料X光入射窗之间通过夹入硬钎焊片进行钎焊接合的技术。但按照所揭示的钎焊接合结构，因接合体本身而产生X光入射窗的变形几乎没有，从X光入射窗周缘的平面部变为凸球面的折弯部及其内周侧附近为无高强度部件支承的结构，由于作为X光图像增强管完成情况下的大气压通过在X光入射窗周缘部尤其折弯部施加的应力，其附近容易产生较大的变形。从而引起电子透镜系统的歪斜度，得不到高的析像清晰度。
如图17所示，成形为半剖面曲柄状的铁合金制环状支承架21的平面部21a与铝材制凸球面状X光入射窗22的外周平面部22a间夹有一很宽的硬钎焊片23，考虑采用加热并密封钎焊接合方法。还有，硬钎焊片23系由铝材制成的芯体部23a和在其两面作为金属包层并一体成形的钎焊材料层23b、23c组成。
当采用这种结构进行钎焊接合时实际上如图18所示，熔化的钎焊材料可从X光入射窗22的平面部22a和折弯部22b的内面进一步上升并流动到凸球面部22c的区域而形成一固化的流动钎焊材料层B。特别是为了提高向X光入射窗内面的CsI荧光体层的附着强度，入射窗内面通常全部形成微细凹凸，以便于钎焊接合时熔化的钎焊材料广泛流动至这样形成的微细凹凸面上；如图所示，流动钎焊材料层B已经升高到输入屏24的形成区域。
输入屏的形成区域中一旦有流动钎焊材料层B，则即使该钎焊材料层非常薄，由于在铝基板本身区域和钎焊材料层B区域对于CsI荧光体层发出光的反射率不同，输出图像的辉度差异特别在周缘部表现得比较明显。而荧光体层的附着强度则有所损失。
本发明的目的即在于为解决上述问题而提供一种一方面可抑制直接附着输入屏的真空容器的铝材制X光入射窗的变形，另一方面又具有高可靠性的密封接合部，对输入屏特性无不良影响并具有良好辉度分布及高析像清晰度特性的X光图像增强管及其制造方法。
本发明X光图像增强管包括：设于X光入射部分并构成真空容器的一部分、且中心部向大气侧凸出的凸球面状的由铝材制成的X光入射窗，该X光入射窗的周缘部通过具有芯体部和在该芯体部面上形成钎焊材料层的硬钎焊片密封钎焊接合的高强度支承架，将在除X光入射窗的周缘部外的真空空间侧规定区域的面上积存而形成的X光图像变换为光电子像的输入屏，构成将光电子加速、集束用的电子透镜系统的多个电极，将光电子变换为光学图像或电子图像信号的输出屏，其特征在于，还包括使硬钎焊片和X光入射窗周缘部密封钎焊接合的钎焊材料不到达输入屏形成区域的防止钎焊材料升高的结构。
其特点同样在于将靠近X光入射窗周缘部的平面状部的凸球面部从真空空间侧设置机械固定装置。
本发明X光图像增强管的制造方法，包括：将作为真空容器一部分的凸球面状铝材制X光入射窗的周缘密封接合到高强度支承架，将在该X光入射窗内面把X光像变换为光电子像的输入屏成膜，将该X光入射窗密封接合到真空容器的壳体部并对真空容器进行排气，其特点在于，X光入射窗与高强度支承架间夹入具有钎焊材料层的硬钎焊片，同时采用防止钎焊时的熔融钎焊材料到达输入屏形成区域的结构并密封钎焊接合。
采用本发明可以抑制直接附着输入屏的真空容器的铝材制X光入射窗的变形并得到高可靠性的密封接合部，还可得到输入屏特性不受不良影响的具有良好辉度分布及高析像清晰度特性的X光图像增强管。
以下结合附图介绍实施例。对附图的简单说明：
图1为表示本发明实施例的纵剖面图及局部放大图。
图2为表示图1中X光入射窗的纵剖面图。
图3为表示图2的X光入射窗的曲率半径及厚度分布的图。
图4为表示本发明一实施例钎焊状态的要部纵剖面图。
图5为表示本发明的真空容器接合状态的要部纵剖面图。
图6为表示本发明钎焊前状态的要部放大剖面图。
图7为表示图6钎焊后接合状态的要部放大剖面图。
图8为表示本发明另一实施例钎焊前状态的要部放大剖面图。
图9为表示本发明又一实施例钎焊前状态的要部放大剖面图。
图10为表示图9钎焊接合状态的要部放大剖面图。
图11为表示本发明又一实施例钎焊前状态的要部放大剖面图。
图12为表示图11钎焊后接合状态的要部放大剖面图。
图13为表示本发明又一实施例钎焊状态的要部放大剖面图。
图14为表示图13钎焊后接合状态的要部放大剖面图。
图15为表示本发明又一实施例钎焊前状态的要部放大剖面图。
图16为表示图15钎焊后接合状态的要部放大剖面图。
图17为表示以往钎焊前状态的要部剖面图。
图18为表示图17钎焊后状态的要部放大剖面图。
以下参照图1说明将本发明适用于输入屏最大有效直径约为230mm的X光图像增强的一个实施例。如图所示，真空容器31包括玻璃制圆筒状壳体32、X光入射窗33、将入射窗和壳体密封连接起来的高强度支承架34、封装金属环35、以及玻璃制透光性输出窗36。作为真空容器一部分的X光入射窗22其中心部为向大气侧凸出的曲面，而在其真空空间侧内面则直接附着形成有输入屏37。在真空容器31的内侧配置有构成电子透镜系统的多个集束电极38、39以及附加很高的加速电压的圆筒状阳极40，并在靠近输出窗36的阳极处配置带有电子激发荧光体层的输出屏41。
首先，作为X光入射窗33采用铝材(纯铝或铝合金)薄板；如图2所示，该薄膜系由压力加工而成，其中心部向大气侧凸出并具有一定的曲率半径R的分布和一定的厚度t的分布，且在外周上向横向延伸形成平面部33a。图中符号33b为折弯部，33c为凸球面部。
图3所示为成形铝材料X光入射窗的凸球面部33c的曲率半径R的分布和厚度t的分布。由图可见，曲率半径R和厚度t从中心轴0到输入屏37的周缘直径Dm处是呈逐渐增加状分布。另外，X光入射窗的曲率半径R在中心部约为135mm，在半径方向的中间部为193mm，而在周缘部约为338mm；厚度t在中心部为0.8mm，中间部约为0.9mm，而在周缘部约为1.1mm。由于对X光入射窗采取这样的曲率半径及厚度分布，可减少因大气压引起入射窗的变形量，并可防止输入屏和由集束电极构成的电子透镜系统的不希望产生的歪斜度。
其次，在该铝材制X光入射窗33的内侧进行全面珩磨加工处理以形成平均高度为数微米的微细凹凸且使材料硬化。
接着如图4所示，将X光入射窗33的平面部33a放在厚度大于该X光入射窗并事先全部镀镍的像不锈钢那样的铁合金高强度金属支承架34的平坦的被接合部34a上，并将其间所夹的硬钎焊片42在真空加热到约600度进行密封接合。另外，图中用双点划线所示的A表示作为比较用的单一曲率球面，而虚线37则表示其后形成的输入屏。
将这样接合的高强度支承架34和X光入射窗33不经特别洗净地照原样作为未图示的成膜装置的减压容器壁的一部分设置，一面从外部直接控制X光入射窗的温度一面将输入屏37附着形成在内面。也就是说，将以X光入射窗作为容器壁一部分的减压容器内设定为一定的真空度，首先在入射窗的内面形成厚度约为2000埃的作为光反射性物质的铝薄膜37a(如图1所示，下同)。其次一面通过未图示的配置在X光入射窗外气侧的温度控制装置根据要求控制X光入射窗的温度及其分布，一面在铝薄膜上形成X光激发荧光体层37b。这个荧光体层为钠(Na)活化铯(CsI)，首先在4.5×10-1Pa的压力下真空镀膜至约400μm厚度，然后再在其上在4.5×10-3Pa的压力下真空镀膜至约400μm厚度。而且在该荧光体层上附着有透明导电膜37c。
其次如图5所示，将与形成输入屏37一部分的X光入射窗33一体接合的支承架34合在预先装在作为真空容器一部分的玻璃制壳体32前端的铁-镍-钴合金制封装金属环35上，用氦弧焊接装置的焊枪43在其全周进行密封焊接。该密封焊接部分符号44表示。然后从真空容器排气，并使构成输入屏37一部分的光电阴极层37d在管内蒸发，完成X光图像增强管。这样得到的X光图像增强管优点是X光入射窗因大气压引起的变形少，整个入射窗上X光透过率的均匀性影响不大，不会产生输入屏的剥离或电子透镜系统的歪斜，具有良好的对比度及析像清晰度特性。
以下说明铝材制X光入射窗33与高强度支承架34的密封钎焊部。首先如图6所示，在由半剖面为曲柄状成形的、厚度约1.5mm的不锈钢制的高强度支承架34上如上所述全部镀覆一层厚度约为10μm的镍层34P，为提高其结合牢度，还在真空中进行约900℃的热处理。在该支承架的平坦的被接合部34a的上面载放有硬钎焊片42，其上载有铝材制X光入射窗的外周平面部33a，而该平面部上则载有不锈钢制辅助环45。
硬钎焊片42由厚度约为0.8mm的铝合金制芯体部42a和在其两面作为金属包层一体形成的厚度分别约为0.1mm的钎焊材料层42b、42c组成，其宽度比X光入射窗外周平面部33a半径方向的宽度尺寸大得多。因此，硬钎焊片的与X光入射窗接合面的钎焊材料层42b从与X光入射窗的折弯部33b相对应的位置除去内侧部分并使芯体部的内周侧上面42d露出。即使经其后的钎焊工序，硬钎焊片的熔融钎焊材料层仍作为使钎焊材料不到达输入屏形成区域的防止其升高的结构。另外，图6中点划线37表示后面形成的输入屏，它当然是在相当于比X光入射窗的折弯部33b和硬钎焊片42的内周端更内侧的区域内形成的。
再在辅助环45上加载未图示的重物，在真空中600℃左右加热约20分钟以使硬钎焊片的钎焊材料层熔融并进行真空钎焊。另外，辅助环45与未图示重物的合计重量设定为对于钎焊接合部施加仅约160g/cm2的载荷。
按照这样的钎焊，可以得到如图7所示钎焊后的接合状态。也就是说，钎焊时熔融的硬钎焊片的一部分钎焊材料向外周及内周方向流动，特别是在内周侧预先除去钎焊材料的芯体部的露出上面42c和仅在入射窗折弯部33b内周侧处升高而产生钎焊积存处42e。该钎焊积存处42e范围为从折弯部33b向内侧斜面至多不超过5mm，不到达输入屏37形成区域。不如说该钎焊积存处42e是以高强度支承架34及其上面的硬钎焊片芯体部42a为基础从真空空间侧对从X光入射窗折弯部33b起的附近的凸球面部进行机械固定。因此，在本实施例中可得到高可靠性的密封钎焊接合部，同时还可防止钎焊材料到达X光入射窗内面的输入屏形成区域，并可防止X光入射窗特别容易变形的外周折弯部附近的变形。这样即可避免产生输入屏附着强度低下或辉度不均匀或电子透镜系统的歪斜度，得到具有优良析像清晰度的X光图像。另外，辅助环45的作用-是防止未图示的重物粘着在X光入射窗上，同时该环本身粘着在X光入射窗上并起机械增强作用。
在图8所示的实施例中，作为防止钎焊材料升高的结构，硬钎焊片42的上面即与X光入射窗接合面上的钎焊材料层42b在入射窗折弯部33b稍为内侧处形成截面大致为V字形的部分除去钎焊材料层42b的沟槽42f。
由于形成该V字形沟槽42f，防止了钎焊时熔融钎焊材料多余部分流到入射窗内面的输入屏形成区域，而且可通过在入射窗折弯部附近形成的钎焊积存处从真空空间侧对附近的凸球面部起一种机械的固定作用。
图9所示实施例是在硬钎焊片42上面的入射窗折弯部33b的最靠近内侧处形成深至硬钎焊片芯体部42a中间的深V字形沟槽42f。该V字形沟槽42f部分的钎焊材料层当然被除去。
而在钎焊时则如图10所示，入射窗折弯部33b附近的多余部分熔融钎焊材料几乎都积存在V字形沟槽42f内，其结果是更进一步可靠地防止钎焊材料进入入射窗内面的输入屏形成区域。
图11所示实施例是将硬钎焊片42内周侧上下面的钎焊材料层除去，并将其芯体部42a的内周端部朝X光入射窗凸球面部33c的方向折弯而形成折弯部42g。而将该芯体折弯部42g的上端作为添加在X光入射窗凸球面部33c内面上的圆锥面42h，钎焊前在凸球面部内面和圆锥面之间保持因硬钎焊片的钎焊层厚度的熔融而尽量减少的微小间隙。这样就在芯体折弯部42g的外周部形成了没有钎焊材料层的空间S。另外，芯体折弯部42g位于输入屏形成区域的外侧。
在以这种状态钎焊时，如图12所示，熔融的钎焊材料在芯体折弯部42g的外周空间S内积存并固化。而且由于硬钎焊片钎焊材料层部分的厚度减少，芯体折弯部的圆锥面42h与入射窗凸球面部33c的内面接合，起到从真空空间侧对这个面进行机械固定的作用。这样，芯体折弯部一方面可靠地防止了钎焊材料流动到输入屏形成区域，同时又起到对入射窗凸球面部33c的端部从真空空间侧进行机械固定的作用，从而得到一种几乎不产生变形的高可靠性X光入射窗结构体。
图13以及其钎焊后状态如图14所示的实施例是将高强度支承架34的内周部朝X光入射窗侧折弯并与上述实施例一样形成支承架折弯部34g。在这个实施例中，硬钎焊片42的宽度作成相当于X光入射窗外周平面部33a半径方向的宽度，钎焊材料层不除去。熔融、固化的钎焊材料在支承架折弯部34g的外周形成的空间S中积存，可靠地防止了向输入屏形成区域的流动。而且这个实施例中通过支承架折弯部而进一步提高了支承架本身的机械强度和从真空空间侧对入射窗凸球面部的端部的机械固定的强度，使难以产生变形。
图15所示的实施例是在X光入射窗内面的输入屏37形成区域稍些外侧区域预先附着由钎焊时熔融钎焊材料难以沾湿的材料制成的防钎焊材料沾湿层51。防钎焊材料粘湿层51最好是象金属氧化物那样的在真空中放出气体少的材料。这样，钎焊后的状态如图16所示为钎焊积存处42e可以在防钎焊材料沾湿层51区域的外侧，从而可靠地防止钎焊材料流动到输入屏形成区域。因而在该实施例的情况下，支承架和硬钎焊片只需简单形状即可，且不必除去钎焊材料层，故制作容易。
另外，作为各部分材料的示例，支承架34和辅助环45均以采用日本工业标准(JIS，下同)中的SUS304L不锈钢为合适。
另一方面，X光入射窗33以A6061铝合金材料为合适。这种材料在铝中添加的化学成分大致为：硅0.4～0.8％，铁0.7％，铜0.15～0.4％，锰0.15％，镁0.8～1.2％，以及其它。
但作为X光入射窗而使用铝合金时并不限于上述材料，而最好是选用机械强度高的日本工业标准(JIS)第3000号、5000号或6000号铝合金。这些材料在铝中添加的化学成分大致如下：JIS中3000号为：硅0.3～1.2％，铜0.1～0.4％，锰0.03～0.8％，镁0.35～1.5％，其它；JIS中5000号为：硅0.3～0.6％，铜0.05～0.3％，锰0.8～1.5％，镁0.2～1.3％，其它；JIS中6000号为：0.2～0.45％，铜0.04～0.2％，锰0.01～0.5％，镁0.5～5.6％，其它。
而硬钎焊片42的芯部以A6951铝合金材料、其钎焊材料金属包层以BA4004为合适。A6951材料在铝中添加的化学成分大致为：硅0.2～0.5％，铁0.8％以下，铜0.15～0.4％，锰0.1％以下，镁0.4～0.8％，其它。BA404材料在铝中添加的化学成分大致为：硅9.0～10.5％，铁0.8％以下，铜0.25％以下，锰0.1％以下，镁1.0～2.0％，其它。
还有，硬钎焊片的钎焊材料层可不受以上限制，如也可使用BA4003、BA4005、BA4N04等。
然而在上述硬钎焊片中含有镁，镁由于代替钎焊接合面的焊剂，故有促进钎焊接合的作用，但长期使用镁会污染钎焊接合用的真空炉，存在污染铝材制X光入射窗表面的可能性。因此，如将真空钎焊接合时的压力增加到上述实施例情况下的数倍以促进钎焊接合，则可使用几乎不含镁的硬钎焊片。这样一方面可防止X光入射窗表面质量降低，同时还能提高输入屏的附着强度等。
如上所述，采用本发明可以抑制直接附着输入屏的真空容器的铝材料制X光入射窗的变形，并能防止钎焊材料向上进入输入屏形成区域，得到可靠性的密封钎焊接合部，得到具有良好深度分布及高折像清晰度特性的X光图像增强管。

Claims (15)

1．一种X光图像增强管，包括：设于X光入射部分并构成真空容器(31)的一部分、且中心部向大气侧凸出的凸球面状的由铝材制成的X光入射窗(33)，该X光入射窗的周缘部通过具有芯体部(42a)和在该芯体部面上形成的钎焊材料层(42b,42c)的硬钎焊片(42)密封钎焊接合的高强度支承架(34)，将在除所述X光入射窗(33)的真空空间侧的所述X光入射窗周缘部外的规定区域的面上叠层并形成的X光图像变换为光电子像的输入屏(37)，构成将所述光电子加速、集束用的电子透镜系统的多个电极(38-40)，将所述光电子变换为光学图像或电子图像信号的输出屏(41)，其特征在于，还包括使所述硬钎焊片(42)和X光入射窗(33)周缘部密封钎焊接合的钎焊材料不到达所述输入屏(37)形成区域的防止钎焊材料升高的结构。
2．如权利要求1所述的X光图像增强管，其特征在于，所述防止钎焊材料升高的结构由所述硬钎焊片(42)的比所述X光入射窗(33)周缘部处钎焊接合区域内侧的芯体部(42a)除去面上的钎焊材料层(42b)构成。
3．如权利要求1所述的X光图像增强管，其特征在于，所述防止钎焊材料升高的结构由所述硬钎焊片(42)的紧靠所述X光入射窗(33)周缘部处钎焊接合区域内侧形成圆周状沟槽(42f)并除去芯体部(42a)面上钎焊材料层构成。
4．如权利要求3所述的X光图像增强管，其特征在于，所述沟槽(42f)深至芯体部(42a)厚度方向的中间。
5．如权利要求1所述的X光图像增强管，其特征在于，所述防止钎焊材料升高的结构由所述硬钎焊片(42)的芯体部(42a)除去内周端部的钎焊材料层并将该内周缘部朝所述X光入射窗的凸球面部侧折弯而形成的芯体折弯部(42g)构成。
6．如权利要求5所述的X光图像增强管，其特征在于，所述芯体折弯部(42g)其前端面成为沿所述X光入射窗(33)的凸球面部内面的斜面(42h)，且该斜面与所述入射窗(33)的凸球面部的内面接合。
7．如权利要求1所述的X光图像增强管，其特征在于，所述防止钎焊材料升高的结构由所述高强度支承架(34)的内周端部朝所述X光入射窗(33)的凸球面部侧折弯而形成的支承架折弯部(34g)构成。
8．如权利要求7所述的X光图像增强管，其特征在于，所述支承架折弯部(34g)其前端面成为沿所述X光入射窗(33)的凸球面部内面的斜面(34h)，且该斜面与所述入射窗(33)的凸球面部的内面接合。
9．如权利要求1所述的X光图像增强管，其特征在于，所述防止钎焊材料升高的结构由在所述X光入射窗(33)内面的所述输入屏(37)形成区域的外侧区域附着由难以沾湿所述钎焊材料的材料制成的防钎焊沾湿层(51)构成。
10．如权利要求1所述的X光图像增强管，其特征在于，X光入射窗(33)的曲率半径自中心部至周缘部变大。
11．如权利要求1或11所述的X光图像增强管，其特征在于，X光入射窗(33)的厚度为周缘部比中心部厚。
12．一种X光图像增强管的制造方法，包括：将作为真空容器一部分的凸球面状铝材料X光入射窗(33)的周缘密封接合到高强度支承架(34)上，将在该X光入射窗(33)的内面把X光像变换为光电子像的输入屏(37)成膜，将该X光入射窗密封接合到真空容器的壳体部(32)并对所述真空容器进行排气，其特征在于，所述X光入射窗(33)与高强度支承架(34)间夹入具有钎焊材料层(42b、42c)的硬钎焊片(42)，同时采用防止钎焊时熔融的钎焊材料到达所述输入屏(37)形成区域的防止钎焊材料升高的结构，并在真空中加热并密封钎焊接合。
13．如权利要求12所述的X光图像增强管的制造方法，其特征在于，预先将所述硬钎焊片(42)上与所述X光入射窗(33)周缘部钎焊接合区域内侧的芯体部(42a)面上的钎焊材料层除去。
14．如权利要求12所述的X光图像增强管的制造方法，其特征在于，预先在所述硬钎焊片(42)上紧靠与所述X光入射窗(33)周缘部钎焊接合区域的内侧形成圆周状的沟槽(42f)。
15．如权利要求12所述的X光图像增强管的制造方法，其特征在于，预先在所述X光入射窗(33)内面上形成所述输入屏(37)区域的外侧区域上附着由难以沾湿所述钎焊材料的材料制成的防钎焊材料沾湿层(51)。
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