CN106865993A - 一种触摸屏盖板的制作方法 - Google Patents

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林树茂
张文庆
宋先保
崔子龙
李锋
李志成
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Abstract

本申请公开了一种触摸屏盖板的制作方法，包括在基板表面制作整体保护膜；对所述整体保护膜进行曝光显影，形成与待设置按键的位置和形状相匹配的按键保护膜；对所述基板进行粗化处理，在所述按键保护膜以外的位置形成表面微结构；对所述基板进行光化处理，减薄所述基板，在所述按键保护膜的下部形成3D按键；去除所述按键保护膜。上述触摸屏盖板的制作方法，能够简化制作步骤，且更耐摩擦，提升用户体验。

Description

一种触摸屏盖板的制作方法
技术领域
本发明属于消费电子产品制造技术领域，特别是涉及一种触摸屏盖板的制作方法。
背景技术
目前，越来越多的车厂要求按键盲触技术与防眩光(AG)同时实现在车载导航的玻璃面板上。传统的做法是先将玻璃蚀刻出3D的按键，之后再采用喷涂、浸泡等方式在玻璃表面做一层AG层。这种做法的弊端在于需要经过两步工艺，步骤繁琐，且喷涂或浸泡等方式制作的防眩光部位不耐摩擦，造成用户体验不佳。
发明内容
为解决上述问题，本发明提供了一种触摸屏盖板的制作方法，能够简化制作步骤，且更耐摩擦，提升用户体验。
本发明提供的一种触摸屏盖板的制作方法，包括：
在基板表面制作整体保护膜；
对所述整体保护膜进行曝光显影，形成与待设置按键的位置和形状相匹配的按键保护膜；
对所述基板进行粗化处理，在所述按键保护膜以外的位置形成表面微结构；
对所述基板进行光化处理，减薄所述基板，在所述按键保护膜的下部形成3D按键；
去除所述按键保护膜。
优选的，在上述触摸屏盖板的制作方法中，
所述在基板表面制作整体保护膜为：
在基板表面丝印抗酸刻保护膜或涂布光刻胶。
优选的，在上述触摸屏盖板的制作方法中，
所述对所述基板进行粗化处理为：
将所述基板浸泡在蚀刻液中进行粗化处理。
优选的，在上述触摸屏盖板的制作方法中，
所述对所述基板进行粗化处理为：
向所述基板喷淋蚀刻液。
优选的，在上述触摸屏盖板的制作方法中，
所述对所述基板进行光化处理为：
利用氢氟酸对所述基板进行光化处理。
优选的，在上述触摸屏盖板的制作方法中，
所述对所述整体保护膜进行曝光显影，形成与待设置按键的位置和形状相匹配的按键保护膜包括：
利用掩膜版对所述整体保护膜进行曝光显影，形成与待设置按键的位置和形状相匹配的按键保护膜。
通过上述描述可知，本发明提供的上述触摸屏盖板的制作方法，由于包括在基板表面制作整体保护膜；对所述整体保护膜进行曝光显影，形成与待设置按键的位置和形状相匹配的按键保护膜；对所述基板进行粗化处理，在所述按键保护膜以外的位置形成表面微结构；对所述基板进行光化处理，减薄所述基板，在所述按键保护膜的下部形成3D按键；去除所述按键保护膜，因此能够简化制作步骤，且更耐摩擦，提升用户体验。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。
图1为本申请实施例提供的第一种触摸屏盖板的制作方法的示意图。
具体实施方式
本发明的核心思想在于提供一种触摸屏盖板的制作方法，能够简化制作步骤，且更耐摩擦，提升用户体验。
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本申请实施例提供的第一种触摸屏盖板的制作方法如图1所示，图1为本申请实施例提供的第一种触摸屏盖板的制作方法的示意图，该方法包括如下步骤：
S1：在基板表面制作整体保护膜；
需要说明的是，这种整体保护膜可以是但不限于胶体树脂混合物，其主成分是碱溶性树酯、环氧树酯、丙二醇甲醚醋酸酯和滑石粉；而对精度要求不高的产品也可贴PET等耐酸性保护膜，胶采用丙烯酸胶。
S2：对所述整体保护膜进行曝光显影，形成与待设置按键的位置和形状相匹配的按键保护膜；
需要说明的是，可以采用掩模板曝光按键或非按键部位，这是视光刻胶的正，负性而定，之后通过碱洗清除不需要保护的地方。
S3：对所述基板进行粗化处理，在所述按键保护膜以外的位置形成表面微结构；
在该步骤中，粗化的原理是弱酸腐蚀，按键保护膜的部位不会被粗化，而其他部位则被粗化。对所述基板进行粗化处理，使所述基板除带有按键保护膜的位置外，其他位置均形成表面微结构。通过调整配方，可以调整表面微结构的形貌。
S4：对所述基板进行光化处理，减薄所述基板，在所述按键保护膜的下部形成3D按键；
需要说明的是，经过光化过程之后，就能够形成AG(Anti-Glare，抗眩光)效果，所述光化处理可以但不限于采取HF或混有不同比例的HCL、H2SO4,HNO3等，主要起作用的成分为HF。
S5：去除所述按键保护膜。
这样就露出了3D按键，这里所说的3D按键是保留按键部位玻璃的基础上去除其他部分玻璃，能够提高用户触碰的准确性，实现盲触，更加实用。
通过上述描述可知，本申请实施例提供的上述第一种触摸屏盖板的制作方法，由于包括在基板表面制作整体保护膜；对所述整体保护膜进行曝光显影，形成与待设置按键的位置和形状相匹配的按键保护膜；对所述基板进行粗化处理，在所述按键保护膜以外的位置形成表面微结构；对所述基板进行光化处理，减薄所述基板，在所述按键保护膜的下部形成3D按键；去除所述按键保护膜，将玻璃的AG效果和3D按键通过一次蚀刻同时实现，能够简化制作步骤，且更耐摩擦，提升用户体验。
本申请实施例提供的第二种触摸屏盖板的制作方法，是在上述第一种触摸屏盖板的制作方法的基础上，还包括如下技术特征：
所述在基板表面制作整体保护膜为：
在基板表面丝印抗酸刻保护膜或涂布光刻胶。
需要说明的是，可以采用的网具材质可以是聚酯网，也可以是钢网。
本申请实施例提供的第三种触摸屏盖板的制作方法，是在上述第一种触摸屏盖板的制作方法的基础上，还包括如下技术特征：
所述对所述基板进行粗化处理为：
将所述基板浸泡在蚀刻液中进行粗化处理。
需要说明的是，采用的蚀刻液中的膏体或液体的主成分是弱酸，不限定酸的种类，其PH值在5～7左右。
本申请实施例提供的第四种触摸屏盖板的制作方法，是在上述第一种触摸屏盖板的制作方法的基础上，还包括如下技术特征：
所述对所述基板进行粗化处理为：
向所述基板喷淋蚀刻液。
需要说明的是，这种喷淋方式也能够保证蚀刻的效果更好。
本申请实施例提供的第五种触摸屏盖板的制作方法，是在上述第一种触摸屏盖板的制作方法的基础上，还包括如下技术特征：
所述对所述基板进行光化处理为：
利用氢氟酸对所述基板进行光化处理。
需要说明的是，上面的粗化过程减薄玻璃较少，主要是光化过程在进行减薄。在减薄的同时，调整无保护膜位置的表面微结构，以实现不同的AG(防眩)效果，可控制减薄的厚度来调整光泽度和雾度。而且，通过酸蚀刻的时间来达到控制3D按键高度的目的，时间越长，高度越高。
本申请实施例提供的第六种触摸屏盖板的制作方法，是在上述第一种至第五种触摸屏盖板的制作方法中任一种的基础上，还包括如下技术特征：
所述对所述整体保护膜进行曝光显影，形成与待设置按键的位置和形状相匹配的按键保护膜包括：
利用掩膜版对所述整体保护膜进行曝光显影，形成与待设置按键的位置和形状相匹配的按键保护膜。
需要说明的是，利用掩膜版进行曝光显影是一种成熟的技术，成本较低，且操作方便。
对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (6)

1.一种触摸屏盖板的制作方法，其特征在于，包括：
在基板表面制作整体保护膜；
对所述整体保护膜进行曝光显影，形成与待设置按键的位置和形状相匹配的按键保护膜；
对所述基板进行粗化处理，在所述按键保护膜以外的位置形成表面微结构；
对所述基板进行光化处理，减薄所述基板，在所述按键保护膜的下部形成3D按键；
去除所述按键保护膜。
2.根据权利要求1所述的触摸屏盖板的制作方法，其特征在于，
所述在基板表面制作整体保护膜为：
在基板表面丝印抗酸刻保护膜或涂布光刻胶。
3.根据权利要求1所述的触摸屏盖板的制作方法，其特征在于，
所述对所述基板进行粗化处理为：
将所述基板浸泡在蚀刻液中进行粗化处理。
4.根据权利要求1所述的触摸屏盖板的制作方法，其特征在于，
所述对所述基板进行粗化处理为：
向所述基板喷淋蚀刻液。
5.根据权利要求1所述的触摸屏盖板的制作方法，其特征在于，
所述对所述基板进行光化处理为：
利用氢氟酸对所述基板进行光化处理。
6.根据权利要求1-5任一项所述的触摸屏盖板的制作方法，其特征在于，
所述对所述整体保护膜进行曝光显影，形成与待设置按键的位置和形状相匹配的按键保护膜包括：
利用掩膜版对所述整体保护膜进行曝光显影，形成与待设置按键的位置和形状相匹配的按键保护膜。
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