CN106277813A - 一种图案盖板的制作方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种图案玻璃盖板的制作方法，所述图案玻璃盖板上的图案通过化学蚀刻的方式得到，具体步骤包括：遮光处理；涂胶；曝光显影；固化处理；化学蚀刻；脱膜。上述方法采用化学蚀刻的方式得到对应的图案，利用玻璃蚀刻液对玻璃盖板的蚀刻区进行蚀刻，非蚀刻区受光刻胶层的保护不被蚀刻，通过管控蚀刻速率和蚀刻时间来控制化学蚀刻的深度。上述方法加工的图案的花纹为实体结构，图案的立体感更强，且该方法可根据设计需求，自定义玻璃盖板上的图案的花纹深浅，使得图案的凹凸更加明显。

Description

一种图案盖板的制作方法

技术领域

本发明涉及玻璃盖板外形加工技术领域，尤其涉及一种图案盖板的制作方法。

背景技术

随着人们生活水平的不断提高，手机、平板电脑、摄像头、笔记本电脑等电子产品已经逐渐普及。一般电子产品大多采用玻璃盖板，且为了避免外观上的单调，常常在玻璃盖板上布置一些图案。目前，较常见的是玻璃盖板上设计有花纹，一般玻璃盖板上布置花纹为平面效果，大多采用贴膜等类似手段得到，然而贴膜的产品一般不耐高温，温度高一点膜可能进空气导致凸起等现象。现有获得花纹的另一种方式是采用曝光OC，但该方式得到的产品，一般OC图层很薄(大概2-3个um)，因此图案凹凸不明显，立体感较差。

综上所述，如何解决玻璃盖板上的图案的立体感较差的问题，已成为本领域技术人员亟待解决的技术难题。

发明内容

本发明的目的是提供一种图案玻璃盖板的制作方法，以增强玻璃盖板上的图案的立体感。

为了实现上述目的，本发明提供了图案玻璃盖板的制作方法，所述图案玻璃盖板上的图案通过化学蚀刻的方式得到，具体步骤包括：

遮光处理，对获取的玻璃盖板对应非蚀刻的一面整体涂制遮光层；

涂胶，在所述玻璃盖板上下表面整体涂制光刻胶层；

曝光显影，将与所述图案对应的铬板放在所述玻璃盖板上进行曝光显影处理，在所述玻璃盖板上得到被去除光刻胶层的蚀刻区和未被去除光刻胶层的非蚀刻区；

固化处理，对经曝光显影后的玻璃盖板上的光刻胶层进行固化处理；

化学蚀刻，对经固化处理后的玻璃盖板进行化学蚀刻，所述化学蚀刻的深度通过管控蚀刻速率和蚀刻时间来控制，且所述化学蚀刻使用的玻璃蚀刻液只对蚀刻区进行蚀刻，非蚀刻区受光刻胶层的保护不被蚀刻；

脱膜，利用脱膜剂去除所述玻璃盖板上非蚀刻区的光刻胶层。

优选地，在完成所述化学蚀刻后，还包括切割工序，所述切割工序为将所述玻璃盖板对应所述蚀刻区的分布情况，切割成多个。

优选地，所述切割工序采用激光进行切割或玻璃刀轮进行切割。

优选地，在完成所述脱膜工序后，还包括镀膜工序，所述镀膜工序为在所述玻璃盖板上涂镀一层或多层金属薄膜。

优选地，在完成所述镀膜工序后，还包括丝印工序，所述丝印工序为在所述玻璃盖板的表面丝印保护胶。

优选地，在所述遮光处理之前，还包括制作定位标记，所述定位标记包括供曝光机定位用的曝光定位标记和供切割设备定位用的切割定位标记。

优选地，在所述涂胶之前还包括对所述玻璃盖板的清洗工序。

优选地，涂制所述遮光层采用油墨丝印的方式涂制所述遮光层。

相比于背景技术中所介绍的内容，上述图案玻璃盖板的制作方法，采用化学蚀刻的方式得到对应的图案，利用玻璃蚀刻液对玻璃盖板的蚀刻区进行蚀刻，非蚀刻区受光刻胶层的保护不被蚀刻，通过管控蚀刻速率和蚀刻时间来控制化学蚀刻的深度。上述方法加工的图案的花纹为实体结构，图案的立体感更强，且该方法可根据设计需求，自定义玻璃盖板上的图案的花纹深浅，使得图案的凹凸更加明显。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的应用于指纹识别功能的玻璃盲孔的制作方法的流程图。

上图1中，遮光处理100、涂胶200、曝光显影300、固化处理400、化学蚀刻500、脱膜600。

具体实施方式

本发明的核心是提供一种图案玻璃盖板的制作方法，以增强玻璃盖板上的图案的立体感。

为了使本领域的技术人员更好地理解本发明提供的技术方案，下面将结合附图和具体实施例对本发明作进一步的详细说明。

如图1所示，本发明实施例提供的图案玻璃盖板的制作方法，所述图案玻璃盖板上的图案通过化学蚀刻的方式得到，具体步骤包括：

遮光处理100，对获取的玻璃盖板对应非蚀刻的一面整体涂制遮光层；

涂胶200，在玻璃盖板上下表面整体涂制光刻胶层；

曝光显影300，将与图案对应的铬板放在玻璃盖板上进行曝光显影处理，在玻璃盖板上得到被去除光刻胶层的蚀刻区和未被去除光刻胶层的非蚀刻区；

固化处理400，对经曝光显影300后的玻璃盖板上的光刻胶层进行固化处理；

化学蚀刻500，对经固化处理400后的玻璃盖板进行化学蚀刻，化学蚀刻的深度通过管控蚀刻速率和蚀刻时间来控制，且化学蚀刻使用的玻璃蚀刻液只对蚀刻区进行蚀刻，非蚀刻区受光刻胶层的保护不被蚀刻；

脱膜600，利用脱膜剂去除玻璃盖板上非蚀刻区的光刻胶层。

相比于背景技术中所介绍的内容，上述图案玻璃盖板的制作方法，采用化学蚀刻的方式得到对应的图案，利用玻璃蚀刻液对玻璃盖板的蚀刻区进行蚀刻，非蚀刻区受光刻胶层的保护不被蚀刻，通过管控蚀刻速率和蚀刻时间来控制化学蚀刻的深度。上述方法加工的图案的花纹为实体结构，图案的立体感更强，且该方法可根据设计需求，自定义玻璃盖板上的图案的花纹深浅，使得图案的凹凸更加明显。

需要说明的是，由于玻璃盖板一般为透明透光体，上述遮光处理中，当需要对玻璃盖板的上表面进行蚀刻图案时，对玻璃盖板的下表面整体涂制遮光层；当需要对玻璃盖板的下表面进行蚀刻图案时，对玻璃盖板的上表面整体涂制遮光层，使得在对玻璃盖板上表面或下表面任一面曝光时，另一面不受影响。且通过在非蚀刻的一面涂制遮光层，蚀刻的一面不涂制遮光层，使得蚀刻时，被蚀刻的一面不受遮光层的影响，蚀刻效果不受影响。

进一步需要说明的是，上述化学蚀刻的深度，可以通过蚀刻速率一定，通过蚀刻时间的长短来控制化学蚀刻的深度，例如需要蚀刻一个10um深的图案，蚀刻速率是2um/min，这时所需要的蚀刻时间是蚀刻深度除以蚀刻速率，也就是5min左右。当然还可以通过蚀刻时间一定，通过蚀刻速率的快慢来控制化学蚀刻的深度。一般不同的玻璃蚀刻液对应的蚀刻速率不同。

另外需要说明的是，一般光刻胶分为正性光刻胶和负性光刻胶两类，正性光刻胶被光照射的部分可以被显影液去除掉，而未曝光的部分则不会被显影液去除；负性光刻胶则相反，被光照射的部分不会被显影液去除，而其余不被光所照射的区域将会被显影液去除掉。因此可以理解的是，本发明实施例提供的上述铬板，当光刻胶层为正性光刻胶涂制时，上述铬板对应上述图案的部分透光，其余部分遮光；当光刻胶层为负性光刻胶涂制时，上述铬板对应上述图案的部分遮光，其余部分透光。另外，本发明实施例提供的遮光层，当上述光刻胶层为正性光刻胶涂制时，上述遮光层为黑色遮光体，避免曝光时，玻璃盖板的不需要蚀刻的一面的光刻胶被光照射；当上述光刻胶层为负性光刻胶涂制时，上述遮光层为透光体，使得曝光时玻璃盖板的不需要蚀刻的一面的光刻胶被光照射到，进而显影过程中光刻胶层不会被去除。

进一步地技术方案中，本发明提供的实施例中，在完成化学蚀刻500后，还包括切割工序，该切割工序为将所述玻璃盖板对应所述蚀刻区的分布情况，切割成多个。通过蚀刻之前对玻璃盖板切割成多个，降低了单片玻璃盖板的大小，因此降低了蚀刻容器的体积要求。

具体地，上述切割工序采用激光进行切割或玻璃刀轮进行切割。当然可以理解的是，还可以使用本领域技术人员常用的其他切割玻璃盖板的方式进行切割，只不过本发明实施例优选采用激光进行切割或玻璃刀轮进行切割而已。

进一步地，在完成脱膜工序后，还包括镀膜工序，该镀膜工序为在玻璃盖板上涂镀一层或多层金属薄膜。通过镀膜使得，玻璃盖板的光学性能得到改善。比如在玻璃盖板表面镀一层或多层诸如铬、钛或不锈钢等金属或其化合物组成的薄膜，使产品呈丰富的色彩，对于可见光有适当的透射率，对红外线有较高的反射率，对紫外线有较高吸收率。

更进一步地，在完成上述镀膜工序后，还包括丝印工序，该丝印工序为在玻璃盖板的表面丝印油墨，油墨的颜色可以有多种，白色，黑色，金色，银色等等，通过对镀膜后的玻璃盖板丝印油墨，增加了产品的色彩和立体感。

进一步地，在上述技术方案中，在遮光处理100之前，还包括制作定位标记，定位标记包括供曝光机定位用的曝光定位标记和供切割设备定位用的切割定位标记。当然还可以是本领域技术人员常需要用到的其他定位标记。具体的，本方案中的定位标记(也常称为MARK标)一般是采用黄光工艺在玻璃盖板表面制作一层高精度的油墨标记，当然，本领域还可以利用其它现有方法制作定位标记，本方案不再赘述。其中，定位标记的形状可以为矩形、折线型、十字交叉形或其他形状等，在曝光机或切割设备工作时，其定位部件会自动捕捉并参考玻璃板材上的定位标记进行定位，从而可以使曝光显影以及切割的尺寸更加精确。

进一步地，在上述涂胶200之前，还可以包括对玻璃盖板的清洗工序，清洗的主要目的是清除玻璃盖板表层的杂物及污渍，使得涂制的光刻胶层更加匀称，曝光显影后的效果更好。

更进一步地，上述涂制遮光层采用的是油墨丝印的方式涂制遮光层。该遮光层可以选为不可曝光的油墨，但需要说明的是，使用不可曝光的油墨时，对应涂制光刻胶层时，使用的光刻胶为正性光刻胶；当然还可以使用可曝光的油墨，且涂制光刻胶层为负性光刻胶。当然涂布方法也可是本领域技术人员常用的其他涂制方法，比如使用辊涂方法将油墨涂制成遮光层等等。

可以理解的是，上述方法制作的图案玻璃盖板，可以应用到许多带有玻璃板材的电子产品，比如手机的前后盖板、摄像头盖板、笔记本触摸板等等。

以上对本发明所提供的图案玻璃盖板的制作方法进行了详细介绍。需要说明的是，本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可。

还需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括上述要素的物品或者设备中还存在另外的相同要素。

本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以对本发明进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本发明权利要求的保护范围内。

Claims (8)

1.一种图案玻璃盖板的制作方法，其特征在于，所述图案玻璃盖板上的图案通过化学蚀刻的方式得到，具体步骤包括：

遮光处理(100)，对获取的玻璃盖板对应非蚀刻的一面整体涂制遮光层；

涂胶(200)，在所述玻璃盖板上下表面整体涂制光刻胶层；

曝光显影(300)，将与所述图案对应的铬板放在所述玻璃盖板上进行曝光显影处理，在所述玻璃盖板上得到被去除光刻胶层的蚀刻区和未被去除光刻胶层的非蚀刻区；

固化处理(400)，对经曝光显影(300)后的玻璃盖板上的光刻胶层进行固化处理；

化学蚀刻(500)，对经固化处理(400)后的玻璃盖板进行化学蚀刻，所述化学蚀刻的深度通过管控蚀刻速率和蚀刻时间来控制，且所述化学蚀刻使用的玻璃蚀刻液只对蚀刻区进行蚀刻，非蚀刻区受光刻胶层的保护不被蚀刻；

脱膜(600)，利用脱膜剂去除所述玻璃盖板上非蚀刻区的光刻胶层。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，在完成所述化学蚀刻(500)后，还包括切割工序，所述切割工序为将所述玻璃盖板对应所述蚀刻区的分布情况，切割成多个。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述切割工序采用激光进行切割或玻璃刀轮进行切割。

4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，在完成所述脱膜(600)后，还包括镀膜工序，所述镀膜工序为在所述玻璃盖板上涂镀一层或多层金属薄膜。

5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，在完成所述镀膜工序后，还包括丝印工序，所述丝印工序为在所述玻璃盖板的表面丝印保护胶。

6.如权利要求1-5任一项所述的方法，其特征在于，在所述遮光处理(100)之前，还包括制作定位标记，所述定位标记包括供曝光机定位用的曝光定位标记和供切割设备定位用的切割定位标记。

7.如权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述涂胶(200)之前还包括对所述玻璃盖板的清洗工序。

8.如权利要求1所述的方法，其特征在于，涂制所述遮光层采用油墨丝印的方式涂制所述遮光层。