CN108395110A - 用于玻璃的蚀刻曝光工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种用于玻璃的蚀刻曝光工艺，属于光学技术领域。它解决了现有技术存在着工艺复杂的问题。本用于玻璃的蚀刻曝光工艺包括以下步骤：A、备料：选取设定宽度和厚度的板状玻璃备用；B、镀膜：在板状玻璃的指定区域均匀镀上一层金属铬，板状玻璃上形成一镀膜区；C、切割：将上述具有镀膜区的板状玻璃切割为设定尺寸的单片玻璃；D、匀胶；E、曝光、显影；F、蚀刻：将一次纯水淡化后的单片玻璃放入硝酸铈铵溶液中抛动，抛动后件将其取出进行二次纯水淡化；G、清洗：将蚀刻后的单片玻璃经丙酮溶液清洗后再进行IPA烘干。本用于玻璃的蚀刻曝光工艺易于实施且工艺简便。
Description
技术领域
本发明涉及一种用于玻璃的蚀刻曝光工艺。
背景技术
随着科技的进步一些高端产品对于零件的精度要求越来越高，随之一些高精度的加工工艺也顺势成型。
其中在光学玻璃行业中光刻技术以其独有的加工特点和优势，在众多高精度的标记加工工艺中凸引而出。光刻技术是一种以化学反应原理和化学、物理蚀刻的方法把图案标记到玻璃产品上。其优势在于对玻璃产品没有任何损伤，标记图案完整清晰，精度非常高(能控制在±0.005以内)，工序简单，加工费用低。
现有加工方法中，玻璃上做标记的加工方式都是在玻璃进行挖槽或者开孔，不可避免的对玻璃造成不可逆的损伤(如崩口、断裂、划伤等)，在无形中增加了成本。
发明内容
本发明的目的是针对现有技术存在的上述问题，提供一种成品率高且易于实施的用于玻璃的蚀刻曝光工艺。
本发明的目的可通过下列技术方案来实现：
一种用于玻璃的蚀刻曝光工艺，该工艺包括以下步骤：
A、备料：选取设定宽度和厚度的板状玻璃备用；
B、镀膜：在板状玻璃的指定区域均匀镀上一层金属铬，板状玻璃上形成一镀膜区；
C、切割：将上述具有镀膜区的板状玻璃切割为设定尺寸的单片玻璃；
D、匀胶：通过现有的匀胶机及其匀胶工艺在单片玻璃的镀膜区处覆盖一层正性光刻胶；
E、曝光、显影：将匀胶后的单片玻璃在现有的曝光机上进行曝光处理，曝光后的单片玻璃在氢氧化钠溶液中抛动，抛动后将其取出进行一次纯水淡化；
F、蚀刻：将一次纯水淡化后的单片玻璃放入硝酸铈铵溶液中抛动，抛动后件将其取出进行二次纯水淡化；
G、清洗：将蚀刻后的单片玻璃经丙酮溶液清洗后再进行IPA 烘干。
在上述的用于玻璃的蚀刻曝光工艺中，所述步骤B中在板状玻璃上做标记点，上述镀膜区由标记点向外扩散。
在上述的用于玻璃的蚀刻曝光工艺中，所述步骤B中在板状玻璃上做“十字星”标记，上述镀膜区由“十字星”处向外扩散。
在上述的用于玻璃的蚀刻曝光工艺中，所述步骤C中对单片玻璃进行外形加工，保证单片玻璃的外形尺寸以及光洁度。
在上述的用于玻璃的蚀刻曝光工艺中，所述步骤D中将匀胶后的单片玻璃在100℃加热板上烘烤2.5分钟。
在上述的用于玻璃的蚀刻曝光工艺中，所述步骤E中将曝光后的单片玻璃在氢氧化钠溶液里上下抛动30—60秒后再进行一次纯水淡化。
在上述的用于玻璃的蚀刻曝光工艺中，所述步骤F中将将依次纯水淡化后的单片玻璃在硝酸铈铵溶液中抛动15—40秒后再进行二次纯水淡化。
在上述的用于玻璃的蚀刻曝光工艺中，所述步骤G后对其进行测量。
在上述的用于玻璃的蚀刻曝光工艺中，所述步骤G后的测量包括对标记的尺寸及其位置进行测量，同时还对图案的完整性进行判断。
在上述的用于玻璃的蚀刻曝光工艺中，所述步骤G中对标记点或者“十字星”的大小尺寸及其位置进行测量。
均匀的镀膜区上的正性光刻胶烘干后减小了在碱性溶液里的溶解度，在紫外光的照射下会把照射到的光刻胶的溶解度再次增大，被曝光机上的母版挡住的图案区域光刻胶的溶解度依旧比较小，用一定浓度的氢氧化钠溶液在固定时间里把溶解度大的那部分光刻胶优先溶解，留下我们需要的部分，在一定浓度的硝酸铈铵中，未被保护起来的铬层，被蚀刻掉，留下了我们所需要的标记点“十字星”“圆点”，即图案。
与现有技术相比，本用于玻璃的蚀刻曝光工艺用镀膜区增加两个“十字星”作为识别标志，并在一端增加一个“圆点”进行正反的区分，对玻璃无损伤，而且边缘圆滑，清晰，精度非常高，因此，经蚀刻曝光的单片玻璃成品率比较高。
具体实施方式
实施例一
本用于玻璃的蚀刻曝光工艺，该工艺包括以下步骤：
A、备料：选取设定宽度和厚度的板状玻璃备用；
B、镀膜：在板状玻璃的指定区域均匀镀上一层金属铬，板状玻璃上形成一镀膜区。
本步骤中，在板状玻璃上做标记点，上述镀膜区由标记点向外扩散。
同时在板状玻璃上做“十字星”标记，上述镀膜区由“十字星”处向外扩散。
C、切割：将上述具有镀膜区的板状玻璃切割为设定尺寸的单片玻璃。
本步骤中对单片玻璃进行外形加工，保证单片玻璃的外形尺寸以及光洁度。
D、匀胶：通过现有的匀胶机及其匀胶工艺在单片玻璃的镀膜区处覆盖一层正性光刻胶。
本步骤中将匀胶后的单片玻璃在100℃加热板上烘烤2.5分钟。
E、曝光、显影：将匀胶后的单片玻璃在现有的曝光机上进行曝光处理，曝光后的单片玻璃在氢氧化钠溶液中抛动，抛动后将其取出进行一次纯水淡化。
具体而言，步骤E中将曝光后的单片玻璃在氢氧化钠溶液里上下抛动30秒后再进行一次纯水淡化。
F、蚀刻：将一次纯水淡化后的单片玻璃放入硝酸铈铵溶液中抛动，抛动后件将其取出进行二次纯水淡化；
具体而言，所述步骤F中将将依次纯水淡化后的单片玻璃在硝酸铈铵溶液中抛动15秒后再进行二次纯水淡化。
G、清洗：将蚀刻后的单片玻璃经丙酮溶液清洗后再进行IPA 烘干。
所述步骤G后对其进行测量。
所述步骤G后的测量包括对标记的尺寸及其位置进行测量，同时还对图案的完整性进行判断。
所述步骤G中对标记点或者“十字星”的大小尺寸及其位置进行测量。
均匀的镀膜区上的正性光刻胶烘干后减小了在碱性溶液里的溶解度，在紫外光的照射下会把照射到的光刻胶的溶解度再次增大，被曝光机上的母版挡住的图案区域光刻胶的溶解度依旧比较小，用一定浓度的氢氧化钠溶液在固定时间里把溶解度大的那部分光刻胶优先溶解，留下我们需要的部分，在一定浓度的硝酸铈铵中，未被保护起来的铬层，被蚀刻掉，留下了我们所需要的标记点“十字星”“圆点”，即图案。
实施例二
本用于玻璃的蚀刻曝光工艺，该工艺包括以下步骤：
A、备料：选取设定宽度和厚度的板状玻璃备用；
B、镀膜：在板状玻璃的指定区域均匀镀上一层金属铬，板状玻璃上形成一镀膜区。
本步骤中，在板状玻璃上做标记点，上述镀膜区由标记点向外扩散。
同时在板状玻璃上做“十字星”标记，上述镀膜区由“十字星”处向外扩散。
C、切割：将上述具有镀膜区的板状玻璃切割为设定尺寸的单片玻璃。
本步骤中对单片玻璃进行外形加工，保证单片玻璃的外形尺寸以及光洁度。
D、匀胶：通过现有的匀胶机及其匀胶工艺在单片玻璃的镀膜区处覆盖一层正性光刻胶。
本步骤中将匀胶后的单片玻璃在100℃加热板上烘烤2.5分钟。
E、曝光、显影：将匀胶后的单片玻璃在现有的曝光机上进行曝光处理，曝光后的单片玻璃在氢氧化钠溶液中抛动，抛动后将其取出进行一次纯水淡化。
具体而言，步骤E中将曝光后的单片玻璃在氢氧化钠溶液里上下抛动60秒后再进行一次纯水淡化。
F、蚀刻：将一次纯水淡化后的单片玻璃放入硝酸铈铵溶液中抛动，抛动后件将其取出进行二次纯水淡化；
具体而言，所述步骤F中将将依次纯水淡化后的单片玻璃在硝酸铈铵溶液中抛动40秒后再进行二次纯水淡化。
G、清洗：将蚀刻后的单片玻璃经丙酮溶液清洗后再进行IPA 烘干。
所述步骤G后对其进行测量。
所述步骤G后的测量包括对标记的尺寸及其位置进行测量，同时还对图案的完整性进行判断。
所述步骤G中对标记点或者“十字星”的大小尺寸及其位置进行测量。
均匀的镀膜区上的正性光刻胶烘干后减小了在碱性溶液里的溶解度，在紫外光的照射下会把照射到的光刻胶的溶解度再次增大，被曝光机上的母版挡住的图案区域光刻胶的溶解度依旧比较小，用一定浓度的氢氧化钠溶液在固定时间里把溶解度大的那部分光刻胶优先溶解，留下我们需要的部分，在一定浓度的硝酸铈铵中，未被保护起来的铬层，被蚀刻掉，留下了我们所需要的标记点“十字星”“圆点”，即图案。
实施例三
本用于玻璃的蚀刻曝光工艺，该工艺包括以下步骤：
A、备料：选取设定宽度和厚度的板状玻璃备用；
B、镀膜：在板状玻璃的指定区域均匀镀上一层金属铬，板状玻璃上形成一镀膜区。
本步骤中，在板状玻璃上做标记点，上述镀膜区由标记点向外扩散。
同时在板状玻璃上做“十字星”标记，上述镀膜区由“十字星”处向外扩散。
C、切割：将上述具有镀膜区的板状玻璃切割为设定尺寸的单片玻璃。
本步骤中对单片玻璃进行外形加工，保证单片玻璃的外形尺寸以及光洁度。
D、匀胶：通过现有的匀胶机及其匀胶工艺在单片玻璃的镀膜区处覆盖一层正性光刻胶。
本步骤中将匀胶后的单片玻璃在100℃加热板上烘烤2.5分钟。
E、曝光、显影：将匀胶后的单片玻璃在现有的曝光机上进行曝光处理，曝光后的单片玻璃在氢氧化钠溶液中抛动，抛动后将其取出进行一次纯水淡化。
具体而言，步骤E中将曝光后的单片玻璃在氢氧化钠溶液里上下抛动40秒后再进行一次纯水淡化。
F、蚀刻：将一次纯水淡化后的单片玻璃放入硝酸铈铵溶液中抛动，抛动后件将其取出进行二次纯水淡化；
具体而言，所述步骤F中将将依次纯水淡化后的单片玻璃在硝酸铈铵溶液中抛动30秒后再进行二次纯水淡化。
G、清洗：将蚀刻后的单片玻璃经丙酮溶液清洗后再进行IPA 烘干。
所述步骤G后对其进行测量。
所述步骤G后的测量包括对标记的尺寸及其位置进行测量，同时还对图案的完整性进行判断。
所述步骤G中对标记点或者“十字星”的大小尺寸及其位置进行测量。
均匀的镀膜区上的正性光刻胶烘干后减小了在碱性溶液里的溶解度，在紫外光的照射下会把照射到的光刻胶的溶解度再次增大，被曝光机上的母版挡住的图案区域光刻胶的溶解度依旧比较小，用一定浓度的氢氧化钠溶液在固定时间里把溶解度大的那部分光刻胶优先溶解，留下我们需要的部分，在一定浓度的硝酸铈铵中，未被保护起来的铬层，被蚀刻掉，留下了我们所需要的标记点“十字星”“圆点”，即图案。
Claims (10)
1.一种用于玻璃的蚀刻曝光工艺，该工艺包括以下步骤：
A、备料：选取设定宽度和厚度的板状玻璃备用；
B、镀膜：在板状玻璃的指定区域均匀镀上一层金属铬，板状玻璃上形成一镀膜区；
C、切割：将上述具有镀膜区的板状玻璃切割为设定尺寸的单片玻璃；
D、匀胶：通过现有的匀胶机及其匀胶工艺在单片玻璃的镀膜区处覆盖一层正性光刻胶；
E、曝光、显影：将匀胶后的单片玻璃在现有的曝光机上进行曝光处理，曝光后的单片玻璃在氢氧化钠溶液中抛动，抛动后将其取出进行一次纯水淡化；
F、蚀刻：将一次纯水淡化后的单片玻璃放入硝酸铈铵溶液中抛动，抛动后件将其取出进行二次纯水淡化；
G、清洗：将蚀刻后的单片玻璃经丙酮溶液清洗后再进行IPA烘干。
2.根据权利要求1所述的用于玻璃的蚀刻曝光工艺，其特征在于，所述步骤B中在板状玻璃上做标记点，上述镀膜区由标记点向外扩散。
3.根据权利要求2所述的用于玻璃的蚀刻曝光工艺，其特征在于，所述步骤B中在板状玻璃上做“十字星”标记，上述镀膜区由“十字星”处向外扩散。
4.根据权利要求1所述的用于玻璃的蚀刻曝光工艺，其特征在于，所述步骤C中对单片玻璃进行外形加工，保证单片玻璃的外形尺寸以及光洁度。
5.根据权利要求1所述的用于玻璃的蚀刻曝光工艺，其特征在于，所述步骤D中将匀胶后的单片玻璃在100℃加热板上烘烤2.5分钟。
6.根据权利要求1所述的用于玻璃的蚀刻曝光工艺，其特征在于，所述步骤E中将曝光后的单片玻璃在氢氧化钠溶液里上下抛动30—60秒后再进行一次纯水淡化。
7.根据权利要求1所述的用于玻璃的蚀刻曝光工艺，其特征在于，所述步骤F中将将依次纯水淡化后的单片玻璃在硝酸铈铵溶液中抛动15—40秒后再进行二次纯水淡化。
8.根据权利要求3所述的用于玻璃的蚀刻曝光工艺，其特征在于，所述步骤G后对其进行测量。
9.根据权利要求8所述的用于玻璃的蚀刻曝光工艺，其特征在于，所述步骤G后的测量包括对标记的尺寸及其位置进行测量，同时还对图案的完整性进行判断。
10.根据权利要求9所述的用于玻璃的蚀刻曝光工艺，其特征在于，所述步骤G中对标记点或者“十字星”的大小尺寸及其位置进行测量。
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