CN106802445A

CN106802445A - 光学膜

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Publication number: CN106802445A
Application number: CN201610982458.0A
Authority: CN
Inventors: 佐佐木达也; 南条崇
Original assignee: Konica Minolta Opto Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc; Konica Minolta Opto Inc
Priority date: 2015-11-09
Filing date: 2016-11-08
Publication date: 2017-06-06
Anticipated expiration: 2036-11-08
Also published as: JP6676930B2; KR20170054293A; JP2017088715A; CN106802445B; TW201726373A

Abstract

本发明的课题在于提供一种在将光学膜用于偏振片的保护膜时降低了偏振片的冲裁时的裂缝、切屑的产生的光学膜。本发明的光学膜是含有环烯烃系树脂的光学膜，其特征在于，所述环烯烃系树脂为具有至少一个氢键接受基团的环烯烃系树脂，膜中含有醇系溶剂和受阻酚系化合物，且相对于膜的总质量含有0.1～2.5质量％的二氧化硅粒子，对于该二氧化硅粒子的利用甲醇湿润性法测得的疏水化度，使用甲醇和纯水以体积比计为3：7的第1溶液时的该疏水化度为20％以下，使用甲醇和纯水以体积比计为6：4的第2溶液时的该疏水化度为80％以上。

Description

光学膜

技术领域

本发明涉及一种光学膜。更详细而言，涉及一种在将光学膜用于偏振片的保护膜时降低了偏振片的冲裁时的裂缝、切屑的产生的光学膜等。

背景技术

以往，将偏振片切割成液晶显示装置用时的形状为长方形，但从提高设计性等观点考虑，近年来，对于汽车导航系统等的车载显示器，具有多边形、曲线的显示器正在出现，因此，需要对应于多种形状对偏振片进行切割。

另外，车载显示器由于暴露于高温高湿等苛刻的环境，因此，优选使用利用了环烯烃系树脂膜等耐热性、耐湿性优异的树脂的光学膜。

在将所述偏振片切割成长方形以外的形状时，需要以自由形状进行冲裁，但对于曲线部分等，由于起偏器、保护膜的取向方向不均匀，因此，存在如下问题：在冲裁时在端面产生毛刺、裂纹等裂缝或容易产生因切断所致的切屑，随着偏振片的薄膜化，该问题成为更严重的问题。

通常，为了提高膜制造工序、加工工序中的操作性，适合使用二氧化硅粒子等消光剂(微粒)，但在环烯烃系树脂中，二氧化硅粒子容易凝聚，凝聚的二氧化硅粒子在进行偏振片的冲裁时容易成为所述裂缝的起点。

在专利文献1中记载了在环烯烃系树脂膜中含有消光剂微粒的例子，虽然确实通过该技术能够提高操作性，但对于降低所述以自由形状冲裁时的裂缝、切屑的产生并不充分。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2007－98643号公报

发明内容

本发明是鉴于上述问题·状况而完成的，其解决课题在于提供一种在将光学膜用于偏振片的保护膜时降低了偏振片的冲裁时的裂缝、切屑的产生的光学膜。

本发明人等为了解决上述课题，在对上述问题的原因等进行研究的过程中，发现通过含有特定量的具有至少一个氢键接受基团的环烯烃系树脂、醇系溶剂、受阻酚系化合物和利用甲醇湿润性法(メタノールウエッタビリティ法)测得的疏水化度满足特定范围的二氧化硅粒子的光学膜，能够得到在将光学膜用于偏振片的保护膜时降低了偏振片的冲裁时的裂缝、切屑的产生的光学膜。

即，本发明的上述课题通过以下的方式得以解决。

1.一种光学膜，其特征在于，是含有环烯烃系树脂的光学膜，

所述环烯烃系树脂为具有至少一个氢键接受基团的环烯烃系树脂，

膜中含有醇系溶剂和受阻酚系化合物，并且

相对于膜的总质量含有0.1～2.5质量％的二氧化硅粒子，对于该二氧化硅粒子的利用甲醇湿润性法测得的疏水化度，使用甲醇和纯水以体积比计为3：7的第1溶液时的该疏水化度为20％以下，使用甲醇和纯水以体积比计为6：4的第2溶液时的该疏水化度为80％以上。

2.根据第1项所述的光学膜，其特征在于，所述二氧化硅粒子的膜中的二次平均粒径在100～400nm的范围内。

3.根据第1项或第2项所述的光学膜，其特征在于，在10～1000ppm的范围内含有所述醇系溶剂，在0.1～0.5质量％的范围内含有受阻酚系化合物。

4.根据第1项～第3项中任一项所述的光学膜，其特征在于，进一步在50～500ppm的范围内含有水。

5.根据第1项～第4项中任一项所述的光学膜，其特征在于，所述光学膜的膜厚d为5μm≤d≤40μm，测定波长590nm的面内相位差Ro和厚度方向的相位差Rt分别为Ro≤5nm、－15nm≤Rt≤15nm。

通过本发明的上述方式，能够提供一种在将光学膜用于偏振片的保护膜时降低了偏振片的冲裁时的裂缝、切屑的产生的光学膜。

关于本发明的效果的表现机制或作用机制，尚未明确，但如下推测。

对于所述专利文献1中所公开的含有消光剂微粒的技术，虽然能够提高操作性，但对于降低以自由形状冲裁时的裂缝、切屑的产生并不充分。

因此，本发明人等发现，通过在由环烯烃系树脂构成的光学膜中含有特定的化合物，能够得到制造工序中的操作性优异且在偏振片冲裁时降低了裂缝、切屑的产生的光学膜。

本发明的光学膜的特征在于，是含有特定量的具有至少一个氢键接受基团的环烯烃系树脂、醇系溶剂、受阻酚系化合物和利用甲醇湿润性法测得的疏水化度满足特定范围的二氧化硅粒子的光学膜。可知通过该构成的光学膜，在用于偏振片的保护膜时，能够维持树脂和消光剂的相互作用，因此，膜的强度上升，能够降低偏振片的冲裁时的裂缝、切屑的产生。

一般而言，环烯烃系树脂为疏水性的树脂，因此，在膜化时若具有水分，则容易分离，从透明性的观点考虑，不优选，但本发明中所使用的环烯烃系树脂具有如下特征：由于由含有至少一个氢键接受基团的树脂组合物形成，因此，能够与醇的羟基、受阻酚系化合物的羟基形成氢键，因此，即使为稍微含有水分的状态，也能够维持透明性，反而膜强度因氢键而提高。

推测这是因为通过树脂与膜中的醇、二氧化硅粒子表面的极性成分和受阻酚系化合物的羟基相互作用，进一步经由从膜体系外取入的空气中的水分子的相互作用也变得容易，因此，如上所述膜的强度提高。

另外，还发现通过放入受阻酚系的化合物，该化合物作为防凝聚剂起作用，能够抑制环烯烃系树脂膜中的二氧化硅粒子的凝聚，将二氧化硅粒子的膜中的二次粒径控制在适当的范围。

作为上述相互作用的指标，可以使用二氧化硅粒子的疏水化度作为尺度，发现通过含有特定量的该疏水化度满足特定范围的二氧化硅粒子，也促进树脂与消光剂、消光剂与醇、以及消光剂与受阻酚系化合物的相互作用，膜强度进一步提高。

即，在使用甲醇和纯水以体积比计为3：7的第1溶液求出二氧化硅粒子的疏水化度时，若该疏水化度为20％以下，则消光剂与环烯烃系树脂的相容性优异，进而，在受阻酚系化合物的存在下粒子难以凝聚，因此，裂缝的产生源减少。同样地，在使用甲醇和纯水以体积比计为6：4的第2溶液求出二氧化硅粒子的疏水化度时，若该疏水化度为80％以上，则通过消光剂与醇的相互作用，胶浆中的二氧化硅粒子难以凝聚，因此，裂缝的产生源本身减少，由此，推测裂缝、切屑的产生降低。因此，使用上述膜的偏振片能够抑制上述偏振片的冲裁时的裂缝、切屑的产生这样的问题的产生。

附图说明

图1是表示本发明中优选的溶液流延制膜方法的胶浆制备工序、流延工序、干燥工序和卷取工序的一个例子的示意图。

符号的说明

1 溶解釜

3、6、12、15 过滤器

4、13 储备釜

2、5、11、14 送液泵

8、16 导管

10 添加剂进料釜

20 合流管

21 混合机

30 加压模头

31 金属支承体

32 基膜(ウェブ)

33 剥离位置

34 拉伸装置

35 干燥装置

36 输送辊

37 卷取装置

41 进料釜

42 储备釜

43 泵

具体实施方式

本发明的光学膜是含有环烯烃系树脂的光学膜，其特征在于，上述环烯烃系树脂为具有至少一个氢键接受基团的环烯烃系树脂，膜中含有醇系溶剂和受阻酚系化合物，并且相对于膜的总质量含有0.1～2.5质量％的二氧化硅粒子，对于所述二氧化硅粒子的利用甲醇湿润性法测得的疏水化度，使用甲醇和纯水以体积比计为3：7的第1溶液时的该疏水化度为20％以下，使用甲醇和纯水以体积比计为6：4的第2溶液时的该疏水化度为80％以上，通过该构成，能够提供一种在将光学膜用于偏振片的保护膜降低了偏振片的冲裁时的裂缝、切屑的产生的光学膜。

该特征为与本发明第一方式～第五方式的各方式的发明共通的技术特征。

作为本发明的实施方式，从显现本发明的效果的观点考虑，上述二氧化硅粒子的膜中的二次平均粒径在100～400nm的范围内，这从提高制造时、加工时的操作性、且降低偏振片的冲裁时的裂缝、切屑的产生的观点考虑是优选的粒径范围。

另外，膜中在10～1000ppm的范围内含有上述醇系溶剂，在0.1～0.5质量％的范围内含有受阻酚系化合物，这从显现在与上述消光剂的相互作用下提高膜强度这样的本发明的效果的观点考虑是优选的含量。

作为树脂组合物中所含的残留溶剂成分，除醇系溶剂以外，优选进一步含有水，其含量优选为50～500ppm。若为50ppm以上，则得到的膜的机械强度、脆性提高，但从膜的透明性的观点考虑，优选为500ppm以下。在此，所谓水，可以举出：自来水、去离子水、超纯水和蒸馏水等，但从杂质、成本等生产率的观点考虑，优选为蒸馏水。

另外，上述光学膜的膜厚d为5μm≤d≤40μm，测定波长590nm的面内相位差Ro和厚度方向的相位差Rt分别为Ro≤5nm、－15nm≤Rt≤15nm，在作为偏振片保护膜使用时，能够提供轻量且薄膜的偏振片，另外，从能够赋予最适合作为IPS模式型液晶显示装置用的偏振片的相位差的观点考虑，优选。

另外，本发明的光学膜通过溶液流延制膜法进行制膜，且在溶解温度15～50℃的范围内制备含有上述具有至少一个氢键接受基团的环烯烃系树脂、上述满足疏水化度的二氧化硅粒子、上述受阻酚系化合物和含有醇系溶剂的有机溶剂的胶浆是优选的制造方法。

若溶解温度为15℃以上，则能够充分地溶解树脂、添加剂，因此，得到异物少的膜。另外，若为50℃以下，则从能够抑制通过醇和受阻酚化合物的反应得到的胶浆和得到的膜的着色的观点考虑而优选，即使添加与醇亲和性良好的二氧化硅粒子，也具有抑制着色的效果。

进而，从提高生产率的观点考虑，更优选组合使用具有羟基的醇系溶剂和水。

水由于在一分子中具有多个氢键供给基团，因此，能够为了提高膜的强度而优选使用。水优选相对于总溶剂量含有0.1～1质量％。

若为0.1质量％以上，则容易与其它醇系溶剂、含有氢键接受基团的环烯烃系树脂、二氧化硅粒子相互作用，故优选，但若大于1质量％，则疏水性强的环烯烃系树脂凝胶化，容易产生异物。

以下，对本发明和其构成要素以及用于实施本发明的方式·形态进行详细的说明。需要说明的是，在本申请中，“～”以包含其前后所记载的数值作为下限值和上限值的含义使用。

《本发明的光学膜的概要》

本发明的光学膜是含有环烯烃系树脂的光学膜，其特征在于，上述环烯烃系树脂为具有至少一个氢键接受基团的环烯烃系树脂，膜中含有醇系溶剂和受阻酚系化合物，且相对于膜的总质量含有0.1～2.5质量％的二氧化硅粒子，对于所述二氧化硅粒子的利用甲醇湿润性法测得的疏水化度，使用甲醇和纯水以体积比计为3：7的第1溶液时的该疏水化度为20％以下，使用甲醇和纯水以体积比计为6：4的第2溶液时的该疏水化度为80％以上。

〈甲醇湿润性法〉

本发明的二氧化硅粒子的疏水化度可以使用含有醇系的溶剂、纯水等进行定量。作为对疏水化度进行定量化的方法，优选甲醇湿润性法(以下，称为“MW法”)。在本发明中，疏水化度以通过本方法求得的甲醇湿润性值(以下，称为“MW值”)表示。

在上述的MW法中，为了对微粒的疏水化度进行定量化，分别使用混合甲醇和纯水而成的第1溶液和第2溶液。此时，对于甲醇和纯水的配合比，在第1溶液中体积比为3：7，另外，在第2溶液中体积比为6：4。然后，在各溶液中添加等量的上述微粒并搅拌混合，将该混合的各溶液离心分离，分别求出上述微粒的沈降物的体积，将第1溶液中的微粒的沈降物的体积设为tmL、将第2溶液中的微粒的沈降物的体积设为smL时，由第1溶液中的MW值＝(t/A)×100[％]和第2溶液中的MW值＝(s/A)×100[％]求出各个MW值。在此，A为最初添加的二氧化硅粒子的体积(AmL)。

〔MW法〕

(1)将甲醇溶液C和纯水D以体积比为3：7的方式混合，制备第1溶液A(例如，甲醇溶液C为40mL，与此相对，纯水D为60mL)

(2)接着，在10mL的沈降管F中放入0.2g的二氧化硅粒子粉末E和7mL的第1溶液A。

(3)对沈降管F盖上盖子，使用拓布勒搅拌器(ターブラーミキサ)在第1溶液A中振荡混合微粒粉末E。此时，拓布勒搅拌器的条件为90rpm且30秒。

(4)为了使二氧化硅粒子粉末E沈降，使用离心分离机。离心分离机的条件为3500rpm且10分钟。

(5)读取能够通过沈降管的刻度读取的沈降的微粒粉末E的沈降物量作为体积，将其值设为tmL。

(6)重新将甲醇溶液C和纯水D以体积比为6：4的方式混合，制备第2溶液B(例如，甲醇溶液C为60mL，与此相对，纯水D为40mL)。

(7)使用第2溶液B，通过与上述(2)～(5)相同的步骤(8)～(11)制作二氧化硅粒子粉末E的沈降物，读取能够通过沈降管的刻度读取的沈降的二氧化硅粒子粉末E的沈降物量作为体积，将其值设为smL。

(12)通过下述式求出MW值(％)。

第1溶液中的MW值＝(t/A)×100[％]

第2溶液中的MW值＝(s/A)×100[％]

在此，A为最初添加的二氧化硅粒子的体积(AmL)。

例如，若使用第1溶液A时得到的微粒的沈降物的体积为1mL，最初添加的二氧化硅粒子的体积(AmL)为5mL，

则第1溶液中的MW值＝(1/5)×100[％]，疏水化度MW值成为20％。

＜本发明的光学膜的构成＞

〔1〕环烯烃系树脂

作为本发明的实施方式，从提高生产率的观点考虑，优选含有水作为溶剂成分，即使为做好的膜，也优选含有水分。

一般而言，环烯烃系树脂为疏水性的树脂，因此，在膜化时若具有水分，则容易分离，从透明性的观点考虑，不优选，但本发明中所使用的环烯烃系树脂具有如下特征：由于由含有至少一个氢键接受基团的树脂组合物形成，因此，能够与醇的羟基、受阻酚系化合物的羟基形成氢键，因此，即使为稍微含有水分的状态，也能够维持透明性，反而膜强度因氢键而提高。“氢键接受基团”是指在形成氢键时接受氢原子的官能团。

本发明的环烯烃系树脂的特征在于，由含有至少一个氢键接受基团的树脂组合物形成。

作为氢键接受基团，例如可以举出：碳原子数1～10的烷氧基、碳原子数1～10的酰氧基、碳原子数2～10的烷氧基羰基、烯丙氧基羰基、氰基、酰胺基、含有酰亚胺环的基团、三有机甲硅烷氧基、三有机甲硅烷基、酰基、碳原子数1～10的烷氧基甲硅烷基、含有磺酰基的基团和羧基等。若对这些极性基团团进一步具体地进行说明，则作为上述烷氧基，例如可以举出：甲氧基、乙氧基等；作为酰氧基，例如可以举出：乙酰氧基、丙酰氧基等烷基羰基氧基和苯甲酰氧基等芳基羰基氧基；作为烷氧基羰基，例如可以举出：甲氧基羰基、乙氧基羰基等；作为烯丙氧基羰基，例如可以举出：苯氧基羰基、萘氧基羰基、芴氧基羰基、联苯氧基羰基等；作为三有机硅烷氧基，例如可以举出：三甲基甲硅烷氧基、三乙基甲硅烷氧基等；作为三有机甲硅烷基，可以举出：三甲基甲硅烷基、三乙基甲硅烷基等；作为烷氧基甲硅烷基，例如可以举出：三甲氧基甲硅烷基、三乙氧基甲硅烷基等。

树脂成分中所含的含有上述氢键接受基团的环烯烃系树脂的量没有特别限定，但优选含有比例为10～100质量％。若为10质量％以上，则得到的开环共聚物容易显示在甲苯、二氯甲烷等溶剂中的溶解性，故优选，进而，从溶解性、膜的强度、透明性的观点考虑，在30～100质量％的范围时进一步优选。

作为本发明的环烯烃系树脂，例如可以举出如下所述的(共)聚合物。

通式(I)

〔式中，p为0或1，m为0或1以上的整数。R¹～R⁴各自独立地表示氢原子、烃基、卤素原子或氢键接受基团。另外，R¹～R⁴可以二个以上互相键合而形成不饱和键、单环或多环，该单环或多环可以具有双键，也可以具有芳香环。〕

在本发明中，对于环烯烃系树脂的优选的氢键接受基团的保有比率，优选通式(I)中R¹～R⁴中的1～2个具有氢键接受基团。

另外，环烯烃系树脂的氢键接受基团的保有比率例如可以使用碳-13核磁共振(¹³CNMR)光谱法进行鉴定。

另外，通式(I)中，R¹和R³为氢原子或碳原子数1～10、进一步优选1～4、特别优选1～2的烃基，R²和R⁴的至少一个表示氢原子和烃基以外的具有极性的氢键接受基团，从玻璃化转变温度高且机械强度优异这样的观点考虑，p和m优选为m＝1、p＝0。

作为卤素原子，可以举出：氟原子、氯原子和溴原子。作为碳原子数1～30的烃基，例如可以举出：甲基、乙基、丙基等烷基；环戊基、环己基等环烷基；乙烯基、烯丙基、丙烯基等烯基；苯基、联苯基、萘基、蒽基等芳香族基团等。这些烃基可以被取代，作为取代基，例如可以举出：氟原子、氯原子、溴原子等卤素原子、苯基磺酰基等。

本发明的环烯烃系树脂的优选的分子量优选以特性粘度〔η〕inh计为0.2～5cm³/g，进一步优选为0.3～3cm³/g，特别优选为0.4～1.5cm³/g，通过凝胶渗透色谱法(GPC)测得的聚苯乙烯换算的数均分子量(Mn)为8000～100000，进一步优选为10000～80000，特别优选为12000～50000，重均分子量(Mw)为20000～300000，进一步优选为30000～250000、特别优选为40000～200000的范围的分子量。

通过特性粘度〔η〕inh、数均分子量和重均分子量在上述范围，环烯烃树脂的耐热性、耐水性、耐化学药品性、机械特性和作为本发明的环烯烃系树脂膜的成型加工性变得良好。

作为本发明的环烯烃系树脂的玻璃化转变温度(Tg)，通常为110℃以上，优选为110～350℃，进一步优选为120～250℃，特别优选为120～220℃。Tg为110℃以上时，抑制因高温条件下的使用或者涂敷、印刷等二次加工所致的变形，故优选。另外，若Tg为350℃以下，则抑制因成型加工、成型加工时的热所致的树脂劣化，故优选。

以上说明的环烯烃系树脂可以优选使用市售品，作为市售品的例子，由JSR株式会社以Arton G、Arton F、Arton R和Arton RX这样的商品名发售，可以使用这些市售品。

〔2〕二氧化硅粒子

对于本发明的光学膜，为了得到防止在对所制造的膜进行操作时受到损伤或输送性变差，并且在将光学膜用于偏振片的保护膜时降低了偏振片的冲裁时的裂缝、切屑的产生的光学膜，含有具有特定疏水化度的二氧化硅粒子。

本发明的二氧化硅粒子为如下二氧化硅粒子：对于利用甲醇湿润性法测得的疏水化度，使用甲醇和纯水以体积比计为3∶7的第1溶液时的该疏水化度为20％以下，使用甲醇和纯水以体积比计为6∶4的第2溶液时的该疏水化度为80％以上。疏水化度通过上述的MW法进行测定。

二氧化硅粒子为以二氧化硅为主成分的粒子。主成分是指含有构成粒子的成分的50％以上，优选是指70％以上，更优选是指80％以上，特别优选是指90％以上。

另外，若添加二氧化硅系的粒子且表面通过烷基化处理进行了疏水化处理的微粒，则对于溶剂的分散性良好，能够抑制异物的产生，故优选。

对二氧化硅粒子的上述疏水化处理优选为烷基化处理。经烷基化处理的微粒的表面具有烷基，其烷基的碳原子数优选为1～20的范围，更优选为碳原子数1～12的范围，特别优选为碳原子数1～8的范围。

对于上述二氧化硅粒子，表面具有碳原子数1～20的范围的烷基的微粒例如能够通过用辛基硅烷对上述的二氧化硅的粒子进行处理而得到。另外，作为表面具有辛基的微粒的一个例子，以Aerosil R805(日本Aerosil株式会社制)的商品名市售，优选使用。

二氧化硅粒子的一次粒子的平均粒径优选在5～400nm的范围内，进一步优选在10～300nm的范围内。

二氧化硅粒子的二次粒子的平均粒径优选在100～400nm的范围内，若一次粒子的平均粒径在100～400nm的范围内，则也优选不凝聚而以一次粒子的形式含有。

〈二氧化硅粒子的平均粒径的测定方法〉

对于光学膜中的二氧化硅粒子的粒径的测定，利用扫描型电子显微镜(SEM：Scanning Electron Microscope)以适当的倍率拍摄用切片机进行了断层切割的膜截面，测定断层切割照片中所含的100个粒子的粒径，求出平均值作为平均粒径。粒径在粒子的截面为圆形状时为其直径，圆形状以外的情况算出面积，采用将其换算为圆形状时的直径。

SEM：JSM－6060LA(JEOL：日本电子株式会社)

切片机：Leica制EM UC6

膜中的二氧化硅粒子的含量需要相对于膜的总质量含有0.1～2.5质量％，优选在0.5～2.0质量％的范围内，特别优选在1.0～2.0质量％的范围内时在显现本发明的效果方面优选。

二氧化硅粒子可以优选使用市售品，除上述Aerosil R805以外，例如以AerosilR972、R972V、R974、R976S、R812、R812S、RY300、300、R202、OX50、TT600(以上为日本Aerosil株式会社制)的商品名市售，能够使用。

这些市售品中，Aerosil R805、R812、R976S满足本发明的疏水化度，因此，能够提高操作时的处理性且保持光学膜的雾度较低，优选。

本发明的光学膜优选含有二氧化硅粒子，且至少一方面的动摩擦系数在0.2～1.0的范围内。动摩擦系数可以依据“JIS K7125塑料-膜和片材摩擦系数试验方法”进行测定。

关于本发明的二氧化硅粒子的添加方法，可以举出：以下的第1～第3方法，可以使用任一方法。

〔第1添加方法〕

将溶剂和粒子搅拌混合后，使用分散机进行分散，将其加入胶浆中进行搅拌，由此得到流延胶浆。

〔第2添加方法〕

将溶剂和粒子搅拌混合后，使用分散机进行分散，制作粒子分散液。接着，在溶剂中加入少量的树脂，使其搅拌溶解，在得到的溶液中加入上述粒子分散液进行搅拌后，将其加入原料胶浆液中进行充分混合，得到流延胶浆。

〔第3添加方法〕

在溶剂中加入少量的树脂，使其搅拌溶解后，加入粒子，使用分散机进行分散。将其加入胶浆中进行充分混合。

完成的流延胶浆中含有的二氧化硅粒子在胶浆的制备中使用再生膜时，可以为其中所含有的二氧化硅粒子，制造作为再生膜片的基础的膜时的流延胶浆优选为通过本发明得到的流延胶浆。

〔3〕受阻酚系化合物

酚系化合物为已知的化合物，例如记载于美国专利第4839405号说明书的第12～14栏，包含2,6－二烷基苯酚衍生物化合物。作为这样的化合物中优选的化合物，优选下述通式(A)所示的化合物。

通式(A)

式中，R₅₁～R₅₆表示氢原子或取代基。作为取代基，可以举出：卤素原子(例如，氟原子、氯原子等)、烷基(例如，甲基、乙基、异丙基、羟基乙基、甲氧基甲基、三氟甲基、叔丁基等)、环烷基(例如，环戊基、环己基等)、芳烷基(例如，苄基、2－苯乙基等)、芳基(例如，苯基、萘基、对甲苯基、对氯苯基等)、烷氧基(例如，甲氧基、乙氧基、异丙氧基、丁氧基等)、芳氧基(例如，苯氧基等)、氰基、酰基氨基(例如，乙酰基氨基、丙酰基氨基等)、烷硫基(例如，甲硫基、乙硫基、丁硫基等)、芳硫基(例如，苯硫基等)、磺酰基氨基(例如，甲磺酰基氨基、苯磺酰基氨基等)、脲基(例如，3－甲基脲基、3,3－二甲基脲基、1,3－二甲基脲基等)、氨磺酰基氨基(二甲基氨磺酰基氨基等)、氨甲酰基(例如，甲基氨甲酰基、乙基氨甲酰基、二甲基氨甲酰基等)、氨磺酰基(例如，乙基氨磺酰基、二甲基氨磺酰基等)、烷氧基羰基(例如，甲氧基羰基、乙氧基羰基等)、芳氧基羰基(例如，苯氧基羰基等)、磺酰基(例如，甲磺酰基、丁磺酰基、苯基磺酰基等)、酰基(例如，乙酰基、丙酰基、丁酰基等)、氨基(甲基氨基、乙基氨基、二甲基氨基等)、氰基、羟基、硝基、亚硝基、氧化胺基(例如，吡啶－氧化物基)、酰亚胺基(例如，邻苯二甲酰亚胺基等)、二硫醚基(例如，苯二硫醚基、苯并噻唑基－2－二硫醚基等)、羧基、磺基、杂环基(例如，吡咯基、吡咯烷基、吡唑基、咪唑基、吡啶基、苯并咪唑基、苯并噻唑基、苯并唑等)等。这些取代基可以进一步被取代。

另外，优选为R₅₁为氢原子、R₅₂、R₅₆为叔丁基的酚系化合物。

本发明的受阻酚系化合物没有特别限定，可以举出：以下的具体例。

作为该化合物的具体例，可以举出：3－(3,5－二叔丁基－4－羟基苯基)丙酸正十八烷基酯、3－(3,5－二叔丁基－4－羟基苯基)乙酸正十八烷基酯、3,5－二叔丁基－4－羟基苯甲酸正十八烷基酯、3,5－二叔丁基－4－羟基苯基苯甲酸正己酯、3,5－二叔丁基－4－羟基苯基苯甲酸正十二烷基酯、3－(3,5－二叔丁基－4－羟基苯基)丙酸新十二烷基酯、β(3,5－二叔丁基－4－羟基苯基)丙酸十二烷基酯、α－(4－羟基－3,5－二叔丁基苯基)异丁酸乙酯、α－(4－羟基－3,5－二叔丁基苯基)异丁酸十八烷基酯、α－(4－羟基－3,5－二叔丁基－4－羟基苯基)丙酸十八烷基酯、3,5－二叔丁基－4－羟基－苯甲酸2－(正辛硫基)乙酯、3,5－二叔丁基－4－羟基－苯基乙酸2－(正辛硫基)乙酯、3,5－二叔丁基－4－羟基苯基乙酸2－(正十八烷硫基)乙酯、3,5－二叔丁基－4－羟基－苯甲酸2－(正十八烷硫基)乙酯、3,5－二叔丁基－4－羟基苯甲酸2－(2－羟基乙硫基)乙酯、二乙二醇双(3,5－二叔丁基－4－羟基－苯基)丙酸酯、3－(3,5－二叔丁基－4－羟基苯基)丙酸2－(正十八烷硫基)乙酯、硬脂酰胺N,N－双[亚乙基3－(3,5－二叔丁基－4－羟基苯基)丙酸酯]、正丁基亚氨基N,N－双[亚乙基3－(3,5－二叔丁基－4－羟基苯基)丙酸酯]、3,5－二叔丁基－4－羟基苯甲酸2－(2－硬脂酰氧基乙硫基)乙酯、7－(3－甲基－5－叔丁基－4－羟基苯基)庚酸2－(2－硬脂酰氧基乙硫基)乙酯、1,2－丙二醇双[3－(3,5－二叔丁基－4－羟基苯基)丙酸酯]、乙二醇双[3－(3,5－二叔丁基－4－羟基苯基)丙酸酯]、新戊二醇双[3－(3,5－二叔丁基－4－羟基苯基)丙酸酯]、乙二醇双(3,5－二叔丁基－4－羟基苯基乙酸酯)、甘油－l－正十八酸酯－2,3－双(3,5－二叔丁基－4－羟基苯基乙酸酯)、季戊四醇－四[3－(3’,5’－二叔丁基－4’－羟基苯基)丙酸酯]、1,1,1－三羟甲基乙烷－三[3－(3,5－二叔丁基－4－羟基苯基)丙酸酯]、山梨糖醇六[3－(3,5－二叔丁基－4－羟基苯基)丙酸酯]、7－(3－甲基-5-叔丁基－4－羟基苯基)丙酸2-羟基乙酯、7－(3-甲基-5－叔丁基－4－羟基苯基)庚酸2－硬脂酰氧基乙酯、1,6－正己二醇－双[(3’,5’－二叔丁基－4－羟基苯基)丙酸酯]、季戊四醇四(3,5－二叔丁基－4－羟基氢化肉桂酸酯)等。

作为其中有用的受阻酚系抗氧化剂的具体例，示出下述的例示化合物，但并不限定于此。

另外，上述类型的酚系化合物例如由BASF日本株式会社以“Irganox1035”、“Irganox 1076”和“Irganox 1010”这样的商品名市售。

上述酚系化合物相对于环烯烃系树脂100质量份的添加量可以适当设计，但优选为0.1～1.0质量份的范围，更优选为0.3～0.5质量份的范围。

〔4〕其它添加剂

〔4.1〕增塑剂

所谓增塑剂，增塑剂的例子包含聚酯化合物、多元醇酯化合物、多元羧酸酯化合物(包含邻苯二甲酸酯化合物)、乙醇酸酯化合物和酯化合物(包含脂肪酸酯化合物、磷酸酯化合物等)。这些可以单独使用，也可以组合使用2种以上。

本发明的光学膜中优选的增塑剂为含有使二羧酸与二醇反应而得到的重复单元的聚酯化合物。

构成聚酯化合物的二羧酸为芳香族二羧酸、脂肪族二羧酸或脂环式二羧酸，优选为芳香族二羧酸。二羧酸可以为1种，也可以为2种以上的混合物。

构成聚酯化合物的二醇为芳香族二醇、脂肪族二醇或脂环式二醇，优选为脂肪族二醇，更优选为碳原子数1～4的二醇。二醇可以为1种，也可以为2种以上的混合物。

其中，聚酯化合物优选使至少含有芳香族二羧酸的二羧酸与碳原子数1～4的二醇反应而得到的重复单元，更优选含有使含有芳香族二羧酸和脂肪族二羧酸的二羧酸与碳原子数1～4的二醇反应而得到的重复单元。

聚酯化合物的分子的两末端可以进行封端，也可以不进行封端，但从降低膜的透湿性的观点考虑，优选进行封端。

另外，多元醇酯化合物为2元以上的脂肪族多元醇和单羧酸的酯化合物(醇酯)，优选为2～20元的脂肪族多元醇酯。多元醇酯化合物优选在分子内具有芳香环或环烷基环。

脂肪族多元醇的优选的例子包含乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、四乙二醇、1,2－丙二醇、1,3－丙二醇、二丙二醇、三丙二醇、1,2－丁二醇、1,3－丁二醇、1,4－丁二醇、二丁二醇、1,2,4－丁三醇、1,5－戊二醇、1,6-己二醇、己三醇、三羟甲基丙烷、季戊四醇、三羟甲基乙烷、木糖醇等。其中，优选三乙二醇、四乙二醇、二丙二醇、三丙二醇、山梨糖醇、三羟甲基丙烷、木糖醇等。

单羧酸没有特别限制，可以为脂肪族单羧酸、脂环式单羧酸或芳香族单羧酸等。为了提高膜的透湿性，且不易挥发，优选脂环式单羧酸或芳香族单羧酸。单羧酸可以为1种，也可以为2种以上的混合物。另外，可以将脂肪族多元醇中所含的OH基全部酯化，也可以使一部分以OH基的状态残留。

脂肪族单羧酸优选为碳原子数1～32的直链或具有侧链的脂肪酸。脂肪族单羧酸的碳原子数更优选为1～20，进一步优选为1～10。脂肪族单羧酸的例子包含乙酸、丙酸、丁酸、戊酸、已酸、庚酸、辛酸、壬酸、癸酸、2－乙基－己酸、十一烷酸、月桂酸、十三烷酸、肉豆蔻酸、十五烷酸、棕榈酸、十七烷酸、硬脂酸、十九烷酸、花生酸、山萮酸、二十四烷酸、二十六烷酸、二十七烷酸、褐煤酸、三十烷酸、三十二烷酸等饱和脂肪酸、十一碳烯酸、油酸、山梨酸、亚油酸、亚麻酸、花生四烯酸等不饱和脂肪酸等。其中，为了提高与纤维素乙酸酯的相容性，优选乙酸、或乙酸和其它单羧酸的混合物。

脂环式单羧酸的例子包含环戊烷羧酸、环己烷羧酸、环辛烷羧酸等。

芳香族单羧酸的例子包含：苯甲酸；在苯甲酸的苯环上导入了1～3个烷基或烷氧基(例如，甲氧基、乙氧基)的羧酸(例如，甲苯酸等)；具有2个以上苯环的芳香族单羧酸(例如，联苯羧酸、萘羧酸、四氢萘羧酸等)，优选为苯甲酸。

多元醇酯化合物的具体例可以举出：日本特开2006-113239号公报第〔0058〕～〔0061〕段中记载的化合物。

多元羧酸酯化合物为2元以上、优选2～20元的多元羧酸和醇化合物的酯化合物。多元羧酸优选为2～20元的脂肪族多元羧酸或3～20元的芳香族多元羧酸或3～20元的脂环式多元羧酸。

多元羧酸酯化合物的例子包含柠檬酸三乙酯、柠檬酸三丁酯、柠檬酸乙酰基三乙酯(ATEC)、柠檬酸乙酰基三丁酯(ATBC)、柠檬酸苯甲酰基三丁酯、柠檬酸乙酰基三苯酯、柠檬酸乙酰基三苄酯、酒石酸二丁酯、酒石酸二乙酰基二丁酯、偏苯三酸三丁酯、均苯四酸四丁酯等。

乙醇酸酯化合物的例子包含烷基邻苯二甲酰基烷基乙醇酸酯类。烷基邻苯二甲酰基烷基乙醇酸酯类的例子包含甲基邻苯二甲酰基甲基乙醇酸酯、乙基邻苯二甲酰基乙基乙醇酸酯、丙基邻苯二甲酰基丙基乙醇酸酯、丁基邻苯二甲酰基丁基乙醇酸酯、辛基邻苯二甲酰基辛基乙醇酸酯、甲基邻苯二甲酰基乙基乙醇酸酯、乙基邻苯二甲酰基甲基乙醇酸酯、乙基邻苯二甲酰基丙基乙醇酸酯、甲基邻苯二甲酰基丁基乙醇酸酯、乙基邻苯二甲酰基丁基乙醇酸酯、丁基邻苯二甲酰基甲基乙醇酸酯、丁基邻苯二甲酰基乙基乙醇酸酯、丙基邻苯二甲酰基丁基乙醇酸酯、丁基邻苯二甲酰基丙基乙醇酸酯、甲基邻苯二甲酰基辛基乙醇酸酯、乙基邻苯二甲酰基辛基乙醇酸酯、辛基邻苯二甲酰基甲基乙醇酸酯、辛基邻苯二甲酰基乙基乙醇酸酯等，优选为乙基邻苯二甲酰基乙基乙醇酸酯。

酯化合物包含脂肪酸酯化合物、柠檬酸酯化合物、磷酸酯化合物等。

脂肪酸酯化合物的例子包含油酸丁酯、蓖麻油酸甲基乙酰基酯和癸二酸二丁酯等。柠檬酸酯化合物的例子包含柠檬酸乙酰基三甲酯、柠檬酸乙酰基三乙酯和柠檬酸乙酰基三丁酯等。磷酸酯化合物的例子包含磷酸三苯酯、磷酸三甲苯酯、磷酸甲苯基二苯酯、磷酸辛基二苯酯、磷酸联苯基二苯酯、磷酸三辛酯和磷酸三丁酯等，优选为磷酸三苯酯。

其中，优选聚酯化合物、乙醇酸酯化合物、磷酸酯化合物，特别优选聚酯化合物。

增塑剂的含量相对于环烯烃系树脂100质量份优选为1～20质量％的范围，更优选为1.5～15质量％的范围。若增塑剂的含量在上述范围内，则能够显现增塑性的赋予效果，从光学膜的增塑剂的耐渗出性也优异。

〔4.2〕相位差上升剂

为了调整相位差，本发明的光学膜可以含有相位差上升剂。

本申请中所谓的相位差上升剂是指具有相对于环烯烃系树脂100质量份含有3质量份该化合物的光学膜的厚度方向的相位差值Rt(光波长590nm测定)与未添加的光学膜相比显示1.1倍以上的值的功能的化合物。

本发明中所使用的相位差上升剂没有特别限制，例如可以使用以往已知的日本特开2006－113239号公报第〔0143〕～〔0179〕段中记载的具有芳香族环的圆盘状化合物(1,3,5－三嗪系化合物等)、日本特开2006－113239号公报第〔0106〕～〔0112〕段中记载的棒状化合物、日本特开2012－214682号公报第〔0118〕～〔0133〕段中记载的嘧啶系化合物等。

〔4.3〕紫外线吸收剂

为了屏蔽照射于偏振片、液晶显示装置的不需要的紫外线，本发明的光学膜优选含有紫外线吸收剂。

作为紫外线吸收剂，例如可以举出：氧二苯甲酮系化合物、苯并三唑系化合物、水杨酸酯系化合物、二苯甲酮系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物、镍络盐系化合物等，但优选着色少的苯并三唑系化合物。另外，也优选使用日本特开平10－182621号公报、日本特开平8－337574号公报中记载的紫外线吸收剂、日本特开平6－148430号公报中记载的高分子紫外线吸收剂。

除光学补偿膜，使用本发明的光学膜作为偏振片的保护膜时，作为紫外线吸收剂，从防止起偏器、液晶的劣化的观点考虑，波长370nm以下的紫外线的吸收性能优异，且从液晶的显示性的观点考虑，优选具备波长400nm以上的可见光的吸收少的特性。

紫外线吸收剂的添加量优选相对于高分子组合物在0.1～5.0质量％的范围内，进一步优选在0.5～5.0质量％的范围内。

作为本发明中有用的苯并三唑系紫外线吸收剂，例如可以举出：2－(2’－羟基－5’－甲基苯基)苯并三唑、2－(2’－羟基－3’,5’－二叔丁基苯基)苯并三唑、2－(2’－羟基－3’－叔丁基－5’－甲基苯基)苯并三唑、2－(2’－羟基－3’,5’－二叔丁基苯基)－5－氯苯并三唑、2－[2’－羟基－3’－(3”,4”,5”,6”－四氢邻苯二甲酰亚胺甲基)－5’－甲基苯基]苯并三唑、2,2－亚甲基双[4－(1,1,3,3－四甲基丁基)－6－(2H－苯并三唑－2－基)苯酚]、2－(2’－羟基－3’－叔丁基－5’－甲基苯基)－5－氯苯并三唑、2－(2H－苯并三唑－2－基)－6－(直链和侧链十二烷基)－4－甲基苯酚、辛基－3－[3－叔丁基－4－羟基－5－(氯－2H－苯并三唑－2－基)苯基]丙酸酯和2－乙基己基－3－[3－叔丁基－4－羟基－5－(5－氯－2H－苯并三唑－2－基)苯基]丙酸酯的混合物等，但并不限定于这些。

另外，作为市售品，可以优选使用“TINUVIN 109”、“TINUVIN 171”、“TINUVIN326”、“TINUVIN 328”(以上为商品名，BASF日本公司制)。

〔5〕光学膜的制造方法

本发明的光学膜的制造方法可以采用溶液流延制膜法或熔融流延制膜法，但优选通过溶液流延制膜法进行制造。

本发明的光学膜优选通过溶液流延制膜法进行制膜，且在溶解温度15～50℃的范围内制备含有上述具有至少一个氢键接受基团的环烯烃系树脂、上述满足疏水化度的二氧化硅粒子、上述受阻酚系化合物和包含醇系溶剂的有机溶剂的胶浆。

若溶解温度为15℃以上，则能够充分地溶解树脂、添加剂，因此，得到异物少的膜。另外，若为50℃以下，则从能够抑制因醇和受阻酚化合物的反应所致的胶浆和的得到的膜的着色的观点考虑优选，即使添加与醇亲和性良好的二氧化硅粒子，也具有抑制着色的效果。

本发明的光学膜优选通过如下工序制造：制备含有至少含有环烯烃系树脂、二氧化硅粒子、受阻酚系化合物和包含醇系溶剂的有机溶剂的胶浆的工序(胶浆制备工序)；将上述胶浆流延在支承体上形成基膜(ウェブ)(也称为流延膜)的工序(流延工序)；在支承体上使溶剂从基膜中蒸发的工序(溶剂蒸发工序)；将基膜从支承体上剥离的工序(剥离工序)；使得到的膜干燥的工序(预干燥工序)；将膜拉伸的工序(拉伸工序)；使拉伸后的膜进一步干燥的工序(干燥工序)；将得到的光学膜卷取的工序(卷取工序)。

通过附图对以上的工序进行说明。

图1是示意性地表示本发明中优选的溶液流延制膜法的胶浆制备工序、流延工序、干燥工序和卷取工序的一个例子的图。

通过分散机使溶剂和本发明的二氧化硅粒子分散的微粒分散液从进料釜41经过过滤器44储备于储备釜42。另一方面，作为主胶浆的环烯烃系树脂与溶剂一起在溶解釜1中溶解，适当添加保管于储备釜42的微粒分散液进行混合，形成主胶浆。得到的主胶浆通过过滤器3、从储备釜4通过过滤器6过滤，通过合流管20添加添加剂，用混合机21进行混合，送液至加压模头30。

另一方面，添加剂(本发明的受阻酚系化合物、紫外线吸收剂、相位差上升剂等)溶解于溶剂，从添加剂进料釜10经过过滤器12储备于储备釜13。然后，穿过过滤器15经由导管16通过合流管20、混合机21与主胶浆混合。

送液至加压模头30的主胶浆流延在金属带状的支承体31上形成基膜32，在规定的干燥后剥离位置33剥离，得到膜。所剥离的基膜32一边穿过多个输送辊一边进行干燥直至达到规定的残留溶剂量后，通过拉伸装置34沿长边方向或宽边方向进行拉伸。拉伸后，一边穿过输送辊36一边通过干燥装置35进行干燥直至达到规定的残留溶剂量后，通过卷取装置37卷取成卷状。

以下，对各工序进行说明。

(1)胶浆制备工序

胶浆制备工序是在以对环烯烃系树脂的良溶剂为主的有机溶剂中在溶解釜中将该环烯烃系树脂和受阻酚系化合物、根据情况的相位差上升剂、二氧化硅粒子或其它化合物一边搅拌一边溶解而制备胶浆的工序；或者在该环烯烃系树脂溶液中混合上述受阻酚系化合物、根据需要的相位差上升剂、二氧化硅粒子或其它化合物溶液而制备作为主溶解液的胶浆的工序。

通过溶液流延法制造本发明的光学膜时，对于形成胶浆有用的有机溶剂优选为同时溶解环烯烃系树脂、受阻酚系化合物或相位差上升剂和其它化合物的有机溶剂。

作为使用的有机溶剂，优选使用以下的溶剂。

作为溶液流延法中所使用的溶剂，例如可以举出：氯仿、二氯甲烷等氯系溶剂；甲苯、二甲苯、苯和它们的混合溶剂等芳香族系溶剂；甲醇、乙醇、异丙醇、正丁醇、2－丁醇等醇系溶剂；甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丁基溶纤剂、二甲基甲酰胺、二甲基亚砜、二烷、环己酮、四氢呋喃、丙酮、甲基乙基酮(MEK)、乙酸乙酯、乙醚等。这些溶剂可以仅使用1种，也可以并用2种以上。

本发明的溶剂为良溶剂和不良溶剂的混合溶剂时，对于该良溶剂，例如，作为氯系有机溶剂，可以举出：二氯甲烷，作为非氯系有机溶剂，可以举出：乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸戊酯、丙酮、甲基乙基酮、四氢呋喃、1,3－二氧戊环、1,4－二烷、环己酮、甲酸乙酯、2,2,2－三氟乙醇、2,2,3,3－六氟－1－丙醇、1,3－二氟－2－丙醇、1,1,1,3,3,3－六氟－2－甲基-2-丙醇、1,1,1,3,3,3－六氟－2－丙醇、2,2,3,3,3－五氟－1－丙醇、硝基乙烷、甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、仲丁醇、叔丁醇等，其中，优选为二氯甲烷。

不良溶剂为本发明的醇系溶剂，在显现本发明的效果方面需要在光学膜中含有10～1000ppm。

本发明的光学膜中所含有的上述醇系溶剂的含量是指所谓残留溶剂量，即在膜制造后含有在膜中的含量。该溶剂量可以通过后述的顶空气相色谱法进行定量，其测定是指在从膜制造后至膜加工前为止的期间进行测定时的值。通常，膜在制造并卷取后被保护片等包住，在准密闭状态下保管，由于直至加工为止为该状态，因此，残留溶剂量的变动小。因此，残留溶剂量的测定可以通过在从膜制造后至膜加工前为止的期间进行测定时的值判断是否为本申请发明的构成。

残留溶剂量的控制可以通过溶剂的构成比率、制膜中的干燥温度、干燥时间等干燥条件、膜厚等来进行。

本发明的光学膜中所含有的醇系溶剂的含量优选在10～500ppm的范围内，更优选为20～200ppm的范围。10ppm以上时，显现本发明的效果，另外，溶液流延制膜中的从金属支承体的剥离性也提高。1000ppm以下时，从雾度和环境安全性的观点考虑优选。

从本发明的效果以及改善剥离性、能够高速流延的观点考虑，本发明的醇系溶剂优选选自甲醇、乙醇和丁醇。其中，从上述观点考虑，优选乙醇。

在本发明中，若为混合溶剂，则优选相对于溶剂总量使用55质量％以上的上述良溶剂，更优选使用70质量％以上，进一步优选使用80质量％以上。

另外，从提高生产率的观点考虑，本发明的光学膜更优选组合使用具有羟基的醇系溶剂和水，优选在上述胶浆中加入水且在膜中以残留溶剂量计在50～500ppm的范围内含有水。

水由于在一分子中具有多个氢键供给基团，因此，可以为了提高膜的强度而优选使用。水优选相对于总溶剂量含有0.1～1质量％。

若为0.1质量％以上，则容易与其它醇系溶剂、含有氢键接受基团的环烯烃系树脂、二氧化硅粒子相互作用，故优选，若为1质量％以内，则可以抑制疏水性强的环烯烃系树脂的凝胶化，抑制异物的产生。

＜残留溶剂量＞

作为溶剂成分，使用的上述醇和水的残留量通过以下的测定方法进行。

将切成一定形状的光学膜放入20mL的密闭玻璃容器，在120℃下进行20分钟处理后，通过气相色谱法(设备：HP公司5890SERIES II、柱：J&W公司DB－WAX(内径0.32mm、长度30m)、检测：FID)将GC升温条件在40℃下保持5分钟后，以80℃/分钟升温至100℃而求得。

环烯烃系树脂和受阻酚系化合物、根据情况的相位差上升剂、其它化合物的溶解可以使用在常压下进行的方法、在主溶剂的沸点以下进行的方法、在主溶剂的沸点以上进行加压而进行的方法、如日本特开平9－95544号公报、日本特开平9－95557号公报或日本特开平9－95538号公报中记载那样的通过冷却溶解法进行的方法、日本特开平11－21379号公报中所记载的在高压下进行的方法等各种溶解方法，但从溶解性的观点考虑，优选在0.8～4MPa的范围进行。

胶浆中的环烯烃系树脂的浓度优选为10～40质量％的范围。在溶解中或后的胶浆中加入化合物溶解和分散后，用过滤材料进行过滤，脱泡，用送液泵送至下一工序。

关于胶浆的过滤，优选利用具备叶盘式过滤器的主要过滤器3将胶浆用例如90％捕集粒径为微粒的平均粒径的10倍～100倍的过过滤材料料进行过滤。

在本发明中，用于过滤的过滤材料的绝对过滤精度越小越优选，但若绝对过滤精度过小，则存在容易产生过过滤材料料的堵塞，必须频繁地进行过滤材料的更换，使生产率降低这样的问题。

因此，在本发明中，用于含有环烯烃系树脂的胶浆的过滤材料优选绝对过滤精度0.008mm以下的过滤材料，更优选0.001～0.008mm的范围的过滤材料，进一步优选0.003～0.006mm的范围的过滤材料。

过滤材料的材质没有特别限制，可以使用通常的过滤材料，但聚丙烯、特氟隆(注册商标)等塑料纤维制的过滤材料、不锈钢纤维等金属制的过滤材料没有纤维的脱落等，优选。

在本发明中，过滤时的胶浆的流量为10～80kg/(h·m²)，优选为20～60kg/(h·m²)。在此，若过滤时的胶浆的流量为10kg/(h·m²)以上，则成为有效率的生产率，若过滤时的胶浆的流量为80kg/(h·m²)以内，则施加于过滤材料的压力变得适当，不使过滤材料破损，优选。

滤压优选为3500kPa以下，更优选3000kPa以下，进一步优选为2500kPa以下。需要说明的是，滤压可以通过适当选择过滤流量和过滤面积来控制。

在许多情况下，有时在主胶浆中含有10～50质量％左右的回收材料。

回收材料使用例如将光学膜较细地粉碎后的物质、在将光学膜制膜时产生的、切掉膜的两侧部分的物质、由于擦伤等而超出膜的规定值的光学膜原始膜(原反)。

另外，作为胶浆制备中所使用的树脂的原料，也可以优选使用预先将环烯烃系树脂和其它化合物等颗粒化而成的物质。

(2)流延工序

(2.1)胶浆的流延

流延工序是将胶浆经过送液泵(例如，加压型定量齿轮泵)送液至加压模头30，从加压模头狭缝向无限地移送的环状的金属支承体31、例如不锈钢带或旋转的金属滚筒等金属支承体上的流延位置流延胶浆的工序。

流延(浇铸)工序中的金属支承体优选对表面进行镜面精加工，作为金属支承体，优选使用不锈钢带或者用铸件对表面进行了镀敷精加工的滚筒。浇铸的宽度可以为1～4m的范围，优选可以为1.3～3m的范围，进一步优选可以为1.5～2.8m的范围。流延工序的金属支承体的表面温度设定为－50℃～溶剂不会沸腾而发泡的温度以下，进一步优选设定为－30～0℃的范围。温度越高越能够加快基膜(将在流延用金属支承体上流延胶浆而形成的胶浆膜称为基膜)的干燥速度，故优选，但若过高，则有时基膜发泡或平面性劣化。作为优选的支承体温度，在0～100℃适当决定，进一步优选5～30℃的范围。或者，在通过冷却使基膜凝胶化且含有大量残留溶剂的状态下从滚筒剥离也是优选的方法。

控制金属支承体的温度的方法没有特别限制，有吹暖风或冷风的方法、使温水与金属支承体的背侧接触的方法。使用温水的方有效地进行热的传递，因此，金属支承体的温度达到一定为止的时间短，优选。使用暖风时，考虑到因溶剂的蒸发潜热而导致基膜的温度降低，有时使用溶剂的沸点以上的暖风、并且在防止发泡的同时温度比目标温度高的风。特别优选在从流延至剥离为止的期间变更支承体的温度和干燥风的温度，有效地进行干燥。

模头优选可以调整模头的口模部分的狭缝形状、容易使膜厚均匀的加压模头。加压模头有衣架型模头、T型模头等，均优选使用。金属支承体的表面成为镜面。为了提高制膜速度，可以在金属支承体上设置2个以上的加压模头，将胶浆量分开进行层叠。

(2.2)溶剂蒸发工序

溶剂蒸发工序是将基膜在流延用金属支承体上加热，使溶剂蒸发的工序，是控制后述的剥离时的残留溶剂量的工序。

使溶剂蒸发有如下方法：从基膜侧吹风的方法或从支承体的背面通过液体进行传热的方法、通过辐射热从表背面进行传热的方法等，背面液体传热方法的干燥效率良好，优选。另外，也优选使用将它们组合的方法。优选使流延后的支承体上的基膜在30～100℃的气氛下在支承体上干燥。为了维持在30～100℃的气氛下，优选使该温度的暖风接触基膜上表面或者通过红外线等手段进行加热。

从面品质、透湿性、剥离性的观点考虑，优选在30～180秒以内将该基膜从支承体上剥离。

(2.3)剥离工序

剥离工序是将在金属支承体上溶剂蒸发了的基膜在剥离位置剥离的工序。所剥离的基膜作为膜送至下一工序。

金属支承体上的剥离位置中的温度优选为10～40℃的范围，进一步优选为11～30℃的范围。

在本发明中，通过上述溶剂蒸发工序使基膜中的溶剂蒸发，但进行剥离时的金属支承体上的基膜的残留溶剂量优选在15～100质量％的范围内。残留溶剂量的控制优选上述溶剂蒸发工序中的干燥温度和干燥时间来进行。

若上述残留溶剂量为15质量％以上，则在支承体上的干燥过程中，二氧化硅粒子在厚度方向不具有分布，成为在膜中均匀地分散的状态，故优选。

另外，若上述残留溶剂量为100质量％以内，则膜具有自支承性，能够避免膜的剥离不良，也能够保持基膜的机械强度，因此，剥离时的平面性提高，能够抑制因剥离张力引起的表面凹凸不平(ツレ)、纵条纹的产生。

基膜或膜的残留溶剂量由下述式(Z)定义。

式(Z)

残留溶剂量(％)＝(基膜或膜的加热处理前质量－基膜或膜的加热处理后质量)/(基膜或膜的加热处理后质量)×100

需要说明的是，测定残留溶剂量时的加热处理表示在115℃下进行1小时的加热处理。

从金属支承体上将基膜剥离制成膜时的剥离张力通常在196～245N/m的范围内，但在剥离时容易产生褶皱时，优选以190N/m以下的张力进行剥离。

在本发明中，优选使该金属支承体上的剥离位置的温度在－50～40℃的范围内，更优选在10～40℃的范围内，最优选在15～30℃的范围内。

(3)干燥和拉伸工序

干燥工序也可以分成预干燥工序、正式干燥工序来进行。

(3.1)预干燥工序

从金属支承体上剥离基膜而得到的膜进行预干燥。膜的预干燥可以一边将膜利用上下配置的多个辊输送一边使其干燥，也可以如拉幅干燥机那样一边将膜的两端部用夹具固定并输送一边进行干燥。

使基膜干燥的方法没有特别限制，一般而言，可以利用热风、红外线、加热辊、微波等进行，但从简便性的方面考虑，优选利用热风进行。

基膜的预干燥工序中的干燥温度优选为膜的玻璃化转变点－5℃以下，有效的是在30℃以上的温度下进行1分钟以上且30分钟以下的热处理。在干燥温度40～150℃的范围内、进一步优选在50～100℃的范围内进行干燥。

(3.2)拉伸工序

本发明的光学膜通过利用拉伸装置34在残留溶剂量下进行拉伸处理，使二氧化硅粒子均匀地分散于膜中的树脂，或使膜的平面性提高，通过控制膜内的分子的取向，能够得到期望的相位差值Ro和Rt。

本发明的光学膜的制造方法优选在将该膜拉伸的工序中使拉伸开始时的残留溶剂量为1质量％以上且小于15质量％。更优选在2～10质量％的范围内，若为上述残留溶剂量的范围，则能够避免在拉伸时对膜施加不均匀的应力。

本发明的光学膜优选沿长边方向(MD方向，也称为流延方向)和/或宽边方向(也称为TD方向)和/或倾斜方向拉伸，优选至少利用拉伸装置沿宽边方向拉伸而制造。

拉伸操作可以分成多个阶段进行实施。另外，进行双轴拉伸时，可以进行同时双轴拉伸，也可以阶段性地进行拉伸。此时，所谓阶段性，例如可以依次进行拉伸方向不同的拉伸，也可以将同一方向的拉伸分成多个阶段、且在其任一阶段施加不同方向的拉伸。

即，例如也可以为如下所述的拉伸步骤：

·沿长边方向拉伸→沿宽边方向拉伸→沿长边方向拉伸→沿长边方向拉伸

·沿宽边方向拉伸→沿宽边方向拉伸→沿长边方向拉伸→沿长边方向拉伸

·沿宽边方向拉伸→沿倾斜方向拉伸

另外，同时双轴拉伸也包含沿一个方向拉伸，使另一方松弛张力而收缩的情况。

本发明的光学膜优选以拉伸后的膜厚为期望的范围的方式沿长边方向和/或宽边方向、优选沿宽边方向，在将膜的玻璃化转变温度设为Tg时，以(Tg+5)～(Tg+50)℃的温度范围进行拉伸。若以上述温度范围进行拉伸，则容易调整相位差，另外，能够降低拉伸应力，因此，雾度变低。另外，抑制断裂的产生，得到平面性、膜自身的着色性优异的光学膜。优选在拉伸温度为(Tg+10)～(Tg+40)℃的范围进行。

需要说明的是，在此所谓的玻璃化转变温度Tg是指使用市售的差示扫描热量测定器以升温速度20℃/分钟进行测定，依照JIS K7121(1987)求得的中间点玻璃化转变温度(Tmg)。具体的光学膜的玻璃化转变温度Tg的测定方法依照JIS K7121(1987)使用SeikoInstruments株式会社制的差示扫描热量计DSC220进行测定。

本发明的光学膜优选将膜至少沿宽边方向以相对于原宽度为5～40％的范围内的拉伸率进行拉伸，进而，更优选在膜的长边方向和宽边方向分别以5～40％的范围内的拉伸率进行拉伸。特别是对该拉伸率的范围而言，进一步优选在相对于原宽度为10～30％的范围内进行拉伸。若在上述范围内，则特别是在含有相位差上升剂时，不仅得到期望的相位差值，而且能够将膜薄膜化。本发明中所谓的拉伸率是指拉伸后的膜的长边或宽度的长度相对于拉伸前的膜的长边或宽边的长度的比率(％)。

沿长边方向拉伸的方法没有特别限定。例如可以举出：对多个辊赋予圆周速度差，在其间利用辊圆周速度差沿纵向进行拉伸的方法；将基膜的两端用夹具、针固定，将夹具、针的间隔沿行进方向扩展，沿纵向进行拉伸的方法；或者纵横同时扩展，沿纵横两方向进行拉伸的方法等。当然，这些等方法可以组合使用。

沿宽边方向进行拉伸例如使用日本特开昭62－46625号公报所示那样的在干燥总工序或一部分工序中一边沿宽度方向用夹具或针对基膜的宽度两端进行宽度保持一边使其干燥的方法(称为拉幅机方式)，其中，优选利用使用夹具的拉幅机方式、使用针的针板拉幅机方式。

向宽边方向拉伸时，从提高膜的平面性的观点考虑，优选沿膜宽边方向以250～500％/min的拉伸速度进行拉伸。

若拉伸速度为250％/min以上，则平面性提高，另外，能够对膜进行高速处理，因此，从生产适应性的观点考虑，优选，若为500％/min以内，则膜能够不断裂地进行处理，优选。

优选的拉伸速度在300～400％/min的范围内，在低倍率的拉伸时有效。拉伸速度通过下述式1定义。

式1拉伸速度(％/min)＝[(d₁/d₂)－1]×100(％)/t

(式1中，d₁为拉伸后的本发明的光学膜的上述拉伸方向的宽度尺寸，d₂为拉伸前的光学膜的上述拉伸方向的宽度尺寸，t为拉伸所需要的时间(min)。)

本发明的光学膜可以通过拉伸来赋予期望的相位差值。

从在作为偏振片保护膜使用时，能够提供轻量且薄膜的偏振片，另外，能够赋予最适合作为IPS模式型液晶显示装置用的偏振片的相位差的观点考虑，优选本发明的光学膜的膜厚为5μm≤d≤40μm，测定波长590nm的面内相位差Ro和厚度方向的相位差Rt分别为Ro≤5nm、－15nm≤Rt≤15nm。

面内相位差值Ro和厚度方向的相位差值Rt可以使用自动双折射率计AxoScan(AxoScan Mueller Matrix Polarimeter：Axo Metrics公司制)在23℃·55％RH的环境下以590nm的波长进行三维折射率测定，由得到的折射率nx、ny、nz算出。

式(i)：Ro＝(n_x－n_y)×d(nm)

式(ii)：Rt＝{(n_x+n_y)/2－n_z}×d(nm)

〔式(i)和式(ii)中，n_x表示在膜的面内方向折射率达到最大的方向x的折射率。n_y表示在膜的面内方向与上述方向x正交的方向y的折射率。n_z表示膜的厚度方向z的折射率。d表示膜的厚度(nm)。〕

在拉伸工序中，通常在拉伸后进行保持·松弛。即，本工序优选依次进行将膜拉伸的拉伸阶段、将膜在拉伸状态下保持的保持阶段和将膜沿拉伸的方向松弛的松弛阶段。在保持阶段中，在拉伸阶段的拉伸温度下保持通过拉伸阶段实现的拉伸率的拉伸。在松弛阶段中，在保持阶段保持拉伸阶段的拉伸后，解除用于拉伸的张力，由此将拉伸松弛。松弛阶段只要在拉伸阶段的拉伸温度以下进行即可。

(3.3)干燥工序

在干燥工序中，通过干燥装置35对拉伸后的膜进行加热使其干燥。

为了调整光学膜中含有的有机溶剂量，优选适当调整干燥工序的条件来进行。

通过热风等对膜进行加热时，也优选使用设置能够排出使用完的热风(含有溶剂的空气、潮湿空气(濡れ込みエアー))的喷嘴来防止使用完的热风的混入的方法。热风温度更优选40～350℃的范围。另外，干燥时间优选5秒～60分钟左右，更优选10秒～30分钟。

另外，加热干燥方法并不限定于热风，例如可以使用红外线、加热辊、微波等。从简便性的观点考虑，优选一边用交错状(千鳥状)地配置的输送辊36输送膜一边用热风等进行干燥。考虑到残留溶剂量、输送中的伸缩率等，干燥温度更优选40～350℃的范围。

在干燥工序中，优选对膜进行干燥直至残留溶剂量通常达到0.5质量％以下为止。

(4)卷取工序

(4.1)滚花加工

在规定的热处理或冷却处理的后，在卷取前设置分切机来切掉端部得到良好的卷绕形态，故优选。进而，优选对宽边两端部进行滚花加工。

滚花加工可以通过将经加热的压花辊压入膜宽边端部来进行。压花辊上形成有细小的凹凸，通过将其压入来在膜上形成凹凸，能够使端部体积变大。

本发明的光学膜的宽边两端部的滚花的高度优选4～20μm的范围，宽度优选5～20mm的范围。

(4.2)

作为得到良好的卷绕形态的其它方法，可以在卷取前，出于防止膜彼此的粘连的目的，重叠掩蔽膜(也称为保护膜)同时卷绕，也可以一边在拉伸膜的至少一端、优选两端粘贴胶带等一边进行卷取。作为掩蔽膜，只要能够保护上述膜就没有特别限制，例如可以举出：聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、聚乙烯膜、聚丙烯膜等。

另外，在本发明中，上述的滚花加工优选在膜的制膜工序中设置于干燥结束后且卷取之前。

(4.3)卷取工序

卷取工序是膜中的残留溶剂量成为2质量％以下后作为膜卷取的工序，通过使残留溶剂量优选为1质量％以下，能够得到尺寸稳定性良好的膜。

卷取方法只要使用通常所使用的卷取方法即可，有恒转矩法、恒张力法、锥度张力法、内部应力恒定的程序张力控制法等，只要区分使用这些方法即可。

〔6〕光学膜的物性

〈雾度〉

本发明的光学膜优选雾度小于1％，更优选小于0.5％。通过使雾度小于1％，存在膜的透明性变得更高、作为光学用途的膜更容易使用这样的优点。本发明的光学膜由于分散有具有均匀的粒径的二氧化硅粒子，因此，因粒子引起的光散射的程度低，透明性优异。

雾度值的测定在23℃·50％RH的环境下利用雾度计(日本电色工业公司制，NDH2000)在膜的宽边方向以等间隔进行10点的测定，求出其平均值作为雾度。

〈平衡含水率〉

本发明的光学膜优选25℃、相对湿度60％下的平衡含水率为4％以下，更优选为3％以下。通过使平衡含水率为4％以下，容易应对湿度变化，光学特性、尺寸更不易变化，优选。

对平衡含水率而言，将试样膜在调湿为23℃·20％RH的房间放置4小时以上后，在调湿为23℃·80％RH的房间放置24小时，将样品使用微量水分计(例如，MitsubishiChemical Analytech株式会社制，CA－20型)在温度150℃下使水分干燥·气化后，通过卡尔费休法进行定量。

〈膜长、宽度、膜厚〉

本发明的光学膜优选为长条，具体而言，优选为100～10000m左右的长度，卷取成卷状。另外，本发明的光学膜的宽度优选为1m以上，进一步优选为1.3m以上，特别优选为1.3～4m。

从显示装置的薄型化、生产率的观点考虑，拉伸后的膜的膜厚优选在5～40μm的范围内。若膜厚为5μm以上，则能够显现一定以上的膜强度、相位差。若膜厚为40μm以下，则具有期望的相位差，且能够应用于偏振片和显示装置的薄型化。优选膜的膜厚在10～30μm的范围内。

〔7〕光学膜的应用

本发明的光学膜优选为用于液晶显示装置、有机EL显示装置等各种显示装置、触摸面板的功能膜。具体而言，本发明的光学膜可以为液晶显示装置或有机EL显示装置用的偏振片保护膜、相位差膜、防反射膜、亮度提高膜、硬涂膜、防眩膜、防静电膜、视场角扩大膜等光学补偿膜等。典型的是本发明的光学膜为偏振片保护膜。本发明的光学膜也可以作为兼作上述相位差膜的偏振片保护膜。

〔7.1〕偏振片

〔7.1.1〕起偏器

起偏器为仅通过一定方向的偏振面的光的元件，其例子包含聚乙烯醇系偏光膜。

聚乙烯醇系偏光膜有使聚乙烯醇系膜染色碘而成的偏光膜和染色二色性染料而成的偏光膜。

起偏器可以如下得到：将聚乙烯醇膜进行单轴拉伸后，进行染色或者对聚乙烯醇膜进行染色后，进行单轴拉伸，优选用硼化合物进一步进行耐久性处理。

起偏器的膜厚优选在5～30μm的范围内，更优选在5～15μm的范围内。

作为聚乙烯醇膜，优选使用日本特开2003－248123号公报、日本特开2003－342322号公报等中记载的乙烯单元的含量为1～4摩尔％、聚合度为2000～4000、皂化度为99.0～99.99摩尔％的乙烯改性聚乙烯醇。另外，优选通过日本特开2011－100161号公报、日本专利第4691205号公报、日本专利第4804589号公报中记载的方法制作起偏器，与本发明的光学膜贴合而制作偏振片。

〔7.1.2〕粘接剂

[水糊]

本发明中所使用的偏振片优选使用完全皂化型聚乙烯醇水溶液(水糊)将本发明的光学膜贴合于起偏器。可以在另一方的面贴合其它偏振片保护膜。本发明的光学膜在制成液晶显示装置时，优选设置于起偏器的液晶单元侧，对起偏器的外侧的膜而言，本发明的光学膜和以往的偏振片保护膜均可以使用。

例如，作为以往的偏振片保护膜，优选使用市售的纤维素酯膜(例如，KonicaMinolta TAC KC8UX、KC5UX、KC8UCR3、KC8UCR4、KC8UCR5、KC8UY、KC6UY、KC6UA、KC4UY、KC4UE、KC8UE、KC8UY－HA、KC8UX－RHA、KC8UXW－RHA－C、KC8UXW－RHA－NC、KC4UXW－RHA－NC，以上为Konica Minolta株式会社制)。

[活性能量线固化性粘接剂]

另外，本发明中所使用的偏振片优选本发明的光学膜和起偏器通过活性能量线固化性粘接剂贴合。

活性能量线固化性粘接剂优选使用下述紫外线固化型粘接剂。

在本发明中，通过在光学膜与起偏器的贴合中应用紫外线固化型粘接剂，能够得到即使为薄膜强度也高、且平面性优异的偏振片。

〈紫外线固化型粘接剂的组成〉

作为偏振片用的紫外线固化型粘接剂组合物，已知利用了光自由基聚合的光自由基聚合型组合物、利用了光阳离子聚合的光阳离子聚合型组合物以及并用了光自由基聚合和光阳离子聚合的混合型组合物。

作为光自由基聚合型组合物，已知日本特开2008－009329号公报中记载的以特定比例包含含有羟基、羧基等极性基团的自由基聚合性化合物和不含极性基团的自由基聚合性化合物的组合物等。特别是自由基聚合性化合物优选为具有可自由基聚合的乙烯性不饱和键的化合物。具有可自由基聚合的乙烯性不饱和键的化合物的优选的例子包含具有(甲基)丙烯酰基的化合物。具有(甲基)丙烯酰基的化合物的例子包含N取代(甲基)丙烯酰胺系化合物、(甲基)丙烯酸酯系化合物等。(甲基)丙烯酰胺是指丙烯酰胺或甲基丙烯酰胺。

另外，作为光阳离子聚合型组合物，可以举出：日本特开2011－028234号公报中所公开那样的含有(α)阳离子聚合性化合物、(β)光阳离子聚合引发剂、(γ)对波长比380nm长的光显示极大吸收的光敏化剂和(δ)萘系光敏化助剂的各成分的紫外线固化型粘接剂组合物。但是，也可以使用其以外的紫外线固化型粘接剂。

(1)前处理工序

前处理工序是对光学膜的与起偏器的粘接面进行易粘接处理的工序。作为易粘接处理，可以举出：电晕处理、等离子体处理等。

(紫外线固化型粘接剂的涂布工序)

作为紫外线固化型粘接剂的涂布工序，在起偏器和光学膜的粘接面中的至少一面涂布上述紫外线固化型粘接剂。在起偏器或光学膜的表面直接涂布紫外线固化型粘接剂时，其涂布方法没有特别限定。例如可以利用刮板、线棒、模涂机、逗号涂布机、凹版涂布机等各种湿式涂布方式。另外，也可以利用在起偏器与光学膜之间流延紫外线固化型粘接剂后，用辊等加压而均匀地扩展的方法。

(2)贴合工序

通过上述方法涂布紫外线固化型粘接剂后，在贴合工序中进行处理。在该贴合工序中，例如，在之前的涂布工序中，在起偏器的表面涂布紫外线固化型粘接剂时，在其上叠合光学膜。另外，在首先对光学膜的表面涂布紫外线固化型粘接剂的方式的情况下，在其上叠合起偏器。另外，在起偏器与光学膜之间流延紫外线固化型粘接剂时，在该状态下叠合起偏器和光学膜。而且，通常在该状态下从两面的光学膜侧用加压辊等夹住而加压。加压辊的材质可以使用金属、橡胶等。配置于两面的加压辊可以为相同的材质，也可以为不同的材质。

(3)固化工序

在固化工序中，对未固化的紫外线固化型粘接剂照射紫外线，使含有阳离子聚合性化合物(例如，环氧化合物、氧杂环丁烷化合物)、自由基聚合性化合物(例如，丙烯酸酯系化合物、丙烯酰胺系化合物等)的紫外线固化型粘接剂层固化，使经由紫外线固化型粘接剂叠合的起偏器和光学膜粘接。在起偏器的单面贴合光学膜时，活性能量线可以从起偏器侧或光学膜侧的任一侧照射。另外，在起偏器的两面贴合光学膜时，在起偏器的两面分别经由紫外线固化型粘接剂叠合光学膜的状态下照射紫外线，使两面的紫外线固化型粘接剂同时固化是有利的。

紫外线的照射条件只要为能够将本发明中应用的紫外线固化型粘接剂固化的条件就可以采用任意的适当的条件。紫外线的照射量以累积光量计优选为50～1500mJ/cm²的范围，进一步优选为100～500mJ/cm²的范围。

以连续生产线进行偏振片的制造工序时，生产线速度取决于粘接剂的固化时间，优选为1～500m/min的范围，更优选为5～300m/min的范围，进一步优选为10～100m/min的范围。若生产线速度为1m/min以上，则能够确保生产率，或能够抑制对光学膜的损伤，能够制作耐久性优异的偏振片。另外，若生产线速度为500m/min以下，则紫外线固化型粘接剂的固化变得充分，能够形成具备目标硬度且粘接性优异的紫外线固化型粘接剂层。

〔7.1.3〕保护膜

在起偏器的与本发明的光学膜相反侧配置的膜优选为作为起偏器的保护膜起作用的膜。

作为这样的保护膜，可以使用本发明的光学膜，例如也可以优选使用市售的纤维素酯膜(例如，Konica Minolta TAC KC8UX、KC5UX、KC4UX、KC8UCR3、KC4SR、KC4BR、KC4CR、KC4DR、KC4FR、KC4KR、KC8UY、KC6UY、KC4UY、KC4UE、KC8UE、KC8UY－HA、KC2UA、KC4UA、KC6UAKC、2UAH、KC4UAH、KC6UAH、以上为Konica Minolta株式会社制，Fujitac T40UZ、Fujitac T60UZ、Fujitac T80UZ、Fujitac TD80UL、Fujitac TD60UL、Fujitac TD40UL、Fujitac R02、Fujitac R06，以上为富士胶片株式会社制)。

另外，例如可以举出：聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯等树脂膜、脂环式聚烯烃(例如，日本瑞翁株式会社制，Zeonor(注册商标)、聚芳酯、聚醚砜、聚砜、环烯烃共聚物、聚酰亚胺(例如，三菱气体化学株式会社制，Neoprim(注册商标))、芴环改性聚碳酸酯、脂环改性聚碳酸酯、丙烯酰基化合物等的树脂膜(括号内表示玻璃化转变温度Tg)。这些树脂基材中，从成本、获得的容易性的方面考虑，优选使用聚对苯二甲酸乙二醇酯(缩写：PET)、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯(缩写：PEN)、聚碳酸酯(缩写：PC)等的膜作为保护膜。

上述保护膜的厚度没有特别限制，可以为10～200μm左右，优选在10～100μm的范围内，更优选在10～70μm的范围内。

〔7.2〕液晶显示装置

通过将上述贴合了本发明的光学膜的偏振片用于液晶显示装置，能够制作各种可视性优异的本发明中所使用的液晶显示装置。

另外，本发明的光学膜优选用于具有多边形、曲线的显示器用途的偏振片，能够解决在以自由形状进行冲裁时在端面产生毛刺、裂纹等裂缝或容易产生因切断所致的切屑这样的现有问题。

本发明中所使用的偏振片可以用于STN、TN、OCB、HAN、VA(MVA、PVA)、IPS、OCB等各种驱动方式的液晶显示装置。优选为VA(MVA，PVA)型液晶显示装置和IPS型液晶显示装置。

液晶显示装置通常使用可视侧的偏振片和背光源侧的偏振片这2张偏振片，也优选使用本发明中所使用的偏振片作为两方的偏振片，还优选作为单侧的偏振片使用。特别是本发明中所使用的偏振片优选作为与外部环境直接接触的可视侧的偏振片使用，本发明的光学膜为保护膜时，优选配置于可视侧表面，或本发明的光学膜为光学补偿膜时，优选配置于液晶单元侧。作为IPS型液晶显示装置的光学补偿膜使用时，优选配置于液晶单元的两侧。

另外，背光源侧的偏振片也可以使用本发明以外的偏振片，此时，优选使用在起偏器的两面贴合了例如市售的纤维素酯膜(例如，Konica Minolta TAC KC8UX、KC5UX、KC4UX、KC8UCR3、KC4SR、KC4BR、KC4CR、KC4DR、KC4FR、KC4KR、KC8UY、KC6UY、KC4UY、KC4UE、KC8UE、KC8UY－HA、KC2UA、KC4UA、KC6UA、KC2UAH、KC4UAH、KC6UAH，以上为Konica Minolta株式会社制，Fujitac T40UZ、Fujitac T60UZ、Fujitac T80UZ、Fujitac TD80UL、Fujitac TD60UL、Fujitac TD40UL、Fujitac R02、Fujitac R06，以上为富士胶片株式会社制等)的偏振片。

另外，作为背光源侧的偏振片，也可以优选使用在起偏器的液晶单元侧使用本发明的光学膜、在相反侧的面贴合了上述市售的保护膜、相位差膜、聚酯膜、丙烯酸膜、聚碳酸酯膜或其它环烯烃膜的偏振片。

通过使用本发明中所使用的偏振片，特别是即使为画面为30英寸以上的大画面的液晶显示装置，也能够得到显示不均、正面对比度等可视性优异的液晶显示装置。

〔7.3〕有机电致发光显示装置

使用本发明的环烯烃系树脂的光学膜的滑动性良好，因此，加工适应性高，例如也适于具有曲面形状的有机电致发光显示装置。

关于能够应用于本发明中所使用的有机电致发光显示装置的有机EL元件的概要，例如可以举出：日本特开2013－157634号公报、日本特开2013－168552号公报、日本特开2013－177361号公报、日本特开2013－187211号公报、日本特开2013－191644号公报、日本特开2013－191804号公报、日本特开2013－225678号公报、日本特开2013－235994号公报、日本特开2013－243234号公报、日本特开2013－243236号公报、日本特开2013－242366号公报、日本特开2013－243371号公报、日本特开2013－245179号公报、日本特开2014－003249号公报、日本特开2014－003299号公报、日本特开2014－013910号公报、日本特开2014－017493号公报、日本特开2014－017494号公报等中所记载的构成。

实施例

以下，举出实施例对本发明具体地进行说明，但本发明并不限定于这些实施例。需要说明的是，在实施例中，使用“份”或“％”的表示，只要没有特别说明，则表示“质量份”或“质量％”。

＜光学膜101的制作＞

(环烯烃系树脂P的合成)

将8－甲基－8－甲氧基羰基四环[4.4.0.12,5.17,10]－3－十二烯(DNM)75质量％、二环戊二烯(DCP)24质量％、2－降冰片烯1质量％、分子量调节剂的1－己烯9份和甲苯200份装入氮气置换的反应容器并加热至110℃。在其中加入三乙基铝0.005份、甲醇改性WCl6(无水甲醇：PhPOCl2：WCl6＝103：630：427质量比)0.005份使其反应1小时，由此得到聚合物。将得到的聚合物的溶液放入高压釜，再加入200份的甲苯。接着，添加0.006份的作为氢化催化剂的RuHCl(CO)[P(C₆H₅)]₃，加热至90℃后，将氢气投入反应器，使压力为10MPa。然后，在将压力保持为10MPa的状态下进行165℃、3小时的反应。反应结束后，使其在大量的甲醇溶液中沉淀，再使用甲苯和甲醇对沉淀物进行再沉淀纯化而得到共聚物P。

共聚物P的通过凝胶渗透色谱法(GPC)测定得到的重均分子量(Mw)＝7.2×10⁴、分子量分布(Mw/Mn)＝3.3、特性粘度(ηinh)＝0.59、玻璃化转变温度(Tg)＝143℃。需要说明的是，通过¹³CNMR测定求出共聚物P的甲氧基羰基添加率，结果确认了添加有75质量％的具有甲氧基羰基的单体。上述得到的共聚物P为保有75质量％的具有甲氧基羰基作为氢键接受基团的单体的环烯烃树脂P。

(微粒分散液的制备)

二氧化硅微粒(Aerosil R812日本Aerosil株式会社制)

11质量％

二氯甲烷 89质量％

将以上成分用溶解器搅拌混合50分钟后，使用Manton-Gaulin分散机进行分散，得到微粒分散液。

(微粒添加液1的制备)

在溶解罐中放入二氯甲烷，一边将二氯甲烷充分地搅拌一边缓慢地以成为50质量％的方式添加上述制备的微粒分散液。进而，以二次粒子的粒径成为规定大小的方式利用磨碎机进行分散。将其用日本精线株式会社制的Fine Met NF进行过滤，制备微粒添加液1。

(胶浆A的制备)

将上述合成的环烯烃树脂P一边搅拌一边投入放入了乙醇的加压溶解罐。接着，以成为表1中记载的添加量的方式添加微粒添加液后，在表1中记载的溶解温度下加热3小时，一边搅拌一边使其完全。然后，使用安积滤纸株式会社制的安积滤纸No.244进行过滤，制备胶浆A。将胶浆A的组成示于以下。

使用带式流延装置将上述制备的胶浆A流延在不锈钢制的流延支承体(支承体温度22℃)上。在胶浆A中的残留溶剂量大致为20质量％的状态下剥离，用拉幅机把持膜的宽度方向的两端，在残留溶剂量为10质量％的状态下、在125℃的温度下沿宽度方向一边拉伸1.01倍(1％)一边干燥。然后，在90℃的热处理装置的辊间用30分钟进行输送，由此进一步使其干燥，制作光学膜101。厚度为15μm，宽度为1492mm。

受阻酚系化合物(防凝聚剂A)使用IRGANOX 1076(BSF日本株式会社制)。

＜光学膜102的制作＞

(微粒分散液的制备)

二氧化硅微粒(Aerosil R812：三甲基硅烷处理品日本Aerosil株式会社制) 11质量％

乙醇 89质量％

将以上成分用溶解器搅拌混合50分钟后，使用Manton-Gaulin分散机进行分散，制备微粒分散液。

(微粒添加液1的制备)

在溶解罐中放入二氯甲烷，将二氯甲烷一边充分地搅拌一边缓慢地以成为50质量％的方式添加上述制备的微粒分散液。进而，以二次粒子的粒径成为规定大小的方式用磨碎机进行分散。将其用日本精线株式会社制的Fine Met NF进行过滤，制备微粒添加液1。

(胶浆B的制备)

将上述合成的环烯烃树脂P一边搅拌一边投入放入了乙醇的加压溶解罐。接着，以成为表1中记载的添加量的方式添加微粒添加液后，在表1中记载的溶解温度下加热3小时，一边搅拌一边使其完全溶解。然后，使用安积滤纸株式会社制的安积滤纸No.244进行过滤，制备胶浆B。将胶浆B的组成示于以下。

使用带式流延装置将上述制备的胶浆B流延在不锈钢制的流延支承体(支承体温度22℃)上。在胶浆B中的残留溶剂量大致为20质量％的状态下剥离，用拉幅机把持膜的宽度方向的两端，在残留溶剂量为10质量％的状态下、在125℃的温度下沿宽度方向一边拉伸1.01倍(1％)一边干燥。然后，在90℃的热处理装置的辊间用30分钟进行输送，由此进一步使其干燥，制作光学膜102。厚度为15μm，宽度为1492mm。

＜光学膜103的制作＞

在光学膜102的制作中，使用下述胶浆C，除此以外，同样地制作光学膜103。

(胶浆C的制备)

将上述合成的环烯烃树脂P一边搅拌一边投入放入了乙醇的加压溶解罐，接着，在表1中记载的溶解温度下加热3小时，一边搅拌一边使其完全溶解。然后，使用安积滤纸株式会社制的安积滤纸No.244进行过滤，制备胶浆C。将胶浆C的组成示于以下。

＜光学膜104的制作＞

在光学膜102的制作中，使用下述胶浆D，除此以外，同样地制作光学膜104。

(胶浆D)

＜光学膜105～108的制作＞

在光学膜104的制作中，将二氧化硅粒子的添加量如表1中记载那样进行改变，除此以外，同样地制作光学膜105～108。

＜光学膜109～113的制作＞

在光学膜104的制作中，将二氧化硅粒子的种类如表1中记载那样进行改变，除此以外，同样地制作光学膜109～113。

表中，R805、R976S、RY300、200V和R812S均为日本Aerosil株式会社制的Aerosil系列的制品。

R805：辛基硅烷处理品

R976S：二甲基硅烷处理品

RY300：二甲基聚硅氧烷处理品

200V：未处理品

R812S：三甲基硅烷处理品

＜光学膜114～118的制作＞

在光学膜104的制作中，将受阻酚系化合物(防凝聚剂A)的添加量如表1中记载那样进行改变，除此以外，同样地制作光学膜114～118。

另外，光学膜118使用受阻酚系化合物(防凝聚剂B)：IRGANOX 1010(BSF日本株式会社制)代替受阻酚系化合物(防凝聚剂A)。

＜光学膜119～122的制作＞

在光学膜104的制作中，以膜中的乙醇量成为表2中记载的量的方式改变乙醇的添加量和干燥温度·干燥时间，除此以外，同样地制作光学膜119～122。

具体而言，在以下的条件下分别制作。

对于光学膜119，使胶浆组成的乙醇添加量为5质量份、使拉伸后的干燥热处理装置的温度为110℃，用50分钟进行输送。

对于光学膜120，使胶浆组成的乙醇添加量为5质量份、使拉伸后的干燥热处理装置的温度为90℃，用30分钟进行输送。

对于光学膜121，使胶浆组成的乙醇添加量为20质量份、使拉伸后的干燥热处理装置的温度为9℃，用30分钟进行输送。

对于光学膜122，使胶浆组成的乙醇添加量为22质量份、使拉伸后的干燥热处理装置的温度为90℃，用30分钟进行输送。

＜光学膜123和124的制作＞

在光学膜106的制作中，将胶浆的溶解温度分别变为55℃和10℃，除此以外，同样地制作光学膜123和124。

＜光学膜125的制作＞

(环烯烃系树脂Q合成液的制备)

在下述的降冰片烯系单体混合液中加入二氧化硅微粒、10－十一烯酸、酚系稳定剂、磷系稳定剂、受阻胺系光稳定剂使其溶解或分散，再添加三苯基膦、下述化合物C所示的钌催化剂，利用管路型混合器(line mixer)混合，制备不具有氢键接受基团的环烯烃系树脂Q合成液。将环烯烃树脂Q合成液的组成示于以下。

(环烯烃系树脂Q合成液的组成)

将上述制备的环烯烃系树脂Q合成液在25℃下涂敷在厚度0.075mm的聚对苯二甲酸乙二醇酯制载体膜上进行浇铸制膜，接着立即从涂布层上方层压另外准备的与上述同样的载体膜。然后，在200℃下进行3分钟加热，然后，冷却至20℃后，分别剥离上下的载体膜，制作没有氢键接受基团的环烯烃系树脂Q为主成分的光学膜125(厚度为15μm，宽度为1492mm)。

＜光学膜126的制作＞

在光学膜106的制作中，使用下述胶浆E，除此以外，同样地制作光学膜126。

(胶浆E)

＜光学膜127的制作＞

在光学膜106的制作中，使用下述胶浆F，除此以外，同样地制作光学膜127。

(胶浆F)

＜光学膜128的制作＞

在光学膜106的制作中，使用下述胶浆G，除此以外，同样地制作光学膜128。作为在此使用的环烯烃树脂R，使用相对于100质量份含有0.25质量％的受阻酚系化合物(防凝聚剂A)的JSR株式会社制的ArtonG7810。

(胶浆G)

＜光学膜129和130的制作＞

在光学膜106的制作中，在胶浆在25℃下涂敷在厚度0.075mm的聚对苯二甲酸乙二醇酯制载体膜上进行浇铸制膜，接着立即从涂布层上方层压另外准备的与上述同样的载体膜。然后，在200℃下进行3分钟加热，然后，冷却至20℃后，分别剥离上下的载体膜，制作光学膜129(厚度为3μm，宽度为1492mm)和光学膜130(厚度为5μm，宽度为1492mm)。

《评价》

使用以上制作的光学膜101～130进行以下的评价。

[1]二氧化硅粒子的疏水化度测定

二氧化硅粒子的疏水化度使用甲醇湿润性法(以下，称为MW法)，以通过本方法求出的甲醇湿润性值(以下，称为MW值)表示。

〔MW法〕

(3)对沈降管F盖上盖子，使用拓布勒搅拌器(Turbula mixer)在第1溶液A中振荡混合微粒粉末E。此时，拓布勒搅拌器的条件为90rpm且30秒。

(12)通过下述式求出MW值(％)。

第1溶液中的MW值＝(t/A)×100[％]

第2溶液中的MW值＝(s/A)×100[％]

在此，A为最初添加的二氧化硅粒子的体积(AmL)。

[2]二氧化硅粒子的平均粒径

二氧化硅粒子的平均粒径的测定通过以下的方法进行。

SEM：JSM－6060LA(JEOL：日本电子株式会社)

切片机：Leica制EM UC6

[3]膜中的乙醇量、甲醇量和蒸馏水量

膜中的乙醇量和甲醇量通过以下的方法进行测定。

作为溶剂成分使用的上述醇和蒸馏水的残留量通过以下的测定方法进行测定。

[4]纵褶

从制作的光学膜切出宽度90cm、长度100cm大小试样，置于台上。排列5根40W的荧光灯(Panasonic公司制的“FLR40S-EX-D/M”)，以相对于台上的试样从45°的角度照射光的方式固定于距台1.5m的高度。打开荧光灯的开关而对试样进行照射，通过目视观察试样的表面，通过以下的基准进行评价。

○：5根荧光灯均看起来笔直

△：有荧光灯看起来稍微弯曲的部分

×：荧光灯整体看起来弯曲

[5]偏振片冲裁裂缝

使用上述制作的光学膜101～130制作偏振片。

将厚度30μm的卷状聚乙烯醇膜在碘水溶液中连续地拉伸至5倍，干燥而得到厚度7μm的起偏器。

接着，将上述制作的起偏器用上述制作的光学膜101～130从两面夹持，经由下述紫外线固化型粘接剂液粘接而制作偏振片。

此时，以起偏器的吸收轴和本发明的光学膜的滞相轴正交的方式贴合。

〔紫外线固化型粘接剂液1的制备〕

将下述的各成分混合后，进行脱泡，制作紫外线固化型粘接剂液1。需要说明的是，三芳基六氟磷酸锍以50％碳酸亚丙酯溶液的形式配合，下述表示三芳基六氟磷酸锍的固体成分量。

需要说明的是，对偏振片制作而言，对膜的表面以电晕输出强度2.0kW、线速度18m/分钟实施电晕放电处理，在电晕放电处理面以固化后的膜厚约为3μm的方式利用棒涂机涂敷上述制备的紫外线固化型粘接剂液1，形成紫外线固化型粘接剂层。

上述偏振片从一方的光学膜侧使用带有传送带的紫外线照射装置(灯使用FusionUV系统公司制的D电子管)以累积光量为750mJ/cm²的方式照射紫外线，使紫外线固化型粘接剂层固化。

以使起偏器的吸收轴方向为20cm、相对于吸收轴的直角方向为10cm的大小，利用对长方形的角进行了2R的弯曲加工的刀模(刃型)对得到的偏振片进行冲裁，经由粘合层贴合于玻璃板而得到样品。将该样品在－40℃的气氛下放置30分钟后，在90℃的气氛下放置30分钟，将该操作设为1个循环。通过以下的基准重复循环后，观察偏振片，产生裂缝时测定其长度。同时，也进行偏振片的偏振度的测定，通过如以下所示那样的基准进行评价。

〈裂缝评价〉

○：即使为500个循环也未产生裂缝或即使产生也为1cm以下

△：至250～500个循环为止未产生裂缝或即使产生也为1cm以下

×：至250个循环为止未产生裂缝或即使产生也为1cm以下

[6]冲裁切屑评价

利用光学显微镜观察裁切偏振片时的切屑的产生状态，观察有无距裁切部1cm处的5μm以上的裁切切屑的产生。

○：未产生切屑

×：有产生切屑

[7]透明性(雾度)

使用市售的雾度计(日本电色社制，制品名“NDH 2000”)依据JISK－7136对光学膜测定雾度(％)，通过下述的基准进行评价。若雾度小于0.5％，则能够作为透明光学膜用于各种装置。

○：小于0.5％

×：0.5％以上

[8]相位差

面内相位差值Ro和厚度方向的相位差值Rt可以使用自动双折射率计AxoScan(AxoScan Mueller Matrix Polarimeter：Axo Metrics公司制)在23℃·55％RH的环境下以590nm的波长进行三维折射率测定，由得到的折射率nx、ny、nz使用下述式算出。

式(i)：Ro＝(n_x－n_y)×d(nm)

式(ii)：Rt＝{(n_x+n_y)/2－n_z}×d(nm)

[9]可视性：作为液晶显示装置的特性评价

剥下作为IPS型的平板型液晶显示装置的Sony Mobile Communications株式会社制的商品名“XPERIA Z4Tablet”的偏振片，为了使其夹住液晶单元，将上述制作的2张偏振片以偏振片的偏振轴与原来不变地互相正交的方式贴附，在未用偏振片夹住的位置以光不会泄漏的方式从显示侧粘贴黑色胶带，制作简单的IPS型彩色液晶显示器，对作为光学膜的偏振片的特性进行评价，结果使用本发明的偏振片的液晶显示装置显示与剥下偏振片之前的液晶电视相比也不逊色的对比度性能以及也没有颜色不均的优异的显示性。

○：对比度、颜色不均均没有问题

×：对比度、颜色不均均看到明显的劣化

[10]着色

关于得到的片材，在铺上白纸后放置该片材，通过目视评价着色程度。

○：看不到着色

△：稍微看到黄色的着色

×：明显看到黄色的着色

[11]亮点异物

通过以下的测定法对膜的亮点异物进行测定。

将2张偏振片以正交状态(正交尼科尔)配置并阻断透射光，在2张偏振片之间放置制作的试样。偏振片使用玻璃制保护板的偏振片。从一侧照射光，从相反侧利用光学显微镜(50倍)计数每100cm²的直径0.01mm以上的亮点的个数。亮点异物的个数越少越为良好的特性。

○：0～2个

△：3～12个

×：13个以上

若为○、△，则能够供于实用。

将光学膜的构成和以上的评价结果汇总示于表1和表2。

由表1和表2可知，本发明的光学膜通过含有具有氢键接受基团的环烯烃系树脂、醇系溶剂、受阻酚系化合物、水和具有特定疏水化度的二氧化硅粒子，能够得到冲裁裂缝和冲裁切屑的产生显著降低、同时纵褶、透明性、相位差、IPS模式型液晶显示装置的可视性、着色和亮点异物也优异的综合性优异的使用环烯烃系树脂的光学膜。

产业上的可利用性

本发明的光学膜在将光学膜用于偏振片的保护膜时能够降低偏振片的冲裁时的裂缝、切屑的产生，因此，适合用于偏振片、液晶显示装置。

Claims

膜中含有醇系溶剂和受阻酚系化合物，并且

2.根据权利要求1所述的光学膜，其特征在于，所述二氧化硅粒子的膜中的二次平均粒径在100～400nm的范围内。

3.根据权利要求1或2所述的光学膜，其特征在于，在10～1000ppm的范围内含有所述醇系溶剂，在0.1～0.5质量％的范围内含有受阻酚系化合物。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的光学膜，其特征在于，进一步在50～500ppm的范围内含有水。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的光学膜，其特征在于，所述光学膜的膜厚d为5μm≤d≤40μm，测定波长590nm的面内相位差Ro和厚度方向的相位差Rt分别为Ro≤5nm、－15nm≤Rt≤15nm。