CN106783939A - 一种阵列基板及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种阵列基板及其制造方法，该阵列基板包括：衬底基板，设置于所述衬底基板上的像素界定层，所述像素界定层设置有包括底壁和侧壁的开口区域，在所述开口区域内，所述底壁的边缘设置有多个表面为亲水性的亲水诱导柱。本发明所述方案通过增加亲水诱导柱，抵消墨水表面张力，提高了成膜的均一性。

Description

一种阵列基板及其制造方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤指一种阵列基板及其制造方法。
背景技术
有机发光二极管(OLED)显示技术是一种利用有机功能材料在电流的驱动下产生的可逆变色来实现显示的技术。目前，制造OLED显示装置中的有机功能材料层的常见方法是采用喷墨打印(ink jet Printing)方法。使用喷墨打印方法制作OLED产品有生产效率高，材料成本低的优点，但是，也受到打印技术自身特性的约束，很难实现高精细产品制作。影响高分辨产品制作的主要有像素内膜厚的均一性。现有技术中，受墨水表面张力影响，墨水打印到像素中干燥后形成的图案不均匀，周边会出现一圈咖啡环，从而影响发光区域的有效面积。
发明内容
为了解决上述技术问题，本发明实施例提供了一种阵列基板及其制造方法，能够提高成膜的均一性，增加发光区域的有效面积。
为了达到本发明目的，本发明实施例提供了一种阵列基板，包括：衬底基板，设置于所述衬底基板上的像素界定层，所述像素界定层设置有包括底壁和侧壁的开口区域，在所述开口区域内，所述底壁的边缘设置有多个表面为亲水性的亲水诱导柱。
可选的，多个所述亲水诱导柱的位置满足如下关系：
对任一设置有亲水诱导柱的第一位置，与所述第一位置对称的第二位置和第三位置设置有亲水诱导柱，所述对称基于所述底壁的对称轴。
可选的，在所述开口区域内，所述底壁的每个转角处设置有所述亲水诱导柱。
可选的，所述亲水诱导柱与所述开口区域的高度相同。
可选的，所述亲水诱导柱的亲水性大于所述底壁的亲水性。
可选的，所述像素界定层上表面上靠近所述侧壁处设置有多个表面为疏水性的疏水诱导柱。
可选的，多个所述疏水诱导柱的位置满足如下关系：
对任一设置有疏水诱导柱的第四位置，与所述第四位置对称的第五位置和第六位置设置有疏水诱导柱，所述对称基于所述像素界定层的上表面与所述侧壁的交界所围成的区域的对称轴。
可选的，所述像素界面层上表面靠近所述侧壁的转角处设置有所述疏水诱导柱。
可选的，所述疏水诱导柱的高度大于所述像素界定层的厚度。
可选的，所述疏水诱导柱的高度相同。
本发明实施例还提供一种阵列基板的制造方法，包括：
提供衬底基板；
在所述衬底基板上设置像素界定层；
在所述像素界定层设置包括底壁和侧壁的开口区域；
在所述开口区域内，所述底壁的边缘设置多个表面为亲水性的亲水诱导柱。
可选的，多个所述亲水诱导柱的位置满足如下关系：
对任一设置有亲水诱导柱的第一位置，与所述第一位置对称的第二位置和第三位置设置有亲水诱导柱，所述对称基于所述底壁的对称轴。
可选的，在所述开口区域内，所述底壁的每个转角处设置所述亲水诱导柱。
可选的，在所述像素界定层上表面上靠近所述侧壁处设置多个表面为疏水性的疏水诱导柱。
可选的，在所述像素界面层上表面靠近所述侧壁的转角处设置所述疏水诱导柱。
与现有技术相比，本发明实施例中，通过设置亲水诱导柱，抵消墨水张力，使得墨水表面更为平整，增加了成膜的均匀性。
进一步地，本发明实施例中，设置疏水诱导柱，可以提高墨水的容纳量，满足像素尺寸比较小时的墨水需求量，从而实现高分辨率产品的喷墨打印制作。
本发明的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本发明而了解。本发明的目的和其他优点可通过在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。
附图说明
附图用来提供对本发明技术方案的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本申请的实施例一起用于解释本发明的技术方案，并不构成对本发明技术方案的限制。
图1为本发明一实施例提供的阵列基板截面图；
图2为本发明一实施例提供的阵列基板俯视图；
图3为本发明另一实施例提供的阵列基板俯视图；
图4为本发明又一实施例提供的阵列基板俯视图；
图5为现有技术中喷入墨水后最高墨水量截面图；
图6为采用本发明实施例提供方案喷入墨水后最高墨水量截面图；
图7为现有技术中喷入墨水后，墨水干燥到bank层高度的截面图；
图8为采用本发明实施例提供的方案喷入墨水后，墨水干燥到bank层高度的截面图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白，下文中将结合附图对本发明的实施例进行详细说明。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互任意组合。
在附图的流程图示出的步骤可以在诸如一组计算机可执行指令的计算机系统中执行。并且，虽然在流程图中示出了逻辑顺序，但是在某些情况下，可以以不同于此处的顺序执行所示出或描述的步骤。
应当指出的是，尽管以下实施例以OLED显示装置为例来说明本发明，但是如本领域技术人员将领会到的，本发明可以应用于任何能够采用喷墨打印方法制作功能层的显示装置，而不限于OLED显示装置。
本发明实施例提供一种阵列基板，包括：衬底基板，设置于所述衬底基板上的像素界定层，所述像素界定层设置有包括底壁和侧壁的开口区域，在所述开口区域内，所述底壁的边缘设置有多个表面为亲水性的亲水诱导柱。
其中，所述底壁的边缘为靠近底壁与侧壁的交界的位置，亲水诱导柱可以紧挨底壁与侧壁的边界，也可以离边界略微有点距离。
可选的，该多个亲水诱导柱的位置对称，具体的，多个所述亲水诱导柱的位置满足如下关系：对任一设置有亲水诱导柱的第一位置，与所述第一位置对称的第二位置和第三位置设置有亲水诱导柱，所述对称基于所述底壁的对称轴。即每个亲水诱导柱所在位置的对称位置处设置有亲水诱导柱。特殊情况下，比如，第一位置为底壁的两个转角的正中时，此时，第三位置与第一位置相同。
在本发明的一可选实施例中，所述像素界定层上表面上靠近所述侧壁处设置有多个表面为疏水性的疏水诱导柱。
可选的，对任一设置有疏水诱导柱的第四位置，与所述第四位置对称的第五位置和第六位置设置有疏水诱导柱，所述对称基于所述像素界定层的上表面与所述侧壁的交界所围成的区域的对称轴。即每个所述疏水诱导柱所在位置的对称位置处设置有所述疏水诱导柱。
下面以具体实例进一步说明本发明。
图1为本发明实施例提供的一种阵列基板的截面图，图2为本发明实施例提供的一种阵列基板的俯视图，如图1,2所示，本发明实施例提供的一种阵列基板包括：衬底基板10，设置于所述衬底基板10上的像素界定层(PDL层，或称bank层)20，所述像素界定层设置有开口区域30，所述开口区域包括底壁301和侧壁302，所述开口区域30的底壁301的每个转角3011处设置有表面为亲水性的亲水诱导柱40。所述底壁301和侧壁302形成一个腔体，容纳待喷入的墨水。需要说明的是，该开口区域30暴露一阳极层，即开口区域30的底壁301为一阳极层。该亲水诱导柱40在所述开口区域30内。一般地，该亲水诱导柱40与底壁垂直。
从图2可以看出，底壁301有四个转角3011，可以在每个转角3011处设置一个亲水诱导柱40，从而共设置四个亲水诱导柱40。亲水诱导柱40的作用是抵消墨水张力。亲水诱导柱可以挨着底壁301的边界3012，也可以与边界3012略微有点距离。可选的，这4个亲水诱导柱的位置对称。该对称是基于底壁301的对称轴对称，包括左右对称和上下对称。
亲水诱导柱40可以为图1，2中所示的圆柱形，也可以是其他形状，比如方形柱，或者棱形柱等等。
亲水诱导柱40可以采用有机亲水材料或者无机亲水材料，且其表面亲水性大于所述底壁的亲水性，但与底壁的亲水性的差值小于一设定阈值，与底壁形成拉扯，从而抵消墨水的表面张力。
在发明的一可选实施例中，所述亲水诱导柱40的高度相等。
在本发明的一可选实施例中，所述亲水诱导柱40与所述开口区域的高度相同。当然，亲水诱导柱40也可以略高于所述开口区域。
在本发明的一可选实施例中，可以根据需要设置更多的亲水诱导柱，如图3所示，在所述底壁301上两个转角处之间靠近所述侧壁302处设置有所述亲水诱导柱40，且每个亲水诱导柱40的对称位置处设置有所述亲水诱导柱40，所述对称基于所述底壁的对称轴，对称轴如图3中的虚线所示。图3中，底壁301靠近侧壁302的位置即靠近底壁301与侧壁302的边界3012的位置。图3中，在靠近边界3012的中间位置设置了一个亲水诱导柱40，在该亲水诱导柱40的对称位置也设置了一个亲水诱导柱40。图3中仅示出了在靠近左边界和右边界的中间位置设置了亲水诱导柱40。在本发明的其他实施例中，可以在图3中靠近底壁301与侧壁的上边界的中间位置设置一个亲水诱导柱，在靠近底壁301与侧壁302的下边界的中间位置设置一个亲水诱导柱。另外，也可以在底壁301上靠近边界3012的位置设置多个亲水诱导柱。比如，如图4所示，在像素大小为50um*150um时，每隔25um布置一个亲水诱导柱40。此时，对亲水诱导柱401，其对称位置有两个，分别设置有亲水诱导柱402和亲水诱导柱403。对另一亲水诱导柱402，其对称位置有两个，分别设置有亲水诱导柱401和亲水诱导柱404。
需要说明的是，亲水诱导柱的个数可根据需要设定，比如根据像素尺寸和墨水特性设定。
本发明实施例提供的在开口区域内增加亲水诱导柱的方案，在开口区域内喷入墨水后，墨水逐步干燥，当剩余的墨水量和像素界定层高度齐平时，亲水诱导柱开始发挥作用，抵消墨滴的表面张力，使得墨滴的上表面更为平整，提高了成膜的均一性。
当要打印高分辨率产品时，像素的尺寸变得很小，所能容纳的墨水量越来越少，而制作显示器件使用的墨水量又比较大，如果单纯依靠增高bank层的高度，虽然可以提高墨水的容纳量，但是会给阴极的蒸镀工作带来很大的困难。本发明实施例中，提供了一种解决方案。如图1，2所示，在像素界定层20上表面上靠近所述侧壁302的转角3021处设置有表面为疏水性的疏水诱导柱50。所述疏水诱导柱50可采用含氟类的材料，在制作过程中考虑到要和像素界定层连接，界面上需要一定的处理，比如，使用UV照射，CF4plsma处理等。所述疏水诱导柱50位于像素界定层50的上表面上，一般地，疏水诱导柱50的方向为垂直于所述像素界定层20。如图2所示，设置了4个疏水诱导柱50。可选的，这4个疏水诱导柱50的位置对称。该对称是基于侧壁302与像素界定层20的交界3022所形成的区域的对称轴对称，包括左右对称和上下对称。
在本发明的一可选实施例中，所述疏水诱导柱50的高度相同，且高于所述像素界定层20的高度。疏水诱导柱50的高度的一个可选范围为：所述开口区域内喷入墨水后墨水最高高度的2/3-4/3之间。
在本发明的一可选实施例中，可以根据需要设置更多的疏水诱导柱，如图3所示，在像素界定层20上表面上靠近所述侧壁的两个转角处之间的位置设置有疏水诱导柱50，且每个疏水诱导柱50的对称位置设置有所述疏水诱导柱，所述对称基于所述像素界定层的上表面与所述侧壁的交界3022所围成的区域的对称轴，如图3中的虚线所示。其中，在像素界定层20上表面上靠近所述侧壁的两个转角处之间的位置设置疏水诱导柱50，即在像素界定层上靠近边界3022的位置且非转角3021处设置疏水诱导柱。图3中，在靠近边界3022的中间位置设置了一个疏水诱导柱50，在该疏水诱导柱50的对称位置也设置了一个疏水诱导柱50。图3中仅示出了在靠近左边界和右边界的中间位置设置了疏水诱导柱50。在本发明的其他实施例中，也可以在靠近上边界和下边界的中间位置设置疏水诱导柱50。另外，也可以在像素界定层20的上表面靠近边界3022的位置设置多个亲水诱导柱。比如，在像素大小为50um*150um时，围绕所述侧壁与所述像素界定层的上表面的边界(即围绕该开口区域与像素界定层上表面的交界)，每隔20um布置一个疏水诱导柱50。疏水诱导柱的个数可根据需要设定，比如根据像素尺寸和墨水特性设定。
本发明实施例提供的增加疏水性诱导柱的方案，由于在像素外层增加了疏水诱导柱，从而可以容纳更多的墨水，满足高分辨率像素对墨水量的需求，同时，因为疏水性诱导柱是分离的，不会影响阴极的制作，而且在疏水诱导柱附近材料的堆积会起到辅助电极的作用。
需要说明的是，本发明实施例所述方案，不限于图1，2中所示形状的开口区域，其他形状的开口区域也可应用本发明所述方案。
下面说明一下使用本申请提供的方案在喷入墨水后的实现。
图5为现有技术中最高容纳墨水量示意图。图6为本发明实施例最高容纳墨水量示意图。如图5所示，喷入墨水后，容纳的最高墨水量为区域60中的墨水量；增加疏水诱导柱后，如图6所示，容纳的最高墨水量为区域70所示的墨水量，可以发现，增加疏水诱导柱后，容纳的墨水量增加，对于高分辨率产品，尽管像素区域减小，采用本申请提供的方案后，仍然可以容纳所需的墨水量。
图7为现有技术中墨水干燥到像素界定层时墨水表面示意图；图8为采用本发明实施例方案后墨水干燥到像素界定层时墨水表面示意图。如图7所示，墨水干燥到像素界定层20时，墨水表面见图7中的墨水表面80所示，为一凹陷区域，膜厚不一致，导致最终成膜不均一。采用本发明实施例提供的方案，如图8所示，由于增加了亲水诱导柱，墨水干燥到像素界定层20时，亲水诱导柱抵消部分表面张力，墨水表面如图8中墨水表面90所示，与图7中的墨水表面80相比，更为平坦，从而使得最终成膜更为均匀。另外，通过改变亲水诱导柱的数量和亲水性，可以达到墨水表面为平面的效果，因此，采取本发明实施例所述方案，最终成膜厚度比较一致，提高了成膜的均一性。
本发明实施例还提供一种上述阵列基板的制造方法，包括：
提供衬底基板；
在所述衬底基板上设置像素界定层；
在所述像素界定层设置包括底壁和侧壁的开口区域；
在所述开口区域内，所述底壁的边缘设置多个表面为亲水性的亲水诱导柱。
在本发明的一可选实施例中，多个所述亲水诱导柱的位置满足如下关系：
对任一设置有亲水诱导柱的第一位置，与所述第一位置对称的第二位置和第三位置设置有亲水诱导柱，所述对称基于所述底壁的对称轴。
在本发明的一可选实施例中，在所述开口区域内，所述底壁的每个转角处设置所述亲水诱导柱。
在本发明的一可选实施例中，在所述底壁上处于两个转角处之间且靠近所述侧壁的位置设置所述亲水诱导柱。
在本发明的一可选实施例中，所述亲水诱导柱与所述开口区域的高度相同。
在本发明的一可选实施例中，在所述像素界定层上表面上靠近所述侧壁处设置多个表面为疏水性的疏水诱导柱。
在本发明的一可选实施例中，在所述像素界定层上表面上靠近所述侧壁的转角处设置表面为疏水性的疏水诱导柱。
在本发明的一可选实施例中，多个所述疏水诱导柱的位置满足如下关系：
对任一设置有疏水诱导柱的第四位置，与所述第四位置对称的第五位置和第六位置设置有疏水诱导柱，所述对称基于所述像素界定层的上表面与所述侧壁的交界所围成的区域的对称轴。
在本发明的一可选实施例中，在所述像素界定层上表面上靠近所述侧壁的两个转角处之间的位置设置有疏水诱导柱。
在本发明的一可选实施例中，所述疏水诱导柱的高度大于所述像素界定层的厚度。
虽然本发明所揭露的实施方式如上，但所述的内容仅为便于理解本发明而采用的实施方式，并非用以限定本发明。任何本发明所属领域内的技术人员，在不脱离本发明所揭露的精神和范围的前提下，可以在实施的形式及细节上进行任何的修改与变化，但本发明的专利保护范围，仍须以所附的权利要求书所界定的范围为准。

Claims (15)

1.一种阵列基板，包括：衬底基板，设置于所述衬底基板上的像素界定层，所述像素界定层设置有包括底壁和侧壁的开口区域，其特征在于，在所述开口区域内，所述底壁的边缘设置有多个表面为亲水性的亲水诱导柱。
2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，多个所述亲水诱导柱的位置满足如下关系：
对任一设置有亲水诱导柱的第一位置，与所述第一位置对称的第二位置和第三位置设置有亲水诱导柱，所述对称基于所述底壁的对称轴。
3.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，在所述开口区域内，所述底壁的每个转角处设置有所述亲水诱导柱。
4.如权利要求1至3任一所述的阵列基板，其特征在于，所述亲水诱导柱与所述开口区域的高度相同。
5.如权利要求1至3任一所述的阵列基板，其特征在于，所述亲水诱导柱的亲水性大于所述底壁的亲水性。
6.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述像素界定层上表面上靠近所述侧壁处设置有多个表面为疏水性的疏水诱导柱。
7.如权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，多个所述疏水诱导柱的位置满足如下关系：
对任一设置有疏水诱导柱的第四位置，与所述第四位置对称的第五位置和第六位置设置有疏水诱导柱，所述对称基于所述像素界定层的上表面与所述侧壁的交界所围成的区域的对称轴。
8.如权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述像素界面层上表面靠近所述侧壁的转角处设置有所述疏水诱导柱。
9.如权利要求6至8任一所述的阵列基板，其特征在于，所述疏水诱导柱的高度大于所述像素界定层的厚度。
10.如权利要求6至8任一所述的阵列基板，其特征在于，所述疏水诱导柱的高度相同。
11.一种阵列基板的制造方法，其特征在于，包括：
提供衬底基板；
在所述衬底基板上设置像素界定层；
在所述像素界定层设置包括底壁和侧壁的开口区域；
在所述开口区域内，所述底壁的边缘设置多个表面为亲水性的亲水诱导柱。
12.如权利要求11所述的制造方法，其特征在于，多个所述亲水诱导柱的位置满足如下关系：
对任一设置有亲水诱导柱的第一位置，与所述第一位置对称的第二位置和第三位置设置有亲水诱导柱，所述对称基于所述底壁的对称轴。
13.如权利要求11所述的制造方法，其特征在于，在所述开口区域内，所述底壁的每个转角处设置所述亲水诱导柱。
14.如权利要求11所述的制造方法，其特征在于，在所述像素界定层上表面上靠近所述侧壁处设置多个表面为疏水性的疏水诱导柱。
15.如权利要求14所述的制造方法，其特征在于，在所述像素界面层上表面靠近所述侧壁的转角处设置所述疏水诱导柱。
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