CN106702466B - 一种高磁性高硅电工钢及其制备方法 - Google Patents

一种高磁性高硅电工钢及其制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN106702466B
CN106702466B CN201710143008.7A CN201710143008A CN106702466B CN 106702466 B CN106702466 B CN 106702466B CN 201710143008 A CN201710143008 A CN 201710143008A CN 106702466 B CN106702466 B CN 106702466B
Authority
CN
China
Prior art keywords
silicon
composite plating
electrical steel
plating solution
preparation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201710143008.7A
Other languages
English (en)
Other versions
CN106702466A (zh
Inventor
吴润
宋述鹏
张恒
贺友兴
尹红年
张永锟
吴志方
周和荣
从善海
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jiashan Linhu Xincheng Industrial Co.,Ltd.
Original Assignee
Wuhan University of Science and Engineering WUSE
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Wuhan University of Science and Engineering WUSE filed Critical Wuhan University of Science and Engineering WUSE
Priority to CN201710143008.7A priority Critical patent/CN106702466B/zh
Publication of CN106702466A publication Critical patent/CN106702466A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN106702466B publication Critical patent/CN106702466B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D15/00—Electrolytic or electrophoretic production of coatings containing embedded materials, e.g. particles, whiskers, wires
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C10/00—Solid state diffusion of only metal elements or silicon into metallic material surfaces
    • C23C10/28—Solid state diffusion of only metal elements or silicon into metallic material surfaces using solids, e.g. powders, pastes
    • C23C10/30—Solid state diffusion of only metal elements or silicon into metallic material surfaces using solids, e.g. powders, pastes using a layer of powder or paste on the surface
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/34—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
    • C25D3/562—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of iron or nickel or cobalt
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/18—Electroplating using modulated, pulsed or reversing current

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Soft Magnetic Materials (AREA)

Abstract

一种高磁性高硅电工钢及其制备方法。其技术方案是：将冷轧硅钢板浸泡在复合电镀液中，复合电镀液的温度为5~45℃，采用双脉冲电源对所述冷轧硅钢板进行复合电镀，复合电镀时间为10~30分钟，再用蒸馏水和无水乙醇进行清洗，得到含富硅电镀层硅钢板；然后在所述含富硅电镀层硅钢板表面均匀覆盖一层硅粉，硅粉层的厚度为30~50μm，最后置入热处理炉中，在还原性气氛和900~1100℃条件下保温3~6小时，制得高磁性高硅电工钢。所述双脉冲电源是：正脉冲电流密度为8~12A/dm2，负脉冲电流密度为0.8~1.2A/dm2，正占空比为40~80%，负占空比为8~12%。本发明具有磁性能优异和质量高的特点。

Description

一种高磁性高硅电工钢及其制备方法
技术领域
本发明属于高硅电工钢技术领域。具体涉及一种高磁性高硅电工钢及其制备方法。
背景技术
高性能硅钢片必须具备高初始磁导率、高最大磁导率、铁损小和磁致伸缩系数小等特点，以实现电机和变压器的小型化、高效化和低噪音。已有的研究表明，提高硅钢中的硅含量能满足上述要求，特别是当硅含量在6.5％时呈现最佳的综合性能，磁致伸缩率几乎为零，同时具有高导磁率和高电阻率，而高电阻率将导致涡流损耗大大降低。但是由于硅含量超过3.0wt％，硅钢薄带的脆性突增，延伸率大大降低，生产难度增大，导致长期以来硅钢的含硅量限于4.0wt％以下，很难达到4.0wt％以上。
为生产高硅电工钢，人们发明了很多方法，虽各有优点，但亦存在如下缺陷：轧制法和快速凝固法操作复杂、成本较高、设备要求较高，难以进行大规模工业生产；气相沉积法则易腐蚀设备和污染环境大，违背了可持续发展的原则。而电镀法在工业上拥有广泛的应用，扩散退火也是成熟的工艺，为此采用复合电镀法，在低硅钢带上镀覆Fe-Si复合镀层，再经过热处理扩散制备高硅电工钢的设想近年来受到研究者的广泛关注，提出了不同的方法以及工艺装置，如“电刷复合镀法制备高硅硅钢薄带的方法及硅钢带连续制备装置”(CN103320842 B)和“磁场下连续制备高硅钢薄带的方法及装置”(CN 102925937 B)。然而不佳的复合电镀工艺不能满足生产高性能高硅钢的要求，如在硅钢表面生成的镀层中硅含量不高，扩散退火后，整体硅含量提高不够，难以实现6.5wt％高硅钢的生产(潘应君等.铁与硅粉及硅铁粉复合电镀工艺的研究[J].电镀与精饰.2004.26(6):13-15)，又如复合电镀工艺获得的镀层与基体结合不好，易起皮，表面质量差，镀层表面粗糙(周鹏伟等.垂直稳恒磁场下Fe-纳米Si颗粒复合电沉积[J].北京科技大学学报.2012.36(6)：787-794)，这使得扩散退火后叠片系数低，影响产品质量。
发明内容
本发明旨在克服现有技术的缺陷，目的是提供一种磁性能优异和质量高的高磁性高硅电工钢及其制备方法。
为实现上述目的，本发明采用的技术方案是：将冷轧硅钢板浸泡在复合电镀液中，复合电镀液的温度为5～45℃，采用双脉冲电源对所述冷轧硅钢板进行复合电镀，复合电镀时间为10～30分钟，再用蒸馏水和无水乙醇进行清洗，得到含富硅电镀层硅钢板；然后在所述含富硅电镀层硅钢板表面均匀覆盖一层硅粉，硅粉层的厚度为30～50μm，最后置入热处理炉中，在还原性气氛和900～1100℃条件下保温3～6小时，制得高磁性高硅电工钢。
所述双脉冲电源是：正脉冲电流密度为8～12A/dm2，负脉冲电流密度为0.8～1.2A/dm2，正占空比为40～80％，负占空比为8～12％。
所述复合电镀液的化学成分是：氯化亚铁为150～650g/L，碘化钾为1～4g/L，氯化钠为20g/L，硼酸为2g/L，四水氯化锰为1～20g/L，硅粉为5～100g/L，复合电镀液的pH值为0.5～2.5。
复合电镀液的pH值为0.5～2.5是指，在复合电镀过程中，每2～3min测量一次复合电镀液pH值，用浓度为37.5wt％的浓盐酸将复合电镀液的pH值调整至0.5～2.5。
所述硅粉的粒度为0.5～5μm，Si含量≥99.9wt％。
所述还原性气氛中N2含量为50～80Vol％，H2含量为20～50Vol％；N2纯度≥99.5％，H2纯度99.5～99.8％。
由于采用上述技术方案，本发明与现有技术相比具有如下积极效果：
1、本发明采用双脉冲电源进行复合电镀，使镀层中硅颗粒分布均匀，与基体结合紧密，同时镀层表面无裂纹、无孔洞，表面粗糙度低，复合电镀镀层质量高。
2、本发明对含富硅电镀层硅钢板表面涂覆纯硅粉，使镀层与退火气氛隔绝，有效降低复合电镀镀层中的硅与还原性气氛中的氢气发生反应，促进镀层中的硅向基体中扩散，使硅含量均匀，磁性能更优异。
本发明所制备的高磁性高硅电工钢经检测：铁损P10/50为0.50～0.58/W·Kg-1，铁损P10/400为1.95～1.99/W·Kg-1，铁损P2/1000为3.01～3.30/W·Kg-1；磁感B8为1.73～1.78T；Si含量为5.0～7.5wt％。
因此，本发明具有磁性能优异和质量高的特点。
附图说明
图1是本发明制备的一种高磁性高硅电工钢的表面形貌图；
图2是图1所示高磁性高硅电工钢的表面硅元素分布图；
图3是本发明制备的另一种高磁性高硅电工钢的表面形貌图；
图4是图3所示高磁性高硅电工钢的表面硅元素分布图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步的描述，并非对其保护范围的限制。
本具体实施方式中：
所述复合电镀液的化学成分是：氯化亚铁为150～650g/L，碘化钾为1～4g/L，氯化钠为20～g/L，硼酸为2～g/L，四水氯化锰为1～20g/L，硅粉为5～100g/L，复合电镀液的pH值为0.5～2.5。
复合电镀液的pH值为0.5～2.5是指，在复合电镀过程中，每2～3min测量一次复合电镀液pH值，用浓度为37.5wt％的浓盐酸将复合电镀液的pH值调整至0.5～2.5。
所述硅粉的粒度为0.5～5μm，Si含量≥99.9wt％。
所述还原性气氛中N2含量为50～80Vol％，H2含量为20～50Vol％；N2纯度≥99.5％，H2纯度99.5～99.8％。
实施例中不再赘述。
实施例1
一种高磁性高硅电工钢及其制备方法。将冷轧硅钢板浸泡在复合电镀液中，复合电镀液的温度为15～35℃，采用双脉冲电源对所述冷轧硅钢板进行复合电镀，复合电镀时间为10～15分钟，再用蒸馏水和无水乙醇进行清洗，得到含富硅电镀层硅钢板；然后在所述含富硅电镀层硅钢板表面均匀覆盖一层硅粉，硅粉层的厚度为30～40μm，最后置入热处理炉中，在还原性气氛和900～1000℃条件下保温5～6小时，制得高磁性高硅电工钢。
所述双脉冲电源是：正脉冲电流密度为8～10A/dm2，负脉冲电流密度为0.8～1.0A/dm2，正占空比为40～60％，负占空比为8～10％。
本实施例所制备的高磁性高硅电工钢经检测：铁损P10/50为0.5～0.53/W·Kg-1，铁损P10/400为1.95～1.97/W·Kg-1，铁损P2/1000为3.01～3.10/W·Kg-1；磁感B8为1.73～1.75T；Si含量为5.5～7.0wt％。
实施例2
一种高磁性高硅电工钢及其制备方法。将冷轧硅钢板浸泡在复合电镀液中，复合电镀液的温度为5～25℃，采用双脉冲电源对所述冷轧硅钢板进行复合电镀，复合电镀时间为20～30分钟，再用蒸馏水和无水乙醇进行清洗，得到含富硅电镀层硅钢板；然后在所述含富硅电镀层硅钢板表面均匀覆盖一层硅粉，硅粉层的厚度为35～45μm，最后置入热处理炉中，在还原性气氛和950～1050℃条件下保温4～5小时，制得高磁性高硅电工钢。
所述双脉冲电源是：正脉冲电流密度为9～11A/dm2，负脉冲电流密度为0.9～1.1A/dm2，正占空比为50～70％，负占空比为9～11％。
本实施例所制备的高磁性高硅电工钢经检测：铁损P10/50为0.52～0.56/W·Kg-1，铁损P10/400为1.96～1.98/W·Kg-1，铁损P2/1000为3.05～3.15/W·Kg-1；磁感B8为1.74～1.76T；Si含量为5.0～6.5wt％。
实施例3
一种高磁性高硅电工钢及其制备方法。将冷轧硅钢板浸泡在复合电镀液中，复合电镀液的温度为25～45℃，采用双脉冲电源对所述冷轧硅钢板进行复合电镀，复合电镀时间为15～25分钟，再用蒸馏水和无水乙醇进行清洗，得到含富硅电镀层硅钢板；然后在所述含富硅电镀层硅钢板表面均匀覆盖一层硅粉，硅粉层的厚度为40～50μm，最后置入热处理炉中，在还原性气氛和1000～1100℃条件下保温3～4小时，制得高磁性高硅电工钢。
所述双脉冲电源是：正脉冲电流密度为10～12A/dm2，负脉冲电流密度为1.0～1.2A/dm2，正占空比为60～80％，负占空比为10～12％。
本实施例所制备的高磁性高硅电工钢经检测：铁损P10/50为0.54～0.58/W·Kg-1，铁损P10/400为1.97～1.99/W·Kg-1，铁损P2/1000为3.10～3.30/W·Kg-1；磁感B8为1.75～1.78T；Si含量为6.5～7.5wt％。
本具体实施方式与现有技术相比具有如下积极效果：
1、本具体实施方式采用双脉冲电源进行复合电镀，使镀层中硅颗粒分布均匀，与基体结合紧密，同时镀层表面无裂纹、无孔洞，表面粗糙度低，复合电镀镀层质量高。
2、本具体实施方式对含富硅电镀层硅钢板表面涂覆纯硅粉，使镀层与退火气氛隔绝，有效降低复合电镀镀层中的硅与还原性气氛中的氢气发生反应，促进镀层中的硅向基体中扩散，使硅含量均匀，磁性能更优异。
图1是实施例1制备的一种高磁性高硅电工钢的表面形貌图；图2是图1所示高磁性高硅电工钢的表面硅元素分布图；图3是实施例2制备的一种高磁性高硅电工钢的表面形貌图；图4是图3所示高磁性高硅电工钢的表面硅元素分布图。从图1和图3可以看出所制备的高磁性高硅电工钢的表面无裂纹、无孔洞和无厚度起伏；从图2和图4可以看出，所制备的高磁性高硅电工钢的表面的硅元素分布均匀。
本具体实施方式所制备的高磁性高硅电工钢经检测：铁损P10/50为0.50～0.58/W·Kg-1，铁损P10/400为1.95～1.99/W·Kg-1，铁损P2/1000为3.01～3.30/W·Kg-1；磁感B8为1.73～1.78T；Si含量为5.0～7.5wt％。
因此，本具体实施方式具有磁性能优异和质量高的特点。

Claims (4)

1.一种高磁性高硅电工钢的制备方法，其特征在于将冷轧硅钢板浸泡在复合电镀液中，复合电镀液的温度为5～45℃，采用双脉冲电源对所述冷轧硅钢板进行复合电镀，复合电镀时间为10～30分钟，再用蒸馏水和无水乙醇进行清洗，得到含富硅电镀层硅钢板；然后在所述含富硅电镀层硅钢板表面均匀覆盖一层硅粉，硅粉层的厚度为30～50μm，最后置入热处理炉中，在还原性气氛和900～1100℃条件下保温3～6小时，制得高磁性高硅电工钢；
所述双脉冲电源是：正脉冲电流密度为8～12A/dm2，负脉冲电流密度为0.8～1.2A/dm2，正占空比为40～80％，负占空比为8～12％；
所述复合电镀液的化学成分是：氯化亚铁为150～650g/L，碘化钾为1～4g/L，氯化钠为20g/L，硼酸为2g/L，四水氯化锰为1～20g/L，硅粉为5～100g/L，复合电镀液的pH值为0.5～2.5；
复合电镀液的pH值为0.5～2.5是指，在复合电镀过程中，每2～3min测量一次复合电镀液pH值，用浓度为37.5wt％的浓盐酸将复合电镀液的pH值调整至0.5～2.5。
2.根据权利要求1所述的高磁性高硅电工钢的制备方法，其特征在于所述硅粉的粒度为0.5～5μm，Si含量≥99.9wt％。
3.根据权利要求1所述的高磁性高硅电工钢的制备方法，其特征在于所述还原性气氛中N2含量为50～80Vol％，H2含量为20～50Vol％；N2纯度≥99.5％，H2纯度99.5～99.8％。
4.一种高磁性高硅电工钢，其特征在于所述高磁性高硅电工钢是根据权利要求1～3项中任一项所述的高磁性高硅电工钢的制备方法所制备的高磁性高硅电工钢。
CN201710143008.7A 2017-03-10 2017-03-10 一种高磁性高硅电工钢及其制备方法 Active CN106702466B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710143008.7A CN106702466B (zh) 2017-03-10 2017-03-10 一种高磁性高硅电工钢及其制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710143008.7A CN106702466B (zh) 2017-03-10 2017-03-10 一种高磁性高硅电工钢及其制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN106702466A CN106702466A (zh) 2017-05-24
CN106702466B true CN106702466B (zh) 2019-02-26

Family

ID=58912714

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201710143008.7A Active CN106702466B (zh) 2017-03-10 2017-03-10 一种高磁性高硅电工钢及其制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN106702466B (zh)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107282928B (zh) * 2017-07-17 2023-05-09 贵州理工学院 磁场下粉末扩散法制备高硅硅钢薄带的方法及装置
CN111321434B (zh) * 2020-03-17 2022-06-07 天津大学 一种高硅钢磁性超薄带的连续生产工艺及装置

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3300058A1 (de) * 1982-01-07 1983-07-14 Riken Corp., Tokyo Gleitende bauteile
JPS6431998A (en) * 1987-07-27 1989-02-02 Nippon Steel Corp Zinc-iron-type composite electroplated steel sheet excellent in adhesive strength at low temperature and its production
JPH07316842A (ja) * 1994-05-27 1995-12-05 Nkk Corp 溶融亜鉛めっき用鋼板
KR20060002467A (ko) * 2004-07-02 2006-01-09 한국기계연구원 전주도금법에 의한 전자기기용 고규소강판 제조방법
CN101560687A (zh) * 2009-05-26 2009-10-21 上海大学 连续制备高硅硅钢薄带的方法及装置
CN102002748A (zh) * 2010-12-09 2011-04-06 大连大学 脉冲—超声电沉积制备铁磁性纳米复合材料的方法
CN102154583B (zh) * 2011-03-28 2012-08-08 上海大学 一种制备高硅硅钢的方法
CN102534732B (zh) * 2011-12-20 2014-10-01 湖南科技大学 脉冲电沉积Ni-Co-P/HBN复合镀层及其制备方法
JP5891845B2 (ja) * 2012-02-24 2016-03-23 Ｊｆｅスチール株式会社 表面処理鋼板の製造方法
CN102658367B (zh) * 2012-05-16 2014-12-10 上海大学 稳恒磁场下粉末烧结法制备高硅硅钢片的方法及其装置
CN102925937B (zh) * 2012-09-07 2015-07-01 上海大学 磁场下连续制备高硅钢薄带的方法及装置
CN102994944A (zh) * 2012-12-06 2013-03-27 上海大学 一种应用硅铁粉在低碳钢表面合金化的工艺方法
CN103060746B (zh) * 2013-01-10 2015-05-06 上海大学 自然沉降连续制备高硅钢薄带的方法及高硅钢薄带连续制备装置
CN103320842B (zh) * 2013-06-26 2016-06-29 上海大学 电刷复合镀法制备高硅硅钢薄带的方法及硅钢带连续制备装置
CN103436943B (zh) * 2013-08-12 2016-01-20 无锡光旭新材料科技有限公司 一种利用纳米复合电沉积技术对取向硅钢渗氮的方法
CN103397361B (zh) * 2013-08-12 2016-06-29 无锡光旭新材料科技有限公司 一种制备高硅无取向硅钢的方法
CN105002460B (zh) * 2015-05-18 2018-10-23 上海大学 电流复合扩散法连续制备高硅硅钢薄带的方法及装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN106702466A (zh) 2017-05-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102925937B (zh) 磁场下连续制备高硅钢薄带的方法及装置
CN103173840B (zh) 一种磨削用电镀金刚石砂轮的制备方法
CN103320842B (zh) 电刷复合镀法制备高硅硅钢薄带的方法及硅钢带连续制备装置
CN101560687A (zh) 连续制备高硅硅钢薄带的方法及装置
CN104846418A (zh) 基于双脉冲电沉积的石墨烯/镍基复合镀层制备工艺
CN1900361A (zh) 钕铁硼永磁材料表面梯度功能涂层制备方法
Afshar et al. Electrodeposition of graphite-bronze composite coatings and study of electroplating characteristics
CN102154583B (zh) 一种制备高硅硅钢的方法
CN106702466B (zh) 一种高磁性高硅电工钢及其制备方法
CN108456898B (zh) 一种低浓度硫酸盐三价铬快速镀铬电镀液及其制备方法
CN102808210A (zh) 一种微弧氧化的表面处理方法及其制品
Temam et al. Microhardness and corrosion behavior of Ni–SiC electrodeposited coatings in presence of organic additives
CN102747406A (zh) 镁合金阳极氧化电解液及对镁合金表面处理的方法
CN112176369A (zh) 一种高效沸腾传热铜材及其制备方法
CN103540975B (zh) 一种在铜表面电镀金属锰的方法
CN103540970B (zh) 一种无氰镀银的方法
CN1526856A (zh) 不锈钢丝连续镀镍方法
CN110735172B (zh) 一种镁合金表面的铈基涂层制备方法
CN105537312B (zh) 一种铜铅复合板带及其制备方法
CN109321951B (zh) 一种基于电镀的高强高导铜基纳米复合材料的制备方法
CN102888643A (zh) 铝合金硬质阳极氧化电解液及方法
CN202744615U (zh) 大直径线坯在线连续热镀锡装置
CN102324276B (zh) 铜包铝镁双金属导线生产工艺
CN104962887B (zh) 表面带微孔结构的纳米化学复合镀层的制备设备及工艺
CN111188074B (zh) 一种Cu-CNTs复合材料的制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20201224

Address after: Room 204, No. 158, Yaozhuang Avenue, Yaozhuang Town, Jiashan County, Jiaxing City, Zhejiang Province

Patentee after: Jiashan Linhu Xincheng Industrial Co.,Ltd.

Address before: 430081 No. 947 Heping Avenue, Qingshan District, Hubei, Wuhan

Patentee before: WUHAN University OF SCIENCE AND TECHNOLOGY

TR01 Transfer of patent right
PE01 Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right

Denomination of invention: The invention relates to a high magnetic high silicon electrical steel and a preparation method thereof

Effective date of registration: 20211222

Granted publication date: 20190226

Pledgee: Bank of China Limited Zhejiang Yangtze River Delta integration demonstration zone sub branch

Pledgor: Jiashan Linhu Xincheng Industrial Co.,Ltd.

Registration number: Y2021330002614

PE01 Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right