CN106681031A - 显示屏的制备方法及装置 - Google Patents
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Abstract
本发明实施例公开了一种显示屏的制备方法及装置，所述方法包括：在显示面板表面上制备纳米银膜形成偏光片；对所述显示面板和偏光片同时进行切割，得到预设尺寸的显示屏。本发明实施例避免了显示屏的多次切割，提高了生产效率。
Description
技术领域
本发明实施例涉及显示屏加工工艺技术领域，尤其涉及一种显示屏的制备方法及装置。
背景技术
随着现代影像技术的日新月异，显示屏的性能要求也越来越高。
显示屏是由显示面板、偏光片等器件组成。其中，偏光片是三层以上的高分子材料拉伸复合制成，厚度为0.1mm-0.25mm，一方面，不符合显示屏轻薄化要求。
另一方面，由于偏光片材质类似塑料，而显示面板是玻璃材质，因此在切割时需要分别进行切割。对于偏光片需采用冲切方式分成小片。对于显示面板，通常用金刚石或合金刀轮切割，这样偏光片和显示面板各自需要一次裁切，制作流程复杂，生产效率低。
发明内容
本发明实施例提供一种显示屏的制备方法，能够简化显示屏的制作流程，提高生产效率。
第一方面，本发明实施例提供了一种显示屏的制备方法，包括：
在显示面板表面上制备纳米银膜形成偏光片；
对所述显示面板和偏光片同时进行切割，得到预设尺寸的显示屏。
第二方面，本发明实施例提供了一种显示屏的制备装置，包括：
偏光片形成模块，用于在显示面板表面上制备纳米银膜形成偏光片；
显示屏获取模块，用于对所述显示面板和偏光片同时进行切割，得到预设尺寸的显示屏。
本发明实施例提供了一种显示屏的制备方法及装置，通过在显示面板表面上制备纳米银膜形成偏光片，对所述显示面板和偏光片同时进行切割，得到显示屏，避免了显示屏的多次切割，提高了生产效率。
附图说明
图1是本发明实施例一中的一种显示屏的制备方法的流程图；
图2A是本发明实施例二中的一种显示屏的制备方法的流程图；
图2B是本发明实施例二中的一种显示屏的制备方法中掩膜板的示意图；
图3是本发明实施例三中的一种显示屏的制备装置的结构示意图；
图4是本发明实施例四中的一种显示屏的制备装置的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
实施例一
图1为本发明实施例一提供的一种显示屏的制备方法的流程图，本实施例可适用于各种显示屏制备的情况，如图1所示，具体包括：
S110、在显示面板表面上制备纳米银膜形成偏光片。
其中，显示屏主要由显示面板、驱动板与电源板组成，应用于电脑、电视、平板电脑以及手机中。其中，显示面板可以为LED(Light Emitting Diode，液晶显示)显示面板，也可以为OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机电激光显示)显示面板，还可以是其他类型显示屏的显示面板；偏光片为能使按特定方向振动的光线通过，而不能使其它振动方向的光线通过(或通过率极小)的一种镜片或者膜。显示面板表面上制备一层偏光片可实现液晶显示高亮度、高对比度特性，偏光片采用纳米银膜形成。其中，纳米银膜为各种制备方法制备关于纳米级银单质颗粒的膜，例如可以采用化学方法、微波法或者电化学还原法等制备方法，纳米银膜的制备原料可以以柠檬酸三钠与硝酸银为原料，也可以以1-甲基-3-丁基眯唑四氟硼酸盐与硝酸银为原料，或者还可以以其他材料为原料。制备出的纳米银膜可以采用悬涂、喷涂、PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，等离子体增强化学气相沉积法)气相沉积等方法制备在显示面板中，在采用光刻胶曝光工艺，或者其他方式将制备在显示面板上的纳米银膜制备成符合要求的偏光片。
S120、对所述显示面板和偏光片同时进行切割，得到预设尺寸的显示屏。
在本实施例中，由于纳米银膜的材质与显示面板的玻璃材质特性相近，能够与之紧密结合形成复合面板，即显示屏，因此可以对所述显示面板和偏光片同时进行切割，并且采用原有显示面板的切割方式，如金刚石、合金刀或者其他适宜玻璃材质面板的切割方式，得到预设尺寸的显示屏。其中，预设尺寸可以设定为符合应用产品显示屏的任意尺寸。显示面板的尺寸也不进行限定，显示面板的材料也可以为大尺寸玻璃盖板、大尺寸薄膜材料或者大尺寸触摸屏材料等。
本实施例通过在显示面板表面上制备纳米银膜形成偏光片，对所述显示面板和偏光片同时进行切割，得到显示屏，能够有效简化显示屏的制作流程，提高了生产效率。
本实施例在上述实施例基础上还包括：采用化学还原方法制备所述纳米银膜。其中，还原反应含有化学还原方法、电化学还原方法和光化学还原方法。化学还原方法是制备超细粉体纳米银粒子的有效和常用的方法之一，一般是指在液相条件下，通过氧化还原方法，制备出纳米银粒子。
由此，采用化学还原方法制备所述纳米银膜，可以达到制备过程简单，成本低的有益效果。
实施例二
图2A为本发明实施例二提供的一种显示屏的制备方法的流程图，本实施例在上述实施例的基础上进行优化，提供了优化的在显示面板表面上制备纳米银形成偏光片包括的处理方法，具体是：在显示面板表面上形成预设厚度的纳米银膜；基于所述纳米银膜，涂抹一层光刻胶；在所述光刻胶表面上放置掩模版；提供一束光源，对所述光刻胶进行选择性曝光并显影，获得未曝光的光刻胶与无光刻胶的纳米银膜；烘烤所述未曝光的光刻胶，并刻蚀所述无光刻胶的纳米银膜，得到所述偏光片。
相应的，本实施例的方法包括：
S210、在显示面板表面上形成预设厚度的纳米银膜。
示例性的，所述纳米银膜以柠檬酸三钠与硝酸银为原料。在本实施例中，可以采用化学还原方法制备纳米银膜。具体的，在水相中，以柠檬酸三钠为还原剂，二次蒸馏水为分散剂，在一定的温度下，通过还原硝酸银溶液制备了纳米银溶胶，其中，溶胶指通过水解和聚合作用，形成的有机或无机的纳米或微米级的粒子，这些粒子通常带有电荷，并由于电荷作用，吸附一层溶剂分子，形成由溶剂包覆的纳米或微米粒子，即胶体粒子，这些胶体粒子由于带有电荷而相互排斥，从而能以悬浮状态存在于溶剂中，即形成溶胶。并且在制备纳米膜原料中，柠檬酸三钠的纯度大于99％，硝酸银纯度大于99.8％。
然后，将化学还原方法制备的纳米银溶胶通过喷涂、旋涂、PECVD气相沉积法或者其他方法在显示面板表面上形成一层预设厚度的纳米银膜。其中，预设厚度为10μm。需要说明的是，由于工厂制备显示面板尺寸较大，导致制备在显示面板上的偏光片尺寸也较大，因此考虑成本，通常采用喷涂方式在显示面板表面制备纳米银膜。
S220、基于所述纳米银膜，涂抹一层光刻胶。
其中，光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，受到光照后特性会发生改变。光刻胶包含正胶与负胶，在本实施例中采用的光刻胶为正胶。具体的，正胶经过曝光后，受到光照的部分变得容易溶解，经过显影后被溶解，只留下未受到光照部分的图形。基于所述纳米银膜，采用喷涂的方式涂抹一层光刻胶，保证光刻胶均匀涂抹。
S230、在所述光刻胶表面上放置掩模版。
其中，本实施例中的掩膜板为光掩膜版，也叫光罩，是曝光过程中原始图形的载体，通过曝光过程，这些信息被传递到显示面板上。掩模版的形状有很多，根据工艺需求而制作成不同外形的掩膜板，在本实施例中制备偏光片的掩膜板如图2B所示，将制备好的偏光片的掩膜板放置在光刻胶的表面，使得部分光刻胶位于偏光片掩膜板的下方，不直接暴露在表面。
S240、提供一束光源，对所述光刻胶进行选择性曝光并显影，获得未曝光的光刻胶与无光刻胶的纳米银膜。
其中，光源为紫外光。使用紫外光照射具有偏光片掩膜板的表面，由于在掩膜板下方的光刻胶接收不到光源，不与光照发生反应，该行为为未曝光；未处于掩膜板下方的光刻胶接收的到光源，那么，未处于掩膜板下方的光刻胶将在光照的条件下发生反应，该行为为曝光，因为显示面板上的光刻胶部分曝光，部分不曝光，因此称为选择性曝光。
用显影剂将曝光部分的光刻胶清洗掉，然后用离子水将溶解的光刻胶冲走，显现出纳米银膜，这样就只剩下未曝光的光刻胶与无光刻胶的纳米银膜。
S250、烘烤所述未曝光的光刻胶，并刻蚀所述无光刻胶的纳米银膜，得到所述偏光片。
去除偏光片的掩膜板，使用一定的温度加热烘烤显示面板，使得未曝光的光刻胶更加坚固的依附在显示面板上。再用酸刻液将无光刻胶的纳米银膜蚀刻掉，只保留光刻胶下方的纳米银膜。未被光刻胶覆盖的纳米银膜易与酸发生反应，而被光刻胶覆盖的纳米银膜可以保留下来，得到相应的光栅，而该光栅则为偏光片，能实现偏光片的作用。
S260、对所述显示面板和偏光片同时进行切割，得到预设尺寸的显示屏。
在本实施例中，将选择性曝光方法制备纳米银膜作为偏光片后，由于偏光片紧密贴合显示面板，因此可对所述显示面板和偏光片同时进行切割，得到预设尺寸的显示屏。
本实施例通过制备纳米银膜，对纳米银膜进行选择性曝光形成显示面板的偏光片，不仅能制备轻薄化的偏光片，使得偏光片与显示面板的贴服更服帖，而且能使得偏光片与显示面板同时切割，简化了生产工艺，节约了生产成本以及提高了生产效率。
实施例三
图3为本发明实施例三提供的一种显示屏的制备装置的结构图，本实施例可适用于各种显示屏制备的情况，如图1所示，具体包括：偏光片形成模块31与显示屏获取模块32。
偏光片形成模块31，用于在显示面板表面上制备纳米银膜形成偏光片；
显示屏获取模块32，用于对所述显示面板和偏光片同时进行切割，得到预设尺寸的显示屏。
本实施例所述显示屏的制备装置用于执行上述各实施例所述的显示屏的制备方法，其技术原理和产生的技术效果类似，这里不再赘述。
实施例四
图4为本发明实施例四提供的一种显示屏的制备装置的结构图，如图4所示：
在上述实施例的基础上，所述偏光片形成模块31具体用于：在显示面板表面上形成预设厚度的纳米银膜；基于所述纳米银膜，涂抹一层光刻胶；在所述光刻胶表面上放置掩模版；提供一束光源，对所述光刻胶进行选择性曝光并显影，获得未曝光的光刻胶与无光刻胶的纳米银膜；烘烤所述未曝光的光刻胶，并刻蚀所述无光刻胶的纳米银膜，得到所述偏光片。
在上述实施例的基础上，还包括：纳米银膜制备模块41。
纳米银膜制备模块41，用于采用化学还原方法制备所述纳米银膜。
在上述实施例的基础上，所述纳米银膜以柠檬酸三钠与硝酸银为原料。
在上述实施例的基础上，所述预设厚度为10μm。
本实施例所述显示屏的制备装置用于执行上述各实施例所述的显示屏的制备方法，其技术原理和产生的技术效果类似，这里不再赘述。
注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。
Claims (10)
1.一种显示屏的制备方法，其特征在于，包括：
在显示面板表面上制备纳米银膜形成偏光片；
对所述显示面板和偏光片同时进行切割，得到预设尺寸的显示屏。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在显示面板表面上制备纳米银形成偏光片包括：
在显示面板表面上形成预设厚度的纳米银膜；
基于所述纳米银膜，涂抹一层光刻胶；
在所述光刻胶表面上放置掩模版；
提供一束光源，对所述光刻胶进行选择性曝光并显影，获得未曝光的光刻胶与无光刻胶的纳米银膜；
烘烤所述未曝光的光刻胶，并刻蚀所述无光刻胶的纳米银膜，得到所述偏光片。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，还包括：
采用化学还原方法制备所述纳米银膜。
4.根据权利要求1-3任一项所述的方法，其特征在于，所述纳米银膜以柠檬酸三钠与硝酸银为原料。
5.根据权利要求2或3所述的方法，其特征在于，所述预设厚度为10μm。
6.一种显示屏的制备装置，其特征在于，包括：
偏光片形成模块，用于在显示面板表面上制备纳米银膜形成偏光片；
显示屏获取模块，用于对所述显示面板和偏光片同时进行切割，得到预设尺寸的显示屏。
7.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述偏光片形成模块具体用于：
在显示面板表面上形成预设厚度的纳米银膜；
基于所述纳米银膜，涂抹一层光刻胶；
在所述光刻胶表面上放置掩模版；
提供一束光源，对所述光刻胶进行选择性曝光并显影，获得未曝光的光刻胶与无光刻胶的纳米银膜；
烘烤所述未曝光的光刻胶，并刻蚀所述无光刻胶的纳米银膜，得到所述偏光片。
8.根据权利要求7所述的装置，其特征在于，还包括：
纳米银膜制备模块，用于采用化学还原方法制备所述纳米银膜。
9.根据权利要求6-8任一项所述的装置，其特征在于，所述纳米银膜以柠檬酸三钠与硝酸银为原料。
10.根据权利要求7或8所述的装置，其特征在于，所述预设厚度为10μm。
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