CN106587628A - 一种渗花抛光砖釉料组合物及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种渗花抛光砖釉料组合物,通过在传统渗花釉的基础上,加入烧结后发色能力强的过渡金属化合物的水性配合物发色剂/着色剂,同时加入熔点低可与发色剂/着色剂共同作用的纳米氧化物助色剂,在润湿分散剂通过降低釉料的表面张力而具有较高的渗透能力,因此经烧结后能够使本组合物在坯体内部产生清晰的颜色与纹理;本发明还提供一种渗花抛光砖釉料组合物的制备方法。本发明的渗花抛光砖不仅具有传统抛光砖硬度高、耐磨性好的优点,同时经抛光过后的砖面颜色清晰、纹理细腻,富有表现力。
Description
技术领域
本发明涉及一种抛光砖釉料,尤其涉及到一种渗花抛光砖釉料组合物及其制备方法,属于陶瓷材料技术领域。
技术背景
抛光砖是通体砖坯体的表面经过打磨而成的一种光亮的砖,抛光砖具有无放射型、对人体无害,几乎无色差,硬度高、几乎不形变,砖体较薄,质量轻的优点。但相对于釉面砖,抛光砖的色彩、纹理效果较差。
渗花型抛光砖和多管布料抛光砖保留了抛光砖的大部分优点,表面色彩逐渐丰富。渗花型抛光砖是即在胚体上施加一层渗花釉,然后经过抛光、修边、倒角、防污处理获得成品,但渗花抛光砖色彩较单调、纹理较平淡,表现力不丰富;为克服渗花抛光砖的这些缺陷,国外一些陶瓷墨水生产厂家先后推出渗透型墨水、渗透型发色墨水等,但存在工艺复杂、价格偏贵等缺陷,且目前黄色、红色发色问题尚未彻底解决。多管布料抛光砖是由很多料管一次下料一次压制成型的,花色纹路较为自然,能代替大理石使用,但工艺较为复杂,且对砖面硬度负面影响较大。
中国专利号CN201610347141.X公开了一种喷墨渗花大理石瓷砖,所述喷墨渗花大理石瓷砖由坯体与渗入其中的釉质组成,其通过将含有纳米稳定剂的陶瓷生坯,含有纳米助渗剂、渗花釉、纳米发色剂的釉质层烧制而成。该发明的喷墨渗花大理石瓷砖的颜色与图案在陶瓷坯体内部1.5~2.0mm处产生,纹理清晰,颜色丰富,图案完整,图案效果佳,同时瓷砖表面耐磨性好,防污性好,因此装饰与应用效果均非常良好,生产步骤简单,制造成本较低。
中国专利号CN03126848.X公开了一种渗花抛光砖用釉料及使用方法,该釉料是采用A、B釉反应而成,使用该釉料制作的渗花抛光砖具有纹理更加细腻、色彩更加丰富表观质量佳的优点。但该发明釉料双组份增加了生产操作的工艺难度。
发明内容
为克服现有技术存在的渗花抛光砖中黄色和红色发色效果差的缺点与不足,本发明的首要目的旨在提供一种渗花抛光砖釉料组合物及其制备方法。
本发明的一种渗花抛光砖釉料组合物,其特征在于,在传统渗花釉的基础上,加入烧结后发色能力强的过渡金属化合物的水性配合物发色剂/着色剂,同时加入熔点低可与发色剂/着色剂共同作用的纳米氧化物助色剂,在润湿分散剂通过降低釉料的表面张力而具有较高的渗透能力,因此经烧结后能够使本组合物在坯体内部产生清晰的颜色与纹理。
为了解决上面所述的技术问题,本发明采取以下技术方案:本发明涉及一种渗花抛光砖釉料组合物,按重量百分比计,其组成为:水30.0~36.0份、发色剂/着色剂2.0~10.0份、基本釉料5.0~20.0份、助色剂1.0~5.0份、润湿分散剂0.1~1.0份、增稠剂0.1~0.5份。
所述的发色剂/着色剂为过渡金属化合物的水性配合物;进一步地,优选为与乙二胺四乙酸二钠配位的Fe3+离子、与乙二胺四乙酸二钠配位的Ni2+离子、与乙二胺四乙酸二钠配位的Co3+离子、与乙二胺四乙酸二钠配位的Mn2+离子、与乙二胺四乙酸二钠配位的Cr3+离子的化合物。
所述的基本釉料其主要成分是三氧化二硼、二氧化硅、三氧化二铝、氧化铅、氧化锂、氧化钠、氧化钾、氧化钙、氧化镁、氧化锌、氧化钡、五氧化二磷、二氧化钛、二氧化锆中的一种或两种以上的化合物。
所述的助色剂为纳米级氧化物或其分散体溶液;进一步地,优选为纳米氧化锌、纳米氧化锌分散液、硅溶胶溶液、纳米二氧化硅、纳米二氧化钛、纳米二氧化钛分散液。
所述的润湿分散剂为聚丙烯酸类阴离子分散剂、聚乙二醇、柠檬酸钠、柠檬酸铵、葡萄糖酸钠、苹果酸钠三聚磷酸钠、中的一种或两种以上。
所述的增稠剂为淀粉、阴离子型淀粉、聚乙烯醇、纤维素、羧甲基纤维素、聚丙烯酰胺中的一种或两种以上。
本发明所述的一种渗花抛光砖釉料组合物,其制备方法,工艺如下:将基本釉料加入水中球磨1~6h,出料;向其中加入发色剂/着色剂、助色剂、润湿分散剂、增稠剂搅拌均匀包装。
本发明的一种渗花抛光砖釉料组合物,其应用过程如下:将渗花抛光砖釉料组合物通过喷釉或淋釉、喷墨打印工艺施加在陶瓷坯体上,再经过烧结、抛光、修边、倒角、防污等处理获得成品。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明的一种石墨烯改性树脂的高光抗静电型汽车修补漆做进一步的描述。可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关发明,而非对该发明的限定。
实施例1
一种渗花抛光砖釉料组合物,制备方法如下:
本发明的一种渗花抛光砖釉料组合物,其制备方法如下:将15份基本釉料加入35份水中球磨2h,出料;向其中加入发色剂/着色剂(与乙二胺四乙酸二钠配位的铁离子)8份、助色剂(30%硅溶胶)2份、PEG-1000 0.2份、CMC 0.1份搅拌均匀备用。
将渗花抛光砖釉料组合物通过喷釉工艺施加在陶瓷坯体上,再经过烧结、抛光、修边、倒角、防污等处理获得成品。渗花抛光砖表面1.5mm厚度处,颜色与纹理清晰可见。
实施例2
一种渗花抛光砖釉料组合物,制备方法如下:
本发明的一种渗花抛光砖釉料组合物,其制备方法如下:将14份基本釉料加入30份水中球磨4h,出料;向其中加入发色剂/着色剂(与乙二胺四乙酸二钠配位的Cr3+离子)8份、钛白粉1份、聚丙烯酸分散剂0.2份、聚乙烯醇0.1份搅拌均匀备用。
将渗花抛光砖釉料组合物通过喷釉工艺施加在陶瓷坯体上,再经过烧结、抛光、修边、倒角、防污等处理获得成品。渗花抛光砖表面1.0mm厚度处,颜色与纹理清晰可见。
实施例3
一种渗花抛光砖釉料组合物,制备方法如下:
本发明的一种渗花抛光砖釉料组合物,其制备方法如下:将15份基本釉料加入25份水中球磨2h,出料;向其中加入发色剂/着色剂(与乙二胺四乙酸二钠配位的Mn2+离子)5份、助色剂纳米二氧化硅1.5份、柠檬酸钠0.3份、淀粉0.2份搅拌均匀备用。
将渗花抛光砖釉料组合物通过喷釉工艺施加在陶瓷坯体上,再经过烧结、抛光、修边、倒角、防污等处理获得成品。渗花抛光砖表面1.5mm厚度处,颜色与纹理清晰可见。
以上描述仅为本申请的较佳实施例以及对所运用技术原理的说明。本领域技术人员应当理解,本申请中所涉及的发明范围,并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案,同时也应涵盖在不脱离所述发明构思的情况下,由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案。例如上述特征与本申请中公开的(但不限于)具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案。
Claims (5)
1.一种渗花抛光砖釉料组合物,其特征在于:所述的渗花抛光砖釉料组合物,按重量百分比计,其组成为:水30.0~36份、发色剂/着色剂2.0~10.0份、基本釉料5.0~20.0份、助色剂1.0~5.0份、润湿分散剂0.1~1.0份、增稠剂0.1~0.5份;
其中,所述的发色剂/着色剂为过渡金属化合物的水性配合物;所述的基本釉料其主要成分是三氧化二硼、二氧化硅、三氧化二铝、氧化铅、氧化锂、氧化钠、氧化钾、氧化钙、氧化镁、氧化锌、氧化钡、五氧化二磷、二氧化钛、二氧化锆中的一种或两种以上的化合物。
2.如权利要求1所述的一种渗花抛光砖釉料组合物,其特征在于:所述的发色剂/着色剂为为与乙二胺四乙酸二钠配位的Fe3+离子、与乙二胺四乙酸二钠配位的Ni2+离子、与乙二胺四乙酸二钠配位的Co3+离子、与乙二胺四乙酸二钠配位的Mn2+离子、与乙二胺四乙酸二钠配位的Cr3+离子的化合物。
3.如权利要求1所述的一种渗花抛光砖釉料组合物,其特征在于:所述的助色剂为纳米级氧化物或其分散体溶液;进一步地,优选为纳米氧化锌、纳米氧化锌分散液、硅溶胶溶液、纳米二氧化硅、纳米二氧化钛、纳米二氧化钛分散液。
4.如权利要求1所述的一种渗花抛光砖釉料组合物,其特征在于:所述的润湿分散剂为聚丙烯酸类阴离子分散剂、聚乙二醇、柠檬酸钠、柠檬酸铵、葡萄糖酸钠、苹果酸钠三聚磷酸钠中的一种或两种以上;所述的增稠剂为淀粉、阴离子型淀粉、聚乙烯醇、纤维素、羧甲基纤维素、聚丙烯酰胺中的一种或两种以上。
5.一种如权利要求1所述的一种渗花抛光砖釉料组合物的制备方法,其特征在于,所述的制备方法,工艺如下:将基本釉料加入水中球磨1~6h,出料;向其中加入发色剂/着色剂、助色剂、润湿分散剂、增稠剂搅拌均匀包装。
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