CN106462287A - 触控面板 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种触控面板，其配置于显示面板的可见侧，上述触控面板包括：感应图案，其形成于基板的可见侧一面上；及金属配线，其在上述一面配置于与显示面板的像素之间的边界对应的区域的上侧，并连接上述感应图案与衬垫部，从而能够展现改良的触控灵敏度及极好的透射率。

Description

触控面板
技术领域
本发明涉及一种触控面板。
背景技术
通常，触控面板为配备有特殊输入设备以由用户的手指触摸屏幕而接收位置输入的屏幕面板。此触控面板并不使用键盘，而是具有多层层叠体的组态，其中在用户的手指或对象触摸显示于屏幕上的特定字符或位置时，触控屏幕识别位置并直接自屏幕接收数据，以便由储存于其中的软件实际上处理特定位置处的信息。
为了辨识触摸位置而不使显示于屏幕上之图像的可见度降低，必须使用透明感应电极，通常使用以预定图案形成的透明感应电极。
作为用于触控面板中的透明感应电极，在现有技术中已知晓各种结构，例如可以举出玻璃-ITO薄膜-ITO薄膜(GFF)、玻璃-ITO薄膜(G1F)或仅玻璃(G2)结构。
举例而言，作为习知透明感应电极，存在说明于图1中的结构。
透明感应电极可由第一感应图案10及第二感应图案20形成。第一感应图案10及第二感应图案20配置于彼此不同的方向上，以提供关于触控点的X及Y坐标的信息。具体言之，当用户之手指或对象触摸透明基板时，根据接触位置的电容的变化经由第一感应图案10、第二感应图案20以及位置检测线路传送到驱动电路。接着，电容的改变由X及Y输入处理电路(未说明)被转换成电信号以识别接触位置。
在此点上，第一感应图案10及第二感应图案20必须形成于同一个透明基板上，且为了检测触摸位置，各图案必须电连接。然而，第二感应图案20彼此连接，而第一感应图案10以岛(island)状形式彼此分离开，因此需要额外连接电极(桥电极)50以将第一感应图案10彼此电连接。
然而，连接电极50不应电连接至第二感应图案20，且因此应必须形成于不同于第二感应图案20的层中。为了展示此结构，图2说明形成有连接电极50所在的一部分在图1之线A-A'上获得的截面中的放大视图。
参看图2，第一感应图案10及第二感应图案20通过形成于其上的绝缘薄膜30彼此电绝缘。此外，如上文所描述，由于第一感应图案10必须彼此电连接，因此使用连接电极50而进行电连接。
为了通过连接电极50使以岛状形式分离的第一感应图案10彼此连接同时与第二感应图案20电隔离，在绝缘薄膜30上形成接触孔40之后，需要执行形成额外连接电极50的步骤。
如上文所描述，这样额外具备连接电极50的透明感应电极需要用于形成接触孔40及连接电极50的额外工序，且在制造过程中有可能产生第一感应图案10及第二感应图案20之间的电短路的问题，存在感应电极图案的电导率因连接电极与感应图案之间的接触电阻而降低的问题。
为了解决上述问题，韩国公开专利第2010-84263号公开如下结构：首先在基板上形成连接电极后形成绝缘膜和接触孔，且形成第一感应图案及第二感应图案，以便解决与该工序的掩模数及复杂度相关的问题。
然而，揭示于韩国公开专利第2010-84263号的结构由于仍然需要具备额外连接电极，因此从根本上不能解决上述问题。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：韩国公开专利第2010-84263号
发明内容
技术课题
本发明的目的为提供一种具有高电导率的触控面板。
此外，本发明之另一目的为提供一种具有极好透射率的触控面板。
另外，本发明的另一目的为提供一种具有由不同位置处的反射率差引起的低可见度的触控面板。
解决课题的方案
1.一种触控面板，其配置于显示面板的可见侧，上述触控面板包含：
感应图案，其形成于基板的可见侧一面上；及
金属配线，其在上述一面配置于与显示面板的像素之间的边界对应的区域的上侧，并连接上述感应图案与衬垫部。
2.在上述1中，上述感应图案由从氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)、氧化铟锌锡(IZTO)及氧化镉锡(CTO)构成的组中选择的一种以上的材料形成。
3.在上述1中，上述感应图案分离配置成多个单位感应图案，且
上述金属配线从各单位感应图案延伸至最接近的边框部，在上述边框部上将上述感应图案与衬垫部连接。
4.在上述1中，上述金属配线由钼、银、铝、铜、钯、金、铂、锌、锡、钛、或它们的合金材料形成。
5.在上述1中，上述金属配线的厚度为10nm至1000nm。
6.在上述1中，进一步包括辅助感应图案，其在上述一面配置于与显示面板的像素之间的边界对应的区域的上侧，覆盖上述金属配线。
7.在上述6中，上述辅助感应图案由从氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)、氧化铟锌锡(IZTO)及氧化镉锡(CTO)构成的组中选择的一种以上的材料形成。
8.在上述6中，上述辅助感应图案的厚度为30nm至150nm。
9.一种触控面板的制造方法，其包含：
在基板的可见侧一面上形成感应图案的步骤；及
在上述一面上形成金属配线以连接上述感应图案与衬垫部的步骤，
其中上述金属配线配置成位于与显示面板的像素之间的边界对应的区域的上侧。
10.在上述9中，上述感应图案由从氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)、氧化铟锌锡(IZTO)及氧化镉锡(CTO)构成的组中选择的一种以上的材料形成。
11.在上述9中，上述感应图案形成为分离配置成多个单位感应图案，且
上述金属配线形成为从各单位感应图案延伸至最接近的边框部，在上述边框部上将上述感应图案与衬垫部连接。
12.在上述9中，上述金属配线的厚度为10nm至1000nm。
13.在上述9中，上述金属配线由钼、银、铝、铜、钯、金、铂、锌、锡、钛、或它们的合金材料形成。
14.在上述9中，进一步包括在上述一面上形成覆盖上述金属配线的辅助感应图案的步骤。
15.在上述14中，上述辅助感应图案由从氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)、氧化铟锌锡(IZTO)及氧化镉锡(CTO)构成的组中选择的一种以上的材料形成。
16.在上述14中，上述辅助感应图案的厚度为30nm至150nm。
发明效果
本发明的触控面板具有金属配线以增加感应图案的电导率，因此展现改良的触控灵敏度。
此外，本发明的触控面板具有配置于与像素之间的边界对应的区域的上侧的金属配线，因此展现极好透射率。
另外，本发明的触控面板可使由不同位置处的反射率差引起的可见度的问题最小化。
附图说明
图1为现有的透明感应电极的示意性俯视图。
图2为现有的透明感应电极的示意性垂直截面图。
图3为配置于显示面板的一面的本发明的一个具体实例的触控面板的示意性垂直截面图。
图4为示意性地说明本发明的一个具体实例的触控面板中金属配线及感应图案的配置的俯视图。
图5为配置于显示面板一面的本发明的一个具体实例的触控面板的示意性垂直截面图。
图6为制造例1至5的层叠体的垂直截面图。
图7为制造例6的层叠体的垂直截面图。
具体实施方式
本发明提供一种配置在显示面板的可见侧的触控面板，其包括：感应图案，其形成于基板的可见侧一面上；及金属配线，其在上述一面配置于与显示面板的像素之间的边界对应的区域的上侧，并连接上述感应图案与衬垫部，因此能够展现改良的触控灵敏度及极好的透射率。
[触控面板]
图3和图5为配置于显示面板的一面的本发明的一个具体实例的触控面板的示意性垂直截面图；且图4为示意性地说明本发明的一个具体实例的触控面板中金属配线及感应图案的配置的俯视图。下面，参考附图更详细地说明本发明。但说明书附图例示本发明的优选实施例，与上述的发明的内容一同用于进一步理解本发明的技术思想，因此本发明不能仅被限定于这些记载于附图的内容解释。
本发明之触控面板200配置于显示面板100的可见侧。
显示面板100并不特别受限，可以为本领域中通常使用的液晶面板、OLED面板等。OLED面板可为具有红色、绿色、蓝色发光二极管的RGB OLED面板，或具有发白光二极管的白OLED面板。
若显示面板100为液晶面板或白OLED面板，则可提供具有彩色图案的彩色滤光片，且红色、绿色、蓝色色彩的图案被配置成分别对应于红色、绿色及蓝色子像素，藉此表达色彩。
当显示面板100为RGB OLED面板时，红色、绿色、蓝色发光二极管(LED)被配置成分别对应于红色、绿色及蓝色子像素，藉此表达色彩。
显示面板100可包括第一黑矩阵层(未说明)以界定像素之间的边界。第一黑矩阵层可界定各像素之间、以及各子像素之间的边界，且用来改良对比度。
除此之外，本发明的显示面板100可进一步包括本领域中通常使用的要素。
根据本发明之触控面板200可包括形成于基板210的可见侧一面上的感应图案220。
感应图案220可提供关于触控点的X坐标及Y坐标的信息。更明确而言，当用户的手或对象接触时，随接触位置的电容之改变可经由感应图案220、迹线230及衬垫部(未说明)被传输至驱动电路侧。接着，电容的改变由X及Y输入处理电路(未说明)转换成电信号以因此识别接触位置。
衬垫部(未说明)在基板210的可见侧一面位于边框部，且包括连接至各迹线230及软电路板(未说明)的一个以上衬垫(未说明)。
感应图案220可无限制地使用本领域已知的透明电极材料。例如可以举出氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)、氧化铟锌锡(IZTO)、氧化镉锡(CTO)、聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)(PEDOT，poly(3,4-ethylene dioxy thiophene))、碳奈米管(CNT)、石墨烯等，其单独或以两个以上的组合来使用。优选使用氧化铟锡(ITO)。
感应图案220的厚度并不特别受限，例如可彼此独立为10nm至150nm。若厚度小于10nm，则电阻高而可能使灵敏度下降。当厚度超出150nm时，透射率下降而可能增加功率消耗。
基板210可无限制地使用本领域中通常使用的材料，例如可举出玻璃、聚醚砜(PES，polyethersulphone)、聚丙烯酸酯(PAR，polyacrylate)、聚醚酰亚胺(PEI，polyetherimide)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN，polyethyelene napthalate)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET，polyethyelene terepthalate)、聚苯硫醚(PPS，polyphenylene sulfide)、聚烯丙酯(polyallylate)、聚酰亚胺(polyimide)、聚碳酸酯(PC，polycarbonate)、三乙酸纤维素(TAC)、乙酸丙酸纤维素(CAP，cellulose acetate propionate)等。
另外，基板210可为显示面板100的可见侧一面。
金属配线230可在上述一面上配置于与显示面板100的像素之间的边界对应的区域的上侧，以连接感应图案220与衬垫部。
由于金属具有低电阻，因此通过将感应图案300与衬垫部经由金属配线230连接，从而能够提高触控灵敏度。
然而，金属具有高反射率，因此，当其用于图像显示设备中时，其反射从显示设备中的光源发出的内部光而可能降低显示设备的透射率。
然而，根据本发明的金属配线230配置于与显示面板100的像素之间的边界对应的区域的上侧，与显示面板100的像素之间的边界对应的区域为由于第一黑矩阵层(未说明)而基本上内部光不被透射的区域，因此，不会发生由金属配线230所引起的透射率降低的问题。
在此观点，金属配线230可以配置成其宽度位于由像素之间的边界的宽度界定的区域的上侧，优选可形成为其宽度的中心配置于像素之间的边界的宽度的中心中的垂直上侧。
本发明的金属配线230可由金属材料制成。举例而言，例如可以为钼、银、铝、铜、钯、金、铂、锌、铅、锡、钛或其合金。优选地，根据本发明的金属配线230可由上述金属材料中具有0.03至4的折射率(n)及2至7之吸光系数(k)的金属材料形成。
金属配线230的厚度并不特别受限，例如可以为例如10nm至1000nm。若厚度小于10nm，则电阻增加而可能减小触控灵敏度。当厚度超出1000nm时，虽然电阻降低但工序时间增加而可能增加生产成本。
根据本发明，单位感应图案之间的配置及连接各单位感应图案220与衬垫部的金属配线230的配置或方向并不特别受限，可考虑表面电阻、触控灵敏度等而适当选择。
举例而言，感应图案220可以分离配置成多个单位感应图案220，且上述金属配线230从各单位感应图案220延伸至最接近的边框部，在边框部上将上述感应图案220与衬垫部连接。
当将触控面板200应用至图像显示设备时，触控面板可被划分成用于显示图像的显示部，及作为并不显示图像的框架部的边框部。图像仅显示于显示部上，且接收触摸功能，因此，通常，感应图案220形成于显示部上，在边框部形成电路等。
如图4中所说明，当迹线230从各单位感应图案220延伸至最接近的边框部时，形成于显示部的迹线的长度变短而电阻降低，因此能够提高触控灵敏度。
对于图4中在最上列处的感应图案220，展示金属配线分别延伸至左侧及右侧处的边框部。然而，若金属配线相较于左侧及右侧边框部距各单位感应图案220更接近于上部边框部，则金属配线亦可延伸至上部边框部。
如图5中所说明，根据本发明的触控面板在上述一面上配置于与显示面板100中像素之间的边界对应的区域的上侧，且可进一步包括辅助感应图案240以覆盖金属配线230。
辅助感应图案240可由作为感应图案220的材料例示的材料形成，优选由氧化铟锡(ITO)形成。
当进一步包括用于覆盖金属配线230的辅助感应图案240时，上述辅助感应图案240减小金属配线230的反射率，能够抑制金属配线230反射外部光而被辨认。
辅助感应图案240可具有在针对感应图案220之厚度例示的范围内之厚度。若辅助感应图案240的厚度小于30nm或超出150nm，则可能减小金属配线230之反射率的效果甚微。
[触控面板的制造方法]
此外，本发明提供一种触控面板的制造方法。
下文中，将详细地描述本发明的一个具体实例的触控面板的制造方法。
首先，在基板210的可见侧一面上形成感应图案220。
基板210的材料并不特别受限，例如可以为由上述范围内的材料形成的基板210。
形成感应图案220的方法并不特别受限，可以使用本领域中公知的方法，例如可以利用物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)等多种薄膜沉积技术来形成。举例而言，可利用作为物理气相沉积法的一例的反应性溅镀来形成。或者，可使用光刻法来形成。
感应图案220可无限制地使用本领域中已知的透明电极材料。例如可以举出氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)、氧化铟锌锡(IZTO)、氧化镉锡(CTO)等，其可单独或以两种以上的组合来使用。优选使用氧化铟锡(ITO)。
感应图案220的厚度不受限制，例如可以为10nm至150nm。若感应图案220的厚度低于10nm，则电阻高而可能减小触控灵敏度。当厚度超出150nm时，透射率减小而可能增加功率消耗。
其后，可在上述一面上形成用于连接上述感应图案220与衬垫部的金属配线230。
根据本发明的另一实施例，上述感应图案220可分离配置成多个单位感应图案220，上述金属配线230形成为从各单位感应图案220延伸至最接近的边框部，在上述边框部上将感应图案220与衬垫部连接。在此状况下，形成于显示部上的迹线的长度变短而电阻降低，因此能够提高触控灵敏度。
由于金属具有低电阻，因此通过将感应图案300与衬垫部经由金属配线230连接，从而能够提高触控灵敏度。
然而，金属具有高反射率，因此，当其用于图像显示设备中时，其反射从显示设备中的光源发出的内部光而可能降低显示设备的透射率。
然而，本发明在对应于黑矩阵220的区域的上侧形成金属配线230，此区域为由于黑矩阵层200而基本上内部光不被透射的区域，因此不会发生由金属配线230引起的透射率降低的问题。
在此观点，金属配线230可以形成为其宽度位于由黑矩阵220的宽度界定的区域的上侧，优选金属配线可形成为宽度的中心能够配置于黑矩阵220的宽度的中心中的垂直上侧。
金属配线230的形成方法并不特别受限，可以使用本领域中公知的方法。例如可以利用物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)等多种薄膜沉积技术来形成。举例而言，可利用作为物理气相沉积法的一例的反应性溅镀来形成。或者，可使用光刻法来形成。
金属配线230可由上述范围内的金属材料制成。优选地，金属配线230可由上文说明之金属材料当中具有0.03至4之折射率(n)及2至7之吸光系数(k)的金属材料形成。
金属配线230可以以上述范围内的厚度形成。
根据本发明，单位感应图案220之间的配置及连接各单位感应图案220与衬垫部的金属配线230的配置或方向并不特别受限，可考虑表面电阻、触控灵敏度等而适当选择。
举例而言，感应图案220可以分离配置成多个单位感应图案220，且上述金属配线230从各单位感应图案220延伸至最接近的边框部，在边框部上将感应图案220与衬垫部连接。
根据本发明的另一具体实例，本发明可进一步包括在上述一面上形成辅助感应图案240以覆盖上述金属配线230的步骤。
辅助感应图案230可由作为感应图案220的材料例示的材料形成，优选由氧化铟锡(ITO)形成。
当进一步包括辅助感应图案230以覆盖金属配线230时，辅助感应图案240减小金属配线230的反射率，能够抑制金属配线230反射外部光而被辨认。
辅助感应图案240可利用作为感应图案220的制造方法例示的上述范围内的方法形成。
辅助感应图案240可以以在针对感应图案220的厚度例示的范围内的厚度形成。若辅助感应图案500的厚度小于30nm或超出150nm，则可能减小金属配线230的反射率的效果甚微。
除以上描述内容外，可以通过现有技术中已知的另外工序来形成触控面板。
制造例1
在玻璃基板(折射率：1.51)上利用钼(折射率：3.78，吸光系数：3.52)形成300nm的厚度的金属图案，接着，在上述基板上利用氧化铟锡(ITO)(折射率：1.89，吸光系数：0.127)形成55nm的厚度的图案以覆盖金属配线，从而制造了图6中的层叠体。
制造例2
除了将氧化铟锡(ITO)(折射率：1.89，吸光系数：0.127)图案的厚度设为30nm外，利用与制造例1相同的方法制造层叠体。
制造例3
除了将氧化铟锡(ITO)(折射率：1.89，吸光系数：0.127)图案的厚度设为150nm外，利用与制造例1相同的方法制造层叠体。
制造例4
除了利用铂(Pt)(折射率：2.1313，吸光系数：3.17)代替钼形成金属图案外，利用与制造例1相同的方法制造层叠体。
制造例5
除了利用铜(Cu)(折射率：0.944，吸光系数：2.59)代替钼形成金属图案外，利用与制造例1相同的方法制造层叠体。
制造例6
在玻璃基板(折射率：1.51)上形成55nm厚度的氧化铟锡(ITO)(折射率：1.89，吸光系数：0.127)图案，且在ITO图案上利用钼(折射率：3.78，吸光系数：3.52)形成300nm厚度的金属图案，从而制造图7中的层叠体。
制造例7
在玻璃基板(折射率：1.51)上形成55nm厚度的氧化铟锡(ITO)(折射率：1.89，吸光系数：0.127)图案，且在ITO图案上利用铂(折射率：2.1313，吸光系数：3.71)形成300nm厚度的金属图案，从而制造图7中的层叠体。
制造例8
在玻璃基板(折射率：1.51)上形成55nm厚度的氧化铟锡(ITO)(折射率：1.89，吸光系数：0.127)图案，且在ITO图案上利用铜(折射率：0.944，吸光系数：2.59)形成300nm厚度的金属图案，从而制造图7中的层叠体。
实验例
(1)ITO图案的电阻测定
对于在参考例1至7中制造的层叠体，测定ITO图案的电阻。
上述层叠体如下制造：在玻璃基板上沉积5cm×5cm面积的ITO以形成感应图案，沉积与上述感应图案接触的5cm×30μm面积的钼图案以形成金属配线，接着在上述金属配线上沉积ITO以形成辅助感应图案。氧化铟锡及钼的厚度记载于下述表1中。
其后，利用万用表测定ITO图案的电阻，并记载于以下表1中。
[表1]
区分 ITO厚度(nm) Mo厚度(nm) 相对电阻 变化率
参考例1 55 0 100.0％ -
参考例2 55 10 11.3％ -88.7％
参考例3 55 50 4.5％ -95.5％
参考例4 55 100 3.6％ -96.4％
参考例5 55 300 3.0％ -97.0％
参考例6 55 500 2.9％ -97.1％
参考例7 55 1000 2.7％ -97.3％
参考以上表1，相较于参考例1中的层叠体，参考例2至7中的层叠体的感应图案的电阻显著低。
(2)反射率测定
利用ST-4000(KMAC)测定上述制造例的层叠体中图6及图7所示的A及B位置上的400nm至700nm的波长范围下的反射率。
另外，计算400nm至700nm的波长范围下的平均反射率，进行了比较。
[表2]
参考以上表1，制造例1至5中的层叠体在A与B位置之间的反射率的差异小。
然而，制造例6至8中的层叠体在B位置上具有高反射率，因此在A与B位置之间的反射率差非常大。
符号说明
100：显示面板，200：触控面板，210：基板，220：感应图案，230：金属配线，240：辅助感应图案。

Claims (16)

1.一种触控面板，其配置于显示面板的可见侧，上述触控面板包含：
感应图案，其形成于基板的可见侧一面上；及
金属配线，其在上述一面配置于与显示面板的像素之间的边界对应的区域的上侧，并连接上述感应图案与衬垫部。
2.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，
上述感应图案由从氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)、氧化铟锌锡(IZTO)及氧化镉锡(CTO)构成的组中选择的一种以上的材料形成。
3.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，
上述感应图案分离配置成多个单位感应图案，且
上述金属配线从各单位感应图案延伸至最接近的边框部，在上述边框部上将上述感应图案与衬垫部连接。
4.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，
上述金属配线由钼、银、铝、铜、钯、金、铂、锌、锡、钛、或它们的合金材料形成。
5.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，
上述金属配线的厚度为10nm至1000nm。
6.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，
进一步包括辅助感应图案，其在上述一面配置于与显示面板的像素之间的边界对应的区域的上侧，覆盖上述金属配线。
7.根据权利要求6所述的触控面板，其特征在于，
上述辅助感应图案由从氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)、氧化铟锌锡(IZTO)及氧化镉锡(CTO)构成的组中选择的一种以上的材料形成。
8.根据权利要求6所述的触控面板，其特征在于，
上述辅助感应图案的厚度为30nm至150nm。
9.一种触控面板的制造方法，其包含：
在基板的可见侧一面上形成感应图案的步骤；及
在上述一面上形成金属配线以连接上述感应图案与衬垫部的步骤，
其中上述金属配线配置成位于与显示面板的像素之间的边界对应的区域的上侧。
10.根据权利要求9所述的触控面板的制造方法，其特征在于，
上述感应图案由从氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)、氧化铟锌锡(IZTO)及氧化镉锡(CTO)构成的组中选择的一种以上的材料形成。
11.根据权利要求9所述的触控面板的制造方法，其特征在于，
上述感应图案形成为分离配置成多个单位感应图案，且
上述金属配线形成为从各单位感应图案延伸至最接近的边框部，在上述边框部上将上述感应图案与衬垫部连接。
12.根据权利要求9所述的触控面板的制造方法，其特征在于，
上述金属配线的厚度为10nm至1000nm。
13.根据权利要求9所述的触控面板的制造方法，其特征在于，
上述金属配线由钼、银、铝、铜、钯、金、铂、锌、锡、钛、或它们的合金材料形成。
14.根据权利要求9所述的触控面板的制造方法，其特征在于，
进一步包括在上述一面上形成覆盖上述金属配线的辅助感应图案的步骤。
15.根据权利要求14所述的触控面板的制造方法，其特征在于，
上述辅助感应图案由从氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)、氧化铟锌锡(IZTO)及氧化镉锡(CTO)构成的组中选择的一种以上的材料形成。
16.根据权利要求14所述的触控面板的制造方法，其特征在于，
上述辅助感应图案的厚度为30nm至150nm。
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