CN106432769B - 具有透明导电膜的积层体以及积层体的制造方法 - Google Patents

具有透明导电膜的积层体以及积层体的制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN106432769B
CN106432769B CN201610649573.6A CN201610649573A CN106432769B CN 106432769 B CN106432769 B CN 106432769B CN 201610649573 A CN201610649573 A CN 201610649573A CN 106432769 B CN106432769 B CN 106432769B
Authority
CN
China
Prior art keywords
compound
laminate
methyl
acryloyl group
general formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201610649573.6A
Other languages
English (en)
Other versions
CN106432769A (zh
Inventor
伊藤光人
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyochem Co Ltd
Artience Co Ltd
Original Assignee
Toyo Ink SC Holdings Co Ltd
Toyochem Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toyo Ink SC Holdings Co Ltd, Toyochem Co Ltd filed Critical Toyo Ink SC Holdings Co Ltd
Publication of CN106432769A publication Critical patent/CN106432769A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN106432769B publication Critical patent/CN106432769B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/06—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B27/08—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/0427—Coating with only one layer of a composition containing a polymer binder
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/18—Layered products comprising a layer of synthetic resin characterised by the use of special additives
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/36—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20—Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/24—Acids; Salts thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/34—Silicon-containing compounds
    • C08K3/36—Silica
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D163/00—Coating compositions based on epoxy resins; Coating compositions based on derivatives of epoxy resins
    • C09D163/10—Epoxy resins modified by unsaturated compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/24—Electrically-conducting paints
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B5/00—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form
    • H01B5/14—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form comprising conductive layers or films on insulating-supports
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B38/00—Ancillary operations in connection with laminating processes
    • B32B2038/0052—Other operations not otherwise provided for
    • B32B2038/0076—Curing, vulcanising, cross-linking
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2264/00—Composition or properties of particles which form a particulate layer or are present as additives
    • B32B2264/10—Inorganic particles
    • B32B2264/102—Oxide or hydroxide
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/20—Properties of the layers or laminate having particular electrical or magnetic properties, e.g. piezoelectric
    • B32B2307/202—Conductive
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
    • B32B2307/412—Transparent
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2367/00—Characterised by the use of polyesters obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain; Derivatives of such polymers
    • C08J2367/02—Polyesters derived from dicarboxylic acids and dihydroxy compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2463/00—Characterised by the use of epoxy resins; Derivatives of epoxy resins
    • C08J2463/10—Epoxy resins modified by unsaturated compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20—Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
    • C08K2003/2227—Oxides; Hydroxides of metals of aluminium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20—Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
    • C08K2003/2237—Oxides; Hydroxides of metals of titanium
    • C08K2003/2241—Titanium dioxide
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20—Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
    • C08K2003/2244—Oxides; Hydroxides of metals of zirconium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20—Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
    • C08K2003/2296—Oxides; Hydroxides of metals of zinc

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Abstract

本发明在制造透明导电性膜时，提供一种兼具硬涂性与透明性以及对于严酷的活性能量线照射也可耐受的密合性的具有透明导电性膜的积层体以及积层体的制造方法。本发明通过如下具有透明导电膜的积层体以及积层体的制造方法来解决，所述积层体在作为聚酯膜的基材上具有将包含化合物(A)的活性能量线硬化性组合物硬化而成的树脂层，所述化合物(A)具有芴结构和/或联苯结构、以及2个以上的(甲基)丙烯酰基，并且所述积层体还具有透明导电膜。

Description

具有透明导电膜的积层体以及积层体的制造方法
技术领域
本发明涉及一种具有基材、将活性能量线硬化性组合物硬化而成的树脂层、以及透明导电膜的积层体以及形成其的制造方法。
背景技术
以前，在触摸面板用途等中使用在聚酯等基材上设置有透明导电膜的透明导电性的积层体。透明导电膜通常使用氧化铟锡(Indium Tin Oxide，ITO)等金属氧化物的薄膜，在基材上利用溅射法或真空蒸镀来积层。
作为触摸面板的动作方式，电阻膜式为主流，但近年来，静电电容式急速扩大。电阻膜式触摸面板中使用的具有透明导电性的积层体通常包括未经图案化的透明导电膜。另一方面，静电电容式触摸面板中通常使用积层有经图案化的透明导电膜的透明导电性的积层体。
静电电容式触摸面板中使用的具有透明导电性的积层体通常利用照相平版蚀刻(photolithoetching)等，对透明导电膜进行图案化，在俯视图上存在透明导电膜的图案部与非图案部。
如上所述的使用透明导电膜经图案化的具有透明导电性的积层体的静电电容式触摸面板，其透明导电膜的图案部可见的所谓“透视”的现象成为问题，使作为显示装置的品质下降。
例如专利文献1、专利文献2等中提出了抑制透明导电膜图案的透视。
[现有技术文献]
[专利文献]
[专利文献1]日本专利特开2011-84075号
[专利文献2]日本专利第5110226号
发明内容
[发明所欲解决的课题]
近年来，根据积层体的用途而在基材的单面或两面上多层化，在这些各层形成时或透明导电膜的图案化时照射大量的活性能量线。专利文献1或专利文献2的技术中，虽显现出抑制透明导电膜图案的透视的效果，但在树脂层接受到大量的活性能量线的情况下，存在与基材的密合性下降的课题。另外，为了确保基材与树脂层的密合性，若欲以活性能量线的累计光量不成为大量的方式设计层构成，则产生积层体的层构成受到限定的问题。
因此，本发明的目的在于当制造具有透明导电性的积层体时，提供具有透明性以及对于大量的活性能量线照射也可耐受的密合性、与透明导电性的积层体。
[解决课题的手段]
本发明涉及一种在作为聚酯膜的基材上具有树脂层，且更具有透明导电膜的积层体，所述树脂层是将包含具有芴结构和/或联苯结构、以及2个以上的(甲基)丙烯酰基的化合物(A)的活性能量线硬化性组合物进行硬化而成。
另外，本发明涉及所述积层体，其中所述树脂层是将更包含具有3个以上的(甲基)丙烯酰基的化合物(X)(其中，为化合物(A)的情况除外)的组合物硬化而成的层。
另外，本发明涉及所述积层体，其中在具有芴结构和/或联苯结构、以及2个以上的(甲基)丙烯酰基的化合物(A)，与具有3个以上的(甲基)丙烯酰基的化合物(X)(其中，为化合物(A)的情况除外)的固体成分的合计100重量％中，化合物(A)的含量为10重量％～90重量％。
另外，本发明涉及所述积层体，其中所述化合物(A)为下述通式(1)所表示的化合物(A1)。
通式(1)：
[化1]
(通式(1)中，R1及R3中至少一个为下述所示的四价或一价有机残基，
R2表示具有(甲基)丙烯酰基的一价有机残基)
[化2]
[化3]
另外，本发明涉及所述积层体，其中所述化合物(A)为下述通式(2)所表示的化合物(A2)。
通式(2)：
R5-O-R4-O-R5
(通式(2)中，R4为下述所示的二价有机残基，
R5表示具有(甲基)丙烯酰基的一价有机残基)
[化4]
另外，本发明涉及所述积层体，其中在照射累计光量为2000mJ/cm2以上的活性能量线的情况下，利用依据JIS K5600-5-6的附着性交叉切割法来测定的所述基材与所述树脂层的密合性为每单位面积的剥离面积小于5％。
另外，本发明涉及所述积层体，其中所述组合物还包含金属氧化物。
另外，本发明涉及所述积层体，其中所述金属氧化物包含钛和/或锆原子。
本发明涉及一种积层体的制造方法，其包括：在作为聚酯膜的基材上，涂敷包含具有芴结构和/或联苯结构、以及2个以上的(甲基)丙烯酰基的化合物(A)的活性能量线硬化性组合物，照射活性能量线使其硬化而形成树脂层的步骤；以及
形成透明导电膜的步骤。
[发明的效果]
通过本发明，可提供具有透明性以及对于大量的活性能量线照射也可耐受的密合性与透明导电性的积层体。
具体实施方式
本发明的积层体在基材膜上的单面或两面上依次设置作为活性能量线硬化膜的树脂层、以及透明导电膜。
以下，对于构成本发明的具有作为聚酯膜的基材、将活性能量线硬化性组合物硬化而成的树脂层、以及透明导电膜的积层体的各个构成要素进行详细说明。
<聚酯膜>
本发明的聚酯膜的折射率为1.61至1.70，特别优选使用聚对苯二甲酸乙二酯膜。
聚酯膜的折射率优选为1.62至1.69的范围，尤其优选为1.63至1.68的范围，特别优选为1.64至1.67的范围。
聚酯膜的厚度适当为20μm至300μm的范围，优选为50μm至250μm的范围，更优选为50μm至200μm的范围。
本发明的聚酯膜可在其表面更具有包含有机物或无机物的层，其具体例可列举用以提高与其他层的粘接性的易粘接层。
设置有易粘接层的聚酯膜的市售品可列举：
东丽(Toray)公司制造：露米勒(Lumirror)系列，东洋纺公司制造：考斯摩辛(Cosmoshine)系列等。特别优选为透明性高且在光学用途中使用的东丽(Toray)公司制造：露米勒(Lumirror)UH13、U48系列。
<树脂层>
本发明的树脂层是将包含具有芴结构和/或联苯结构、以及2个以上的(甲基)丙烯酰基的化合物(A)的活性能量线硬化性组合物硬化而成的层。
化合物(A)若在其结构中具有1个以上的芴结构和/或联苯结构、与2个以上的(甲基)丙烯酰基即可，该化合物(A)与聚酯膜的密合性优异。
化合物(A)的优选具体例也可列举下述通式(1)所表示的化合物(A1)。化合物(A1)由于硬涂性优异而可适合使用。
通式(1)：
[化1]
通式(1)中，R1及R3中至少一个为具有芴结构或联苯结构的四价或一价有机残基，
R2表示具有(甲基)丙烯酰基的一价有机残基。
通式(1)中，R1若为具有芴结构或联苯结构者，则并无特别限定，适合的具体例可列举下述所示的四价有机残基。优选为具有联苯结构的残基。
[化2]
通式(1)中，在R3具有芴结构或联苯结构的情况下，R1也可不具有芴结构或联苯结构。所述并无特别限定，适合的具体例可列举下述所示的四价有机残基。优选为具有芳香环的残基。
[化3]
通式(1)中，R3若为具有芴结构或联苯结构者，则并无特别限定，适合的具体例可列举下述所示的一价有机残基。
[化4]
通式(1)中，在R1具有芴结构或联苯结构的情况下，R3也可不具有芴结构或联苯结构。所述者并无特别限定，可列举氢原子、或者下述所示的一价有机残基。
[化5]
通式(1)中，R2若为具有(甲基)丙烯酰基者，则并无特别限定，适合的具体例可列举下述所示的一价有机残基。
[化6]
通式(1)所表示的化合物(A1)若具有2个以上的芴结构和/或联苯结构，则与基材的密合性优异，故而优选，进而，优选为R1及R3两者具有芴结构或联苯结构。
化合物(A)的(甲基)丙烯酰基必须为2个以上。在2个以下的情况下，所获得的活性能量线硬化膜与作为聚酯膜的基材的密合性下降。进而，由于树脂层的硬涂性优异，故而(甲基)丙烯酰基的个数优选为3个以上，尤其优选为6个以上。
通式(1)所表示的化合物(A1)中，R3为氢原子的化合物(A1-1)例如可通过使具有R1所表示的结构的四羧酸的二酐(b1)，与选自丙烯酸2-羟基乙酯、季戊四醇三丙烯酸酯及二季戊四醇五丙烯酸酯中的至少一种化合物(b2)进行反应而获得。
R3为氢原子以外的化合物(A1-2)例如可通过使所述反应中获得的化合物中所含的羧基，与选自由联苯缩水甘油醚、甲基丙烯酸缩水甘油酯、以及丙烯酸4-羟基丁酯缩水甘油醚所组成的群组中的至少一种含环氧基的化合物(b3)进行反应而获得。
四羧酸二酐(b1)若为具有芴结构或联苯结构者，则并无特别限定，适合的具体例可列举：具有联苯骨架的3，3′，4，4′-联苯四羧酸二酐、具有芴骨架的9，9-双(3，4-二羧基苯基)芴二酐等，优选为具有联苯结构者。在含环氧基的化合物(b3)具有芴结构或联苯结构的情况下，四羧酸二酐(b1)也可不具有芴结构或联苯结构。所述者并无特别限定，适合的具体例可列举1，2，4，5-苯四羧酸二酐、1，2，3，4-丁烷四羧酸二酐，优选为具有芳香环者。
这些四羧酸二酐中，3，3′，4，4′-联苯四羧酸二酐由于可兼具硬化膜的硬涂性与金属氧化物的良好分散性，故而特别优选。
就光硬化性与硬涂性的观点而言，所述化合物(b2)优选为季戊四醇三丙烯酸酯以及二季戊四醇五丙烯酸酯。
季戊四醇三丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯的具体的市售品可列举：毕斯寇特(Viscoat)#300(大阪有机化学工业(股)制造)、卡亚拉德(KAYARAD)PET30(日本化药(股)制造)、佩蒂亚(PETIA)(大赛璐(Daicel)UCB(股)制造)、亚罗尼斯(Aronix)M305(东亚合成(股)制造)、NK酯(NK Ester)A-TMM-3LMN(新中村化学工业(股)制造)、莱特丙烯酸酯(LightAcrylate)PE-3A(共荣社化学(股)制造)、SR-444(沙多玛(Sartomer)(股)制造)、莱特丙烯酸酯(Light Acrylate)DPE-6A(共荣社化学(股)制造)、卡亚拉德(KAYARAD)DPHA(日本化药(股)制造)、亚罗尼斯(Aronix)M402(东亚合成(股)制造)等。
这些市售品分别含有5重量％～15重量％左右的具有2个羟基的季戊四醇二丙烯酸酯、二季戊四醇四丙烯酸酯作为副成分。因此，在四羧酸二酐(b1)与季戊四醇三丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯的反应中，除了通式(1)所表示的化合物(A1)以外，还同时生成由副成分而来的反应物、进而经高分子量化的树脂。
所述四羧酸二酐(b1)与化合物(b2)的反应为四羧酸二酐所具有的2个羧酸酐基、与化合物(b2)所具有的羟基的反应，可利用现有公知的方法来进行。例如，可使四羧酸二酐(b1)与化合物(b2)在如环己酮之类的有机溶媒中，在如1，8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯之类的催化剂的存在下，在50℃～120℃的温度下进行反应。该情况下，可在反应系统中添加如甲基对苯二酚(2-METHYLHYDROQUINONE)之类的聚合抑制剂。
可不对所述反应中获得的包含R3为氢原子的化合物(A1-1)的反应物进行纯化，进而使化合物(b3)进行反应。
化合物(A1-1)与化合物(b3)的反应为化合物(A1-1)所具有的羧基与化合物(b3)所具有的环氧基的反应，可利用现有公知的方法来进行。例如，该反应可在如二甲基苄基胺等之类的胺催化剂的存在下，在50℃～120℃的温度下进行。
这些反应可在无溶媒条件下进行，或也可在对反应为惰性的溶媒中进行。所述溶媒例如可列举：正己烷、苯或甲苯等烃系溶媒；丙酮、甲基乙基酮或甲基异丁基酮等酮系溶媒；乙酸乙酯或乙酸丁酯等酯系溶媒；二乙醚、四氢呋喃或二恶烷等醚系溶媒；二氯甲烷、氯仿、四氯化碳、1，2-二氯乙烷或全氯乙烯(Perclene)等卤素系溶媒；乙腈、N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、N，N-二甲基咪唑烷酮等极性溶媒等。这些溶媒也可并用两种以上。
在添加溶剂的情况下，优选为使溶剂挥发后进行硬化处理。溶剂并无特别限制，可使用各种公知的有机溶剂。具体而言，例如可列举：环己酮、甲基异丁基酮、甲基乙基酮、丙酮、乙酰基丙酮、甲苯、二甲苯、正丁醇、异丁醇、叔丁醇、正丙醇、异丙醇、乙醇、甲醇、3-甲氧基-1-丁醇、3-甲氧基-2-丁醇、乙二醇单甲醚、乙二醇单正丁醚、2-乙氧基乙醇、1-甲氧基-2-丙醇、二丙酮醇、乳酸乙酯、乳酸丁酯、丙二醇单甲醚、乙二醇单丁醚乙酸酯、丙二醇单甲醚乙酸酯、乙酸2-乙氧基乙酯、乙酸丁酯、乙酸异戊酯、己二酸二甲酯、丁二酸二甲酯、戊二酸二甲酯、四氢呋喃、甲基吡咯烷酮等。这些有机溶剂也可并用两种以上。
化合物(A)的优选具体例也可列举下述通式(2)所表示的化合物(A2)。
通式(2)：
R5-O-R4-O-R5
通式(2)中，R4为具有芴结构或联苯结构的二价有机残基，
R5表示具有(甲基)丙烯酰基的一价有机残基。
通式(2)中，R4若为具有芴结构或联苯结构者，则并无特别限定，适合的具体例可列举下述所示的二价有机残基。优选为具有芴结构的残基。
[化7]
通式(2)中，R5若为具有(甲基)丙烯酰基者，则并无特别限定，适合的具体例可列举下述所示的一价有机残基。
[化8]
化合物(A2)例如可列举9，9-双[4-(2-丙烯酰氧基乙氧基)苯基]芴等。另外，市售品可使用：新中村化学工业公司制造的NK酯(NK Ester)A-BPEF、大阪燃气化学(Osaka GasChemicals)公司制造的奥古索尔(Ogsol)EA系列等。
活性能量线硬化性组合物可还包含光聚合引发剂。
光聚合引发剂若具有如下功能，即，可通过光激发而引发用以形成活性能量线硬化膜的(甲基)丙烯酰基的乙烯基聚合的功能，则无特别限定，例如可使用：单羰基化合物、二羰基化合物、苯乙酮化合物、安息香醚化合物、酰基氧化膦化合物、氨基羰基化合物等。
具体而言，单羰基化合物可列举：二苯甲酮、4-甲基-二苯甲酮、2，4，6-三甲基二苯甲酮、邻苯甲酰基苯甲酸甲酯、4-苯基二苯甲酮、4-(4-甲基苯硫基)苯基-乙酮、3，3′-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮、4-(1，3-丙烯酰基-1，3，3′-二甲基-4-甲氧基)二苯甲酮、4-(1，3-丙烯酰基-1，4，7，10，13-五氧代十三烷基)二苯甲酮、3，3′，4，4′-四(叔丁基过氧羰基)二苯甲酮、4-苯甲酰基-N，N，N-三甲基-1-丙烷胺盐酸盐、4-苯甲酰基-N，N-二甲基-N-2-(1-氧代-2-丙烯氧基乙基)甲基铵乙二酸盐、2-/4-异丙基硫杂蒽酮、2，4-二乙基硫杂蒽酮、2，4-二氯硫杂蒽酮、1-氯-4-丙氧基硫杂蒽酮、2-羟基-3-(3，4-二甲基-9-氧代-9H-硫杂蒽酮-2-氧基-N，N，N-三甲基-1-丙烷胺盐酸盐、苯甲酰基亚甲基-3-甲基萘并(1，2-d)噻唑啉等。
二羰基化合物可列举：1，2，2-三甲基-双环[2.1.1]庚烷-2，3-二酮、苯偶酰(benzil)、2-乙基蒽醌、9，10-菲醌(phenanthrenequinone)、甲基-α-氧代苯乙酸酯、4-苯基苯偶酰(benzil)等。
苯乙酮化合物可列举：2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1-(4-异丙基苯基)-2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1-(4-异丙基苯基)-2-羟基-二-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1-羟基-环己基苯基酮、2-羟基-2-甲基-1-苯乙烯基丙烷-1-酮聚合物、二乙氧基苯乙酮、二丁氧基苯乙酮、2，2-二甲氧基-1，2-二苯基乙烷-1-酮、2，2-二乙氧基-1，2-二苯基乙烷-1-酮、2-甲基-1-[4-(甲基硫基)苯基]-2-吗啉基丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉基苯基)丁烷-1-酮、1-苯基-1，2-丙二酮-2-(邻乙氧基羰基)肟、3，6-双(2-甲基-2-吗啉基-丙酰基)-9-丁基咔唑等。
安息香醚化合物可列举：安息香、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香异丙醚、安息香异丁醚、安息香正丁醚等。
酰基氧化膦化合物可列举：2，4，6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦、4-正丙基苯基-二(2，6-二氯苯甲酰基)氧化膦等。
氨基羰基化合物可列举：4-(二甲氧基氨基)苯甲酸甲酯、4-(二甲基氨基)苯甲酸乙酯、4-(二甲基氨基)苯甲酸2-正丁氧基乙酯、4-(二甲基氨基)苯甲酸异戊酯、苯甲酸2-(二甲基氨基)乙酯、4，4′-双-4-二甲基氨基二苯甲酮、4，4′-双-4-二乙基氨基二苯甲酮、2，5′-双(4-二乙基氨基苯亚甲基)环戊酮等。
光聚合引发剂的市售品可列举：汽巴精化(Ciba Specialty Chemicals)(股)制造的艳佳固(Irgacure)184、651、500、907、127、369、784、2959，巴斯夫(BASF)公司制造的鲁西林(Lucirin)TPO，日本华嘉(Nihon Siber Hegner)(股)制造的易晒固(Esacure)ONE等。
光聚合引发剂并不限定于所述化合物，若具有利用紫外线来引发聚合的能力，则可为任意者。这些光聚合引发剂除了使用一种以外，也可将两种以上混合使用。
关于光聚合引发剂的使用量并无特别限制，优选为相对于包含化合物(A)的活性能量线硬化性化合物的总量(在包含化合物(A)以外的光硬化性化合物的情况下，为化合物(A)与化合物(A)以外的光硬化性化合物的合计量)100重量份，在1重量份～20重量份的范围内使用。
作为增感剂，也可添加公知的有机胺等。
进而，除了所述自由基聚合用引发剂以外，也可并用阳离子聚合用的引发剂。
活性能量线硬化性组合物可更含有具有3个以上的(甲基)丙烯酰基的化合物(X)(但，为化合物(A)的情况除外)。通过化合物(X)，可进一步提高树脂层的硬涂性。
就涂膜强度、耐擦伤性的观点而言，化合物(X)可适合使用聚氨基甲酸酯聚(甲基)丙烯酸酯、聚环氧聚(甲基)丙烯酸酯等聚(甲基)丙烯酸酯类、多官能的丙烯酸酯类。
聚环氧聚(甲基)丙烯酸酯是将环氧树脂的环氧基以(甲基)丙烯酸进行酯化，且将官能基设为(甲基)丙烯酰基者，有对双酚A型环氧树脂的(甲基)丙烯酸加成物、对酚醛清漆型环氧树脂的(甲基)丙烯酸加成物等。
聚氨基甲酸酯聚(甲基)丙烯酸酯例如有：使二异氰酸酯与具有羟基的(甲基)丙烯酸酯类进行反应而获得者；将使多元醇与聚异氰酸酯在异氰酸酯基过剩的条件下进行反应而成的含异氰酸酯基的氨基甲酸酯预聚物，与具有羟基的(甲基)丙烯酸酯类进行反应而获得者。或者也可将使多元醇与聚异氰酸酯在羟基过剩的条件下进行反应而成的含羟基的氨基甲酸酯预聚物，与具有异氰酸酯基的(甲基)丙烯酸酯类进行反应而获得。
多元醇可列举：乙二醇、丙二醇、二乙二醇、二丙二醇、丁二醇、1，6-己二醇、3-甲基-1，5-戊二醇、新戊二醇、己三醇、三羟甲基丙烷、聚四亚甲基二醇、己二酸与乙二醇的缩聚物等。
聚异氰酸酯可列举：甲伸苯基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯等。
具有羟基的(甲基)丙烯酸酯类可列举：(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羟基丁酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二-三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯等。
具有异氰酸酯基的(甲基)丙烯酸酯类可列举：2-(甲基)丙烯酰氧基乙基异氰酸酯、(甲基)丙烯酰基异氰酸酯等。
光硬化性化合物的市售品可例示以下者。
东亚合成(股)制造：亚罗尼斯(Aronix)M-400、亚罗尼斯(Aronix)M-402、亚罗尼斯(Aronix)M-408、亚罗尼斯(Aronix)M-450、亚罗尼斯(Aronix)M-7100、亚罗尼斯(Aronix)M-8030、亚罗尼斯(Aronix)M-8060；
大阪有机化学工业(股)制造：毕斯寇特(Viscoat)#400；
化药沙多玛(Sartomer)(股)制造：SR-295；
大赛璐(Daicel)UCB(股)制造：DPHA、艾巴克力(Ebecryl)220、艾巴克力(Ebecryl)1290K、艾巴克力(Ebecryl)5129、艾巴克力(Ebecryl)2220、艾巴克力(Ebecryl)6602；
新中村化学工业(股)制造：NK酯(NK Ester)A-TMMT、NK寡聚(NK Oligo)EA-1020、NK寡聚(NK Oligo)EMA-1020、NK寡聚(NK Oligo)EA-6310、NK寡聚(NK Oligo)EA-6320、NK寡聚(NK Oligo)EA-6340、NK寡聚(NK Oligo)MA-6、NK寡聚(NK Oligo)U-4HA、NK寡聚(NKOligo)U-6HA、NK寡聚(NK Oligo)U-324A；
巴斯夫(BASF)公司制造：拉罗玛(Laromcr)EA81；
圣诺普科(San Nopco)(股)制造：佛托玛(Photomer)3016、
荒川化学工业(股)制造：毕姆赛特(Beamset)371、毕姆赛特(Beamset)575、毕姆赛特(Beamset)577、毕姆赛特(Beamset)700、毕姆赛特(Beamset)710；
根上工业(股)制造：阿特树脂(Art Resin)UN-3320HA、阿特树脂(Art Resin)UN-3320HB、阿特树脂(Art Resin)UN-3320HC、阿特树脂(Art Resin)UN-3320HS、阿特树脂(ArtResin)UN-9000H、阿特树脂(Art Resin)UN-901T、阿特树脂(Art Resin)HDP、阿特树脂(ArtResin)HDP-3、阿特树脂(Art Resin)H61；
日本合成化学工业(股)制造：紫光UV-7600B、紫光UV-7610B、紫光UV-7620EA、紫光UV-7630B、紫光UV-1400B、紫光UV-1700B、紫光UV-6300B；
共荣社化学(股)制造：莱特丙烯酸酯(Light Acrylate)PE-4A、莱特丙烯酸酯(Light Acrylate)DPE-6A、UA-306H、UA-306T、UA-306I；
日本化药(股)制造：卡亚拉德(KAYARAD)DPHA、卡亚拉德(KAYARAD)DPHA2C、卡亚拉德(KAYARAD)DPHA-40H、卡亚拉德(KAYARAD)D-310、卡亚拉德(KAYARAD)D-330。
所述具有3个以上的(甲基)丙烯酰基的化合物(X)可单独或混合多种来使用。
另外，通常，可用作化合物(b2)的季戊四醇三丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯的制品中存在：不具有羟基的季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯。因此，在化合物(b2)中使用季戊四醇三丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯的情况下，这些化合物中所含的季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯作为化合物(X)而有助于硬涂性的提高。
在具有芴结构和/或联苯结构、以及2个以上的(甲基)丙烯酰基的化合物(A)，与具有3个以上的(甲基)丙烯酰基的化合物(X)(其中，为化合物(A)的情况除外)的固体成分的合计100重量％中，化合物(A)的含量优选为10重量％～90重量％，尤其优选为20重量％～80重量％。其原因在于：若为所述范围内，则聚酯基材与树脂层的密合性、以及硬涂性优异。
活性能量线硬化性组合物也可为了调整作为硬化膜的树脂层的折射率而包含金属氧化物。
金属氧化物的D50粒径优选为0.005μm～0.200μm。金属氧化物的D50粒径例如可使用利用动态光散射法的日机装(股)制造的“纳奇克(Nanotrac)UPA”等来测定。
在D50粒径小于0.005μm的金属氧化物组合物的情况下，微粒子彼此的凝聚力非常大，因此存在透明性高的一次粒子水平的分散性下降的倾向。另一方面，在D50粒径超过0.200μm的情况下，由于粒径大，故而存在对于可见光等光容易产生散射，在硬化膜中产生混浊的倾向。
金属氧化物优选为含有选自由钛、锌、锆、硅、铝所组成的群组中的至少一种原子者。特别是含有钛和/或锆的任一种原子的金属氧化物更优选。
具体而言，可列举：氧化钛、氧化锌、氧化锆、氧化硅、氧化铝、钛酸钡等。这些金属氧化物也可利用有机物或无机物对表面进行处理。另外，这些金属氧化物也可并用两种以上。
在包含金属氧化物的情况下，其含量优选为硬化性组合物的固体成分中的10重量％～80重量％，更优选为30重量％～60重量％。
金属氧化物可使用预先作为包含所述化合物(A)的分散体而进行调整者。优选为使用化合物(A1)的分散体。
继而，对将活性能量线硬化性组合物进行硬化而成的树脂层的制造方法进行说明。
树脂层的制造方法例如包括：将活性能量线硬化性树脂组合物涂布于作为聚酯膜的基材上；以及照射活性能量线，使基材上的活性能量线硬化性组合物硬化。
更具体而言，可通过以干燥后的膜厚成为优选为0.02μm～30μm、更优选为0.02μm～20μm的方式，将该树脂组合物涂敷于作为聚酯膜的基材上后，进行硬化处理而形成。
涂敷方法可使用公知的方法，例如可使用：利用棒(rod)或线棒(wire bar)等的方法，或微凹版、凹版、模、帘幕、模唇(lip)、狭缝(slot)或旋转等各种涂布方法。
硬化处理可通过使用公知的技术，例如照射紫外线、电子束、波长为400nm～500nm的可见光线等活性能量线来进行。紫外线及波长为400nm～500nm的可见光线的线源(光源)中，可使用例如高压水银灯、超高压水银灯、金属卤化物灯、镓灯、氙灯、碳弧灯等。电子束源中可使用热电子放射枪、电解放射枪等。
就在步骤上容易管理的方面而言，所照射的活性能量线量优选为50mJ/cm2～1000mJ/cm2的范围内。
这些活性能量线照射中，可并用利用红外线、远红外线、热风、高频加热等的热处理。
硬化膜可在基材上涂敷活性能量线硬化性组合物，使其自然或强制干燥后进行硬化处理而形成，也可涂敷而进行硬化处理后，使其自然或强制干燥，但优选为在自然或强制干燥后进行硬化处理。
特别是在以电子束使其硬化的情况下，为了防止由水引起的硬化阻碍或者由有机溶剂的残留引起的涂膜的强度下降，更优选为使其自然或强制干燥后进行硬化处理。
硬化处理的时机可为与涂敷同时，也可为涂敷后。
所获得的硬化膜由于透明性、密合性优异，故而可适合作为光学材料来利用。
硬化膜的厚度优选为0.02μm～30μm。
进而，硬化膜的折射率优选为1.4～2.0的范围，更优选为1.5～1.9的范围。
用以获得本发明的活性能量线硬化膜的组合物可在不损及本发明的目的或效果的范围内还包含多种添加剂。具体而言，可列举：化合物(A)或化合物(X)以外的光硬化性化合物、聚合抑制剂、光增感剂、调平剂、表面活性剂、抗菌剂、抗结块剂、塑化剂、紫外线吸收剂、红外线吸收剂、抗氧化剂、硅烷偶联剂、导电性聚合物、导电性表面活性剂、无机填充剂、颜料、染料等。
<透明导电膜>
透明导电膜的材料可使用触摸面板的电极中使用的公知材料。例如可列举：氧化锡、氧化铟、氧化锑、氧化锌、氧化铟锡(ITO)、氧化锑锡(Antimony Tin Oxide，ATO)等金属氧化物。这些金属氧化物中优选使用ITO。
例如就确保表面电阻值为103Ω/□以下的良好导电性的观点而言，透明导电膜的厚度优选为10nm以上，更优选为15nm以上，特别优选为20nm以上。另一方面，若透明导电膜的厚度变得过大，则有时会产生透明性下降的不良情况，因此透明导电膜的厚度的上限优选为60nm以下，更优选为50nm以下，特别优选为40nm以下。
透明导电膜的折射率为1.81以上。进而，透明导电膜的折射率优选为1.85以上，更优选为1.90以上。上限优选为2.20以下，更优选为2.10以下。
透明导电膜的形成方法并无特别限定，可使用现有公知的方法。具体而言，例如可使用：真空蒸镀法、溅射法、离子镀法等干式工艺(dry process)。
本发明的透明导电膜经图案化。例如，将以所述方式制膜的透明导电膜进行图案化。图案化可根据透明导电膜所应用的用途来形成各种图案。此外，通过透明导电膜的图案化，形成图案部与非图案部，图案部的形状例如可列举条纹(stripe)状、格子状等。
透明导电膜的图案化通常通过蚀刻来进行。例如，通过利用光刻法、激光曝光法、或印刷法，在透明导电膜上形成图案状的抗蚀刻膜后进行蚀刻处理，从而使透明导电膜图案化。
蚀刻液是使用现有公知蚀刻液。例如使用：氯化氢、溴化氢、硫酸、硝酸、磷酸等无机酸，乙酸等有机酸，以及这些酸的混合物、以及它们的水溶液。
本发明的积层体若具有作为聚酯膜的基材、作为活性能量线硬化膜的树脂层、以及透明导电膜，且基材与树脂层邻接即可。其以外的层构成为任意，可视需要在基材或树脂层的单面设置折射率不同的膜或粘着层等。
以下列举本发明的积层体的若干优选构成例，但本发明并不限定于这些构成例。此外，下述构成例中，透明导电膜为经图案化的透明导电膜。透明导电膜以外的其他层未经图案化。
(I)基材/树脂层/透明导电膜
(II)基材/树脂层/(M)/透明导电膜
(III)(M)/基材/树脂层/透明导电膜
(IV)(M)/基材/树脂层/(M)/透明导电膜
(V)(M)/树脂层/基材/树脂层/透明导电膜
(VI)树脂层//基材/树脂层/透明导电膜
其中，(M)包含折射率不同的膜或粘着层的任一层。
折射率不同的膜为具有本发明的树脂层所具有的功能以外的功能。其形成方法并无特别限定，利用公知方法来形成。例如可使用：蒸镀、溅射等干式涂布法，使用棒、线棒的方法，微凹版、凹版、模、帘幕、模唇、狭缝、旋转等湿式涂布方法。所使用的材料也无限定，视需要可使用能够对积层体赋予信息记录功能、防眩功能、抗牛顿环(anti-Newton ring)功能、粘着功能、特定波长的遮断、色调修正等功能的一种以上的任意材料。
本发明的积层体在其制造时，在树脂层或任意层的硬化时、或透明导电膜的图案化时照射活性能量线。在该制造过程中，即便对树脂层照射的活性能量线的合计为累计光量2000mJ/cm2以上，作为聚酯膜的基材与作为活性能量线硬化膜的树脂层的密合性优异。此外，所述所谓累计光量，也包含用以形成作为活性能量线硬化膜的树脂层的初始硬化时的累计光量。
[密合性]
关于本发明的具有作为聚酯膜的基材、作为活性能量线硬化膜的树脂层、以及透明导电膜的积层体的密合性，利用依据JIS K5600-5-6的附着性交叉切割法来评价的密合性为每单位面积的剥离面积小于5％，非常优异。优选为小于2％。
详细而言，在实施例的评价中进行说明。
[实施例]
以下，基于制造例、实施例，对本发明进一步进行详细说明。在制造例、实施例中，份及％分别表示重量份及重量％。
所使用的化学品如以下所述。
＜四羧酸二酐(b1)＞
3，3′，4，4′-联苯四羧酸二酐(三菱化学(股)制造，商品名BPDA)
9，9-双(3，4-二羧基苯基)芴二酸酐(JFE化学(股)制造，商品名：BPAF)
1，2，3，4-丁烷四羧酸二酐(新日本理化(股)制造，商品名：利卡希德(Rikacid)BT-100)
1，2，4，5-苯四羧酸二酐(大赛璐(Daicel)(股)制造，商品名：均苯四甲酸二酐，PMDA)
邻苯二甲酸酐(和光纯药工业(股)制造)
＜化合物(b2)＞
季戊四醇三丙烯酸酯(1)(日本化药(股)制造，商品名：卡亚拉德(KAYARAD)PET-30，也包含作为副产物的季戊四醇四丙烯酸酯)
季戊四醇三丙烯酸酯(2)(新中村化学工业(股)制造，商品名：A-TMM-3LM-N，也包含作为副产物的季戊四醇四丙烯酸酯)
二季戊四醇五丙烯酸酯(新中村化学工业(股)制造，商品名：A-9570W，也包含作为副产物的二季戊四醇六丙烯酸酯)
丙烯酸2-羟基乙酯(日本催化剂(股)制造，HEA)
＜聚合抑制剂＞
甲基对苯二酚(和光纯药工业(股)制造)
＜催化剂＞
1，8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯(东京化成工业(股)制造)
二甲基苄基胺(和光纯药工业(股)制造)
＜含环氧基的化合物(b3)＞
甲基丙烯酸缩水甘油酯(日本陶氏化学(Japan Dow Chemical)(股)制造，GMA)
丙烯酸4-羟基丁酯缩水甘油醚(日本化成(股)制造，商品名：丙烯酸4-羟基丁酯缩水甘油醚)
联苯缩水甘油醚(三光(股)制造，商品名：OPP-G)
＜酸值的测定方法＞
依据JIS K 0070的电位差滴定法，对所测定的酸值(mgKOH/g)进行固体成分换算。
＜化合物(A1)的合成例＞
(合成例1)
在具备搅拌机、回流冷却管、干燥空气导入管、温度计的四口烧瓶中，投入80.0份的3，3′，4，4′-联苯四羧酸二酐、250.0份的羟值为122mgKOH/g的季戊四醇三丙烯酸酯(1)、0.24份的甲基对苯二酚、217.8份的环己酮，升温至60℃。继而，添加作为催化剂的1.65份的1，8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯，在90℃下搅拌8小时。在反应物的红外线(infrared，IR)测定中确认到酸酐基的峰值、即1780cm-1及1850cm-1附近的峰值消失后，进行冷却，使反应停止。在该时间点测定反应物的酸值，结果为94mgKOH/g。接着，在该溶液中添加140.0份的联苯缩水甘油醚、91.0份的环己酮，继而，添加作为催化剂的2.65份的二甲基苄基胺，在100℃下搅拌6小时，进行反应。一边继续反应，一边定期测定反应物的酸值，当酸值成为5.0mgKOH/g以下时，冷却至室温而使反应停止。所获得的树脂清漆为淡黄色透明，固体成分为60％，另外，最终的酸值为3.0mgKOH/g，因此所获得的树脂清漆的固体成分中的包含化合物(A)的反应物的比例为79％。
此外，所谓包含化合物(A)的反应物，表示除了化合物(A)以外，由化合物(b2)中包含多个羟基的副产物而来的高分子量反应物。包含化合物(A)的反应物的比例是根据树脂清漆的最终酸值来算出。其余表示反应中使用的化合物(b2)中不具有羟基的化合物或未反应原料。在以下的合成例2～合成例11中也同样。
(合成例2)
在具备搅拌机、回流冷却管、干燥空气导入管、温度计的四口烧瓶中，投入80.0份的1，2，3，4-丁烷四羧酸二酐、402.0份的羟值为113mgKOH/g的季戊四醇三丙烯酸酯(2)、0.33份的甲基对苯二酚、318.0份的环己酮，升温至60℃。继而，添加作为催化剂的2.41份的1，8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯，在90℃下搅拌8小时。在反应物的IR测定中确认到酸酐基的峰值、即1780cm-1及1850cm-1附近的峰值消失后，进行冷却，使反应停止。在该时间点测定反应物的酸值，结果为95mgKOH/g。
接着，在该溶液中添加182.9份的联苯缩水甘油醚、118.0份的环己酮，继而，添加作为催化剂的3.88份的二甲基苄基胺，在100℃下搅拌6小时。一边继续反应，一边定期测定反应物的酸值，当酸值成为5.0mgKOH/g以下时，冷却至室温而使反应停止。所获得的树脂清漆为淡黄色透明，固体成分为60％，最终的酸值为3.0mgKOH/g，因此所获得的树脂清漆固体成分中的包含化合物(A)的反应物为73％。
(合成例3)
在具备搅拌机、回流冷却管、干燥空气导入管、温度计的四口烧瓶中，投入80.0份的1，2，4，5-苯四羧酸二酐、364.9份的羟值为113mgKOH/g的季戊四醇三丙烯酸酯(2)、0.31份的甲基对苯二酚、294.1份的环己酮，升温至60℃。继而，添加作为催化剂的2.22份的1，8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯，在90℃下搅拌8小时。在反应物的IR测定中确认到酸酐基的峰值、即1780cm-1及1850cm-1附近的峰值消失后，进行冷却，使反应停止。在该时间点测定反应物的酸值，结果为93mgKOH/g。
接着，在该溶液中添加166.0份的联苯缩水甘油醚、107.1份的环己酮，继而，添加作为催化剂的3.58份的二甲基苄基胺，在100℃下搅拌6小时，冷却至室温而结束反应。一边继续反应，一边定期测定反应物的酸值，当酸值成为5.0mgKOH/g以下时，冷却至室温而使反应停止。所获得的树脂清漆为淡黄色透明，固体成分为60％，最终的酸值为3.0mgKOH/g，因此所获得的树脂清漆固体成分中的包含化合物(A)的反应物为74％。
(合成例4)
在具备搅拌机、回流冷却管、干燥空气导入管、温度计的四口烧瓶中，投入80.0份的3，3′，4，4′-联苯四羧酸二酐、359.0份的羟值为85mgKOH/g的二季戊四醇五丙烯酸酯、0.29份的甲基对苯二酚、290.1份的环己酮，升温至60℃。继而，添加作为催化剂的2.19份的1，8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯，在90℃下搅拌8小时。在反应物的IR测定中确认到酸酐基的峰值、即1780cm-1及1850cm-1附近的峰值消失后，进行冷却，使反应停止。在该时间点测定反应物的酸值，结果为74mgKOH/g。
然后，添加123.1份的联苯缩水甘油醚、78.5份的环己酮，继而，添加作为催化剂的3.53份的二甲基苄基胺，在100℃下搅拌6小时，冷却至室温而结束反应。一边继续反应，一边定期测定反应物的酸值，当酸值成为5.0mgKOH/g以下时，冷却至室温而使反应停止。所获得的树脂清漆为淡黄色透明，固体成分为60％，最终的酸值为3.0mgKOH/g，因此所获得的树脂清漆的固体成分中的包含化合物(A)的反应物为83％。
(合成例5)
在具备搅拌机、回流冷却管、干燥空气导入管、温度计的四口烧瓶中，投入80.0份的9，9-双(3，4-二羧基苯基)芴二酸酐、160.2份的羟值为122mgKOH/g的季戊四醇三丙烯酸酯(1)、0.16份的甲基对苯二酚、158.8份的环己酮，升温至60℃。继而，添加作为催化剂的1.20份的1，8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯，在90℃下搅拌8小时。在反应物的IR测定中确认到酸酐基的峰值、即1780cm-1及1850cm-1附近的峰值消失后，进行冷却，使反应停止。在该时间点测定反应物的酸值，结果为82mgKOH/g。
然后，添加79.0份的联苯缩水甘油醚、50.7份的环己酮，继而，添加作为催化剂的1.93份的二甲基苄基胺，在100℃下搅拌6小时，一边继续反应，一边定期测定反应物的酸值，当酸值成为5.0mgKOH/g以下时，冷却至室温而使反应停止。所获得的树脂清漆为淡黄色透明，固体成分为60％，最终的酸值为3.0mgKOH/g，因此所获得的树脂清漆的固体成分中的包含化合物(A)的反应物为79％。
(合成例6)
在具备搅拌机、回流冷却管、干燥空气导入管、温度计的四口烧瓶中，投入80.0份的9，9-双(3，4-二羧基苯基)芴二酸酐、160.2份的羟值为122mgKOH/g的季戊四醇三丙烯酸酯(1)、0.16份的甲基对苯二酚、158.8份的环己酮，升温至60℃。继而，添加作为催化剂的1.20份的1，8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯，在90℃下搅拌8小时。在反应物的IR测定中确认到酸酐基的峰值、即1780cm-1及1850cm-1附近的峰值消失后，进行冷却，使反应停止。在该时间点测定反应物的酸值，结果为82mgKOH/g。
然后，添加50.3份的甲基丙烯酸缩水甘油醚、31.6份的环己酮，继而，添加作为催化剂的1.94份的二甲基苄基胺，在100℃下搅拌6小时，一边继续反应，一边定期测定反应物的酸值，当酸值成为5.0mgKOH/g以下时，冷却至室温而使反应停止。所获得的树脂清漆为淡黄色透明，固体成分为60％，最终的酸值为3.0mgKOH/g，因此所获得的树脂清漆的固体成分中的包含化合物(A)的反应物为75％。
(合成例7)
在具备搅拌机、回流冷却管、干燥空气导入管、温度计的四口烧瓶中，投入80.0份的3，3′，4，4′-联苯四羧酸二酐、250.0份的羟值为122mgKOH/g的季戊四醇三丙烯酸酯(1)、0.24份的甲基对苯二酚、217.8份的环己酮，升温至60℃。继而，添加作为催化剂的1.65份的1，8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯，在90℃下搅拌8小时。在反应物的IR测定中确认到酸酐基的峰值、即1780cm-1及1850cm-1附近的峰值消失后，进行冷却，使反应停止。在该时间点测定反应物的酸值，结果为94mgKOH/g。
然后，添加78.3份的甲基丙烯酸缩水甘油醚、54.0份的环己酮，继而，添加作为催化剂的2.65份的二甲基苄基胺，在100℃下搅拌6小时，一边继续反应，一边定期测定反应物的酸值，当酸值成为5.0mgKOH/g以下时，冷却至室温而使反应停止。所获得的树脂清漆为淡黄色透明，固体成分为60％，最终的酸值为3.0mgKOH/g，因此所获得的树脂清漆的固体成分中的包含化合物(A)的反应物为76％。
(合成例8)
在具备搅拌机、回流冷却管、干燥空气导入管、温度计的四口烧瓶中，投入80.0份的3，3′，4，4′-联苯四羧酸二酐、359.0份的羟值为85mgKOH/g的二季戊四醇五丙烯酸酯、0.29份的甲基对苯二酚、290.1份的环己酮，升温至60℃。继而，添加作为催化剂的2.19份的1，8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯，在90℃下搅拌8小时。在反应物的IR测定中确认到酸酐基的峰值、即1780cm-1及1850cm-1附近的峰值消失后，进行冷却，使反应停止。在该时间点测定反应物的酸值，结果为74mgKOH/g。
然后，添加78.3份的甲基丙烯酸缩水甘油醚、48.7份的环己酮，继而，添加作为催化剂的3.53份的二甲基苄基胺，在100℃下搅拌6小时，一边继续反应，一边定期测定反应物的酸值，当酸值成为5.0mgKOH/g以下时，冷却至室温而使反应停止。所获得的树脂清漆为淡黄色透明，固体成分为60％，最终的酸值为3.0mgKOH/g，因此所获得的树脂清漆的固体成分中的包含化合物(A)的反应物为69％。
(合成例9)
在具备搅拌机、回流冷却管、干燥空气导入管、温度计的四口烧瓶中，投入80.0份的3，3′，4，4′-联苯四羧酸二酐、63.1份的羟值为483mgKOH/g的丙烯酸2-羟基乙酯、0.11份的甲基对苯二酚、94.6份的环己酮，升温至60℃。继而，添加作为催化剂的0.72份的1，8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯，在90℃下搅拌8小时。在反应物的IR测定中确认到酸酐基的峰值、即1780cm-1及1850cm-1附近的峰值消失后，进行冷却，使反应停止。在该时间点测定反应物的酸值，结果为215mgKOH/g。
然后，添加123.1份的联苯缩水甘油醚、80.9份的环己酮，继而，添加作为催化剂的1.15份的二甲基苄基胺，在100℃下搅拌6小时，一边继续反应，一边定期测定反应物的酸值，当酸值成为5.0mgKOH/g以下时，冷却至室温而使反应停止。所获得的树脂清漆为淡黄色透明，固体成分为60％，最终的酸值为3.0mgKOH/g，因此所获得的树脂清漆的固体成分中的包含化合物(A)的反应物为89％。
(合成例10)
在具备搅拌机、回流冷却管、干燥空气导入管、温度计的四口烧瓶中，投入80.0份的3，3′，4，4′-联苯四羧酸二酐、63.1份的羟值为483mgKOH/g的丙烯酸2-羟基乙酯、0.11份的甲基对苯二酚、94.6份的环己酮，升温至60℃。继而，添加作为催化剂的0.72份的1，8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯，在90℃下搅拌8小时。在反应物的IR测定中确认到酸酐基的峰值、即1780cm-1及1850cm-1附近的峰值消失后，进行冷却，使反应停止。在该时间点测定反应物的酸值，结果为215mgKOH/g。
然后，添加108.8份的丙烯酸4-羟基丁酯缩水甘油醚、71.4份的环己酮，继而，添加作为催化剂的1.15份的二甲基苄基胺，在100℃下搅拌6小时，一边继续反应，一边定期测定反应物的酸值，当酸值成为5.0mgKOH/g以下时，冷却至室温而使反应停止。所获得的树脂清漆为淡黄色透明，固体成分为60％，最终的酸值为3.0mgKOH/g，因此所获得的树脂清漆的固体成分中的包含化合物(A)的反应物为89％。
(合成例11)
在具备搅拌机、回流冷却管、干燥空气导入管、温度计的四口烧瓶中，投入80.0份的3，3′，4，4′-联苯四羧酸二酐、250.0份的羟值为122mgKOH/g的季戊四醇三丙烯酸酯(1)、0.24份的甲基对苯二酚、217.8份的环己酮，升温至60℃。继而，添加作为催化剂的1.65份的1，8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯，在90℃下搅拌8小时。在反应物的IR测定中确认到酸酐基的峰值、即1780cm-1及1850cm-1附近的峰值消失后，进行冷却，使反应停止。在该时间点测定反应物的酸值，结果为94mgKOH/g。所获得的树脂清漆为淡黄色透明，固体成分为60％，最终的酸值为94mgKOH/g，因此所获得的树脂清漆的固体成分中的包含化合物(A)的反应物为72％。
(合成例12)
在具备搅拌机、回流冷却管、干燥空气导入管、温度计的四口烧瓶中，投入80.0份的1，2，3，4-丁烷四羧酸二酐、402.0份的羟值为113mgKOH/g的季戊四醇三丙烯酸酯(2)、0.34份的甲基对苯二酚、203.8份的环己酮，升温至60℃。继而，添加作为催化剂的1.75份的1，8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯，在90℃下搅拌8小时。在反应物的IR测定中确认到酸酐基的峰值、即1780cm-1及1850cm-1附近的峰值消失后，进行冷却，使反应停止。在该时间点测定反应物的酸值，结果为95mgKOH/g。
然后，添加116.4份的甲基丙烯酸缩水甘油醚、188.5份的环己酮，继而，添加作为催化剂的3.88份的二甲基苄基胺，在100℃下搅拌6小时，一边继续反应，一边定期测定反应物的酸值，当酸值成为5.0mgKOH/g以下时，冷却至室温而使反应停止。所获得的树脂清漆为淡黄色透明，固体成分为60％，最终的酸值为3.0mgKOH/g，因此所获得的树脂清漆的固体成分中的反应物为71％。此外，反应物不包含化合物(A)。在以下的合成例13、合成例14中也同样。
(合成例13)
在具备搅拌机、回流冷却管、干燥空气导入管、温度计的四口烧瓶中，投入80.0份的1，2，4，5-苯四羧酸二酐、364.9份的羟值为113mgKOH/g的季戊四醇三丙烯酸酯(2)、0.31份的甲基对苯二酚、293.9份的环己酮，升温至60℃。继而，添加作为催化剂的2.22份的1，8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯，在90℃下搅拌8小时。在反应物的IR测定中确认到酸酐基的峰值、即1780cm-1及1850cm-1附近的峰值消失后，进行冷却，使反应停止。在该时间点测定反应物的酸值，结果为93mgKOH/g。
然后，添加105.6份的甲基丙烯酸缩水甘油醚、66.9份的环己酮，继而，添加作为催化剂的3.58份的二甲基苄基胺，在100℃下搅拌6小时，一边继续反应，一边定期测定反应物的酸值，当酸值成为5.0mgKOH/g以下时，冷却至室温而使反应停止。所获得的树脂清漆为淡黄色透明，固体成分为60％，最终的酸值为3.0mgKOH/g，因此所获得的树脂清漆的固体成分中的反应物为71％。
(合成例14)
在具备搅拌机、回流冷却管、干燥空气导入管、温度计的四口烧瓶中，投入80.0份的1，2，3，4-丁烷四羧酸二酐、533.3份的羟值为85mgKOH/g的二季戊四醇五丙烯酸酯、0.37份的甲基对苯二酚、405.5份的环己酮，升温至60℃。继而，添加作为催化剂的3.07份的1，8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯，在90℃下搅拌8小时。在反应物的IR测定中确认到酸酐基的峰值、即1780cm-1及1850cm-1附近的峰值消失后，进行冷却，使反应停止。在该时间点测定反应物的酸值，结果为75mgKOH/g。
然后，添加116.4份的甲基丙烯酸缩水甘油醚、72.6份的环己酮，继而，添加作为催化剂的4.93份的二甲基苄基胺，在100℃下搅拌6小时，一边继续反应，一边定期测定反应物的酸值，当酸值成为5.0mgKOH/g以下时，冷却至室温而使反应停止。所获得的树脂清漆为淡黄色透明，固体成分为60％，最终的酸值为3.0mgKOH/g，因此所获得的树脂清漆的固体成分中的反应物为68％。
在表1中示出合成的总结、以及所获得的反应物的概要。表中记载的简称表示化合物的制品名。
(金属氧化物组合物的制作)
使用通过所述合成例来制作的含有化合物(A)的树脂清漆，根据表2所示的配方(份)来进行金属氧化物的分散，制作分散有金属氧化物的金属氧化物组合物。
此外，树脂清漆使用所述合成例中制作者。
分散方法是以预分散(使用氧化锆珠(0.5mm)作为介质，利用涂料搅拌器(paintshaker)分散1小时)、与正式分散(使用氧化锆珠(0.1mm)作为介质，利用寿工业(股)制造的分散机UAM-015来分散)的两个阶段来进行。
[表2]
表.2
下述示出表2中的简称。
TiO2：帝化(Tayca)(股)制造的“MT-05”(平均一次粒径：10nm)
ZrO2：日本电工(股)制造的“PCS-60”(平均一次粒径：20nm)
BaTiO3：堺化学工业(股)制造的“KZM-20”(平均一次粒径：20nm)
ZnO：堺化学工业(股)制造的“凡奈克斯(FINEX)-50”(平均一次粒径：20nm)
SiO2：日本艾罗西尔(Nippon Aerosil)(股)制造的“艾罗西尔(AEROSIL)50”(平均一次粒径：50nm)
A12O3：日本艾罗西尔(Nippon Aerosil)(股)制造的“氧化铝(Aluminium Oxide)C”(平均一次粒径：13nm)
MEK：甲基乙基酮
Methobuta：3-甲氧基-1-丁醇
＜D50粒径＞
所获得的金属氧化物组合物的D50粒径是使用日机装(股)制造的“纳奇克(Nanotrac)UPA”来测定。在实用上必须为200nm以下。
＜硬化性树脂组合物与积层体的制作及其评价：实施例1～实施例33、比较例1～比较例7＞
(实施例1)
将作为具有芴结构及2个丙烯酰基的化合物(A)的9，9-双[4-(2-丙烯酰氧基乙氧基)苯基]芴(商品名：“NK酯(NK Ester)A-BPEF”，新中村化学公司制造)、以及作为具有3个以上(甲基)丙烯酰基的化合物(X)的季戊四醇四丙烯酸酯(商品名：“亚罗尼斯(Aronix)M450”，东亚合成公司制造)，以成为(A)：(X)＝30份：70份的方式进行混合，进而混合作为光聚合引发剂的5份的艳佳固(Irgacure)184(汽巴精化制造)、丙二醇单甲醚，获得经调整为固体成分成为40％的硬化性树脂组合物(也称为涂布用组合物或者涂液)。
利用棒涂布机，以干燥后的膜厚成为1.5μm的方式，将所述组合物涂敷于125μm厚的易粘接处理聚对苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate，PET)膜(东丽(Toray)(股)制造的“露米勒(Lumirror)UH13”)上后，利用高压水银灯来照射400mJ/cm2的紫外线，形成树脂层。然后，利用高压水银灯来照射1次至3次2000mJ/cm2的紫外线。
在所获得的作为活性能量线硬化膜的树脂层上，利用溅射法，以作为透明导电膜的ITO膜的厚度成为30nm的方式积层后，仅对透明导电膜进行图案加工(蚀刻处理)而形成为条纹状，获得积层体。
(实施例2)
除了将NK酯(NK Ester)A-BPEF(A)与季戊四醇四丙烯酸酯(X)的比率变更为(A)∶(X)＝50∶50以外，以与实施例1相同的方式获得积层体。
(实施例3)
除了将NK酯(NK Ester)A-BPEF(A)与季戊四醇四丙烯酸酯(X)的比率变更为(A)∶(X)＝70∶30以外，以与实施例1相同的方式获得积层体。
(实施例4)
除了将NK酯(NK Ester)A-BPEF(A)与季戊四醇四丙烯酸酯(X)的比率变更为(A)∶(X)＝100∶0以外，以与实施例1相同的方式获得积层体。
(实施例5)
除了将NK酯(NK Ester)A-BPEF(A)与季戊四醇四丙烯酸酯(X)，以及作为金属氧化物的粒子浓度为30重量％、粒径为15nm的氧化锆分散体(商品名：“ZR-010”，太阳(Solar)公司制造)，变更为(A)∶(X)∶金属氧化物的粒子成分＝10∶40∶50以外，以与实施例1相同的方式获得积层体。
(实施例6)
除了将NK酯(NK Ester)A-BPEF(A)与季戊四醇四丙烯酸酯(X)，以及作为金属氧化物的粒子浓度为30重量％、粒径为15nm的氧化锆分散体(商品名：“ZR-010”，太阳(Solar)公司制造)，变更为(A)∶(X)∶金属氧化物的粒子成分＝25∶25∶50以外，以与实施例1相同的方式获得积层体。
(实施例7)
除了将NK酯(NK Ester)A-BPEF(A)与季戊四醇四丙烯酸酯(X)，以及作为金属氧化物的粒子浓度为30重量％、粒径为15nm的氧化锆分散体(商品名：“ZR-010”，太阳(Solar)公司制造)，变更为(A)∶(X)∶金属氧化物的粒子成分＝35∶15∶50以外，以与实施例1相同的方式获得积层体。
(实施例8)
除了将NK酯(NK Ester)A-BPEF(A)与季戊四醇四丙烯酸酯(X)，以及作为金属氧化物的粒子浓度为30重量％、粒径为15nm的氧化锆分散体(商品名：“ZR-010”，太阳(Solar)公司制造)，变更为(A)∶(X)∶金属氧化物的粒子成分＝50∶0∶50以外，以与实施例1相同的方式获得积层体。
(实施例9)
将作为具有联苯结构及2个以上(甲基)丙烯酰基的化合物(A)的合成例1与作为具有3个以上(甲基)丙烯酰基的化合物(X)的季戊四醇四丙烯酸酯(商品名：“亚罗尼斯(Aronix)M450”，东亚合成公司制造)，以成为合成例1的包含化合物(A)的反应物∶(X)＝30∶70的方式进行混合，进而混合作为光聚合引发剂的5份的艳佳固(Irgacure)184(汽巴精化制造)、丙二醇单甲醚，获得经调整为固体成分成为40％的硬化性组合物(也称为涂布用组合物或涂液)。
利用棒涂布机，以干燥后的膜厚成为1.5μm的方式，将该组合物涂敷于125μm厚的易粘接处理PET膜(东丽(Toray)(股)制造的“露米勒(Lumirror)UH13”)上后，利用高压水银灯照射400mJ/cm2的紫外线，形成树脂层。然后，利用高压水银灯照射1次至3次2000mJ/cm2的紫外线。
在所获得的作为活性能量线硬化膜的树脂层上，以作为透明导电膜的ITO膜的厚度成为30nm的方式利用溅射法来积层后，仅对透明导电膜进行图案加工(蚀刻处理)而形成为条纹状，获得积层体。
(实施例10)
除了将合成例1的包含化合物(A)的反应物与季戊四醇四丙烯酸酯(X)的比率变更为合成例1的包含化合物(A)的反应物∶(X)＝50∶50以外，以与实施例9相同的方式获得积层体。
(实施例11)
除了将合成例1的包含化合物(A)的反应物与季戊四醇四丙烯酸酯(X)的比率变更为合成例1的包含化合物(A)的反应物∶(X)＝70∶30以外，以与实施例9相同的方式获得积层体。
(实施例12)
除了将合成例1的包含化合物(A)的反应物与季戊四醇四丙烯酸酯(X)，以及作为金属氧化物的粒子浓度为30重量％、粒径为15nm的氧化锆分散体(商品名：“ZR-010”，太阳(Solar)公司制造)，变更为合成例1的包含化合物(A)的反应物∶(X)∶金属氧化物的粒子成分＝10∶40∶50以外，以与实施例9相同的方式获得积层体。
(实施例13)
除了将合成例1的包含化合物(A)的反应物与季戊四醇四丙烯酸酯(X)，以及作为金属氧化物的粒子浓度为30重量％、粒径为15nm的氧化锆分散体(商品名：“ZR-010”，太阳(Solar)公司制造)，变更为合成例1的包含化合物(A)的反应物∶(X)∶金属氧化物的粒子成分＝25∶25∶50以外，以与实施例9相同的方式获得积层体。
(实施例14)
除了将合成例1的包含化合物(A)的反应物与季戊四醇四丙烯酸酯(X)，以及作为金属氧化物的粒子浓度为30重量％、粒径为15nm的氧化锆分散体(商品名：“ZR-010”，太阳(Solar)公司制造)，变更为合成例1的包含化合物(A)的反应物∶(X)∶金属氧化物的粒子成分＝35∶15∶50以外，以与实施例9相同的方式获得积层体。
(实施例15)
除了将合成例2的包含化合物(A)的反应物与季戊四醇四丙烯酸酯(X)，以及作为金属氧化物的粒子浓度为30重量％、粒径为15nm的氧化锆分散体(商品名：“ZR-010”，太阳(Solar)公司制造)，变更为合成例2的包含化合物(A)的反应物∶(X)∶金属氧化物的粒子成分＝25∶25∶50以外，以与实施例9相同的方式获得积层体。
(实施例16)
除了将合成例3的包含化合物(A)的反应物与季戊四醇四丙烯酸酯(X)，以及作为金属氧化物的粒子浓度为30重量％、粒径为15nm的氧化锆分散体(商品名：“ZR-010”，太阳(Solar)公司制造)，变更为合成例3的包含化合物(A)的反应物∶(X)∶金属氧化物的粒子成分＝25∶25∶50以外，以与实施例9相同的方式获得积层体。
(实施例17)
除了将合成例4的包含化合物(A)的反应物与季戊四醇四丙烯酸酯(X)，以及作为金属氧化物的粒子浓度为30重量％、粒径为15nm的氧化锆分散体(商品名：“ZR-010”，太阳(Solar)公司制造)，变更为合成例4的包含化合物(A)的反应物∶(X)∶金属氧化物的粒子成分＝25∶25∶50以外，以与实施例9相同的方式获得积层体。
(实施例18)
除了将合成例5的包含化合物(A)的反应物与季戊四醇四丙烯酸酯(X)，以及作为金属氧化物的粒子浓度为30重量％、粒径为15nm的氧化锆分散体(商品名：“ZR-010”，太阳(Solar)公司制造)，变更为合成例5的包含化合物(A)的反应物∶(X)∶金属氧化物的粒子成分＝25∶25∶50以外，以与实施例9相同的方式获得积层体。
(实施例19)
除了将合成例6的包含化合物(A)的反应物与季戊四醇四丙烯酸酯(X)，以及作为金属氧化物的粒子浓度为30重量％、粒径为15nm的氧化锆分散体(商品名：“ZR-010”，太阳(Solar)公司制造)，变更为合成例6的包含化合物(A)的反应物∶(X)∶金属氧化物的粒子成分＝25∶25∶50以外，以与实施例9相同的方式获得积层体。
(实施例20)
除了将合成例7的包含化合物(A)的反应物与季戊四醇四丙烯酸酯(X)，以及作为金属氧化物的粒子浓度为30重量％、粒径为15nm的氧化锆分散体(商品名：“ZR-010”，太阳(Solar)公司制造)，变更为合成例7的包含化合物(A)的反应物∶(X)∶金属氧化物的粒子成分＝25∶25∶50以外，以与实施例9相同的方式获得积层体。
(实施例21)
除了将合成例8的包含化合物(A)的反应物与季戊四醇四丙烯酸酯(X)，以及作为金属氧化物的粒子浓度为30重量％、粒径为15nm的氧化锆分散体(商品名：“ZR-010”，太阳(Solar)公司制造)，变更为合成例8的包含化合物(A)的反应物∶(X)∶金属氧化物的粒子成分＝25∶25∶50以外，以与实施例9相同的方式获得积层体。
(实施例22)
除了将合成例9的包含化合物(A)的反应物与季戊四醇四丙烯酸酯(X)，以及作为金属氧化物的粒子浓度为30重量％、粒径为15nm的氧化锆分散体(商品名：“ZR-010”，太阳(Solar)公司制造)，变更为合成例9的包含化合物(A)的反应物∶(X)∶金属氧化物的粒子成分＝25∶25∶50以外，以与实施例9相同的方式获得积层体。
(实施例23)
除了将合成例10的包含化合物(A)的反应物与季戊四醇四丙烯酸酯(X)，以及作为金属氧化物的粒子浓度为30重量％、粒径为15nm的氧化锆分散体(商品名：“ZR-010”，太阳(Solar)公司制造)，变更为合成例10的包含化合物(A)的反应物∶(X)∶金属氧化物的粒子成分＝25∶25∶50以外，以与实施例9相同的方式获得积层体。
(实施例24)
除了将合成例11的包含化合物(A)的反应物与季戊四醇四丙烯酸酯(X)，以及作为金属氧化物的粒子浓度为30重量％、粒径为15nm的氧化锆分散体(商品名：“ZR-010”，太阳(Solar)公司制造)，变更为合成例11的包含化合物(A)的反应物∶(X)∶金属氧化物的粒子成分＝25∶25∶50以外，以与实施例9相同的方式获得积层体。
(实施例25)
除了将合成例1的包含化合物(A)的反应物与季戊四醇四丙烯酸酯(X)，以及作为金属氧化物的包含合成例(1)的金属氧化物组合物(1)，变更为合成例1的包含化合物(A)的反应物∶(X)∶金属氧化物的粒子成分＝40∶11∶49以外，以与实施例9相同的方式获得积层体。
(实施例26)
除了将合成例1的包含化合物(A)的反应物与季戊四醇四丙烯酸酯(X)，以及作为金属氧化物的包含合成例(1)的金属氧化物组合物(2)，变更为合成例1的包含化合物(A)的反应物∶(X)∶金属氧化物的粒子成分＝40∶11∶49以外，以与实施例25相同的方式获得积层体。
(实施例27)
除了将合成例1的包含化合物(A)的反应物与季戊四醇四丙烯酸酯(X)，以及作为金属氧化物的包含合成例(1)的金属氧化物组合物(3)，变更为合成例1的包含化合物(A)的反应物∶(X)∶金属氧化物的粒子成分＝40∶11∶49以外，以与实施例25相同的方式获得积层体。
(实施例28)
除了将合成例1的包含化合物(A)的反应物与季戊四醇四丙烯酸酯(X)，以及作为金属氧化物的包含合成例(1)的金属氧化物组合物(4)，变更为合成例1的包含化合物(A)的反应物∶(X)∶金属氧化物的粒子成分＝40∶11∶49以外，以与实施例25相同的方式获得积层体。
(实施例29)
除了将合成例1的包含化合物(A)的反应物与季戊四醇四丙烯酸酯(X)，以及作为金属氧化物的包含合成例(1)的金属氧化物组合物(5)，变更为合成例1的包含化合物(A)的反应物∶(X)∶金属氧化物的粒子成分＝40∶11∶49以外，以与实施例25相同的方式获得积层体。
(实施例30)
除了将合成例1的包含化合物(A)的反应物与季戊四醇四丙烯酸酯(X)，以及作为金属氧化物的包含合成例(1)的金属氧化物组合物(6)，变更为合成例1的包含化合物(A)的反应物∶(X)∶金属氧化物的粒子成分＝40∶11∶49以外，以与实施例25相同的方式获得积层体。
(实施例31)
除了将合成例1的包含化合物(A)的反应物与季戊四醇四丙烯酸酯(X)，以及作为金属氧化物的包含合成例(7)的金属氧化物组合物(7)，变更为合成例7的包含化合物(A)的反应物∶(X)∶金属氧化物的粒子成分＝40∶11∶49以外，以与实施例25相同的方式获得积层体。
(实施例32)
除了将NK酯(NK Ester)A-BPEF以及作为金属氧化物的包含合成例(1)的金属氧化物组合物(1)中的包含化合物(A)的反应物、季戊四醇四丙烯酸酯(X)，变更为(A)∶(X)∶金属氧化物的粒子成分＝47∶4∶49以外，以与实施例25相同的方式获得积层体。
(实施例33)
除了将NK酯(NK Ester)A-BPEF以及作为金属氧化物的包含合成例(7)的金属氧化物组合物(7)中的包含化合物(A)的反应物、季戊四醇四丙烯酸酯(X)，变更为(A)∶(X)∶金属氧化物的粒子成分＝46∶5∶49以外，以与实施例25相同的方式获得积层体。
(比较例1)
除了将NK酯(NK Ester)A-BPEF(A)与季戊四醇四丙烯酸酯(X)的比率变更为(A)∶(X)＝0∶100以外，以与实施例1相同的方式获得积层体。
(比较例2)
除了将NK酯(NK Ester)A-BPEF(A)与季戊四醇四丙烯酸酯(X)，以及作为金属氧化物的粒子浓度为30重量％、粒径为15nm的氧化锆分散体(商品名：“ZR-010”，太阳(Solar)公司制造)，变更为(A)∶(X)∶金属氧化物的粒子成分＝0∶50∶50以外，以与实施例1相同的方式获得积层体。
(比较例3)
除了将不具有(甲基)丙烯酰基的9，9-双[4-(2-羟基乙氧基)苯基]芴与季戊四醇四丙烯酸酯(X)，以及作为金属氧化物的粒子浓度为30重量％、粒径为15nm的氧化锆分散体(商品名：“ZR-010”，太阳(Solar)公司制造)，变更为9，9-双[4-(2-羟基乙氧基)苯基]芴∶(X)∶金属氧化物的粒子成分＝25∶25∶50以外，以与实施例1相同的方式获得积层体。
(比较例4)
除了将具有1个(甲基)丙烯酰基的乙氧基化邻苯基苯酚丙烯酸酯与季戊四醇四丙烯酸酯(X)，以及作为金属氧化物的粒子浓度为30重量％、粒径为15nm的氧化锆分散体(商品名：“ZR-010”，太阳(Solar)公司制造)，变更为乙氧基化邻苯基苯酚丙烯酸酯∶(X)∶金属氧化物的粒子成分＝25∶25∶50以外，以与实施例1相同的方式获得积层体。
(比较例5)
除了将包含不具有芴结构和/或联苯结构的合成例(12)的反应物及季戊四醇四丙烯酸酯(X)，以及作为金属氧化物的粒子浓度为30重量％、粒径为15nm的氧化锆分散体(商品名：“ZR-010”，太阳(Solar)公司制造)，变更为(X)∶金属氧化物的粒子成分＝50∶50以外，以与实施例1相同的方式获得积层体。
(比较例6)
除了将包含不具有芴结构和/或联苯结构的合成例(13)的反应物及季戊四醇四丙烯酸酯(X)，以及作为金属氧化物的粒子浓度为30重量％、粒径为15nm的氧化锆分散体(商品名：“ZR-010”，太阳(Solar)公司制造)，变更为(X)∶金属氧化物的粒子成分＝50∶50以外，以与实施例1相同的方式获得积层体。
(比较例7)
除了将包含不具有芴结构和/或联苯结构的合成例(14)的反应物及季戊四醇四丙烯酸酯(X)，以及作为金属氧化物的粒子浓度为30重量％、粒径为15nm的氧化锆分散体(商品名：“ZR-010”，太阳(Solar)公司制造)，变更为(X)∶金属氧化物的粒子成分＝50∶50以外，以与实施例1相同的方式获得积层体。
(评价方法)
密合性是在积层透明导电膜前及积层透明导电膜后实施评价。
关于透明性、耐擦伤性，在积层透明导电膜之前实施评价。将评价结果示于表3及表4。
下述示出表3及表4中的简称。此外，表中记载的调配量的单位为份。
光聚合引发剂：汽巴精化(股)制造的“艳佳固(Irgacure)184”
溶剂：PGME(丙二醇单甲醚)
(1)密合性(透明导电膜积层前)
依据JIS K5600-5-6，利用附着性交叉切割法来评价耐性。将其结果分类为下述的0～5。在实用上必须为分类0或分类1。
0：切口的边缘完全光滑，任一格子眼中均无剥落。
1：切口的交叉点的积层体有小的剥落，每单位面积有小于5％的剥落。
2：积层体沿着切口的边缘，和/或在交叉点剥落。每单位面积有5％以上且小于15％的剥落。
3：积层体沿着切口的边缘，部分或全面性地产生大的剥落，和/或格子眼的许多部分会部分或全面性地剥落。每单位面积有15％以上且小于35％的剥落。
4：积层体沿着切口的边缘，部分或全面性地产生大的剥落，和/或数个部位的格子眼会部分或全面性地剥落。每单位面积有小于35％的剥落。
5：每单位面积有35％以上的剥落。
(2)密合性(透明导电膜积层后)
依据JIS K5600-5-6，利用附着性交叉切割法来评价耐性。
作为评价方法，将试验结果分类为下述的0～5。由此评价的基材与树脂层及透明导电膜的密合性在实用上必须为分类0或分类1。此处，通过对积层体进行目视确认或者测定膜厚，可确认基材与树脂层的剥离。
0：切口的边缘完全光滑，任一格子眼中均无剥落。
1：切口的交叉点的积层体有小的剥落。每单位面积有小于5％的剥落。
2：积层体沿着切口的边缘，和/或在交叉点剥落。每单位面积有5％以上且小于15％的剥落。
3：积层体沿着切口的边缘，部分或全面性地产生大的剥落，和/或格子眼的许多部分会部分或全面性地剥落。每单位面积有15％以上且小于35％的剥落。
4：积层体沿着切口的边缘，部分或全面性地产生大的剥落，和/或数个部位的格子眼会部分或全面性地剥落。每单位面积有小于35％的剥落。
5：每单位面积有35％以上的剥落。
(3)透明性(雾度值)
使用雾度计来测定积层透明导电膜之前的具有基材与树脂层的积层体的浊度(雾度值)。在实用上，雾度值必须为1.5％以下。
(4)耐擦伤性(硬涂性)
将积层透明导电膜之前的具有基材与树脂层的积层体设置于学振试验机(Gakushin-typeRubbing Tester)上，使用钢丝绒的No.0000，以负重250g使其学振10次。对于取出的积层体，依据以下5个阶段的目视评价来判断受伤的情况。数值越大，表示积层体的耐擦伤性越良好。
5：完全无伤痕。
4：带有少量伤痕。
3：带有伤痕，但看不到基材。
2：带有伤痕，一部分硬化膜剥落。
1：硬化膜剥落，基材为露出的状态。
根据表3及表4的结果而判明，实施例1～实施例33的积层体的透明性与密合性的平衡性良好而优异。另外，即便作为活性能量线硬化膜的树脂层中包含金属氧化物，透明性与密合性也平衡性良好而优异。
与此相对，不含化合物(A)的比较例(1)至比较例(7)的聚酯基材与作为活性能量线硬化膜的树脂层的密合性以及作为活性能量线硬化膜的树脂层与透明导电膜的密合性均为不足。

Claims (14)

1.一种积层体，其在作为聚酯膜的基材上具有将包含化合物(A)的活性能量线硬化性组合物硬化而成的树脂层，所述化合物(A)具有联苯结构及2个以上的(甲基)丙烯酰基，且所述积层体还具有透明导电膜，所述化合物(A)为下述通式(1)所表示的化合物(A1)，
通式(1)：
通式(1)中，R1及R3中至少一个为下述所示的四价或一价有机残基，
R2表示具有(甲基)丙烯酰基的一价有机残基
2.根据权利要求1所述的积层体，其中所述树脂层是将如下组合物硬化而成的层，所述组合物还包含具有3个以上的(甲基)丙烯酰基的化合物(X)，其中，化合物(X)为化合物(A)的情况除外。
3.根据权利要求2所述的积层体，其中在具有联苯结构及2个以上的(甲基)丙烯酰基的化合物(A)，与具有3个以上的(甲基)丙烯酰基的化合物(X)的固体成分的合计100重量％中，化合物(A)的含量为10重量％～90重量％，其中，化合物(X)为化合物(A)的情况除外。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的积层体，其中在照射累计光量为2000mJ/cm2以上的活性能量线的情况下，利用依据日本工业标准K5600-5-6的附着性交叉切割法来测定的所述基材与所述树脂层的密合性为每单位面积的剥离面积小于5％。
5.根据权利要求1至3中任一项所述的积层体，其中所述组合物还包含金属氧化物。
6.根据权利要求5所述的积层体，其特征在于：所述金属氧化物包含钛和/或锆原子。
7.一种积层体，其在作为聚酯膜的基材上具有将包含化合物(A)的活性能量线硬化性组合物硬化而成的树脂层，所述化合物(A)具有联苯结构及2个以上的(甲基)丙烯酰基，且所述积层体还具有透明导电膜，所述化合物(A)为下述通式(2)所表示的化合物(A2)，
通式(2)：
R5-O-R4-O-R5
通式(2)中，R4为下述所示的二价有机残基，
R5表示具有(甲基)丙烯酰基的一价有机残基
8.根据权利要求7所述的积层体，其中所述树脂层是将如下组合物硬化而成的层，所述组合物还包含具有3个以上的(甲基)丙烯酰基的化合物(X)，其中，化合物(X)为化合物(A)的情况除外。
9.根据权利要求8所述的积层体，其中在具有联苯结构及2个以上的(甲基)丙烯酰基的化合物(A)，与具有3个以上的(甲基)丙烯酰基的化合物(X)的固体成分的合计100重量％中，化合物(A)的含量为10重量％～90重量％，其中，化合物(X)为化合物(A)的情况除外。
10.根据权利要求7至9中任一项所述的积层体，其中在照射累计光量为2000mJ/cm2以上的活性能量线的情况下，利用依据日本工业标准K5600-5-6的附着性交叉切割法来测定的所述基材与所述树脂层的密合性为每单位面积的剥离面积小于5％。
11.根据权利要求7至9中任一项所述的积层体，其中所述组合物还包含金属氧化物。
12.根据权利要求11所述的积层体，其特征在于：所述金属氧化物包含钛和/或锆原子。
13.一种积层体的制造方法，其包括：
在作为聚酯膜的基材上，涂敷包含具有联苯结构及2个以上的(甲基)丙烯酰基的化合物(A)的活性能量线硬化性组合物，照射活性能量线使其硬化而形成树脂层的步骤；以及
形成透明导电膜的步骤，所述化合物(A)为下述通式(1)所表示的化合物(A1)，
通式(1)：
通式(1)中，R1及R3中至少一个为下述所示的四价或一价有机残基，
R2表示具有(甲基)丙烯酰基的一价有机残基
14.一种积层体的制造方法，其包括：
在作为聚酯膜的基材上，涂敷包含具有联苯结构及2个以上的(甲基)丙烯酰基的化合物(A)的活性能量线硬化性组合物，照射活性能量线使其硬化而形成树脂层的步骤；以及
形成透明导电膜的步骤，所述化合物(A)为下述通式(2)所表示的化合物(A2)，
通式(2)：
R5-O-R4-O-R5
通式(2)中，R4为下述所示的二价有机残基，
R5表示具有(甲基)丙烯酰基的一价有机残基
CN201610649573.6A 2015-08-10 2016-08-10 具有透明导电膜的积层体以及积层体的制造方法 Active CN106432769B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015-157968 2015-08-10
JP2015157968A JP5910782B1 (ja) 2015-08-10 2015-08-10 透明導電膜を有する積層体および積層体の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN106432769A CN106432769A (zh) 2017-02-22
CN106432769B true CN106432769B (zh) 2018-04-17

Family

ID=55808230

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201610649573.6A Active CN106432769B (zh) 2015-08-10 2016-08-10 具有透明导电膜的积层体以及积层体的制造方法

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP5910782B1 (zh)
KR (1) KR101725794B1 (zh)
CN (1) CN106432769B (zh)
TW (1) TW201706127A (zh)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101223198A (zh) * 2005-07-19 2008-07-16 东洋油墨制造株式会社 固化性组合物、固化膜及层叠体
JP2010059339A (ja) * 2008-09-05 2010-03-18 Toyo Ink Mfg Co Ltd 帯電防止用硬化性組成物、硬化膜及び積層体
CN103210454A (zh) * 2011-06-22 2013-07-17 东丽薄膜先端加工股份有限公司 透明导电性膜及触控面板
JP2014119475A (ja) * 2012-12-13 2014-06-30 Toray Advanced Film Co Ltd タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムおよびタッチパネル用透明導電性フィルム
CN104419342A (zh) * 2013-08-30 2015-03-18 日东电工株式会社 透明导电膜用承载膜及层叠体

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5110226A (en) 1974-07-16 1976-01-27 Yamaha Motor Co Ltd Hibanatenkashiki 4 saikurunainenkikan
CN100455607C (zh) * 2004-04-28 2009-01-28 东洋油墨制造株式会社 光固化性组合物以及使用该组合物的防反射膜
JP4667471B2 (ja) 2007-01-18 2011-04-13 日東電工株式会社 透明導電性フィルム、その製造方法及びそれを備えたタッチパネル
JP2012082274A (ja) * 2010-10-08 2012-04-26 Toagosei Co Ltd 活性エネルギー線硬化型加飾積層フィルム用組成物
CN103857750A (zh) * 2011-10-12 2014-06-11 东洋油墨Sc控股株式会社 树脂组合物、涂膜及触控面板用绝缘膜
JP5824397B2 (ja) * 2012-03-30 2015-11-25 帝人株式会社 透明導電性積層体

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101223198A (zh) * 2005-07-19 2008-07-16 东洋油墨制造株式会社 固化性组合物、固化膜及层叠体
JP2010059339A (ja) * 2008-09-05 2010-03-18 Toyo Ink Mfg Co Ltd 帯電防止用硬化性組成物、硬化膜及び積層体
CN103210454A (zh) * 2011-06-22 2013-07-17 东丽薄膜先端加工股份有限公司 透明导电性膜及触控面板
JP2014119475A (ja) * 2012-12-13 2014-06-30 Toray Advanced Film Co Ltd タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムおよびタッチパネル用透明導電性フィルム
CN104419342A (zh) * 2013-08-30 2015-03-18 日东电工株式会社 透明导电膜用承载膜及层叠体

Also Published As

Publication number Publication date
TW201706127A (zh) 2017-02-16
KR101725794B1 (ko) 2017-04-11
KR20170018785A (ko) 2017-02-20
JP2017035816A (ja) 2017-02-16
CN106432769A (zh) 2017-02-22
JP5910782B1 (ja) 2016-04-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN108594600B (zh) 活性能量线硬化性组合物及使用其的层叠体
CN101547866B (zh) 氧化锆颗粒分散液、包含氧化锆颗粒的光固化性组合物以及固化膜
CN101454351B (zh) 金属氧化物组合物、固化膜及层叠体
TW200909538A (en) Coating composition for metal thin film and glistening composite film formed by said composition
KR20140030141A (ko) 방사선 경화성 조성물
TW201441303A (zh) 胺基甲酸酯（甲基）丙烯酸酯及活性能量線硬化型樹脂組成物
CN113039070B (zh) 层叠体及层叠体的制造方法
KR20140047595A (ko) 방사선 경화성 조성물
CN106432769B (zh) 具有透明导电膜的积层体以及积层体的制造方法
CN105086605B (zh) 一种光固化热固化组合物油墨、用途及含有其的线路板
TWI557143B (zh) 活性能量線硬化性組成物、使用其的活性能量線硬化性塗料及活性能量線硬化性印刷墨水
CN106167634B (zh) 金属氧化物组合物、其硬化膜、以及带所述硬化膜的构件
JP5503104B2 (ja) 光硬化型着色塗料及び塗装樹脂製品
CN105121524A (zh) 塑料薄膜
CN107051848A (zh) 导电性层叠体及金属氧化物组合物
JP7058144B2 (ja) 硬化性組成物及びこれを用いたフィルム、およびフィルムを用いた成形品
JP3306902B2 (ja) エネルギー線硬化型インキ組成物
JP2007296830A (ja) フィルム印刷物
TWI827588B (zh) 輻射固化組成物
JP2017037830A (ja) 透明導電膜を有する積層体および積層体の製造方法
JP2001354907A (ja) 光硬化性着色塗料組成物
JP2004018589A (ja) 紫外線硬化型粘着フィルム及びそのフィルムを使用した貼付け方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
TA01 Transfer of patent application right
TA01 Transfer of patent application right

Effective date of registration: 20180302

Address after: Japan Tokyo central Beijing two chome 2 No. 1 (post encoding 104-0031)

Applicant after: Toyo Ink SC Holdings Co., Ltd.

Applicant after: Toyochem Co., Ltd.

Address before: Japan Tokyo central Beijing three chome 7 No. 1

Applicant before: Toyo Ink SC Holdings Co., Ltd.

Applicant before: Toyo Ink Co., Ltd.

GR01 Patent grant
GR01 Patent grant