CN106298589A - 基板处理系统 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种将多个基板处理装置依次层叠的基板处理系统，所述基板处理装置包括本体，所述本体包括提供基板处理空间的腔室；门，所述门以能够向所述本体的上下方移动的形式设置，从而将所述本体的正面打开或关闭，多个所述基板处理装置向所述本体的正面方向按照规定距离从下部层向上部层逐渐移位，从而依次层叠。

Description

基板处理系统

技术领域

本发明涉及一种基板处理系统，更详细而言，涉及一种为了使进行基板处理工艺的基板处理装置更高效地被利用，从而对基板处理装置进行层叠的基板处理系统。

背景技术

一般情况下，基板处理装置用于平板显示器、半导体、太阳能电池等的制造过程，大致分为沉积(Vapor Deposition)装置和退火(Annealing)装置。目前有两种类型的基板处理装置，一种是处理单个基板的单片式(Single Substrate Type)基板处理装置，另一种是处理多个基板的批量式(Batch Type)基板处理装置。单片式基板处理装置具有结构简单的优点，但缺点是生产效益低下，大规模生产的时候多使用批量式基板处理装置。

发明内容

但是，就这种现有的基板处理装置而言，将多个基板处理装置层叠安装，并使用装载和卸载装置放入或取出基板。这时，各个基板处理装置的门(door)向下部滑动，打开出入口，多个基板处理装置层叠使用时，为了使位于上部的基板处理装置的门打开，确保留出能够使门打开的空间，需要根据门的大小留出下部空间。因此，各个基板处理装置的下部都需要留出能够使门打开的空间，由于这些空间是多余的空间，因此生产效益会受到影响。

本发明为了解决包括上述问题的多个问题，为使门打开的时候不至于互相重叠，将基板处理装置在下部的多余的空间依次分离地进行层叠，因此，相比之下同样面积可以多建构一台以上的基板处理装置，得以增加生产效益、精简机器或设备，并且能够节减处理费用。但是所述课题仅仅属于示例，不是对本发明保护范围的限定。

根据本发明的一个观点，提供一种基板处理系统。所述基板处理系统是由多个基板处理装置依次层叠而成的系统，所述基板处理装置包括：本体，所述本体包括提供基板处理空间的腔室；门，所述门以能够向所述本体的上下方移动的形式设置，从而将所述本体的正面打开或关闭，就多个所述基板处理装置而言，其向所述本体的正面方向按照规定距离从下部层向上部层逐渐移位(shifting)，并依次层叠。

所述规定距离是指位于上部的基板处理装置的门处在下限点的情况下，在位于下部的基板处理装置的本体的正面方向上，能够与位于下部的所述基板处理装置的门分离开来的距离。

所述规定距离的值大于所述门的厚度，小于所述本体的前后面之间长度的一半。

还可包括为了能够支撑按照所述规定距离移位并层叠的多个所述基板处理装置而形成的固定装置。

还包括对设置在最下部的所述基板处理装置进行支撑的下部平台。

还包括能够对按照所述规定距离移位并层叠的多个所述基板处理装置进行支撑的框架。

所述框架包括：竖直支撑部件，其竖直形成，以便能够承载所述基板处理装置的垂直荷重；水平支撑部件，其能够连接相邻的所述竖直支撑部件。

所述框架能够使所述基板处理装置和与所述基板处理装置上部或下部相邻的基板处理装置之间分离并且层叠。

所述框架可以分为支撑各个所述基板处理装置的各个组(set)。

还可包括形成于所述下部平台的重物(weight)，以便避免容纳所述基板处理装置且多级层叠的所述框架坍塌。

根据如所述实现的本发明的一个实施例，与现有的基板处理装置的层叠方法相比，将基板处理装置依次层叠时，缩小了用于使各个基板处理装置的下部的门打开的必要空间，使得多个基板处理装置的设置面积最小化，使得以面积为单位的生产效益得以增加，具有能够确保单位面积高产量的效果。

另外，现有的腔室未给出技术上的变化，且现有设备能够容易地适用本发明中的层叠的方法或者给出的框架结构上的变化，因为简单的设备变更，产量就能够提高。当然，本发明的保护范围不受这种效果的限定。

附图说明

图1是展示根据本发明的一个实施例的基板处理系统的立体图。

图2至图4是图1的基板处理系统使用状态的侧视图。

图5是展示根据本发明的另一个实施例的基板处理系统的立体图。

图6至图8是展示根据本发明的多个实施例的基板处理系统的立体图。

图9是展示图8的基板处理装置的框架的一个例子的立体图。

图10是展示根据本发明的又另一个实施例的基板处理系统的立体图。

具体实施方式

以下，参照附图详细说明本发明的如下实施例。但本发明并不局限于以下公开的实施例，可以由相互不同的各种多样的形态体现，以下实施例的提供是为了充分公开本发明，使具有一般知识的技术人员充分了解本发明的范畴。此外，为了说明方便，附图中的构成要素的大小可能被放大或缩小。

图1是展示根据本发明的一个实施例的基板处理系统1000的立体图。

如图1所示，根据本发明的一个实施例的基板处理系统1000可包括本体10和门20。

在这里，如图1所示，本体10可包括提供基板处理空间的腔室11。例如，所述本体10、10-1、10-2可包括腔室11，所述腔室11为了使多个后面所述的基板S能够被装载以及卸载，在一侧形成出入口，可以是前方开放的六面体箱子形态的结构体。

但是，这种所述腔室11的形状不仅限于附图的记载，其内部能够处理多个所述基板S的可密闭的多种形态的腔室都可以适用。除此以外，虽然图中没有列出，所述腔室11中可以设置各种气体供给管、气体排出管、真空泵等多种多样的装置。

并且，如图1所示，所述门20能够设置为向所述本体10的上下方向移动并将所述本体10的正面打开或关闭。例如，所述门20可以是一种能够将所述本体10的出入口打开或关闭的盖子结构。更具体地举例，所述门20设置在所述本体10的正面，为了使所述本体10密闭，可设置有能将所述门20升起或降下的门升降装置。在这里，所述门升降装置可以适用各种气压及液压缸、或者线性发动机、或者使用发动机的链条及链轮组合、或者齿轮组合、或者丝杠组合，或者皮带(belt)与皮带轮(pulley)组合，或者线材(wire)与滑轮组合，或者凸轮(cam)组合等各种动力源或者传动装置等。

如图1所示，就根据本发明的一个实施例的基板处理系统1000的多个所述基板处理装置100而言，能够向所述本体10的正面方向按照规定距离T从下部层向上部层逐渐移位(shifting)从而依次层叠。例如，所述基板处理装置100位于与其下部相邻的另一个基板处理装置110的上部，这时，与位于下部的所述基板处理装置110相比，基板处理装置100向正面方向离开规定距离T的程度。

进一步地，就所述规定距离T而言，其可以是在位于上部的基板处理装置100的门20处在下限点的情况下，在位于下部的基板处理装置110的本体的正面方向上，能够与位于下部的所述基板处理装置110的门20-1分离开来的距离。例如，位于上部的所述基板处理装置100的所述门20向下部滑动打开时，所述基板处理装置100的所述门20能够与位于下部的所述基板处理装置110的门20-1的前面部离开一定距离。

进一步地，所述规定距离T的值大于所述门20的厚度，小于所述本体10的前后面之间长度L的一半L/2。更具体地举例，为了使所述基板处理装置100的所述门20能够打开，所述规定距离T可以比所述门20的厚度大。而且，如果所述规定距离T比所述本体10的前后面之间长度L的一半L/2大，则位于上部的基板处理装置100有从位于下部的所述基板处理装置110上倒塌的危险。因此，所述规定距离T小于所述本体10的前后面之间长度L的一半L/2，这样才能够防止所述基板处理系统1000内部的震动和摇晃并保证稳定性。此外，所述基板处理装置100、110、120依次层叠，使得设置面积最小化，由此使得以面积为单位的生产效益得以增加，能够确保单位面积的高产量。

图2至图4是图1的基板处理系统1000使用状态的侧视图。

如图2所示，多个所述基板处理装置100、110、120依次层叠，为了使位于下部的所述基板处理装置120的门20-2打开，所述基板处理装置120的下部可形成后面所述的下部平台(table)50。这时，为了使位于上部的所述基板处理装置能够在位于下部的所述基板处理装置存在的前提下打开门，层叠的所述基板处理装置100、110、120设置成能够向前面部位离开。在这里，位于最上部的所述基板处理装置100的门20打开时，能够避免与位于下部的所述基板处理装置110碰撞。这样，通过装载装置R，可以将所述基板S送入所述基板处理装置100内部的腔室11。

如图3所示，就所述基板处理装置100、110、120而言，所述基板处理装置110的门20-1打开时能够避免与位于其下部的所述基板处理装置120碰撞。这样，通过装载装置R，可以将所述基板S送入所述基板处理装置110内部的腔室11。

如图4所示，就所述基板处理装置100、110、120而言，所述基板处理装置120的门20-2打开时，其下部具有所述下部平台50，从而所述基板处理装置120的门20-2能够打开。这样，通过装载装置R，可以将所述基板S送入所述基板处理装置120内部的腔室11。

这里，如图2至图4所示，向根据本发明的多个实施例的基板处理装置100、110、120装载的基板S的材料没有特殊的限制，可以装载玻璃、塑料、聚合物、硅晶片等多种材料的基板S。下面对平板显示器最普遍使用的矩形形状的玻璃基板提出说明。就如图所示的本发明的基板处理装置100、110、120可处理的所述基板S的数量而言，可考虑所述本体10的大小、所述基板S的大小、基板处理环境等因素，进行恰当的选择。

接下来，如图1至图4所示，对根据本发明的一个实施例的基板处理系统1000的运作过程进行说明，如图2所示，所述基板处理装置100的所述门20向下打开，使所述腔室11的出入口打开，通过装载装置R，可以将所述基板S送入所述基板处理装置100内部的腔室11。此外，如图3所示，所述基板处理装置110的所述门20-1向下打开，使所述腔室11的出入口打开，通过装载装置R，可以将所述基板S送入所述基板处理装置110内部的腔室11。此外，如图4所示，所述基板处理装置120的所述门20-2向下打开，使所述腔室11的出入口打开，通过装载装置R，可以将所述基板S送入所述基板处理装置120内部的腔室11。这里不局限于如图2至图4的顺序，可以与顺序无关地处理所述基板S。

图5是展示根据本发明的另一个实施例的基板处理系统1100的立体图。

如图5所示，根据本发明的另一个实施例的基板处理系统1100包括能够支撑按照所述规定距离T移位并层叠的多个所述基板处理装置100的固定装置30。

更具体地举例，所述基板处理装置100与相邻的其他基板处理装置110、120依次层叠，这时为了固定所述基板处理装置100、110、120，还包括所述固定装置30。在这里，就所述固定装置30而言，其能够在各个所述基板处理装置100、110、120的下部或侧面下方形成，并且能够以下部与相邻另一个基板处理装置的上部层叠的形式形成。例如，所述固定装置30可以是由多个螺栓、螺母固定而成的结构，并且也可以以滑动而配合的形式固定。并且，虽然图中没有标示出，所述固定装置30还包括发动机、齿轮、皮带以及各种能够连接及固定的装置。此外，为了不干扰最下面的位于下部的所述基板处理装置120的门20-2，在所述下部平台50的上部层叠形成所述固定装置30。

在这里，所述固定装置30以不干扰各个所述基板处理装置100、110、120的门20、20-1、20-2的形式形成。

图6至图8是展示根据本发明多个实施例的基板处理系统1200、1300、1400的立体图。

如图6所示，就根据本发明的又另一个实施例的基板处理系统1200而言，其还可包括为了支撑位于最下部的所述基板处理装置100所形成的下部平台50。更具体地举例，为了使位于最下部的所述基板处理装置120的所述门20-2能够打开，所述下部平台50可比所述门20-2的高度更高，并且下部可层叠所述基板处理装置120。

在这里，所述下部平台50是六面体盒子形状并且能够支撑所述基板处理装置120，除了盒子形状，所述下部平台50也可以形成为框架构造。这样，通过在所述基板处理装置120的下部形成所述下部平台50，从而对所述基板处理装置120进行支撑，并且所述基板处理装置120的所述门20-2能够打开。

如图7所示，就根据本发明的又另一个实施例的基板处理系统1300而言，其还可包括为了能够支撑按照所述规定距离T移位并层叠的多个所述基板处理装置而形成的所述框架40。更具体地举例，所述框架40包括：竖直支撑部件41，其竖直形成以便能够承载所述基板处理装置100、110、120的垂直荷重；水平支撑部件42，其以能够连接相邻的所述竖直支撑部件41的形式形成。例如，为了支撑依次层叠的所述基板处理装置100、110、120的上部、下部或侧部，可形成所述框架40，并且所述框架40可包括：所述竖直支撑部件41，其在所述基板处理装置100、110、120的侧面形成，从而形成为能够承载所述基板处理装置100、110、120的垂直荷重；以及所述水平支撑部件42，其形成为能够连接各个所述竖直支撑部件41并且能够支撑所述基板处理装置100、110、120的下部。在这里，所述框架40可以形成为不干扰所述基板处理装置100、110、120的所述门20、20-1、20-2。这样，通过形成所述框架40，从而所述基板处理装置100、110、120与所述框架40层叠时，能够防止内部的震动和摇晃并获得稳定性，通过所述框架40，从而能够提供设置于所述基板处理装置100、110、120的电器、管线、电力箱、发动机、气缸、散热装置以及各种辅助装置等的设置空间。

如图8所示，就根据本发明的又另一个实施例的基板处理系统1400的所述框架40而言，其形成为使所述基板处理装置100和与所述基板处理装置100上部或下部相邻的所述基板处理装置110、120之间能够分离并且层叠。例如，形成各个所述竖直支撑部件41的所述水平支撑部件42的幅度超过一定的宽度，从而形成各个所述基板处理装置100、110、120之间的宽度，得以形成各个所述基板处理装置100，110，120之间的空间，并且能够设置电器、管线、电力箱、发动机、气缸、散热装置以及各种辅助装置等。除此以外，为了分别支撑所述基板处理装置100、110、120，形成具有一定宽度的所述框架40，从而能够更加稳固地支撑各个所述基板处理装置100、110、120。

图9是展示图8的基板处理系统1400的框架40的一个例子的立体图。

如图9所示，就基板处理系统1300的所述框架40而言，其可以分为支撑各个所述基板处理装置100、110、120的各个组(set)。例如，就支撑所述基板处理装置100、110、120的所述框架40而言，可分为支撑各个所述基板处理装置100、110、120的各个所述框架40。更具体地举例，为了支撑多个所述基板处理装置100，可将多个所述框架40层叠设置，层叠的所述框架40中可以设置多个所述基板处理装置100。在这里，所述框架40和所述基板处理装置100可以多个连续层叠设置。这样，通过将设置面积最小化，从而以面积为单位的生产效益得以增加，能够确保单位面积的高产量。

图10是展示根据本发明的又另一个实施例的基板处理系统1500的立体图。

如图10所示，就根据本发明的又另一个实施例的基板处理系统1500而言，为了避免容纳了所述基板处理装置100且多级层叠的所述框架40坍塌，所述基板处理系统1500还可包括形成于所述下部平台50的重物50。例如，所述基板处理装置100、110、120依次层叠，位于上部的所述基板处理装置100与位于下部的所述基板处理装置120相比向前离开一定距离，整体形状就向前方倾斜。在这里，为了防止多个所述基板处理装置100、110、120依次层叠的所述框架40坍塌或者倾斜，位于所述基板处理装置120的下部的所述下部平台50还可包括所述重物50。在这里，所述重物50起到防止多个所述基板处理装置100、110、120依次层叠的所述框架40坍塌或者倾斜的作用，可以形成电器装置、气体管线、电力箱、发动机、泵、气缸、散热装置以及各种辅助装置。

本发明参考附图所示的实施例做出了说明，这些仅仅是举例，应理解，本技术领域具有一般知识的普通技术人员能够根据这些实施例可做出多种变化或做出等同的其他实施例。因此，本发明真正保护的技术范围应当依据专利的权利要求范围中的技术思想来确定。

标号说明

10、10-1、10-2：本体

11：腔室

20、20-1、20-2：门

30：固定装置

40：框架

41：竖直支撑部件

42：水平支撑部件

50：下部平台

60：重物

100、110、120：基板处理装置

1000、1100、1200、1300、1400、1500：基板处理系统

T：规定距离

L：本体前后面之间的长度

Claims (10)

1.一种基板处理系统，由多个依次层叠设置的基板处理装置组成，其特征在于，

所述基板处理装置包括：本体，所述本体包括提供基板处理空间的腔室；

门，所述门设置为能够向所述本体的上下方移动，从而将所述本体的正面打开或关闭，

多个所述基板处理装置向所述本体的正面方向按照规定距离从下部层向上部层逐渐移位，从而依次层叠。

2.根据权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于，

所述规定距离是指位于上部的基板处理装置的门处在下限点的情况下，在位于下部的基板处理装置的本体的正面方向上，能够与位于下部的所述基板处理装置的门分离开来的距离。

3.根据权利要求2所述的基板处理系统，其特征在于，

所述规定距离的值大于所述门的厚度，小于所述本体的前后面之间长度的一半。

4.根据权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于，

还包括为了能够支撑按照所述规定距离移位并层叠的多个所述基板处理装置而形成的固定装置。

5.根据权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于，

还包括对设置在最下部的所述基板处理装置进行支撑的下部平台。

6.根据权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于，

还包括能够对按照所述规定距离移位并层叠的多个所述基板处理装置进行支撑的框架。

7.根据权利要求6所述的基板处理系统，其特征在于，

所述框架包括：竖直支撑部件，其竖直形成，以便能够承载所述基板处理装置的垂直荷重；以及

水平支撑部件，所述水平支撑部件能够连接相邻的所述竖直支撑部件。

8.根据权利要求6所述的基板处理系统，其特征在于，

所述框架能够使所述基板处理装置和与所述基板处理装置上部或下部相邻的基板处理装置之间分离并且层叠。

9.根据权利要求6所述的基板处理系统，其特征在于，

所述框架可以分为支撑各个所述基板处理装置的各个组。

10.根据权利要求6所述的基板处理系统，其特征在于，

还包括形成所述下部平台的重物，以便避免容纳所述基板处理装置且多级层叠的所述框架坍塌。