CN106244988A - 一种高阻靶材制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种高阻靶材制造方法,属于电子材料与冶金技术领域。用于制备金属膜电阻器所需的靶材。该方法包括原料配比、熔炼、制粉、热压成型和机加工过程。其优点是:所制造的靶材晶粒尺寸细小、大小分布均匀、致密度高、外部无裂纹、内部无孔隙,能够有效提升金属膜电阻器的质量和薄膜沉积速率;本发明方法制造靶材成品率高,易于规模化生产。
Description
技术领域
本发明涉及一种高阻靶材制造方法,属于电子材料与冶金技术。
背景技术
金属膜电阻器耐热性高、稳定性好、噪声低、频率响应范围宽,单位面积承受功耗较高,有利于电子器件向小型化、集成化方向发展,广泛应用于仪器、仪表及通讯设备等领域,尤其适用于航空、航天、国防等高精密电子仪器。这就对金属膜电阻器提出更高的要求,包括较低的电阻温度系数、较高的抗环境变化性能和通用性。
目前磁控溅射是制备金属膜电阻器的主流技术。作为溅射源,靶材的质量制约着金属膜电阻器的电阻温度系数、精度、可靠性和稳定性。制作高质量靶材关键技术在于控制靶材组织晶粒粗化,细化晶粒尺寸。晶粒细化有利于改善靶材内部组织均匀化,提高靶材强度及硬度,延长靶材使用寿命。同时相比粗晶粒靶材,细小晶粒靶溅射速率快,成膜速率高;成分和组织均匀性较好的靶材溅射过程不易飞溅,膜层厚度均一,成膜质量高。目前制备金属膜电阻器的靶材产品主要包括Ni-Cr、Cr-Si和Cr-SiO等几类。
国内生产的高阻溅射靶材大多采用真空熔炼、浇注、热处理、机加工等工艺流程制备。产品晶粒普遍粗大,组织分布均匀性较差,导致溅射得到的金属膜电阻器的电阻温度系数在高低温区相差过大,阻值不稳定。另外制造高阻值靶材时需增加Cr、Si元素含量,由于Cr的熔点较高(1857℃),Si属半导体元素,导致合金脆性较高,内应力大,铸锭冷却过程中易出现裂纹,甚至开裂,造成靶材冶炼加工困难,成品率低。
发明内容
本发明的目的是针对背景技术存在的问题,提供一种磁控溅射法生产金属膜电阻器用高阻靶材制造方法。该方法采用热压成型高阻靶材产品,可以克服由于Si元素含量偏高引起的靶材脆性较高,容易开裂的难题;所制造的靶材晶粒尺寸细小、大小分布均匀、致密度高、外部无裂纹、内部无孔隙,能够有效提升金属膜电阻器的质量和薄膜沉积速率。同时在合金熔炼过程中添加少量稀土元素能够减少Zr元素在合金组织中的偏聚现象,改善靶材成分分布均匀性。采用本发明方法制造靶材成品率高,易于规模化生产。
本发明的方法包括以下步骤:
(1)配料:组分为Si、Cr、Ni、Al、Zr及稀土金属;重量比为,Si:30-70%,Cr:25-50%,Ni:2-20%,Al:0.5-5%,Zr:0.5-5%,其中五元素质量百分比总和为100%,稀土金属添加量为五元素总质量的0.1-2.5%;(2)熔炼:采用真空感应熔炼炉制备合金铸锭;(3)制粉:将合金锭制成所需粉料;(4)热压成型:定量称取合金粉料装入热压烧结炉热压成型;(5)机加工:对烧结后样品进行表面抛光及外形加工处理。
所述稀土金属包括Sc,Y,La,Ce,Pr,Nd,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb,Lu中的一种或几种。所述真空感应熔炼炉可以是真空感应悬浮熔炼炉,熔炼功率为45KW—60KW,熔炼过程3—5分钟,在惰性气体保护下进行。所述制粉,其粉料粒度为小于500μm。所述热压成型,热压炉内真空度高于1×10-2Pa,烧结温度为1030-1100℃,成型压力为15-35MPa,保温保压1-4小时。
本发明与背景技术相比,具有的有益效果是:所制造靶材晶粒尺寸细小、大小分布均匀、致密度高、外部无裂纹、内部无孔隙,能够有效提升金属膜电阻器的质量和薄膜沉积速率。
本发明采用热压成型技术可以克服由于Si元素含量偏高引起的靶材脆性较高,容易开裂的难题;同时在合金熔炼过程中添加少量稀土元素能够减少Zr元素在合金组织中的偏聚现象,改善靶材成分分布均匀性。
附图说明
图1是实施例1中,添加稀土La的高阻靶材XRD图谱;
图2是实施例1中,添加稀土La的高阻靶材不同放大倍数金相组织照片;
图3是实施例1中,添加稀土La的高阻靶材微观组织照片;
图4是实施例2中,添加稀土Ce的高阻靶材金相组织照片;
图5是实施例3中,添加稀土Pr的高阻靶材金相组织照片。
具体实施方式
实施例1:
一种高阻靶材制造方法,具体包括以下步骤:
(1)合金原料及配比:原料组分为Si、Cr、Ni、Al、Zr及稀土金属La;重量比为,Si:40%,Cr:39%,Ni:13%,Al:4%,Zr:4%。其中五元素质量百分比总和为100%,稀土La添加量为五元素总质量的0.8%;
(2)熔炼:采用真空感应悬浮熔炼炉熔炼合金铸锭,熔炼功率45KW,熔炼时间4分钟,熔炼过程在氩气保护气氛中进行;
(3)制粉:在石油醚介质保护下盘磨破碎合金铸锭,制备合金粉,盘磨时间60秒;
(4)热压成型:称取适量合金粉料装入石墨模具,采用热压烧结炉在真空环境下热压成型高阻靶材,真空度高于1×10-2Pa,热压温度为1050℃,成型压力为35MPa,保温保压1小时。
(5)机加工:进行机加工,制成所需尺寸的靶材。
经上述工艺获得的高阻靶材由CrSi2和少量的CrSi和Ni3Si相混合而成,主相为CrSi2四方相,XRD图谱见附图1。靶材晶粒尺寸20 um左右,大小分布均匀,其金相组织照片见附图2,微观组织照片见附图3。
实施例2:
一种高阻靶材制造方法步骤同实施例1,其中步骤1中的稀土金属改为Ce,获得的高阻靶材由CrSi2和少量的CrSi和Ni3Si相混合而成,主相为CrSi2四方相。靶材晶粒尺寸20 um左右,大小分布均匀,其金相组织照片见附图4。
实施例3:
一种高阻靶材制造方法步骤同实施例1,其中步骤1中的稀土金属改为Pr,添加量为五元素总质量的1.2%。获得的高阻靶材由CrSi2和少量的CrSi和Ni3Si相混合而成,主相为CrSi2四方相。靶材晶粒尺寸20 um左右,大小分布均匀,其金相组织照片见附图5。
实施例4:
一种高阻靶材制造方法步骤同实施例1,其中步骤1中的稀土金属改为Nd,添加量为五元素总质量的2.0%。获得的高阻靶材由CrSi2和少量的CrSi和Ni3Si相混合而成,主相为CrSi2四方相。靶材晶粒尺寸20 um左右,大小分布均匀。
实施例5:
一种高阻靶材制造方法步骤同实施例1,其中步骤1中的原料组分为Si、Cr、Ni、Al、Zr及稀土金属La;重量比为,Si:70%,Cr:25%,Ni:3%,Al:1%,Zr:1%。其中五元素质量百分比总和为100%,稀土添加量为五元素总质量的2.5%;步骤4中的热压温度为1100℃,成型压力为20MPa,保温保压2小时。获得的高阻靶材由Si和少量的CrSi2和NiSi2相混合而成,主相为Si。靶材晶粒尺寸25 um左右,大小分布均匀。
Claims (5)
1.一种高阻靶材制造方法,其特征是:包括以下步骤:
(1)配料:组分为Si、Cr、Ni、Al、Zr及稀土金属;重量比为,Si:30-70%,Cr:25-50%,Ni:2-20%,Al:0.5-5%,Zr:0.5-5%,其中五元素质量百分比总和为100%,稀土金属添加量为五元素总质量的0.1-2.5%;(2)熔炼:采用真空感应熔炼炉制备合金铸锭;(3)制粉:将合金锭制成所需粉料;(4)热压成型:定量称取合金粉料装入热压烧结炉热压成型;(5)机加工:对烧结后样品进行表面抛光及外形加工处理。
2.根据权利要求1所述的一种高阻靶材制造方法,其特征是:(1)中所述稀土金属包括Sc,Y,La,Ce,Pr,Nd,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb,Lu中的一种或几种。
3.根据权利要求1所述的一种高阻靶材制造方法,其特征是:(2)中所述真空感应熔炼炉可以是真空感应悬浮熔炼炉,功率为45KW—60KW,熔炼过程3—5分钟,在惰性气体保护下进行。
4.根据权利要求1所述的一种高阻靶材制造方法,其特征是:(3)中所述粉料粒度为小于500μm。
5.根据权利要求1所述的一种高阻靶材制造方法,其特征是:(4)中所述热压成型,热压炉内真空度高于1×10-2Pa,烧结温度为1030-1100℃,成型压力为15-35MPa,保温保压1-4小时。
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