CN106244349A - 一种适用于二极管的清洗液 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种适用于二极管的清洗液,所述清洗液是由以下重量份的组分组成:季铵氢氧化物6‑10份,氧化剂15‑45份,缓蚀剂1‑3份,脂肪醇聚氧乙烯醚3‑5份,乙醇8‑10份,氢氧化钠12‑16份和去离子水20‑40份。本发明的优点在于:本发明适用于二极管的清洗液,与传统二极管清洗液相比,在配方中增加了缓蚀剂,进而提高了二极管的缓蚀效率,能够有效抑制二极管的腐蚀,提高其表面的光滑度;且二极管的清洗液中合理配置各有效组分及溶剂的用量,尤其是最佳配比组合后,在室温下就能够快速、彻底的降低清洗液本身的表面张力,使得清洗液具有很高的清洁效果。
Description
技术领域
本发明涉及一种清洗液,特别涉及一种适用于二极管的清洗液。
背景技术
二极管是现代微电子工业发展的基础,二极管已经成熟并且大量的应用于电子行业的各个领域,随着现在微电子工业的迅猛发展,二极管已经成为企业利润最多的一部分,为了保证一定的利润,首先要保证二极管的质量,我们都知道二极管的制作工艺中需要对二极管进行清洗,如果开发一种成本低且清洁度高的清洗液是至关重要的。
经检索发现,专利CN 104232368 A 提出了一种二极管用清洗液,清洗液包括浓度为99.5%的EDTA4-6kg,纯水14-16kg,浓度为25-28%的氨水600-800ml。本发明清洗液对多种污染物都具有良好的清洁效果,但其腐蚀效果低,不能保证二极管表面光滑。
因此,研发一种缓释效果好,可避免二极管表面严重腐蚀及
提高表面光滑度的适用于二极管的清洗液是非常有必要的。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种缓释效果好,可避免二极
管表面严重腐蚀及提高表面光滑度的适用于二极管的清洗液。
为解决上述技术问题,本发明的技术方案为:一种适用于二极管的清洗液,其创新点在于:所述清洗液是由以下重量份的组分组成:季铵氢氧化物6-10份,氧化剂15-45份,缓蚀剂1-3份,脂肪醇聚氧乙烯醚3-5份,乙醇8-10份,氢氧化钠12-16份和去离子水20-40份。
进一步地,所述的季铵氢氧化物为十六烷基三甲基氢氧化铵或季铵聚酰芳胺。
进一步地,所述的氧化剂为硝酸铁。
进一步地,所述的缓蚀剂为苯丙氯三唑或咪唑或两者的混合物。
本发明的优点在于:本发明适用于二极管的清洗液,与传统二极管清洗液相比,在配方中增加了缓蚀剂,进而提高了二极管的缓蚀效率,能够有效抑制二极管的腐蚀,提高其表面的光滑度;且二极管的清洗液中合理配置各有效组分及溶剂的用量,尤其是最佳配比组合后,在室温下就能够快速、彻底的降低清洗液本身的表面张力,使得清洗液具有很高的清洁效果。
具体实施方式
下面的实施例可以使本专业的技术人员更全面地理解本发明,但并不因此将本发明限制在所述的实施例范围之中。
实施例1
本实施例适用于二极管的清洗液,其是由以下重量份的组分组成:十六烷基三甲基氢氧化铵6份,硝酸铁45份,苯丙氯三唑3份,脂肪醇聚氧乙烯醚5份,乙醇10份,氢氧化钠12份和去离子水40份。
实施例2
本实施例适用于二极管的清洗液,其是由以下重量份的组分组成:十六烷基三甲基氢氧化铵10份,硝酸铁15份,苯丙氯三唑1份,脂肪醇聚氧乙烯醚3份,乙醇8份,氢氧化钠16份和去离子水20份。
实施例3
本实施例适用于二极管的清洗液,其是由以下重量份的组分组成:十六烷基三甲基氢氧化铵8份,硝酸铁30份,苯丙氯三唑2份,脂肪醇聚氧乙烯醚4份,乙醇9份,氢氧化钠14份和去离子水30份。
实施例4
本实施例适用于二极管的清洗液,其是由以下重量份的组分组成:十六烷基三甲基氢氧化铵8份,硝酸铁30份,咪唑2份,脂肪醇聚氧乙烯醚4份,乙醇9份,氢氧化钠14份和去离子水30份。
实施例5
本实施例适用于二极管的清洗液,其是由以下重量份的组分组成:季铵聚酰芳胺8份,硝酸铁30份,苯丙氯三唑2份,脂肪醇聚氧乙烯醚4份,乙醇9份,氢氧化钠14份和去离子水30份。
实施例6
本实施例适用于二极管的清洗液,其是由以下重量份的组分组成:季铵聚酰芳胺8份,硝酸铁30份,咪唑2份,脂肪醇聚氧乙烯醚4份,乙醇9份,氢氧化钠14份和去离子水30份。
实施例7
本实施例适用于二极管的清洗液,其是由以下重量份的组分组成:十六烷基三甲基氢氧化铵8份,硝酸铁30份,苯丙氯三唑和咪唑的混合物2份,脂肪醇聚氧乙烯醚4份,乙醇9份,氢氧化钠14份和去离子水30份。
实施例8
本实施例适用于二极管的清洗液,其是由以下重量份的组分组成:季铵聚酰芳胺8份,硝酸铁30份,苯丙氯三唑和咪唑的混合物2份,脂肪醇聚氧乙烯醚4份,乙醇9份,氢氧化钠14份和去离子水30份。
为了测试实施例1~8适用于二极管的清洗液,将经清洗液清洗后的二极管进行腐蚀实验,其测试性能结果见下表:
静腐蚀率/(nm/min) | 腐蚀后表面粗糙度Rn/nm | 电流I/ρA | 电势E/mv | 缓蚀效率η/% | |
实施例1 | 27 | 1.6 | 7.272 | 163.98 | 99.1 |
实施例2 | 26 | 1.6 | 7.256 | 164.21 | 98.9 |
实施例3 | 27 | 1.5 | 7.168 | 164.26 | 99.2 |
实施例4 | 15.4 | 4.2 | 598.6 | 105.88 | 32.7 |
实施例5 | 26 | 1.5 | 7.236 | 164.76 | 99.3 |
实施例6 | 15.6 | 4.6 | 592.8 | 106.24 | 35.1 |
实施例7 | 28 | 1.3 | 7.132 | 165.12 | 99.8 |
实施例8 | 28 | 1.4 | 7.147 | 165.24 | 99.6 |
由上表可以看出,实施例1-8在配方中增加了缓蚀剂,进而提高了二极管的缓蚀效率,缓蚀效率最高可达99.8%,能够有效抑制二极管的腐蚀,提高其表面的光滑度;且通过实施例1-8各实施例的对比,由测试结果可以看出,缓蚀剂为苯丙氯三唑和咪唑的混合物使,缓蚀效果最佳,因而实施例7为最佳实施例。
以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征以及本发明的优点。本行业的技术人员应该了解,本发明不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理,在不脱离本发明精神和范围的前提下,本发明还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
Claims (4)
1.一种适用于二极管的清洗液,其特征在于:所述清洗液是由以下重量份的组分组成:季铵氢氧化物6-10份,氧化剂15-45份,缓蚀剂1-3份,脂肪醇聚氧乙烯醚3-5份,乙醇8-10份,氢氧化钠12-16份和去离子水20-40份。
2.根据权利要求1所述的适用于二极管的清洗液,其特征在于:所述的季铵氢氧化物为十六烷基三甲基氢氧化铵或季铵聚酰芳胺。
3.根据权利要求1所述的适用于二极管的清洗液,其特征在于:所述的氧化剂为硝酸铁。
4.根据权利要求1所述的适用于二极管的清洗液,其特征在于:所述的缓蚀剂为苯丙氯三唑或咪唑或两者的混合物。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107418770A (zh) * | 2017-09-08 | 2017-12-01 | 如皋市下原科技创业服务有限公司 | 一种适用于二极管的清洗液 |
CN107460062A (zh) * | 2017-09-08 | 2017-12-12 | 如皋市下原科技创业服务有限公司 | 一种新型二极管半导体专用清洗液 |
CN115651770A (zh) * | 2022-11-02 | 2023-01-31 | 浙江华诺化工有限公司 | 一种含有过氧化氢酶的粉状发泡清洁剂及其制备方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101096618A (zh) * | 2006-06-30 | 2008-01-02 | 天津晶岭电子材料科技有限公司 | 二极管清洗液 |
CN101356629A (zh) * | 2005-11-09 | 2009-01-28 | 高级技术材料公司 | 用于将其上具有低k介电材料的半导体晶片再循环的组合物和方法 |
CN101368134A (zh) * | 2007-08-15 | 2009-02-18 | 江苏海迅实业集团股份有限公司 | 金属材料表面清洗剂 |
CN101463296A (zh) * | 2008-11-28 | 2009-06-24 | 江苏海迅实业集团股份有限公司 | 微电子设备清洗剂 |
CN103614254A (zh) * | 2013-11-05 | 2014-03-05 | 昆山宏凌电子有限公司 | 金属电子产品的清洗制剂 |
CN105176717A (zh) * | 2015-09-17 | 2015-12-23 | 青岛文创科技有限公司 | 一种适用于二极管的清洗液 |
CN105385518A (zh) * | 2015-11-24 | 2016-03-09 | 如皋市大昌电子有限公司 | 一种新型二极管半导体专用清洗液 |
-
2016
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101356629A (zh) * | 2005-11-09 | 2009-01-28 | 高级技术材料公司 | 用于将其上具有低k介电材料的半导体晶片再循环的组合物和方法 |
CN101096618A (zh) * | 2006-06-30 | 2008-01-02 | 天津晶岭电子材料科技有限公司 | 二极管清洗液 |
CN101368134A (zh) * | 2007-08-15 | 2009-02-18 | 江苏海迅实业集团股份有限公司 | 金属材料表面清洗剂 |
CN101463296A (zh) * | 2008-11-28 | 2009-06-24 | 江苏海迅实业集团股份有限公司 | 微电子设备清洗剂 |
CN103614254A (zh) * | 2013-11-05 | 2014-03-05 | 昆山宏凌电子有限公司 | 金属电子产品的清洗制剂 |
CN105176717A (zh) * | 2015-09-17 | 2015-12-23 | 青岛文创科技有限公司 | 一种适用于二极管的清洗液 |
CN105385518A (zh) * | 2015-11-24 | 2016-03-09 | 如皋市大昌电子有限公司 | 一种新型二极管半导体专用清洗液 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107418770A (zh) * | 2017-09-08 | 2017-12-01 | 如皋市下原科技创业服务有限公司 | 一种适用于二极管的清洗液 |
CN107460062A (zh) * | 2017-09-08 | 2017-12-12 | 如皋市下原科技创业服务有限公司 | 一种新型二极管半导体专用清洗液 |
CN115651770A (zh) * | 2022-11-02 | 2023-01-31 | 浙江华诺化工有限公司 | 一种含有过氧化氢酶的粉状发泡清洁剂及其制备方法 |
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