CN105176717A - 一种适用于二极管的清洗液 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种二极管专用清洗液，属于有机溶液用途的技术领域。本发明的二极管专用清洗液包括以下重量份配比的组分：季铵氢氧化物4~10份、醋酸/醋酸钠缓冲水溶液3~7份、柠檬酸/柠檬酸盐缓冲水溶液4~9份、烷基二醇芳基醚5~11份、混酸12~21份、氢氧化钾2~7份、乙醇10~40份、去离子水50~120份。本发明的二极管专用清洗液，成本低廉，原料来源广泛，通过合适量的配置，使得本产品的清洗能力强，用量少，可有效去除金属离子的污染，不会对二极管元件的完整性造成损害。

Description

一种适用于二极管的清洗液
技术领域
本发明涉及一种二极管专用清洗液，属于电子半导体清洗剂领域。
背景技术
二极管，(英语：Diode)，电子元件当中，一种具有两个电极的装置，只允许电流由单一方向流过，许多的使用是应用其整流的功能。而变容二极管(VaricapDiode)则用来当作电子式的可调电容器。大部分二极管所具备的电流方向性我们通常称之为“整流(Rectifying)”功能。二极管最普遍的功能就是只允许电流由单一方向通过(称为顺向偏压)反向时阻断(称为逆向偏压)。因此，二极管可以想成电子版的逆止阀。
二极管是现代微电子行业发展的基础，早在上世纪二极管制作工艺就已经非常成熟并大量应用于电子行业的各个领域，随着电子微电子产业的迅速发展，二极管等分立器件已经成为微电子企业中利润较低，技术含量较低的行业，为了保证一定的利润，在二极管行业中使用大量对人体有害的物质作为清洗二极管表面的清洗液，如何在保证效果的情况下研制低成本、无污染的新型清洗液就成了刻不容缓的要求。
迄今为止，各种清洗方式中，以化学清洗居多，即使用化学清洗剂以某一设定的清洗流程，对电子元件，尤其是二极管进行清洗。当前的化学清洗使用的清洗剂包括有机溶剂清洗剂、半水基清洗剂和水基清洗剂，清洗方式主要有喷淋、浸洗、超声波等，在设定的技术参数下，对电子元件，尤其是二极管进行清洗。有机溶剂清洗剂，大多采用易挥发的诸如丙酮、乙醇、石油醚、环己烷、二氯甲烷、三氯乙烯、氟利昂等，该类清洗剂存在严重的大气污染，对臭氧层极具破坏性，属于ODS类物质，已被国际有关组织限制或禁止使用。
现有的水基或半水基电子清洗剂，虽然避免了对大气环境的污染，但就其使用效果而言，在电子元件，尤其是二极管的清洗中缺乏功能性，即难以保证电子元件，尤其是二极管的完整，对触脚、触点、封口胶、ITO镀膜、丝印图案等有较大影响，对光电特性、电磁特性、通透性、器件表面物理特性等亦可能造成影响，造成包括二极管的电子元件合格率低、良品率低，成本增加，使用寿命降低，难以完全满足清洗要求。
一般的，二极管制造过程中的清洗，除使用清洗剂的化学清洗外，还包括电脉冲清洗、光清洗、高压水射流清洗及超声波清洗等清洗方式。在实际应用中，现有的各种清洗方式总是存在各种难以克服的技术缺陷或者法规上的限制，难以满足现代工业发展的要求。
发明内容
本发明的目的在于针对现有技术中的不足，提供一种二极管专用清洗液，清洗能力强，用量少，可有效去除金属离子的污染，不会对二极管元件的完整性造成损害。
为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案为：一种二极管专用清洗液，其包括以下重量份组成：
季铵氢氧化物4~10份；
醋酸/醋酸钠缓冲水溶液3~7份；
柠檬酸/柠檬酸盐缓冲水溶液4~9份；
烷基二醇芳基醚5~11份；
混酸12~21份；
氢氧化钾2~7份；
乙醇10~40份；
去离子水50~120份。
进一步的，上述清洗液的各组分的重量份组成为：
季铵氢氧化物5~10份；
醋酸/醋酸钠缓冲水溶液4~6份；
柠檬酸/柠檬酸盐缓冲水溶液4~8份；
烷基二醇芳基醚5~9份；
混酸15~20份；
氢氧化钾3~6份；
乙醇15~40份；
去离子水65~120份。
优选的，上述清洗液的重量份组成为：
季铵氢氧化物8份；
醋酸/醋酸钠缓冲水溶液5份；
柠檬酸/柠檬酸盐缓冲水溶液5份；
烷基二醇芳基醚7份；
混酸18份；
氢氧化钾5份；
乙醇15~40份；
去离子水65~120份。
优选的，上述清洗液的重量份组成为：
季铵氢氧化物7份；
醋酸/醋酸钠缓冲水溶液4份；
柠檬酸/柠檬酸盐缓冲水溶液8份；
烷基二醇芳基醚6份；
混酸16份；
氢氧化钾4份；
乙醇25~40份；
去离子水65~120份。
上述重量份的组分组成的清洗液在室温下能够快速、彻底地降低清洗液本身的表面张力，使清洗液具有水溶性好、渗透力强的特点。上述的清洗液能够有效阻止卤素原子、氢氧根离子等对晶片图形和基材的攻击，从而降低对晶片图形和对铝和铜等金属，以及二氧化硅等非金属基材的腐蚀。
进一步地，上述清洗液的混酸为HNO3、HF、CH3COOH、H2O2和H3PO4。
具体地，在上述混酸中加入醋酸溶解掉混合酸酸洗中生成物硫酸铅，避免硫酸铅进入吸附到芯片的侧面，进一步提高二极管芯片的电性能。
进一步的，上述混酸中各组分的体积比为：HNO3︰HF︰CH3COOH︰H2O2︰H3PO4=0.5~1.5︰0.2~1.2︰0.5~4︰1~5︰0.5~4。
进一步地，上述混酸中HNO3浓度为30%~45%(wt%)、HF的浓度为15%~30%(wt%)、CH3COOH的浓度为15~45%(wt%)、H2O2的浓度为20%~25%(wt%)、H3PO4的浓度为25%~45%(wt%)。
本发明的有益效果如下：
（1）本发明提供的二极管专用清洗液，成本低廉，原料来源广泛，通过合适量的配置，使得本产品的清洗能力强，用量少，可有效去除金属离子的污染，不会对二极管元件的完整性造成损害。
（2）本发明提供的二极管专用清洗液，以磷酸溶液为磷酸/磷酸盐缓冲液或磷酸盐或磷酸钾或磷酸三钠、离子-非离子表面活性剂由阳离子表面活性剂和非离子表面活性剂混合而成，渗透剂为十二烷基苯磺酸钠与异丙基苯磺酸钠的混合物，混合比例为2～3︰1、去离子水的电导率为4μs/cm，电阻率为18.2～20.5MΩ·cm，生产出的清洗剂更环保，减少环境污染，不危害操作者健康，并且清洗效率高，清洗时间短，渗透力高，在组分中不含亚硝酸盐，生物降解性能好，可对二极管表面的金属离子，有机、无机杂质和固体粒子进行清洗，对清洗后二价管表面还起到防腐防锈作用。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明的技术方案作详细说明。
实施例1
一种二极管专用清洗液的组分组成：季铵氢氧化物5份、醋酸/醋酸钠缓冲水溶液7份、柠檬酸/柠檬酸盐缓冲水溶液6份、烷基二醇芳基醚8份、混酸15份、氢氧化钾4份、乙醇25份、去离子水110份。将上述成分按照配比量加入到容器中，在37℃下搅拌20min后，静置2h，即可得到本实施例的二极管专用清洗液。
实施例2
清洗液的各组分组成：铵氢氧化物6份、醋酸/醋酸钠缓冲水溶液5份、柠檬酸/柠檬酸盐缓冲水溶液7份、烷基二醇芳基醚8份、混酸15份、氢氧化钾4份、乙醇25份、去离子水110份。将上述成分按照配比量加入到容器中，在37℃下搅拌40min后，静置1h，即可得到本实施例的二极管专用清洗液。
将以上实施例配比成的清洗二极管的清洗率为99.9%以上，水中不容物小于0.5%、经漂洗后无残留。

Claims (7)

1.一种二极管专用清洗液，其包括以下重量份组成：
季铵氢氧化物4~10份；
醋酸/醋酸钠缓冲水溶液3~7份；
柠檬酸/柠檬酸盐缓冲水溶液4~9份；
烷基二醇芳基醚5~11份；
混酸12~21份；
氢氧化钾2~7份；
乙醇10~40份；
去离子水50~120份。
2.根据权利要求1所述的一种二极管专用清洗液，其特征在于：所述清洗液的各组分的重量份组成为：
季铵氢氧化物5~10份；
醋酸/醋酸钠缓冲水溶液4~6份；
柠檬酸/柠檬酸盐缓冲水溶液4~8份；
烷基二醇芳基醚5~9份；
混酸15~20份；
氢氧化钾3~6份；
乙醇15~40份；
去离子水65~120份。
3.根据权利要求1所述的一种二极管专用清洗液，其特征在于：所述清洗液的重量份组成为：
季铵氢氧化物8份；
醋酸/醋酸钠缓冲水溶液5份；
柠檬酸/柠檬酸盐缓冲水溶液5份；
烷基二醇芳基醚7份；
混酸18份；
氢氧化钾5份；
乙醇15~40份；
去离子水65~120份。
4.根据权利要求1所述的一种二极管专用清洗液，其特征在于：所上述清洗液的重量份组成为：
季铵氢氧化物7份；
醋酸/醋酸钠缓冲水溶液4份；
柠檬酸/柠檬酸盐缓冲水溶液8份；
烷基二醇芳基醚6份；
混酸16份；
氢氧化钾4份；
乙醇25~40份；
去离子水65~120份。
5.根据权利要求1所述的一种二极管专用清洗液，其特征在于：所述清洗液的混酸为HNO3、HF、CH3COOH、H2O2和H3PO4。
6.根据权利要求1所述的一种二极管专用清洗液，其特征在于：所述混酸中各组分的体积比为：HNO3︰HF︰CH3COOH︰H2O2︰H3PO4=0.5~1.5︰0.2~1.2︰0.5~4︰1~5︰0.5~4。
7.根据权利要求1所述的一种二极管专用清洗液，其特征在于：所述混酸中HNO3浓度为30%~45%(wt%)、HF的浓度为15%~30%(wt%)、CH3COOH的浓度为15~45%(wt%)、H2O2的浓度为20%~25%(wt%)、H3PO4的浓度为25%~45%(wt%)。
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