CN104450281A - 一种二极管专用清洗液 - Google Patents
一种二极管专用清洗液 Download PDFInfo
- Publication number
- CN104450281A CN104450281A CN201410650972.5A CN201410650972A CN104450281A CN 104450281 A CN104450281 A CN 104450281A CN 201410650972 A CN201410650972 A CN 201410650972A CN 104450281 A CN104450281 A CN 104450281A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- diode
- phosphoric acid
- special cleaning
- nonionogenic tenside
- cleaning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
本发明公开了一种二极管专用清洗液,其创新点在于:包括以下重量百分比的成分:磷酸溶液8~10%,EDTA5~10%,离子-非离子表面活性剂5~15%,渗透剂10~20%,N-羟乙基丙二胺5~8%,余量为去离子水。本发明提供的二极管专用清洗液,成本低廉,原料来源广泛,通过合适量的配置,使得本产品的清洗能力强,用量少,可有效去除金属离子的污染,不会对二极管元件的完整性造成损害。使用PH为6.8~7.0的磷酸/磷酸盐缓冲液,通过实验证明使用效果最佳,清洗后生物降解性能好,有效防止二极管表面不腐蚀生锈。主要成分采用混合比例为0.5~1∶3~5的阳离子表面活性剂和非离子表面活性剂的混合物,使得本产品的清洗能力强,用量少,效率高。
Description
技术领域
本发明涉及一种二极管专用清洗液,属于电子半导体清洗剂领域。
背景技术
二极管是现代微电子行业发展的基础,早在上世纪二极管制作工艺就已经非常成熟并大量应用于电子行业的各个领域,随着电子微电子产业的迅速发展,二极管等分立器件已经成为微电子企业中利润较低,技术含量较低的行业,为了保证一定的利润,在二极管行业中使用大量对人体有害的物质作为清洗二极管表面的清洗液,如何在保证效果的情况下研制低成本、无污染的新型清洗液就成了刻不容缓的要求。
迄今为止,各种清洗方式中,以化学清洗居多,即使用化学清洗剂以某一设定的清洗流程,对电子元件,尤其是二极管进行清洗。当前的化学清洗使用的清洗剂包括有机溶剂清洗剂、半水基清洗剂和水基清洗剂,清洗方式主要有喷淋、浸洗、超声波等,在设定的技术参数下,对电子元件,尤其是二极管进行清洗。有机溶剂清洗剂,大多采用易挥发的诸如丙酮、乙醇、石油醚、环己烷、二氯甲烷、三氯乙烯、氟利昂等,该类清洗剂存在严重的大气污染,对臭氧层极具破坏性,属于ODS 类物质,已被国际有关组织限制或禁止使用。
现有的水基或半水基电子清洗剂,虽然避免了对大气环境的污染,但就其使用效果而言,在电子元件,尤其是二极管的清洗中缺乏功能性,即难以保证电子元件,尤其是二极管的完整,对触脚、触点、封口胶、ITO 镀膜、丝印图案等有较大影响,对光电特性、电磁特性、通透性、器件表面物理特性等亦可能造成影响,造成包括二极管的电子元件合格率低、良品率低,成本增加,使用寿命降低,难以完全满足清洗要求。
一般的,二极管制造过程中的清洗,除使用清洗剂的化学清洗外,还包括电脉冲清洗、光清洗、高压水射流清洗及超声波清洗等清洗方式。在实际应用中,现有的各种清洗方式总是存在各种难以克服的技术缺陷或者法规上的限制,难以满足现代工业发展的要求。
发明内容
本发明的目的在于针对现有技术中的不足,提供一种二极管专用清洗液,清洗能力强,用量少,可有效去除金属离子的污染,不会对二极管元件的完整性造成损害。
为解决上述技术问题,本发明采用的技术方案为:一种二极管专用清洗液,其创新点在于:包括以下重量百分比的成分:磷酸溶液8~10%,EDTA5~10%,离子-非离子表面活性剂5~15%,渗透剂10~20%,N- 羟乙基丙二胺5~8%,余量为去离子水。
进一步的,包括以下重量百分比的成分:磷酸溶液9%,EDTA7%,离子-非离子表面活性剂10%,渗透剂15%,N- 羟乙基丙二胺6%,余量为去离子水。
进一步的,所述磷酸溶液为磷酸/磷酸盐缓冲液或磷酸盐或磷酸钾或磷酸三钠。
进一步的,所述磷酸/磷酸盐缓冲液的PH为6.8~7.0。
进一步的,所述离子-非离子表面活性剂是由阳离子表面活性剂和非离子表面活性剂混合而成,阳离子表面活性剂和非离子表面活性剂的混合比例为0.5~1:3~5。
进一步的,所述渗透剂为十二烷基苯磺酸钠与异丙基苯磺酸钠的混合物,其中,十二烷基苯磺酸钠:异丙基苯磺酸钠=2~3:1。
进一步的,所述去离子水的电导率为4μs/cm,电阻率为18.2~20.5MΩ·cm。
本发明的有益效果如下:
(1)本发明提供的二极管专用清洗液,成本低廉,原料来源广泛,通过合适量的配置,使得本产品的清洗能力强,用量少,可有效去除金属离子的污染,不会对二极管元件的完整性造成损害。
(2)本发明提供的二极管专用清洗液,以磷酸溶液为磷酸/磷酸盐缓冲液或磷酸盐或磷酸钾或磷酸三钠、离子-非离子表面活性剂由阳离子表面活性剂和非离子表面活性剂混合而成,渗透剂为十二烷基苯磺酸钠与异丙基苯磺酸钠的混合物,混合比例为2~3:1、去离子水的电导率为4μs/cm,电阻率为18.2~20.5MΩ·cm,生产出的清洗剂更环保,减少环境污染,不危害操作者健康,并且清洗效率高,清洗时间短,渗透力高,在组分中不含亚硝酸盐,生物降解性能好,可对二极管表面的金属离子,有机、无机杂质和固体粒子进行清洗,对清洗后二价管表面还起到防腐防锈作用。
(3)本发明提供的二极管专用清洗液,使用PH为6.8~7.0的磷酸/磷酸盐缓冲液,通过实验证明使用效果最佳,清洗后生物降解性能好,有效防止二极管表面不腐蚀生锈。
(4)本发明提供的二极管专用清洗液,主要成分采用混合比例为0.5~1:3~5的阳离子表面活性剂和非离子表面活性剂的混合物,使得本产品的清洗能力强,用量少,效率高。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明的技术方案作详细说明。
实施例1
一种二极管专用清洗液,其创新点在于:包括以下重量百分比的成分:磷酸溶液8~10%,EDTA5~10%,离子-非离子表面活性剂5~15%,渗透剂10~20%,N- 羟乙基丙二胺5~8%,余量为去离子水。
其中,磷酸溶液为磷酸/磷酸盐缓冲液,且磷酸/磷酸盐缓冲液的PH为6.8~7.0;
离子-非离子表面活性剂是由阳离子表面活性剂和非离子表面活性剂混合而成,阳离子表面活性剂和非离子表面活性剂的混合比例为0.5~1:3~5;
渗透剂为十二烷基苯磺酸钠与异丙基苯磺酸钠的混合物,其中,十二烷基苯磺酸钠:异丙基苯磺酸钠=2~3:1;
去离子水的电导率为4μs/cm,电阻率为18.2~20.5MΩ·cm。
将上述成分按照配比量加入到容器中,在37℃下搅拌40min后,静置1h,即可得到本实施例的二极管专用清洗液。
实施例2
在实施例1基础上,包括以下重量百分比的成分:磷酸溶液8~10%,EDTA5~10%,离子-非离子表面活性剂5~15%,渗透剂10~20%,N- 羟乙基丙二胺5~8%,余量为去离子水。
其中,磷酸溶液为磷酸盐;离子-非离子表面活性剂中阳离子表面活性剂和非离子表面活性剂的混合比例为0.5~1:3~5;渗透剂中十二烷基苯磺酸钠:异丙基苯磺酸钠=2~3:1。
不仅限于,磷酸溶液还可以为磷酸钾或磷酸三钠。
将上述成分按照配比量加入到容器中,在37℃下搅拌40min后,静置1h,即可得到本实施例的二极管专用清洗液。
实施例3
在实施例1或2的基础上,改变成分比例,具体为:磷酸溶液9%,EDTA7%,离子-非离子表面活性剂10%,渗透剂15%,N- 羟乙基丙二胺6%,余量为去离子水。按照实施例1或2的成分选择以及配比确定后,将上述成分按照配比量加入到容器中,在37℃下搅拌40min后,静置1h,即可得到本实施例的二极管专用清洗液。
将以上实施例进行各项技术指标分析中心检测值与国家行业指标进行对比,对比表如下表1所示:
项目 | 国家行业指标 | 实施例1 | 实施例2 | 实施例3 |
清洗率% | 高效型≥98 | 99.7 | 99.8 | 99.9 |
受控物质 | / | / | / | / |
ODP值 | / | / | / | / |
水不溶物 | 液体≤0.1 | 0.04 | 0.03 | 0.02 |
PH值 | 7.0-11.0 | 7.3 | 7.2 | 7.1 |
腐蚀值(40±2℃) | 硬铝LY片2h 1级 | 0级 | 0级 | 0级 |
高低温稳定性 | 均匀,不分层,无析出物 | 符合 | 符合 | 符合 |
漂洗性 | 无可见残留物 | 符合 | 符合 | 符合 |
从上表可以看出,本发明的产品优于一般国标指标,且实施例3的产品性能最佳。
Claims (7)
1.一种二极管专用清洗液,其特征在于:包括以下重量百分比的成分:磷酸溶液8~10%,EDTA5~10%,离子-非离子表面活性剂5~15%,渗透剂10~20%,N- 羟乙基丙二胺5~8%,余量为去离子水。
2.根据权利要求1所述的二极管专用清洗液,其特征在于:包括以下重量百分比的成分:磷酸溶液9%,EDTA7%,离子-非离子表面活性剂10%,渗透剂15%,N- 羟乙基丙二胺6%,余量为去离子水。
3.根据权利要求1所述的二极管专用清洗液,其特征在于:所述磷酸溶液为磷酸/磷酸盐缓冲液或磷酸盐或磷酸钾或磷酸三钠。
4.根据权利要求3所述的二极管专用清洗液,其特征在于:所述磷酸/磷酸盐缓冲液的PH为6.8~7.0。
5.根据权利要求1所述的二极管专用清洗液,其特征在于:所述离子-非离子表面活性剂是由阳离子表面活性剂和非离子表面活性剂混合而成,阳离子表面活性剂和非离子表面活性剂的混合比例为0.5~1:3~5。
6.根据权利要求1所述的二极管专用清洗液,其特征在于:所述渗透剂为十二烷基苯磺酸钠与异丙基苯磺酸钠的混合物,其中,十二烷基苯磺酸钠:异丙基苯磺酸钠=2~3:1。
7.根据权利要求1所述的二极管专用清洗液,其特征在于:所述去离子水的电导率为4μs/cm,电阻率为18.2~20.5MΩ·cm。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201410650972.5A CN104450281A (zh) | 2014-11-17 | 2014-11-17 | 一种二极管专用清洗液 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201410650972.5A CN104450281A (zh) | 2014-11-17 | 2014-11-17 | 一种二极管专用清洗液 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN104450281A true CN104450281A (zh) | 2015-03-25 |
Family
ID=52897040
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201410650972.5A Pending CN104450281A (zh) | 2014-11-17 | 2014-11-17 | 一种二极管专用清洗液 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN104450281A (zh) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106148029A (zh) * | 2016-06-28 | 2016-11-23 | 华蓥市高科德电子科技有限公司 | 一种发光二级管清洗材料 |
CN107418770A (zh) * | 2017-09-08 | 2017-12-01 | 如皋市下原科技创业服务有限公司 | 一种适用于二极管的清洗液 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101096618A (zh) * | 2006-06-30 | 2008-01-02 | 天津晶岭电子材料科技有限公司 | 二极管清洗液 |
CN102653707A (zh) * | 2011-03-03 | 2012-09-05 | 宁波市鄞州声光电子有限公司 | 电子元件去污液 |
CN102816659A (zh) * | 2012-09-05 | 2012-12-12 | 深圳市宏达威化工有限公司 | 电子元件清洗剂 |
JP2012245458A (ja) * | 2011-05-26 | 2012-12-13 | Kao Corp | 電子材料基板用酸性洗浄剤組成物 |
-
2014
- 2014-11-17 CN CN201410650972.5A patent/CN104450281A/zh active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101096618A (zh) * | 2006-06-30 | 2008-01-02 | 天津晶岭电子材料科技有限公司 | 二极管清洗液 |
CN102653707A (zh) * | 2011-03-03 | 2012-09-05 | 宁波市鄞州声光电子有限公司 | 电子元件去污液 |
JP2012245458A (ja) * | 2011-05-26 | 2012-12-13 | Kao Corp | 電子材料基板用酸性洗浄剤組成物 |
CN102816659A (zh) * | 2012-09-05 | 2012-12-12 | 深圳市宏达威化工有限公司 | 电子元件清洗剂 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
徐宝财等: "《洗涤剂配方设计》", 30 April 2010 * |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106148029A (zh) * | 2016-06-28 | 2016-11-23 | 华蓥市高科德电子科技有限公司 | 一种发光二级管清洗材料 |
CN107418770A (zh) * | 2017-09-08 | 2017-12-01 | 如皋市下原科技创业服务有限公司 | 一种适用于二极管的清洗液 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN101818103B (zh) | 电子材料清洗剂 | |
CN101748003A (zh) | 一种无卤环保清洗剂 | |
CN109135945A (zh) | 环保中性除锈剂 | |
CN103774164A (zh) | 一种水基金属脱脂清洗剂 | |
JP6226144B2 (ja) | 洗浄剤組成物原液、洗浄剤組成物および洗浄方法 | |
CN109971560A (zh) | 一种金属零件清洗剂及其制备方法 | |
CN106811328A (zh) | 一种酸性光学玻璃清洗剂及其使用方法 | |
CN104263536A (zh) | 一种手机屏幕清洁剂及其制备方法 | |
CN102337546A (zh) | 环保型铜锈清洗剂 | |
CN109055033A (zh) | 一种中性环保高效清洗剂 | |
CN103820800A (zh) | 一种低温脱脂清洗剂 | |
CN104450281A (zh) | 一种二极管专用清洗液 | |
CN108239433A (zh) | 一种水基型uv三防漆清洗剂及其制备方法 | |
CN105176717A (zh) | 一种适用于二极管的清洗液 | |
CN109517677B (zh) | 洗涤剂组合物原液、以及包含该洗涤剂组合物原液的洗涤剂组合物 | |
CN101660162B (zh) | 一种抑制钢铁在自来水或海水中腐蚀的缓蚀剂及其使用方法 | |
CN108085168A (zh) | 一种柔性线路板专用清洗剂及其制备方法与应用 | |
CN106753865A (zh) | 电子材料清洗剂 | |
CN107502910A (zh) | 一种热泵热水器生产用的水基型金属表面油污清洗剂 | |
CN104098951B (zh) | 一种五金油墨清洗剂及其制备方法 | |
CN106434016A (zh) | 一种水性电子产品清洁剂 | |
CN107544215A (zh) | 一种光刻胶剥离液 | |
CN105695135A (zh) | 一种全有机组分环保洁厕剂 | |
CN104233335A (zh) | 一种改进的设备用防锈清洗剂 | |
US9683206B2 (en) | Low-VOC water-based cleaner for pen, ink, markers, paint |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20150325 |
|
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |