CN106195132A - 偏心摆动型减速装置 - Google Patents

Abstract

本发明的课题在于得到一种通过对内齿轮的销槽施以低摩擦被膜，能够进行更高效的运行的偏心摆动型减速装置。本发明提供一种偏心摆动型减速装置(G)，其内齿轮(30)具有：内齿轮主体(32)、形成于该内齿轮主体(32)的销槽(34)及配置于该销槽(34)的外销即销部件(36)，其中，对销槽(34)施以低摩擦被膜，施以该低摩擦被膜之后的销槽(34)的均方根粗糙度(Rq)为0.5μm以上且2.5μm以下。

Description

偏心摆动型减速装置

本申请主张基于2014年10月3日申请的日本专利申请第2014-205289号的优先权。该日本申请的全部内容通过参考援用于本说明书中。

技术领域

本发明涉及一种偏心摆动型减速装置。

背景技术

专利文献1中公开有一种偏心摆动型减速装置。

该偏心摆动型减速装置具备内齿轮和在摆动的同时与该内齿轮内接的外齿轮，且将内齿轮和外齿轮的相对旋转作为输出而输出。

内齿轮构成为具有：内齿轮主体、形成于该内齿轮主体的销槽及配置于该销槽的销部件。销部件构成内齿轮的内齿，且能够以配置在销槽的状态进行旋转。

该专利文献1中，提出有对外齿轮的齿面施以化学转化处理被膜的技术。

专利文献1：日本专利公开昭62-132068号公报(图1)

然而，在该专利文献1中，将化学转化处理被膜应用到偏心摆动型减速装置的外齿轮的外齿，而并没有公开应用到内齿轮的销槽的例子。

发明内容

本发明是鉴于这种以往的问题而完成的，其课题在于得到一种通过对内齿轮的销槽施以低摩擦被膜，从而能够进行更高效的运行的偏心摆动型减速装置。

本发明通过构成为如下来解决上述课题，即，一种偏心摆动型减速装置，其内齿轮具有：内齿轮主体、形成于该内齿轮主体的销槽及配置于该销槽的销部件，其中，对所述销槽施以低摩擦被膜，施以该低摩擦被膜之后的所述销槽的均方根粗糙度Rq为0.5μm以上且2.5μm以下。

如后详述，根据该结构，通过施以低摩擦被膜，能够更大程度地提高运行效率。

发明效果

根据本发明，能够得到一种通过对内齿轮的销槽施以低摩擦被膜，能够进行更高效的运行的偏心摆动型减速装置。

附图说明

图1是表示本发明的実施方式的一例所涉及的偏心摆动型减速装置的整体结构的剖视图。

图2是图1的内齿轮的内齿轮主体的主要部分放大剖视图。

图3是表示运行效率与均方根粗糙度Rq之间的关系的6小时后的曲线图。

图4是表示运行效率与均方根粗糙度Rq之间的关系的磨合后的曲线图。

图中：G-偏心摆动型减速装置，12-输入轴，18-偏心部，20-曲轴，24-外齿轮，30-内齿轮，32-内齿轮主体，34-销槽，36-外销(销部件)，Rq-均方根粗糙度，η-运行效率。

具体实施方式

以下，基于附图对本发明的实施方式的一例进行详细说明。

首先，对本发明的实施方式的一例所涉及的偏心摆动型减速装置的整体结构进行说明。

图1是表示该偏心摆动型减速装置的整体结构的剖视图。

该偏心摆动型减速装置G的输入轴12与马达14的马达轴14A形成为一体。在输入轴12经由键16连结有具有2个偏心部18的曲轴20。

各偏心部18的轴心C18分别相对于输入轴12的轴心C12偏心。该例子中，偏心部18的偏心相位差为180度。在偏心部18的外周配置有滚子轴承22。在滚子轴承22的外周以能够摆动的方式组装有2个外齿轮24。之所以在轴向上并列设置2个外齿轮24，是为了确保必要的传递容量及提高旋转平衡性。外齿轮24分别与内齿轮30内啮合。

即，该偏心摆动型减速装置G是用于使外齿轮24摆动的曲轴20配置于装置的径向中央(与输入轴12的轴心C12及内齿轮30的轴心C30同轴)的被称为“中心曲柄式”的偏心摆动型减速装置。

内齿轮30具有：内齿轮主体32，与外壳28(的后述的外壳主体52)形成为一体；销槽34，形成于该内齿轮主体32；及外销(销部件)36，配置于该销槽34。外销36构成内齿轮30的内齿。内齿轮30的内齿数(外销36的数量)稍多于外齿轮24的外齿数(该例子中仅多1个)。对于内齿轮30的结构及其制造方法，容后详述。

在外齿轮24中，从其轴心(与轴心C18相同)偏离的位置形成有多个贯穿孔24A。该贯穿孔24A中嵌入有内销40。内销40压入并固定于凸缘体42的内销保持孔42A中，该凸缘体42配置在外齿轮24的轴向侧部。凸缘体42与输出轴44形成为一体。输出轴44由一对圆锥滚子轴承46支承。

另外，该实施方式中，内辊48作为滑动促进部件外嵌在内销40。内辊48的一部分与外齿轮24的贯穿孔24A的内周面抵接。内辊48的外径小于贯穿孔24A的内径，在内辊48与该贯穿孔24A的内周面之间确保有相当于偏心部18的偏心量的2倍的最大间隙。内销40(及内辊48)贯穿外齿轮24，因此其动作与该外齿轮24的自转同步。

另一方面，该偏心摆动型减速装置G的外壳28具有容纳减速机构部50的外壳主体52及容纳输出轴44的输出外壳体54。在外壳主体52的轴向上的负载相反侧配置有(还作为马达罩发挥功能的)负载相反侧罩56，且在输出外壳体54的轴向上的负载侧配置有负载侧罩57。偏心摆动型减速装置G经由脚部58的螺栓孔58A并且通过未图示的螺栓固定于固定部件。

该偏心摆动型减速装置G具有如上结构，且通过使马达14的马达轴14A旋转来使连结于输入轴12的曲轴20的2个偏心部18旋转。如此一来，外齿轮24进行摆动的同时与内齿轮30(具体而言，构成该内齿轮30的内齿的外销36)啮合。由此，每当输入轴12旋转1次而使外齿轮24摆动1次，该外齿轮24自转与内齿轮30和外齿轮24之间的齿数差(该例子中为1齿)相应的量。其结果，能够将该自转成分经由内销40及内辊48传递至凸缘体42，使与该凸缘体42形成为一体的输出轴44进行减速旋转。

接着，对内齿轮30附近的结构进行详细说明。

图2是图1的内齿轮30的内齿轮主体32的主要部分放大剖视图。

如前所述，内齿轮30具有：内齿轮主体32；销槽34，形成于该内齿轮主体32中；及外销(销部件)36，配置于该销槽34并构成内齿。内齿轮30的内齿轮主体32与外壳主体52形成为一体。即，内齿轮主体32与外壳主体52为同一部件。为方便起见，在本说明书中统称为内齿轮主体32。

内齿轮主体32整体由大致呈环状的部件构成。在内齿轮主体32的轴向两侧部形成有：台阶部32A，用于构成与负载相反侧罩56锁扣的锁扣部；及台阶部32B，用于构成与输出外壳体54锁扣的锁扣部。

在内齿轮主体32的内周，遍及轴向全长且在周向上等间隔形成有与内齿的齿数相应的量的销槽34。销槽34由与轴垂直的截面大致呈半圆形状的槽构成。构成内齿轮30的内齿的外销(销部件)36旋转自如地配置于销槽34。

另外，图1中，符号32F是用于在内齿轮主体32连结负载相反侧罩56及输出外壳体54的螺栓孔，在图2中，符号35为O形环槽。

以下，与表面性状的说明一同对该销槽34的结构进行更加详细的说明。

发明人等针对该偏心摆动型减速装置G的内齿轮主体32的销槽34，即，针对用于配置构成内齿轮30的内齿的外销36的销槽34，进行了与粗糙度(销槽34的表面粗糙度)和运行效率相关的试验。具体而言，首先，通过改变加工方法，或者在使用相同的加工方法的情况下，通过改变工具规格，或改变进给速度，从而得到具有各种粗糙度的销槽34，并分析该粗糙度与运行效率(％)之间的关系。接着，对各粗糙度的销槽34施以低摩擦被膜，并分析施以低摩擦被膜之后的粗糙度与运行效率η之间的关系。

本试验中，作为粗糙度的指标，测定均方根粗糙度Rq。均方根粗糙度Rq是指，在JIS B0601中定义的粗糙度曲线中，相对于基准长度而求出的均方根粗糙度(将粗糙度曲线上的各位置的高度成分的值的平方平均以后取平方根的粗糙度)。

关于均方根粗糙度Rq，能够得到在用剖面表示销槽34的表面粗糙度时的峰和谷中与峰侧(高度方向)的平均粗糙度接近的概念的指标。通常认为运行效率与摩擦系数具有较大的关联，并且摩擦係数与峰侧的粗糙度具有较大的关联，因此本试验中，作为粗糙度的指标采用均方根粗糙度Rq。并且，本试验中，作为低摩擦被膜，采用磷酸锰被膜。

本试验中，为了得到各种表面粗糙度(均方根粗糙度Rq)的销槽34，采用了基于镗削加工、插齿加工、滚筒抛光、珩磨加工及旋刮加工的加工方法。

本试验中所采用的镗削加工是被称作“镗孔”的加工，是指针对利用钻头等预先加工的预孔，通过单刃(单刃刀具)将直径扩大而形成销槽34的加工。

并且，本试验中所采用的插齿加工是指使称作插齿刀的工具进行往复移动而反复进行在朝向一个方向前进时切削工件(内齿轮主体32)后返回的工序的加工。

并且，本试验中所采用的滚筒抛光是指在称作滚筒的容器内放入磨料、工件(内齿轮主体32)及工作液，并使滚筒旋转或振动而进行表面精加工的加工。另外，滚筒抛光中，作为前加工预先进行基于钻头或插齿加工的预孔加工。

并且，本试验中所采用的珩磨加工是指使用安装有多个砂轮的称作磨石的工具对通过镗削加工预先形成的预孔的内周进行精密研磨(磨削)的加工。

并且，本试验中所采用的旋刮加工是指使称作旋刮刀的工具和工件(内齿轮主体32)保持一定角度而进行旋转(例如同步旋转)，利用所产生的速度差进行展成的加工。利用旋刮加工形成本实施方式中的内齿轮主体32的销槽34时，例如对日本实用新型注册第3181136号中所记载的加工机械适当地实施加工本实施方式所涉及的销槽34所需的定制(具体而言，将工具定制成能够加工圆弧形状)，从而能够利用该加工机械。

试验对象的销槽34的圆弧的直径为6.0mm，轴向长度为40.5mm，内齿轮主体32的原料为FC200。并且，外销36的原料为SUJ2，并通过磨削加工而成。外销36的表面粗糙度以均方根粗糙度计为Rq0.2μm左右。

试验条件(试验工序)如下。

(a)首先，通过各种加工方法在外壳主体52上加工销槽34，制造出多种未施以低摩擦被膜的(粗糙度不同的)内齿轮30。同样地，通过各种加工方法在外壳主体52上加工销槽34，并制造出多种施以低摩擦被膜的(粗糙度不同的)内齿轮30。

接着，在运行之前分别对未施以低摩擦被膜的内齿轮30及已施以低摩擦被膜的内齿轮30这两者测定均方根粗糙度Rq。

并且，在连续运行6小时后及磨合运行结束之后，分别对未施以低摩擦被膜的内齿轮30及已施以低摩擦被膜的内齿轮30这两者测定运行效率η。

在此，磨合运行结束之后是指“开始运行之后经过了外壳28外周的温度变化成为1℃/hr以下为止的时间之后”。总之，磨合运行结束之后意味着“开始运行后外壳28的外周温度会上升，而该温度的上升逐渐变缓，最终稳定到1小时的温度上升变成1℃以下之后”。

(b)使用TAYLOR HOBSON(泰勒·霍普森)公司制的“表面粗糙度轮廓仪PGI840”沿销槽34的轴向进行粗糙度测定，从而得到粗糙度曲线并根据该粗糙度曲线得到均方根粗糙度Rq。

(c)关于测针驱动器精度设为“驱动速度：0.25mm/sec”、“测取间隔：0.125μm”、“触针压：80mgf”，关于滤波器设定设为“表面形状：LS线”、“滤波器：高斯型”、“取样长度(Lc)：0.8mm”、“取样长度(Ls)：0.0025mm”、“带宽：300:1”，关于测针规格设为“顶端半径：2μm”、“形状：60°圆锥”，从而测定粗糙度。

如下测定运行效率η。首先，在偏心摆动型减速装置G的输入轴12连结马达14，且在输出轴44连结制动装置作为负载，并将脚部58固定于地面等的固定部件上。该状态下，将制动装置的负载设定为偏心摆动型减速装置G的额定转矩，并驱动马达14。接着，测量输入轴12的输入转矩和输出轴44的输出转矩，根据测量结果并通过{输出转矩/(输入转矩×减速比)}×100％的计算公式求出运行效率η。

将本试验的连续运行6小时后的测定结果示于图3。

图3中涂黑的标记是未施以低摩擦被膜的试验片(销槽34)的数据，空心的标记表示已施以低摩擦被膜的试验片的数据。

为方便起见，基于所测定的数据及后述见解，将均方根粗糙度Rq划分为以下六组。

第1组：2.5μm＜Rq的组

第2组：1.8μm≤Rq≤2.5μm的组

第3组：1.2μm≤Rq＜1.8μm的组

第4组：0.65μm≤Rq＜1.2μm的组

第5组：0.5μm≤Rq＜0.65μm的组

第6组：Rq＜0.5μm的组

并且，将没有磷酸锰被膜的样本(未施以磷酸锰被膜的样本)且具有属于上述第1组～第6组中的任一组的均方根粗糙度Rq的组，分别称为第1无组～第6无组。并且，将具有磷酸锰被膜的样本(已施以磷酸锰被膜的样本)且具有属于上述第1组～第6组中的任一组的均方根粗糙度Rq的组，分别称为第1有组～第6有组。

首先，通过镗削加工形成销槽34，并通过未施以磷酸锰被膜来获得均方根粗糙度Rq超过2.5μm的第1无组B1的销槽34(黑色星形标记：3个)。第1无组B1的6小时后的运行效率ηB1为90.6～91.2％左右。

另一方面，通过镗削加工形成销槽34，并通过施以磷酸锰被膜来获得被膜形成后(施以低摩擦被膜之后)的均方根粗糙度Rq超过2.5μm的第1有组A1的销槽34(白色星形标记☆：3个)。第1有组A1的6小时后的运行效率ηA1为91.0～91.1％左右。

作为下一个测定步骤，通过插齿加工形成销槽34，并通过未施以磷酸锰被膜来获得均方根粗糙度Rq为1.8μm以上且2.5μm以下的第2无组B2的销槽34(黑色三角形标记▲：3个)。第2无组B2的6小时后的运行效率ηB2为91.2～91.7％左右。

另一方面，对通过插齿加工形成的销槽34施以磷酸锰被膜来获得被膜形成后(施以低摩擦被膜之后)的均方根粗糙度Rq为1.8μm以上且2.5μm以下的第2有组A2的销槽34(白色三角形标记△：3个)。第2有组A2的6小时后的运行效率ηA2为93.6～93.9％左右。

另外，作为下一个测定步骤，通过具有与第2无组B2的插齿加工不同的工具规格的插齿加工形成销槽34，并通过未施以磷酸锰被膜来获得均方根粗糙度Rq为1.2μm以上且小于1.8μm的第3无组B3的销槽34(黑色三角形标记▲：3个)。另外，在该试验中，第2无组B2与第3无组B3的工具规格的具体差异为工具的刀刃的角度及有无对刀刃涂膜(第2无组B2中无涂膜)。第3无组B3的6小时后的运行效率ηB3为91.1～92.5％左右。

另一方面，对通过与第3无组B3相同的插齿加工形成的销槽34施以磷酸锰被膜获得被膜形成后(施以低摩擦被膜之后)的均方根粗糙度Rq为1.2μm以上且小于1.8μm的第3有组A3的销槽34(白色三角形标记△：3个)。第3有组A3的6小时后的运行效率ηA3为94.1～94.3％左右。

另外，作为下一个测定步骤，通过滚筒抛光形成销槽34，并通过未施以磷酸锰被膜来获得均方根粗糙度Rq为0.65μm以上且小于1.2μm的第4无组B4的销槽34(黑色菱形◆：3个)。第4无组B4的6小时后的运行效率ηB4为92.7～93.6％左右。

另一方面，对通过滚筒抛光形成的销槽34施以磷酸锰被膜，由此获得被膜形成后(施以低摩擦被膜之后)的均方根粗糙度Rq为0.65μm以上且小于1.2μm的第4有组A4的销槽(白色菱形◇：3个)。第4有组A4的6小时后的运行效率ηA4为94.2～94.4％左右。

另外，作为下一个测定步骤，通过珩磨加工形成销槽34，并通过未施以磷酸锰被膜来获得均方根粗糙度Rq为0.65μm以上且小于1.2μm的第4无组B4的销槽34(黑色圆形标记●：3个)。第4无组B4的6小时后的运行效率ηB4为94.0～94.2％左右。

另一方面，对通过珩磨加工形成的销槽34，并通过施以磷酸锰被膜来获得被膜形成后(施以低摩擦被膜之后)的均方根粗糙度Rq为0.5μm以上且小于0.65μm的第5有组A5的销槽34(白色圆形标记○：3个)。如此，通过珩磨加工所获得的销槽34在未施以磷酸锰被膜时的均方根粗糙度Rq属于第4无组B4，但通过施以磷酸锰被膜后，成为均方根粗糙度Rq属于第5有组A5的更平滑化的销槽34。第5有组A5的6小时后的运行效率ηA5为94.4～94.8％左右。

另外，作为下一个测定步骤，通过旋刮加工形成销槽34，并通过未施以磷酸锰被膜来获得均方根粗糙度Rq小于0.5的第6无组B6的销槽34(黑色正方形■：3个)。第6无组B6的6小时后的运行效率ηB6为93.8～94.1％左右。

另一方面，对通过旋刮加工形成的销槽34施以磷酸锰被膜来获得被膜形成后(施以低摩擦被膜之后)的均方根粗糙度Rq小于0.5μm的第6有组A6的销槽34(白色正方形□：3个)。第6有组A6的6小时后的运行效率ηA6为94.2～94.7％左右。

另外，图4为将磨合后(磨合运行结束之后)测定的运行效率的数据以与图3相同的方法进行表示的曲线图。在以下的说明中，以上述图3的数据作为基础进行验证，并在与图3的比较中，对该磨合后的图4的数据也会适当地进行说明。

从各曲线图的数据能够得到以下见解。

＜见解(1)＞

可以说存在对销槽34施以低摩擦被膜的优点的区域为施以低摩擦被膜之后的均方根粗糙度Rq为0.5μm以上且2.5μm以下的区域。

首先，对在施以低摩擦被膜之后的均方根粗糙度Rq超过2.5μm的第1有组A1和2.5μm以下的第2有组A2～第6有组A6之间存在第1阈值S1(2.5μm)的这一点进行验证。

参考图3(6小时后)，实施镗削加工后，与未施以低摩擦被膜的第1无组B1(黑色星形标记)相比，施以低摩擦被膜之后的均方根粗糙度Rq超过2.5μm的第1有组A1(白色星形标记☆)并未确认到运行效率的提高(90.6～91.2％→90.5～91.1％)。即，与未施以低摩擦被膜时相比，(即使花费成本和工时来施以低摩擦被膜)施以低摩擦被膜之后的均方根粗糙度Rq超过2.5μm的区域(第1有组A1)并未发现运行效率的上升，可以证明施以低摩擦被膜没有意义。

另一方面，在施以低摩擦被膜之后的均方根粗糙度Rq为2.5μm以下的第2有组A2～第6有组A6中，(虽然存在程度差)但均可确认到施以该低摩擦被膜后的运行效率ηA2～ηA6比未施以低摩擦被膜时的运行效率ηB2～ηB6上升的事实(施以低摩擦被膜是有意义的)。

由此可以证明，在施以低摩擦被膜之后的均方根粗糙度Rq超过2.5μm的第1有组A1与2.5μm以下的第2有组A2～第6有组A6之间，存在第1阈值S1，且施以低摩擦被膜之后的均方根粗糙度Rq为2.5μm以下的销槽34才有施以低摩擦被膜的优点。

接着，对在施以低摩擦被膜之后的均方根粗糙度Rq小于0.5μm的第6有组A6与0.5μm以上(小于0.65μm)的第5有组A5之间存在第2阈值S2(0.5μm)的这一点进行验证。

根据6小时后的图3的曲线图，已施以低摩擦被膜的第6有组A6(白色正方形□)的运行效率ηA6，比未施以低摩擦被膜的第6无组B6(黑色正方形■)的运行效率ηB6高(93.8～94.1％→94.2～94.7％)。

但是，根据磨合后的图4的曲线图，无法确认未施以低摩擦被膜的第6无组B6的运行效率ηB6与已施以低摩擦被膜的第6有组A6的运行效率ηA6之间存在差异。这是因为，未施以低摩擦被膜的第6无组B6的运行效率ηB6(黑色正方形■)虽然在磨合后的图4中比在6小时后的图3中“上升”(93.8～94.1％→94.0～94.4％)，但是，已施以低摩擦被膜的第6有组A6(白色正方形□)的运行效率ηA6在磨合后的图4中比在6小时后的图3中反而“下降”(94.2～94.7％→94.2～94.4％)。

其结果，在磨合后的图4中，未施以低摩擦被膜的第6无组B6的运行效率ηB6与已施以低摩擦被膜的第6有组A6的运行效率ηA6几乎没有差异。即，通过施以低摩擦被膜而均方根粗糙度Rq成为小于0.5μm的区域(第6有组A6)在运行中占据大部分的磨合运行之后中，与未施以低摩擦被膜时相比，(即使花费成本和工夫来施以低摩擦被膜)运行效率几乎没有提高。

与此相对，再次参考图3的曲线图，与未施以低摩擦被膜时(第4无组B4的状态)相比，通过实施珩磨加工后施以低摩擦被膜而均方根粗糙度Rq成为0.5μm以上(小于0.65μm)的第5有组A5无论是在6小时后的图3中还是在磨合后的图4中，运行效率均有明显提高(图3中，94.0～94.2％→94.4～94.8％，上升大约0.5％左右，图4中，93.9～94.0％→94.4～94.5％，上升大约0.5％左右)。

即，无论是6小时后(图3)还是磨合之后(图4)，能够清楚地确认到已施以低摩擦被膜的第5有组A5的运行效率从未施以低摩擦被膜的状态有明显上升。并且，在运行效率ηA5、ηA6的绝对值的比较中，无论是6小时后还是磨合运行之后，均确认到已施以低摩擦被膜的第5有组A5的运行效率ηA5高于已施以低摩擦被膜的第6有组A6的运行效率ηA6。因此，通过施以低摩擦被膜而均方根粗糙度Rq成为0.5μm以上(小于0.65μm)的第5有组A5存在施以低摩擦被膜的优点。

由此能够证明，在施以低摩擦被膜之后的均方根粗糙度Rq小于0.5μm的第6有组A6与0.5μm以上的第5有组A5之间存在第2阈值S2，并且均方根粗糙度Rq为0.5μm以上的销槽34才有施以低摩擦被膜的优点。

综合以上的验证，最终能够得到如下见解(1)，即，可以说对销槽34施以低摩擦被膜存在优点的区域是，施以低摩擦被膜之后的均方根粗糙度Rq为0.5μm以上且2.5μm以下的区域(从第2有组A2到第5有组A5)。

＜见解(2)＞

在通过见解(1)获得的施以低摩擦被膜之后的均方根粗糙度Rq为0.5μm以上且2.5μm以下的区域中，对0.65μm以上且2.5μm以下的区域施以低摩擦被膜的优点更大。

总之，该见解(2)如下：在施以低摩擦被膜之后的均方根粗糙度Rq为(0.5μm以上且)小于0.65μm的第5有组A5与0.65μm以上的第4有组A4～第2有组A2之间存在第3阈值S3(0.65μm)，并且，以该第3阈值S3为界，与施以低摩擦被膜之后的均方根粗糙度Rq小于0.65μm的区域侧相比，对0.65μm以上的区域侧施以低摩擦被膜的优点更大。以下，对该点进行验证。

再次参考图3，与未施以低摩擦被膜的第4无组B4(黑色圆形标记●)的的6小时后的运行效率ηB4相比，施以低摩擦被膜之后的均方根粗糙度Rq成为小于0.65μm的第5有组A5(白色圆形标记○)的运行效率ηA5有所上升，但上升的幅度并不大(如前述，94.0～94.2％→94.4～94.8％：上升大约0.5％左右)。并且，参考相同区域的磨合运行后的图4，也几乎相同，依然没怎么上升(如前述，93.9～94.0％→94.4～94.5％：上升大约0.5％左右)。

另一方面，参考图3，与未施以低摩擦被膜的第4无组B4的6小时后的运行效率ηB4(黑色菱形◆)相比，施以低摩擦被膜之后的均方根粗糙度Rq为0.65μm以上(且小于1.2μm)的第4有组A4(白色菱形◇)的6小时后的运行效率ηA4的上升幅度更大(92.7～93.6％→94.2～94.4％：上升大约1.0％左右)。即，与第5有组A5相比，第4有组A4的施以低摩擦被膜后的6小时后的运行效率ηA4的上升率更大。并且，参考相同区域的图4，与未施以低摩擦被膜的第4无组B4的磨合后的运行效率ηB4相比，第4有组A4的磨合后的运行效率ηA4的上升幅度也同样更大(92.5～93.0％→93.9～94.2％：上升大约1.0％左右)。即，磨合运行后，第4有组A4的区域的运行效率ηA4的上升率明显大于第5有组A5的区域的运行效率ηA5的上升率。

由此能够证明，在施以低摩擦被膜之后的均方根粗糙度Rq小于0.65μm的第5有组A5与0.65μm以上的第4有组A4之间存在第3阈值S3，并且，以该第3阈值S3为界，与施以低摩擦被膜之后的均方根粗糙度Rq小于0.65μm(第5有组A5)的区域侧相比，对0.65μm以上(第4有组A4)的区域侧施以低摩擦被膜的优点更大。

即，能够获得如下见解(2)，即，在通过见解(1)获得的施以低摩擦被膜之后的均方根粗糙度Rq为0.5μm以上且2.5μm以下的区域中，对0.65μm以上且2.5μm以下的区域施以低摩擦被膜的优点更大。

＜见解(3)＞

在通过见解(2)获得的施以低摩擦被膜之后的均方根粗糙度Rq为0.65μm以上且2.5μm以下的区域中，对1.2μm以上且2.5μm以下的区域(第3有组A3、第2有组A2)施以低摩擦被膜的优点更大。

在图3(6小时后)及图4(磨合后)这两个图中，与未施以低摩擦被膜的第3无组B3、第2无组B2的运行效率ηB3、ηB2相比，对通过插齿加工获得的销槽34施以低摩擦被膜之后的均方根粗糙度Rq为1.2μm以上的第3有组A3、第2有组A2的运行效率ηA3、ηA2上升大约2％左右，上升率非常大。即，无论在6小时后的图3中还是在磨合后的图4中，第3有组A3、第2有组A2的区域的运行效率ηA3、ηA2的上升率明显大于第4有组A4的区域的运行效率ηA4。

由此能够证明，在施以低摩擦被膜之后的均方根粗糙度Rq小于1.2μm的第4有组A4和1.2μm以上的第3有组A3、第2有组A2之间存在第4阈值S4(1.2μm)，并且，以该第4阈值S4为界，与施以低摩擦被膜之后的均方根粗糙度Rq小于1.2μm的区域侧相比，对1.2μm以上的区域侧施以低摩擦被膜的优点更大。

即，能够得到如下见解(3)，即，在通过见解(2)获得的施以低摩擦被膜之后的均方根粗糙度Rq为0.65μm以上且2.5μm以下的区域中，对1.2μm以上且2.5μm以下的区域(第3有组A3、第2有组A2)施以低摩擦被膜的优点更大。

因此，若综合目前为止的见解(1)～(3)来进行判断，则可以说存在对销槽34施以低摩擦被膜的优点的是低摩擦被膜形成后的均方根粗糙度Rq为0.5μm以上且2.5μm以下的区域的销槽34，优选为0.65μm以上且2.5μm以下的区域的销槽34，进一步优选为1.2μm以上且2.5μm以下的区域的销槽34。

另外，在本试验中，为了在形成销槽34时得到施以低摩擦被膜之后的规定的粗糙度，通过镗削加工、插齿加工、滚筒抛光、珩磨加工、及旋刮加工形成该销槽34。但是，这些加工方法的选择只不过是为了得到本实施方式(本试验)中的各种粗糙度的销槽34。相反，即使加工方法相同，若加工条件(例如，工具进给速度)、工具形状和工具精度等工具规格等发生变化，则均方根粗糙度Rq的值也会发生变化。例如，即使是相同的插齿加工，不仅存在均方根粗糙度Rq成为1.2μm以下的可能性，也也有可能成为2.5μm以上。本发明中，将均方根粗糙度Rq作为实现差别化的指标，而对加工方法本身并未特别限定。除上述加工方法之外，还可以采用例如喷丸硬化等加工方法。

另一方面，若加工方法等不同，例如，如之前的滚筒抛光和珩磨加工的例子所述，即使在未施以低摩擦被膜时具有相同的均方根粗糙度Rq(均为第4无组B4)，在施以低摩擦被膜之后有时存在均方根粗糙度Rq不同的情况(通过滚筒抛光并施以低摩擦被膜时，保持第4有组A4的状态，而通过珩磨加工并施以低摩擦被膜时，变成第5有组A5)。

在本发明中，只不过是将对销槽施以低摩擦被膜之后的粗糙度(均方根粗糙度Rq)作为实现差别化的指标。总之，本发明中，除销槽的加工方法之外，对未施以低摩擦被膜时的粗糙度，也并未特别限定。

并且，上述实施方式中，作为偏心摆动型减速装置，例示有在装置的径向中央具备1根曲轴的“中心曲柄式”偏心摆动型减速装置。然而，作为偏心摆动型减速装置还已知有，在远离装置的轴心的位置具备多个曲轴，且使该多个曲轴同步旋转，从而使外齿轮进行摆动的“分配式”偏心摆动型减速装置。在这种分配式偏心摆动型减速装置中，只要内齿轮设定为具有内齿轮主体、形成于该内齿轮主体的销槽及配置于该销槽的销部件的结构，可同样应用本发明。

并且，如同在上述实施方式中对内销外嵌内辊作为滑动促进部件那样，具有对外销也外嵌外辊作为滑动促进部件的内齿轮的偏心摆动型减速装置也是公知的。此时，在内齿轮主体形成有用于配置该外辊的销槽。对配置有这样的外辊的销槽，也可将该外辊视为本发明的销部件，并同样地应用本发明。

另外，上述实施方式中，作为低摩擦被膜施以磷酸锰被膜，但本发明所涉及的低摩擦被膜并不限定于磷酸锰被膜。例如，也可以是固体润滑被膜。在此的固体润滑被膜是指使二硫化钼、PTFE、石墨等固体润滑剂单独或复合地分散于涂料中，并涂覆于被处理物的处理。

Claims (4)

1.一种偏心摆动型减速装置，其内齿轮具有内齿轮主体、形成于该内齿轮主体的销槽及配置于该销槽的销部件，该偏心摆动型减速装置的特征在于，

对所述销槽施以低摩擦被膜，

施以该低摩擦被膜之后的所述销槽的均方根粗糙度Rq为0.5μm以上且2.5μm以下。

2.根据权利要求1所述的偏心摆动型减速装置，其特征在于，

施以所述低摩擦被膜之后的所述销槽的均方根粗糙度Rq为0.65μm以上且2.5μm以下。

3.根据权利要求1或2所述的偏心摆动型减速装置，其特征在于，

施以所述低摩擦被膜之后的所述销槽的均方根粗糙度Rq为1.2μm以上且2.5μm以下。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的偏心摆动型减速装置，其特征在于，

所述低摩擦被膜为磷酸锰被膜。