CN106066555B - 对盒设备 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种对盒设备,包括对盒腔室和设置在所述对盒腔室内的上吸附台和位于所述对盒腔室内且与所述上吸附台相对设置的下机台,所述上吸附台包括上机台和设置在所述上机台上的吸附层,所述对盒设备还包括多个辅助吸附件,所述辅助吸附件包括位于所述辅助吸附件一端的吸附盘,所述上吸附台上设置有多个通孔,所述通孔贯穿所述上机台和所述吸附层,每个所述通孔对应一个所述辅助吸附件,所述辅助吸附件设置在所述通孔中,且所述吸附盘的吸附表面能够与所述吸附层的吸附表面平齐。在利用所述对盒设备对盒两个基板时,多个辅助吸附件可以和吸附层一起吸附基板,增加了基板的受力点的个数,不同的受力点受力后互相协调,基板不容易产生变形。

Description

对盒设备
技术领域
本发明涉及显示装置的制造设备,具体地,涉及一种对盒设备。
背景技术
显示面板通常包括相对设置的两个基板,例如,液晶显示面板包括阵列基板和彩膜基板。因此在制造显示面板时的一个步骤为将两个基板对盒。
例如,将阵列基板和彩膜基板对盒的步骤包括:在密闭的真空腔体中,通过上吸附台和下机台分别吸附阵列基板和彩膜基板,驱动上吸附台和下机台相向移动,以将阵列基板和彩膜基板压合在一起。
所述上吸附台和所述下机台上均间隔设置的真空吸盘。当吸附力较大时,可能会造成基板的变形,而基板的变形则可能会导致黑间隔(gap)、白间隔等缺陷。
因此,如何防止在将基板对盒的过程中造成基板变形成为本领域亟待解决的技术问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种对盒设备,利用所述对盒设备对盒显示面板的两个基板时,几乎不会造成基板变形。
为了实现上述目的,本发明提供一种对盒设备,所述对盒设备包括对盒腔室和设置在所述对盒腔室内的上吸附台和位于所述对盒腔室内且与所述上吸附台相对设置的下机台,所述上吸附台包括上机台和设置在所述上机台上的吸附层,其中,所述对盒设备还包括多个辅助吸附件,所述辅助吸附件包括位于所述辅助吸附件一端的吸附盘,所述上吸附台上设置有多个通孔,所述通孔贯穿所述上机台和所述吸附层,每个所述通孔对应一个所述辅助吸附件,所述辅助吸附件设置在所述通孔中,且所述吸附盘的吸附表面能够与所述吸附层的吸附表面平齐。
优选地,所述辅助吸附件还包括吸附杆,每个所述吸附杆的第一端均设置有一个所述吸附盘,所述吸附盘包括盘体和设置在所述盘体的下表面上的吸附件,所述盘体的上表面与所述吸附杆铰接,所述吸附盘还包括设置在所述盘体的上表面上的平衡陀螺仪,所述吸附杆的至少一部分位于所述通孔中。
优选地,所述吸附件包括气囊和/或静电吸附层。
优选地,所述辅助吸附件还包括安装架,所述安装架位于所述上机台的上方,所述吸附杆的第二端穿过所述通孔与所述安装架相连。
优选地,所述吸附层由物理吸附材料制成。
优选地,所述下机台上间隔设置有多个沟槽,所述沟槽贯穿所述下机台的长度方向或宽度方向,所述对盒设备还包括送料叉,所述送料叉包括多个叉齿,相邻两个所述沟槽之间的间距与相邻两个所述叉齿之间的距离相匹配,以使得所述叉齿能够进入相应的所述沟槽中。
优选地,所述对盒设备还包括驱动机构,所述驱动机构用于驱动所述上吸附台和所述下机台中的至少一者,以使得所述上吸附台和所述下机台之间产生互相远离或互相靠近的相对运动。
优选地,所述对盒设备还包括压力检测机构,所述压力检测机构用于检测待对盒的两块基板之间的压力值,并且,所述压力检测机构能够在所述压力值达到预定值时向所述驱动机构发出第一控制信号,所述驱动机构能够在接收到所述第一控制信号后停止驱动所述上吸附台和所述下机台中的任意一者。
优选地,所述对盒设备还包括对位装置,所述驱动装置还用于移动设置在所述下机台上的基板,所述对位装置用于判断所述下机台上的基板与所述吸附层上的基板是否对准,当所述对位装置判定所述上机台上的基板与所述吸附层上的基板对准时,能够向所述驱动机构发出第二控制信号,所述驱动机构能够在接收到所述第二控制信号后停止移动所述下机台上的基板。
优选地,所述对盒设备还包括用于对所述对盒腔室抽真空的抽真空装置。
在利用所述对盒设备对盒两个基板时,多个辅助吸附件可以和吸附层一起吸附基板,增加了基板的受力点的个数,不同的受力点受力后互相协调,基板不容易产生变形。
附图说明
附图是用来提供对本发明的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与下面的具体实施方式一起用于解释本发明,但并不构成对本发明的限制。在附图中:
图1是本发明所提供的对盒设备的结构示意图;
图2是吸附盘的仰视示意图;
图3是吸附盘的俯视示意图;
图4是下机台与送料叉的示意图。
附图标记说明
100:对盒腔室 210:吸附层
220:辅助吸附件 221:吸附盘
222:吸附杆 300:抽真空装置
400:下机台 221a:盘体
221b:气囊 221c:静电吸附件
221d:平衡陀螺仪 10:基板
具体实施方式
以下结合附图对本发明的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是,此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明,并不用于限制本发明。
如图1所示,本发明提供一种对盒设备,所述对盒设备包括对盒腔室100、设置在对盒腔室100内的上吸附和位于对盒腔室100内且与所述上吸附台相对设置的下机台400,所述上吸附台包括上机台(未示出)和设置在所述上机台上的吸附层210,其中,所述对盒设备还包括多个辅助吸附件220,该辅助吸附件220包括位于该辅助吸附件220第一端的吸附盘221,所述上吸附台上设置有多个通孔,所述通孔贯穿所述上机台和吸附层210,每个所述通孔对应一个辅助吸附件220,该辅助吸附件220设置在所述通孔中,且吸附盘221的吸附表面能够与吸附层210的吸附表面平齐。
在利用所述对盒设备对盒两个基板时,多个辅助吸附件220可以和吸附层210一起吸附基板10,增加了基板10的受力点的个数,不同的受力点受力后互相协调,基板10不容易产生变形。
本发明所提供的对盒设备尤其适用于对柔性显示面板的两个基板进行对盒。柔性显示面板的基板为柔性基板,当在不同位置处收到吸附力时,容易产生变形。由于本发明所提供的对盒设备产生的受力点个数较多,各个吸附点之间互相协调,不容易产生变形。
在本发明中,对辅助吸附件220的具体结构并没有特殊的限制,作为本发明的一种具体实施方式,如图1所示,辅助吸附件220还包括吸附杆222,每个吸附杆222的第一端均设置有一个吸附盘221。如图2所示,吸附盘221包括盘体221a和设置在该盘体221a的下表面上的吸附件。如图3所示,盘体221a的上表面与吸附杆222的第一端铰接,吸附盘221还包括设置在盘体221a的上表面上的平衡陀螺仪221d。
由于盘体221a与吸附杆222铰接,因此,盘体221a可以相对于吸附杆222转动。当吸附基板10时,吸附层210以及吸附盘221对基板10的吸附力可以造成基板10的各个受力点之间互相牵制,由于盘体221a可以相对于吸附杆222转动,因此,基板10的各个受力点之间能够互相协调,从而可以抵消基板10的变形。并且,盘体221a上设置有平衡陀螺仪221d,从而可以保证吸附盘221始终处于水平状态。
为了增加盘体221a相对于吸附杆222转动的角度,优选地,盘体221a的上表面与吸附杆222球铰接。
在本发明中,对吸附件的具体结构并没有特殊的限定。例如,所述吸附件可以包括气囊221b和/或静电吸附层221c。
在图2中所示的实施方式中,盘体221a上设置了两个吸附件,一个是气囊221b,另一个是静电吸附层221c。
为了便于安装,优选地,所述辅助吸附件还包括安装架(未示出),所述安装架位于所述上机台的上方,所述吸附杆的第二端穿过所述通孔与所述安装架相连。
在本发明中,对吸附层210的具体结构并没有特殊限制。例如,吸附层210可以包括多个真空吸盘。优选地,所述吸附层由物理吸附材料制成。具体地,物理吸附材料是一种纳米橡胶材料,经过挤压,纳米橡胶材料的表面紧紧贴附在基板10的表面,纳米橡胶材料的表面与基板10的表面之间产生范德华力,从而可以吸附基板10。利用所述物理吸附材料制成所述吸附层的优点在于,在压合的过程中可以将所述上吸附台的下压量设定为比基板10和基板20对盒后的厚度低,例如,低0.1μm。在这种状态下,基板10和基板20之间的隔垫物受压,可以使得环绕基板设置的封框胶被更充分地压平,从而不会产生显示面板的四周因为缺少封框胶而产生的白间隔缺陷。
在本发明中,为了便于设置基板,如图4所示,所述对盒设备还可以包括具有多个叉齿的送料叉500,利用送料叉500可以将基板送入所述对盒腔室内,并将所述基板放置在下机台400上。为了便于放置基板,优选地,所述下机台上间隔设置有多个沟槽410,该沟槽贯穿下机台400的长度方向或宽度方向,相邻两个沟槽410之间的距离与相邻两个叉齿之间的距离相匹配,以使得送料叉500的叉齿能够进入相应的沟槽410中。
在送入基板时,首先利用送料叉500将基板运送到下机台400上方,叉齿与沟槽向对应,然后向下移动送料叉,直至叉齿进入相应的沟槽、基板支撑在下机台400上为止,撤出送料叉。
将基板设置在下机台400上之后,驱动上吸附台朝向下机台400移动,并控制吸附层210和辅助吸附件220将基板吸走。然后再向下机台400上设置另外一个基板。
优选地,所述对盒设备还包括驱动机构,所述驱动机构用于驱动所述上吸附台和下机台400中的至少一者,以使得所述上吸附台和下机台400之间产生互相远离或互相靠近的相对运动.
作为一种实施方式,驱动机构可以仅驱动所述上吸附台朝向或远离下机台400移动。作为另一种实施方式,所述驱动机构还可以仅驱动下机台400朝向或远离所述上吸附台移动。作为还一种实施方式,所述驱动机构可以驱动下机台400和上吸附台同时移动。
为了获得较好的压合效果,优选地,所述对盒设备还包括压力检测机构,所述压力检测机构用于检测待对盒的两块基板之间的压力值,并且,所述压力检测机构能够在所述压力值达到预定值时向所述驱动机构发出第一控制信号,所述驱动机构能够在接收到所述第一控制信号后停止驱动所述上吸附台和下机台400中的任意一者,以使得所述上吸附台和下机台400之间不再有相对移动。
优选地,所述对盒设备还包括对位装置,所述驱动机构还用于移动设置在所述下机台上的基板,所述对位装置用于判断所述下机台上的基板与所述吸附层上的基板是否对准,当所述对位装置判定所述上机台上的基板与所述吸附层上的基板对准时,能够向所述驱动机构发出第二控制信号,所述驱动机构能够在接收到所述第二控制信号后停止移动所述下机台上的基板。
在本发明中,所述对盒设备可以为真空贴合设备。相应地,如图1所示,所述对盒设备还包括用于对所述对盒腔室抽真空的抽真空装置300。
利用所述对盒设备对上基板和下基板对盒包括以下步骤:
上基板载入,并利用真空吸附盘将上基板固定到上部机台,包括:
利用机械手将上基板设置在下机台上;
控制吸附盘从上部机台的通孔中伸出,对上基板进行吸附;
所述吸附盘上的吸附件的表面接触玻璃基板,并将表面状态传递给所述平衡陀螺仪,对平整度进行调节补偿;
下基板载入;
闭合对盒腔室,并对所述对盒腔室进行抽真空;
利用所述对位装置判断上基板和下基板是否对准,当所述上基板与所述下基板为对准时,移动所述下基板,直至所述上基板与所述下基板对准为止;
将上基板和下基板进行压合,包括:
移动上部机台的电极根据所述平衡陀螺仪反馈的数据驱动上部机台朝向下部机台移动,并施加压力(通常为2.5KN);
利用施加在上部机台上的压力将上基板和下基板压缩到盒厚以下,以获得基板盒;
向所述对盒腔室内通入气体,进行真空破除;
所述吸附盘缩回上机台上部,上基板与所述吸附层吸附力降低;
向上基板吹气,进行基板盒剥离;
机械手将对盒好的基板从对盒腔室中取出。
可以理解的是,以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式,然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言,在不脱离本发明的精神和实质的情况下,可以做出各种变型和改进,这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (9)

1.一种对盒设备,所述对盒设备包括对盒腔室和设置在所述对盒腔室内的上吸附台和位于所述对盒腔室内且与所述上吸附台相对设置的下机台,所述上吸附台包括上机台和设置在所述上机台上的吸附层,其特征在于,所述对盒设备还包括多个辅助吸附件,所述辅助吸附件包括位于所述辅助吸附件一端的吸附盘,所述上吸附台上设置有多个通孔,所述通孔贯穿所述上机台和所述吸附层,每个所述通孔对应一个所述辅助吸附件,所述辅助吸附件设置在所述通孔中,且所述吸附盘的吸附表面能够与所述吸附层的吸附表面平齐;
所述辅助吸附件还包括吸附杆,每个所述吸附杆的第一端均设置有一个所述吸附盘,所述吸附盘包括盘体和设置在所述盘体的下表面上的吸附件,所述盘体的上表面与所述吸附杆铰接,所述吸附盘还包括设置在所述盘体的上表面上的平衡陀螺仪,所述吸附杆的至少一部分位于所述通孔中。
2.根据权利要求1所述的对盒设备,其特征在于,所述吸附件包括气囊和/或静电吸附层。
3.根据权利要求1或2所述的对盒设备,其特征在于,所述辅助吸附件还包括安装架,所述安装架位于所述上机台的上方,所述吸附杆的第二端穿过所述通孔与所述安装架相连。
4.根据权利要求1或2所述的对盒设备,其特征在于,所述吸附层由物理吸附材料制成。
5.根据权利要求1或2所述的对盒设备,其特征在于,所述下机台上间隔设置有多个沟槽,所述沟槽贯穿所述下机台的长度方向或宽度方向,所述对盒设备还包括送料叉,所述送料叉包括多个叉齿,相邻两个所述沟槽之间的间距与相邻两个所述叉齿之间的距离相匹配,以使得所述叉齿能够进入相应的所述沟槽中。
6.根据权利要求1或2所述的对盒设备,其特征在于,所述对盒设备还包括驱动机构,所述驱动机构用于驱动所述上吸附台和所述下机台中的至少一者,以使得所述上吸附台和所述下机台之间产生互相远离或互相靠近的相对运动。
7.根据权利要求6所述的对盒设备,其特征在于,所述对盒设备还包括压力检测机构,所述压力检测机构用于检测待对盒的两块基板之间的压力值,并且,所述压力检测机构能够在所述压力值达到预定值时向所述驱动机构发出第一控制信号,所述驱动机构能够在接收到所述第一控制信号后停止驱动所述上吸附台和所述下机台中的任意一者。
8.根据权利要求6所述的对盒设备,其特征在于,所述对盒设备还包括对位装置,所述驱动机构还用于移动设置在所述下机台上的基板,所述对位装置用于判断所述下机台上的基板与所述吸附层上的基板是否对准,当所述对位装置判定所述上机台上的基板与所述吸附层上的基板对准时,能够向所述驱动机构发出第二控制信号,所述驱动机构能够在接收到所述第二控制信号后停止移动所述下机台上的基板。
9.根据权利要求1或2所述的对盒设备,其特征在于,所述对盒设备还包括用于对所述对盒腔室抽真空的抽真空装置。
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