CN105911817A

CN105911817A - 感光性组合物、硬化膜的制造方法、硬化膜、触摸屏、及显示装置

Info

Publication number: CN105911817A
Application number: CN201610086797.0A
Authority: CN
Inventors: 米泽裕之; 崎田享平
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2015-02-20
Filing date: 2016-02-16
Publication date: 2016-08-31
Also published as: TW201631389A; JP2016153836A

Abstract

本发明提供一种感光性组合物、硬化膜的制造方法、硬化膜、触摸屏、及显示装置。本发明的感光性组合物含有：作为成分A的分子内具有三个以上的(甲基)丙烯酰基与一个以上的羧基的聚合性单体、作为成分B的分子内具有三个以上的(甲基)丙烯酰基且不具有羧基的聚合性单体、作为成分C的光聚合引发剂、及作为成分D的羟甲基化合物，成分A及成分B相对于组合物中的总有机固体成分的总含量为60质量％以上，成分A相对于组合物中的成分A及成分B的总含量的含量为10质量％～50质量％。根据本发明可提供一种显影性优异、可获得密接性及耐汗性优异的硬化膜的感光性组合物。

Description

感光性组合物、硬化膜的制造方法、硬化膜、触摸屏、及显示装置

技术领域

本发明涉及一种感光性组合物、硬化膜的制造方法、硬化膜、触摸屏、触摸屏显示装置、液晶显示装置、及有机电致发光(Electroluminescence，EL)显示装置。

背景技术

液晶显示装置、有机EL显示装置等平板显示器(flat panel display)被广泛使用。另外，近年来，随着智能手机(smartphone)或平板(tablet)终端的普及，静电电容式触摸屏受到瞩目。静电电容式触摸屏的传感器基板通常为如下结构：在玻璃上具有氧化铟锡(Indium TinOxide，ITO)或金属(银、钼、铝等)经图案化而成的配线，此外在配线的交叉部具有绝缘膜、对ITO及金属进行保护的保护膜。

作为现有的触摸屏配线用保护膜，已知有专利文献1及专利文献2中所记载的保护膜。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利第3678922号公报

[专利文献2]日本专利第5201066号公报

发明内容

发明所要解决的课题

本发明所要解决的课题为提供一种显影性优异、可获得密接性及耐汗性优异的硬化膜的感光性组合物。

另外，本发明所要解决的另一课题为提供一种使用所述感光性组合物的硬化膜的制造方法及硬化膜、以及使用所述硬化膜的触摸屏、触摸屏显示装置、液晶显示装置及有机EL显示装置。

解决问题的技术手段

本发明的所述课题是通过以下的<1>、<8>、<9>或<13>～<16>中记载的手段而解决。与作为优选实施方式的<2>～<7>及<10>～<12>一起记载于以下。

<1>一种感光性组合物，含有：作为成分A的分子内具有三个以上的(甲基)丙烯酰基与一个以上的羧基的聚合性单体、作为成分B的分子内具有三个以上的(甲基)丙烯酰基且不具有羧基的聚合性单体、作为成分C的光聚合引发剂、及作为成分D的羟甲基化合物，成分A及成分B相对于组合物中的总有机固体成分的总含量为60质量％以上，成分A相对于组合物中的成分A及成分B的总含量的含量为10质量％～50质量％。

<2>根据<1>所述的感光性组合物，其中成分D相对于组合物中的总有机固体成分的含量为0.1质量％～20质量％。

<3>根据<1>或<2>所述的感光性组合物，其中成分D相对于组合物中的总有机固体成分的含量为1质量％～10质量％。

<4>根据<1>至<3>中任一项所述的感光性组合物，其还含有聚合抑制剂作为成分E。

<5>根据<1>至<4>中任一项所述的感光性组合物，其中成分D为羟甲基三聚氰胺化合物和/或羟甲基脲化合物。

<6>根据<1>至<5>中任一项所述的感光性组合物，其还含有烷氧基硅烷化合物作为成分F。

<7>根据<1>至<6>中任一项所述的感光性组合物，其还含有无机粒子作为成分G。

<8>一种硬化膜的制造方法，其至少依序包括工序1～工序3：

工序1：将根据<1>至<7>中任一项所述的感光性组合物涂布在基板上的涂布工序

工序2：利用光化射线对经涂布的感光性组合物的至少一部分进行曝光的曝光工序

工序3：利用水性显影液对经曝光的感光性组合物进行显影的显影工序。

<9>一种硬化膜，其是使根据<1>至<7>中任一项所述的感光性组合物硬化而成。

<10>根据<9>所述的硬化膜，其为层间绝缘膜或保护膜。

<11>根据<9>或<10>所述的硬化膜，其为触摸屏配线用保护膜。

<12>根据<9>至<11>中任一项所述的硬化膜，其为外嵌结构触摸屏中的配线用保护膜。

<13>一种触摸屏，具有根据<9>至<12>中任一项所述的硬化膜。

<14>一种触摸屏显示装置，具有根据<9>至<12>中任一项所述的硬化膜。

<15>一种液晶显示装置，具有根据<9>或<10>所述的硬化膜。

<16>一种有机EL显示装置，具有根据<9>或<10>所述的硬化膜。

发明的效果

根据本发明可提供一种显影性优异、可获得密接性及耐汗性优异的硬化膜的感光性组合物。

另外，根据本发明可提供一种使用所述感光性组合物的硬化膜的制造方法及硬化膜、以及使用所述硬化膜的触摸屏、触摸屏显示装置、液晶显示装置及有机EL显示装置。

附图说明

图1表示有机EL显示装置的一例的构成概念图。且表示底部发光(bottom emission)型的有机EL显示装置中的基板的示意性截面图，具有平坦化膜4。

图2表示液晶显示装置的一例的构成概念图。且表示液晶显示装置中的有源矩阵(activematrix)基板的示意性截面图，具有作为层间绝缘膜的硬化膜17。

图3表示具有触摸屏的功能的液晶显示装置的一例的构成概念图。

图4表示具有触摸屏的功能的液晶显示装置的另一例的构成概念图。

附图标记说明：

1、16、440：TFT(薄膜晶体管)

2：配线

3、8、280、420：绝缘膜

4：平坦化膜

5：第一电极

6、14、15：玻璃基板

7、18、282：接触孔

10：液晶显示装置

12：背光单元

17：硬化膜

19：ITO透明电极

20：液晶

22、122、330：彩色滤光片

110：像素基板

111、127：偏光板

112、123：透明基板

113、370：共通电极

114：绝缘层

115：像素电极

116、121、350：取向膜

120：相向基板

124：相位差膜

125：传感用检测电极

126：接着层

130：传感部

140、400：液晶层

200：下部显示板

210：第1绝缘基板

220：栅极电极

240：栅极绝缘膜

250：半导体层

260、262：欧姆接触层

270：源极电极

272：漏极电极

290：像素电极

300：上部显示板

310：第2绝缘基板

320：遮光构件

410：传感电极

430：驱动电极

具体实施方式

以下，对本发明的内容加以详细说明。以下记载的构成要件的说明有时是根据本发明的具代表性的实施方式而进行，但本发明不限定于这种实施方式。此外，本说明书中所谓“～”是以包含其前后所记载的数值作为下限值及上限值的含意而使用。另外，本发明中所谓有机EL元件，是指有机电致发光元件。

本说明书中的基团(原子团)的表述中，未记载经取代及未经取代的表述包含不具有取代基的基团(原子团)，并且也包含具有取代基的基团(原子团)。例如所谓“烷基”，不仅是指不具有取代基的烷基(未经取代的烷基)，而且也包含具有取代基的烷基(经取代的烷基)。

此外，本说明书中，“(甲基)丙烯酸酯”表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯，“(甲基)丙烯酸”表示丙烯酸及甲基丙烯酸，“(甲基)丙烯酰基”表示丙烯酰基及甲基丙烯酰基。

另外，本发明中，“质量％”与“重量％”为相同含意，“质量份”与“重量份”为相同含意。

另外，本发明中，两个以上的优选实施方式的组合为更优选的实施方式。

本发明中，关于聚合物成分，分子量为由以四氢呋喃(Tetrahydrofuran，THF)作为溶剂的情况的凝胶渗透色谱(Gel Permeation Chromatography，GPC)所测定的聚苯乙烯换算的重量平均分子量。

(感光性组合物)

本发明的感光性组合物(以下也简称为“组合物”)含有：作为成分A的分子内具有三个以上的(甲基)丙烯酰基与一个以上的羧基的聚合性单体、作为成分B的分子内具有三个以上的(甲基)丙烯酰基且不具有羧基的聚合性单体、作为成分C的光聚合引发剂、及作为成分D的羟甲基化合物，并且成分A及成分B相对于组合物中的总有机固体成分的总含量为60质量％以上，成分A相对于组合物中的成分A及成分B的总含量的含量为10质量％～50质量％。

本发明的感光性组合物还可含有聚合抑制剂、烷氧基硅烷化合物、无机粒子等其他成分。

本发明的感光性组合物优选的是可通过利用碱性显影液的光刻(photolithography)来进行图案化。此外，在通过利用碱性显影液的光刻对本发明的感光性组合物进行图案化的情况下，所形成的图案为感光部作为图案而残留的负型图案。

此外，本发明中，所谓感光性组合物中的“固体成分”是指将溶剂等挥发性成分除外的成分。另外，所谓“有机固体成分”，是指从感光性组合物中将溶剂等挥发性成分及无机粒子等无机成分除外的成分。

具体来说，例示含有以下成分的组合物作为具体的实施方式。

本发明人等人进行了努力研究，结果发现，含有所述成分A～成分D且成分A及成分B相对于组合物中的有机固体成分的总含量、以及成分A相对于成分A及成分B的总含量的含量为特定范围的感光性组合物的显影性优异且所得的硬化膜的耐汗性优异，从而完成了本发明。

本发明的作用机制并不明确，但如以下那样进行推测。推断为通过将作为聚合性单体的成分A及成分B的总含量相对于组合物中的有机固体成分设为一定以上，可对感光性组合物赋予充分的硬化性。另外，推断为通过含有成分A而赋予光刻性，另外，通过将成分A相对于成分A及成分B的总含量的的含量设为特定范围，可满足显影性与硬化膜对基板的密接性这两者。

进而，推断为通过含有成分D而硬化膜的耐汗性优异。此处，所谓耐汗性，是指在将硬化膜用作触摸屏的保护膜的情况下，因长期使用而配线有时产生变色，将这种配线的变色得到抑制的情况称为耐汗性。此外，配线的变色推断为因如下情况而产生：使用者的汗或汗中的盐分透过保护膜而与配线接触，从而配线腐蚀。通过添加成分D来提高耐汗性的机制并不明确，但认为成分D吸附于配线的金属材料的表面，由此配线受到保护，耐汗性提高。

以下，对本发明的感光性组合物含有的各成分加以说明。

成分A：分子内具有三个以上的(甲基)丙烯酰基与一个以上的羧基的聚合性单体

本发明的感光性组合物含有分子内具有三个以上的(甲基)丙烯酰基与一个以上的羧基的聚合性单体作为成分A。

成分A为分子内具有三个以上的(甲基)丙烯酰基与一个以上的羧基的化合物。

成分A可为低分子的化合物，也可为寡聚物，但并非聚合物。即，从硬化膜的硬度的观点来看，成分A的分子量(在具有分子量分布的情况下为重量平均分子量)为10,000以下，优选5,000以下，进而优选3,000以下。

成分A在分子内具有三个以上的(甲基)丙烯酰基。分子内(一分子内)所具有的(甲基)丙烯酰基的个数优选3～15，更优选3～10，进而优选3～7。

若(甲基)丙烯酰基的个数为所述范围内，则硬度及反应性优异。

成分A只要在一分子内合计具有三个以上的丙烯酰基(-C(＝O)-CH＝CH₂)及甲基丙烯酰基(-C(＝O)-C(CH₃)＝CH₂)即可，优选的是合计具有三个以上的丙烯酰基氧基(-O-C(＝O)-CH＝CH₂)及甲基丙烯酰基氧基(-O-C(＝O)-C(CH₃)＝CH₂)。另外，优选的是具有三个以上的丙烯酰基，更优选的是具有三个以上的丙烯酰基氧基。

与甲基丙烯酰基相比，丙烯酰基在硬化性(反应性)优异的方面优选。另外，若为(甲基)丙烯酰基氧基，则从反应性优异、合成容易的方面来看优选。

成分A在分子内(一分子内)具有一个以上的羧基。一分子内的羧基的个数优选1～6，更优选1～3，进而优选1或2，特别优选1。

若成分A在一分子内所具有的羧基的个数为所述范围内，则显影性及基材密接性优异，因此优选。

此外，成分A具有的羧基也可形成盐。形成盐的阳离子优选有机阳离子性化合物、过渡金属配位络合物阳离子、或金属阳离子。有机阳离子性化合物可举出：四级铵阳离子、四级吡啶鎓阳离子、四级喹啉鎓阳离子、磷鎓阳离子、碘鎓阳离子、硫鎓阳离子等。过渡金属阳离子可例示日本专利第279143号公报中记载的化合物。金属阳离子可例示：Na⁺、K⁺、Li⁺、Ag⁺、Fe²⁺、Fe³⁺、Cu⁺、Cu²⁺、Zn²⁺、Al³⁺、Ca²⁺等。

此外，成分A优选的是不具有所述羧基以外的酸基。羧基以外的酸基可例示磺酸基、磷酸基等。若具有羧基以外的酸基，则有时基材密接性降低。

成分A为多羟基化合物与不饱和羧酸的酯，且优选的是使羧酸酐与多羟基化合物的未反应的羟基反应而具有酸基(羧基)的聚合性单体，特别优选的是多羟基化合物为季戊四醇和/或二季戊四醇。

成分A例如可通过对具有三个以上的(甲基)丙烯酰基与羟基的化合物(以下也称为“羟基多官能(甲基)丙烯酸酯”)加成酸酐而获得。

羟基多官能(甲基)丙烯酸酯可例示具有四个以上的羟基的多羟基化合物与(甲基)丙烯酸的酯。

具有四个以上的羟基的多羟基化合物优选脂肪族多羟基化合物，具体可例示：二甘油、二-三羟甲基乙烷、二-三羟甲基丙烷、二-三羟甲基丁烷、二-三羟甲基己烷、季戊四醇、二季戊四醇、三季戊四醇等。这些化合物中，优选季戊四醇、二季戊四醇。

另外，多羟基化合物也可使用所述例示的多羟基化合物的环氧烷加成物，环氧烷可例示环氧乙烷、环氧丙烷等。

羟基多官能丙烯酸酷的制造方法只要适当采用众所周知的方法即可，并无特别限定。具体可例示：在酸性催化剂下将多羟基化合物与(甲基)丙烯酸加热·搅拌的方法。酸性催化剂可举出硫酸、对甲苯磺酸及甲磺酸等。另外，反应温度只要根据所使用的化合物及目的而适当设定即可，优选70℃～140℃。若为所述温度范围内，则反应快，且稳定地进行反应而抑制杂质的生成或凝胶化。

反应时，优选的是使用与酯化反应中生成的水的溶解度低的有机溶剂，一面与水共沸一面促进脱水。优选的有机溶剂例如可举出：甲苯、苯及二甲苯等芳香族烃，己烷及庚烷等脂肪族烃，以及甲基乙基酮及环己酮等酮等。另外，有机溶剂可在反应后通过减压而蒸馏去除。

另外，为了防止所得的(甲基)丙烯酸酯的聚合，可在反应液中添加聚合抑制剂。这种聚合抑制剂例如可举出：对苯二酚、对苯二酚单甲醚、2，6-二叔丁基对甲酚及吩噻嗪等。

成分A是通过所述羟基多官能(甲基)丙烯酸酯与酸酐的反应而获得。

酸酐可举出：琥珀酸酐、1-十二烯基琥珀酸酐、马来酸酐、戊二酸酐、衣康酸酐、邻苯二甲酸酐、六氢邻苯二甲酸酐、甲基六氢邻苯二甲酸酐、四亚甲基马来酸酐、四氢邻苯二甲酸酐、甲基四氢邻苯二甲酸酐、内亚甲基四氢邻苯二甲酸酐(endo methylene-tetra-hydro phthalicanhydride)、甲基内亚甲基四氢邻苯二甲酸酐、四氯邻苯二甲酸酐、四溴邻苯二甲酸酐及偏苯三甲酸酐等在同一分子内具有一个酸酐基的化合物，以及均苯四甲酸酐、邻苯二甲酸酐二聚物、二苯基醚四羧酸二酐、二苯基砜四羧酸二酐、二苯甲酮四羧酸二酐及1，2，3，4-丁烷四羧酸二酐、二苯基醚四羧酸酐及偏苯三甲酸酐·乙二醇酯(市售品例如有新日本理化(股)制造的商品名理家德(Rikacid)TMEG-100)等在同一分子内具有两个酸酐基的化合物。

这些化合物中，优选的是在同一分子内具有一个酸酐基的化合物。

成分A的制造方法只要按照常规方法即可。

例如可举出：使羟基多官能(甲基)丙烯酸酯与羧酸酐在催化剂的存在下、在60℃～110℃下反应1小时～20小时的方法等。该情况的催化剂可举出：N，N-二甲基苄基胺、三乙胺、三丁胺、三乙二胺、氯化苄基三甲基铵、溴化苄基三乙基铵、溴化四甲基铵、溴化鲸蜡基三甲基铵及氧化锌等。

成分A优选式A-1所表示的化合物或式A-2所表示的化合物。

[化1]

式A-1中，X¹分别独立地表示丙烯酰基氧基或甲基丙烯酰基氧基，W¹表示碳数1～6的亚烷基、碳数2～6的亚烯基、或亚苯基。

式A-2中，X²分别独立地表示氢原子、羟基、碳数1～6的烷基、丙烯酰基氧基或甲基丙烯酰基氧基，存在五个的X²中，至少三个为丙烯酰基氧基或甲基丙烯酰基氧基，W²表示碳数1～6的亚烷基、碳数2～6的亚烯基、或亚苯基。

式A-1中，X¹优选的是丙烯酰基氧基。

式A-1中，W¹表示碳数1～6的亚烷基、碳数2～6的亚烯基、或亚苯基，碳数1～6的亚烷基可为直链状、分支状、环状的任一种。所述亚烷基优选碳数2～6，可例示亚乙基、亚丙基、亚丁基、亚戊基、亚己基、亚环己基。

式A-1中，W¹优选碳数1～6的亚烷基，更优选碳数2～6的亚烷基，进而优选碳数2或3的亚烷基，特别优选亚乙基。

式A-2中，存在五个的X²中，至少三个表示丙烯酰基氧基或甲基丙烯酰基氧基，优选丙烯酰基氧基。此外，存在五个的X²中，三个～五个为丙烯酰基氧基或甲基丙烯酰基氧基，优选的是四个～五个为丙烯酰基氧基或甲基丙烯酰基氧基，更优选的是五个为丙烯酰基氧基或甲基丙烯酰基氧基。

另外，丙烯酰基氧基或甲基丙烯酰基氧基以外的X²表示氢原子、羟基、或碳数1～6的烷基。碳数1～6的烷基可为直链状、分支状、环状的任一烷基。这些基团中，(甲基)丙烯酰基氧基以外的X²优选氢原子或碳数1～4的烷基，更优选氢原子、甲基或乙基，进而优选氢原子。

式A-2中，W²与式A-1中的W¹为相同含意，优选范围也相同。

成分A也可使用上市的产品，例如可举出东亚合成(股)制造的作为多元酸改性丙烯酸系寡聚物的亚罗尼斯(Aronix)(注册商标)系列的M-510、M-520、TO-2349、TO-2359等。

成分A可单独使用一种，也可并用两种以上。

相对于感光性组合物的总有机固体成分，成分A的含量优选3质量％～60质量％，更优选3质量％～50质量％，进而优选5质量％～40质量％，最优选10质量％～35质量％。

此外，本发明中，所谓感光性组合物中的“固体成分”，是指将有机溶剂等挥发性成分除外的成分。另外，所谓“有机固体成分”，是指从感光性组合物中将有机溶剂等挥发性成分及无机粒子等无机成分除外的成分。

另外，本发明的感光性组合物中，成分A相对于成分A及成分B的总含量的含量为10质量％～50质量％，更优选的是15质量％～40质量％，进而优选的是20质量％～30质量％。若为所述范围，则显影性更优异。

成分B：分子内具有三个以上的(甲基)丙烯酰基且不具有羧基的聚合性单体

本发明的感光性组合物含有分子内具有三个以上的(甲基)丙烯酰基且不具有羧基的聚合性单体作为成分B。

成分B为在分子内(一分子内)具有三个以上的(甲基)丙烯酰基的与成分A不同的聚合性单体。成分B在分子内不具有羧基，优选的是也不具有其他酸基，其他酸基可例示磺酸基、磷酸基等。

成分B可为低分子的化合物，也可为寡聚物。即，从硬化膜的硬度的观点来看，成分B的分子量(在具有分子量分布的情况下为重量平均分子量)为10,000以下，优选5,000以下，进而优选3,000以下。

成分B所具有的(甲基)丙烯酰基的个数为三个以上，优选3～10，更优选3～6。若为所述范围，则进一步发挥本发明的效果。

成分B可适当选择此种组合物中所应用的化合物而使用，例如可举出日本专利特开2006-23696号公报的段落0011中记载的成分或日本专利特开2006-64921号公报的段落0031～段落0047中记载的成分中，在分子内具有三个以上的(甲基)丙烯酰基的成分，将这些记载并入到本说明书中。

成分B可优选地例示多羟基化合物的(甲基)丙烯酸酯，具体可举出：季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三((甲基)丙烯酰基氧基乙基)异氰脲酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯环氧乙烷(EO)改性体、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯EO改性体等。

成分B也可使用上市的产品，例如可举出：亚罗尼斯(Aronix)(注册商标)M-309、亚罗尼斯(Aronix)M-400、亚罗尼斯(Aronix)M-405、亚罗尼斯(Aronix)M-450、亚罗尼斯(Aronix)M-7100、亚罗尼斯(Aronix)M-8030、亚罗尼斯(Aronix)M-8060、亚罗尼斯(Aronix)TO-1382、亚罗尼斯(Aronix)TO-1450(东亚合成(股)制造)，卡亚拉得(KAYARAD)TMPTA、卡亚拉得(KAYARAD)DPHA、卡亚拉得(KAYARAD)DPCA-20、卡亚拉得(KAYARAD)DPCA-30、卡亚拉得(KAYARAD)DPCA-60、卡亚拉得(KAYARAD)DPCA-120(日本化药(股)制造)，比斯克(Biscoat)295、比斯克(Biscoat)300、比斯克(Biscoat)360、比斯克(Biscoat)GPT、比斯克(Biscoat)3PA、比斯克(Biscoat)400(大阪有机化学工业(股)制造)等。

此外，即便为相当于成分B的化合物，相当于后述烷氧基硅烷化合物的化合物也被视为烷氧基硅烷化合物。

<(甲基)丙烯酸氨基甲酸酯>

本发明中，也可使用(甲基)丙烯酸氨基甲酸酯作为成分B。

本发明中可使用的(甲基)丙烯酸氨基甲酸酯可例示使用异氰酸酯与羟基的加成反应而制造的氨基甲酸酯加成聚合性化合物，可例示日本专利特开昭51-37193号公报、日本专利特公平2-32293号公报、日本专利特公平2-16765号公报中记载那样的丙烯酸氨基甲酸酯类，将这些记载并入到本说明书中。

从硬化膜硬度的观点来看，(甲基)丙烯酸氨基甲酸酯的分子量优选500～10,000，更优选650～6,000，进而优选800～3,000。

通过设为这种构成，而更有效地发挥本发明的效果。

(甲基)丙烯酸氨基甲酸酷中的(甲基)丙烯酰基氧基(以下也称为“(甲基)丙烯酰氧基”)可为丙烯酰基氧基(以下也称为丙烯酰氧基)、甲基丙烯酰基氧基(以下也称为甲基丙烯酰氧基)的任一种，也可为两者，优选丙烯酰基氧基。

(甲基)丙烯酸氨基甲酸酯中的(甲基)丙烯酰氧基的个数优选3以上，更优选6以上，进而优选10以上。若为所述实施方式，则更有效地发挥本发明的效果。

另外，所述(甲基)丙烯酰氧基的个数的上限并无特别限制，优选50以下，更优选30以下，进而优选20以下。

本发明的感光性组合物可仅含有一种(甲基)丙烯酸氨基甲酸酯，也可含有两种以上。

(甲基)丙烯酸氨基甲酸酯中的(甲基)丙烯酰氧基可为丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基的任一种，也可为两者，优选丙烯酰氧基。

(甲基)丙烯酸氨基甲酸酯中的氨基甲酸酯键的个数并无特别限制，优选1～30，更优选1～20，进而优选2～10，特别优选2～5，最优选2或3。

(甲基)丙烯酸氨基甲酸酯优选的是脂肪族(甲基)丙烯酸氨基甲酸酯。

另外，(甲基)丙烯酸氨基甲酸酯优选的是具有异氰脲酸环(isocyanuric ring)结构。

另外，(甲基)丙烯酸氨基甲酸酯优选的是包含具有一个以上的氨基甲酸酯键的核部分、及键合在核部分上且具有一个以上的(甲基)丙烯酰基的末端部分的化合物，更优选的是在所述核部分上键合有两个以上的所述末端部分的化合物，进而优选的是在所述核部分上键合有两个～五个所述末端部分的化合物，特别优选的是在所述核部分上键合有两个或三个所述末端部分的化合物。

(甲基)丙烯酸氨基甲酸酯优选的是至少具有下述式Ae-1或式Ae-2所表示的基团的化合物，更优选的是至少具有下述式Ae-1所表示的基团的化合物。另外，(甲基)丙烯酸氨基甲酸酯更优选的是具有两个以上的选自由下述式Ae-1所表示的基团及式Ae-2所表示的基团所组成的组群中的基团的化合物。

另外，(甲基)丙烯酸氨基甲酸酯的所述末端部分优选下述式Ae-1或式Ae-2所表示的基团。

[化2]

式Ae-1及式Ae-2中，R分别独立地表示丙烯酸基或甲基丙烯酸基，波线部分表示与其他结构的键合位置。

另外，(甲基)丙烯酸氨基甲酸酯优选的是至少具有下述式Ac-1或式Ac-2所表示的基团的化合物，更优选的是至少具有下述式Ac-1所表示的基团的化合物。

另外，(甲基)丙烯酸氨基甲酸酷中的所述核部分优选下述式Ac-1或式Ac-2所表示的基团。

[化3]

式Ac-1及式Ac-2中，L¹～L⁴分别独立地表示碳数2～20的二价烃基，波线部分表示与其他结构的键合位置。

L¹～L⁴分别独立地优选碳数2～20的亚烷基，更优选碳数2～10的亚烷基，进而优选碳数4～8的亚烷基。另外，所述亚烷基也可具有分支结构或环结构，优选直链亚烷基。

另外，(甲基)丙烯酸氨基甲酸酯特别优选的是式Ac-1或式Ac-2所表示的基团与选自由式Ae-1及式Ae-2所表示的基团所组成的组群中的两个或三个基团键合而成的化合物。

以下例示本发明中可优选地使用的(甲基)丙烯酸氨基甲酸酯，但本发明当然不限定于这些化合物。

[化4]

[化5]

[化6]

另外，本发明中可使用的(甲基)丙烯酸氨基甲酸酯可例示使用异氰酸酯与羟基的加成反应而制造的氨基甲酸酯加成聚合性化合物，可例示日本专利特开昭51-37193号公报、日本专利特公平2-32293号公报、日本专利特公平2-16765号公报中记载那样的丙烯酸氨基甲酸酷类，将这些记载并入到本说明书中。

(甲基)丙烯酸氨基甲酸酯的市售品可例示：可从新中村化学工业(股)获取的U-6HA、UA-1100H、U-6LPA、U-15HA、U-6H、U-10HA、U-10PA、UA-53H、UA-33H(均为注册商标)，或可从共荣社化学(股)获取的UA-306H、UA-306T、UA-306I、UA-510H，可从巴斯夫(BASF)公司获取的拉罗莫(Laromer)UA-9048、拉罗莫(Laromer)UA-9050、拉罗莫(Laromer)PR9052，可从大赛璐-奥璐尼克斯(Daicel-Allnex)(股)获取的艾白克力(EBECRYL)220、艾白克力(EBECRYL)5129、艾白克力(EBECRYL)8301、艾白克力(EBECRYL)KRM8200、艾白克力(EBECRYL)8200AE、艾白克力(EBECRYL)8452等。

成分B可单独使用一种，也可并用两种以上。

相对于感光性组合物的总有机固体成分，成分B的含量优选10质量％～90质量％，更优选30质量％～85质量％，进而优选45质量％～75质量％。

相对于感光性组合物的总有机固体成分，本发明的感光性组合物中的成分A及成分B的总含量为60质量％以上，优选65质量％以上，更优选70质量％以上，进而优选75质量％以上。另外，上限值并无特别限定，优选98质量％以下，更优选95质量％以下。若感光性组合物中的成分A及成分B的总含量为所述范围内，则可获得硬化性优异、耐汗性优异的硬化膜。

成分C：光聚合引发剂

本发明的感光性组合物含有光聚合引发剂作为成分C。

光聚合引发剂优选的是含有光自由基聚合引发剂。

本发明中可使用的光聚合引发剂为可通过光而引发、促进聚合的化合物。其中，更优选的是光自由基聚合引发剂。

所谓“光”，只要为可通过其照射而赋予可由成分C产生引发种的能量的活性能量线，则并无特别限制，广泛地包含α射线、γ射线、X射线、紫外线(Ultra Violet，UV)、可见光线、电子束等。这些中，优选的是至少包含紫外线的光。

光聚合引发剂例如可举出：肟酯化合物、有机卤化化合物、氧基二唑化合物、羰基化合物、缩酮化合物、安息香化合物、吖啶化合物、有机过氧化化合物、偶氮化合物、香豆素化合物、叠氮化合物、茂金属化合物、六芳基联咪唑化合物、有机硼酸化合物、二磺酸化合物、鎓盐化合物、酰基膦(氧化物)化合物。这些化合物中，从感度的方面来看，优选肟酯化合物、六芳基联咪唑化合物，更优选肟酯化合物。

肟酯化合物可使用：日本专利特开2000-80068号公报、日本专利特开2001-233842号公报、日本专利特表2004-534797号公报、日本专利特开2007-231000号公报、日本专利特开2009-134289号公报、及国际公开第2012/057165号的公报的段落0046～段落0059中记载的化合物。

有机卤化化合物的例子具体可举出：若林等人的《日本化学会公报(Bull Chem.Soc.Japan)》(42、2924(1969))、美国专利第3,905,815号说明书、日本专利特公昭46-4605号公报、日本专利特开昭48-36281号公报、日本专利特开昭55-32070号公报、日本专利特开昭60-239736号公报、日本专利特开昭61-169835号公报、日本专利特开昭61-169837号公报、日本专利特开昭62-58241号公报、日本专利特开昭62-212401号公报、日本专利特开昭63-70243号公报、日本专利特开昭63-298339号公报、M.P.亨特(M.P.Hutt)等人的《杂环化学期刊(Journal of Heterocyclic Chemistry)》(1(No3)，(1970))等中记载的化合物，特别可举出经三卤化甲基取代的噁唑化合物、均三嗪化合物。

六芳基联咪唑化合物的例子例如可举出：日本专利特公平6-29285号公报、美国专利第3,479,185号、美国专利第4,311,783号、美国专利第4,622,286号等的各说明书中记载的各种化合物。

酰基膦(氧化物)化合物可例示单酰基膦氧化物化合物及双酰基膦氧化物化合物，具体来说，例如可举出：巴斯夫(BASF)公司制造的艳佳固(Irgacure)819、达罗固(Darocure)4265、达罗固(Darocure)TPO等。

光聚合引发剂可使用一种或组合使用两种以上。

相对于组合物中的总固体成分100质量份，本发明的感光性组合物中的光聚合引发剂的含量优选0.5质量份～30质量份，更优选1质量份～20质量份，进而优选1质量份～10质量份，特别优选1.5质量份～5质量份。

<增感剂>

本发明的感光性组合物中，除了光聚合引发剂以外，也可添加增感剂。

增感剂吸收光化射线或放射线而成为激发状态。成为激发状态的增感剂可通过与成分C的相互作用而产生电子移动、能量移动、发热等作用，而引发·促进聚合。

本发明中可使用的典型的增感剂可举出J.V.克里维洛(J.V.Crivello)的《先进聚合物科技(Adv.in Polymer Sci.)》(62，1(1984))中公开的增感剂，具体可举出：芘、苝、吖啶橙、噻吨酮、2-氯噻吨酮、苯并黄素、N-乙烯基咔唑、9，10-二丁氧基蒽、蒽醌、香豆素、酮基香豆素、菲、樟脑醌、吩噻嗪衍生物等。相对于光聚合引发剂，增感剂优选的是以50质量％～200质量％的比例而添加。

成分D：羟甲基化合物

本发明的感光性组合物含有羟甲基化合物作为成分D。

羟甲基化合物为分子内具有至少一个羟甲基、烷氧基甲基(经醚化的甲基)、或酰氧基甲基(经酯化的甲基)的化合物。此外，所述羟甲基、烷氧基甲基、或酰氧基甲基具有的氢原子的一部分可被取代为卤素原子。羟甲基化合物优选在分子内具有至少一个羟甲基或烷氧基甲基的化合物。

所述羟甲基化合物在分子内合计具有一个以上的羟甲基、烷氧基甲基及酰氧基甲基，优选具有两个～十个，更优选具有两个～八个，进而优选具有两个～四个。若一分子中的羟甲基化合物具有的羟甲基、烷氧基甲基及酰氧基甲基的合计数为所述范围内，则可获得密接性及耐汗性优异的硬化膜，因此优选。

所述烷氧基甲基的烷氧基优选碳数1～6，更优选碳数1～4，进而优选碳数1～3，特别优选碳数1或2，最优选甲氧基。此外，烷氧基可具有直链烷基或分支烷基的任一种，优选具有直链烷基。

所述酰氧基甲基由R-C(＝O)-O-CH₂-表示，所述R只要为一价有机基则并无特别限定，可优选地例示烷基、芳基，更优选烷基。R优选碳数1～20，更优选碳数1～12，进而优选碳数1～6。

羟甲基化合物可例示羟甲基三聚氰胺化合物、羟甲基胍胺化合物、羟甲基脲化合物、甲阶酚醛(resol)树脂、芳香环上的氢原子经羟甲基或烷氧基甲基取代的芳香族化合物等。这些化合物中，羟甲基化合物优选羟甲基三聚氰胺化合物、羟甲基胍胺化合物、羟甲基脲化合物、芳香环上的氢原子经羟甲基或烷氧基甲基取代的芳香族化合物，更优选具有与羟甲基或烷氧基甲基键合的氮元素的化合物，进而优选羟甲基三聚氰胺化合物、羟甲基胍胺化合物、羟甲基脲化合物，特别优选羟甲基三聚氰胺化合物、羟甲基脲化合物，最优选羟甲基三聚氰胺化合物。

所述芳香环上的氢原子经羟甲基或烷氧基甲基取代的芳香族化合物可例示日本专利特开2013-064829号公报的段落0136～段落0139中所记载的化合物、日本专利特开平10-0120940号公报的段落0029～段落0036中所记载的化合物。

羟甲基三聚氰胺化合物优选以下的式D-1所表示的化合物。

[化7]

式D-1中，R^d11～R^d16分别独立地表示氢原子或下述式d所表示的基团。其中，R^d11～R^d16的至少一个为下述式d所表示的基团。

[化8]

-CH₂-O-R^d (d)

式d中，R^d表示氢原子或碳数1～6的烷基。

R^d所表示的碳数1～6的烷基可为直链状或分支状的任一种，优选直链状。碳数为1～6，优选碳数1～4，更优选碳数1～3，进而优选碳数1或2，特别优选碳数1。

式D-1中，优选R^d11～R^d16中的四个～六个为式d所表示的基团，更优选五个或六个为式d所表示的基团，进而优选六个全部为式d所表示的基团。

羟甲基胍胺化合物优选以下的式D-2所表示的化合物。

[化9]

式D-2中，R^d21表示氢原子、烷基或芳基，R^d22～R^d25分别独立地表示氢原子或所述式d所表示的基团。其中，R^d22～R^d25的至少一个为所述式d所表示的基团。

式D-2中，R²¹所表示的烷基可为直链状、分支状或环状的任一种，优选直链状或分支状，更优选直链状。烷基的碳数优选1～6，更优选1～4，进而优选1～3，特别优选甲基或乙基，最优选甲基。

式D-2中，R²¹所表示的芳基优选碳数6～14，更优选碳数6～10，进而优选苯基。

式D-2中，R²¹优选氢原子、甲基或苯基，更优选氢原子或苯基，进而优选苯基。

所述式d中，R^d表示氢原子或碳数1～6的烷基，优选范围与式D-1相同。

式D-2中，优选R^d22～R^d25中的两个～四个为式d所表示的基团，更优选三个或四个为式d所表示的基团，进而优选四个全部为式d所表示的基团。

羟甲基脲化合物优选以下的式D-3所表示的化合物。

[化10]

式D-3中，R³¹及R³³分别独立地表示氢原子或烷基，R³²及R³⁴分别独立地表示氢原子或所述式d所表示的基团，R³¹与R³³可连结而形成环，也可进而形成缩合环。其中，R³²及R³⁴的至少任一个为所述式d所表示的基团。

式D-3中，R³¹及R³³分别独立地表示氢原子或烷基，所述烷基可为直链状、分支状或环状的任一种，另外，也可具有取代基。烷基的碳数优选1～8，更优选1～6，进而优选1～4。

式D-3中，优选R³¹及R³³均为氢原子、或连结而形成环。在R³¹与R³³连结而形成环的情况下，优选下述式D-4或式D-5所表示的化合物。此外，式D-5所表示的化合物也被称为羟甲基甘脲化合物。

[化11]

式D-4中，R^d41及R^d42分别独立地表示氢原子或所述式d所表示的基团，R^d43及R^d44表示氢原子或一价有机基，L表示单键或二价连结基。其中，R^d41及R^d42的至少一个表示所述式d所表示的基团。

所述式d中，R^d表示氢原子或碳数1～6的烷基，优选范围与所述式D-1相同。

式D-4中，优选R^d41及R^d42均为式d所表示的基团，更优选R^d41及R^d42均为烷氧基甲基，进而优选R^d41及R^d42均为甲氧基甲基。

式D-4中，R^d43及R^d44表示氢原子或一价有机基，优选一价有机基。一价有机基并无特别限定，优选烷基、烷氧基，更优选烷氧基。此外，所述烷基及烷氧基的碳数优选1～6，更优选1～4，进而优选1～3，特别优选1或2，最优选1。

式D-4中，L表示单键或二价连结基，优选单键。二价连结基优选亚烷基，亚烷基的碳原子的一部分可被取代为氧原子、羰基、酯键等。

式D-5中，R^d51～R^d54表示氢原子或所述式d所表示的基团，R^d51～R^d54的至少一个表示式d所表示的基团。优选R^d51～R^d54中的两个～四个为式d所表示的基团，更优选三个或四个为式d所表示的基团，进而优选四个全部为式d所表示的基团。

以下例示成分D的优选具体例，但本发明并不限定于这些例示。此外，Et表示乙基，Pr表示丙基，Bu表示丁基。

[化12]

[化13]

成分D也可使用上市的产品，例如可例示：尼卡拉库(NIKALAC)MX-270、尼卡拉库(NIKALAC)MW-100LM、尼卡拉库(NIKALAC)MX-280、尼卡拉库(NIKALAC)MX-290(以上，三和化学(股)制造)等。

成分D的分子量(在具有分子量分布的情况下为重量平均分子量)并无特别限定，优选100～1,000，更优选100～800，进而优选100～500。若成分D的分子量为所述范围内，则分子的运动性高，可获得耐汗性优异的硬化膜，因此优选。

成分D可单独含有一种，也可含有两种以上。

本发明的感光性组合物中，成分D相对于感光性组合物中的总有机固体成分的含量优选0.1质量％～20质量％，更优选1质量％～10质量％，进而优选3质量％～8质量％。若为所述范围，则可获得耐汗性更优异的硬化膜。

成分E：聚合抑制剂

本发明的感光性组合物也可含有聚合抑制剂作为成分E。通过含有成分E，而抑制由漏光所致的聚合反应，显影性优异。

所谓聚合抑制剂，是指发挥以下作用的物质：对通过曝光或热而由聚合引发剂所产生的聚合引发自由基成分实施供氢(或授氢)、供能(或授能)、供电子(或授电子)等，使聚合引发自由基失活，抑制聚合引发。例如可使用日本专利特开2007-334322号公报的段落0154～段落0173中记载的化合物等。

本发明的感光性组合物中的成分E的含量并无特别限制，相对于感光性组合物的总固体成分，优选0.005质量％～0.5质量％，更优选0.01质量％～0.5质量％。通过调整聚合抑制剂的调配量，可提高图案化性而不损及感度。

聚合抑制剂的种类可优选地采用坚硬且不降低感度的化合物。这种聚合抑制剂可举出：吩噻嗪，氯丙嗪(chlorpromazine)、左美丙嗪(levomepromazine)、氟非那嗪(fluphenazine)、硫利哒嗪(thioridazine)等吩噻嗪衍生物，吩噁嗪，3，7-双(二乙基氨基)吩噁嗪-5-高氯酸盐、5-氨基-9-(二甲基氨基)-10-甲基苯并[a]吩噁嗪-7-氯酸盐、7-(戊氧基)-3H-吩噁嗪-3-酮、5，9-二氨基苯并[a]吩噁嗪-7-乙酸盐、7-乙氧基-3H-吩噁嗪-3-酮等吩噁嗪衍生物，三-对硝基苯基甲基、二苯基苦味肼基(diphenyl picrylhydrazyl)、加尔万氧基(galvinoxyl)等稳定自由基，醌、苯醌、氯苯醌、2，5-二-氯苯醌、2，6-二-氯苯醌、2，3-二-甲基苯醌、2，5-二-甲基苯醌、甲氧基苯醌、甲基苯醌、四溴苯醌、四氯苯醌、四甲基苯醌、三氯苯醌、三甲基苯醌、戊基醌、戊氧基对苯二酚、2，5-二-叔丁基对苯二酚、2，5-二苯基对苯醌等醌类，α-萘酚、2-硝基-1-萘酚、β-萘酚、1-硝基-2-萘酚等萘酚类，4-甲氧基苯酚、4-乙氧基苯酚、对苯二酚、苯酚、叔丁基邻苯二酚、甲基对苯二酚、正丁基苯酚、对苯二酚单丙醚、叔丁基甲酚、对甲酚、2，6-二-叔丁基对甲酚、邻苯二酚间苯二酚、邻叔丁基苯酚、2，6-二-对甲氧基苯酚、2，6-二-叔丁基苯酚、2，4-一二-叔丁基苯酚、3，5-二-叔丁基苯酚、3，5-二-叔丁基-4-羟基苯甲酸、N，N′-双-3-(3′，5′-二-叔丁基-4-羟基苯基)丙酰基六亚甲基二胺、2，2′-亚甲基双(6-叔丁基对甲酚)、3-(4-羟基-3′，5′-二-叔丁基苯基)丙酸正十八烷基酯、(4-羟基-3-甲基-5-叔丁基)苄基丙二酸二硬脂酯、2，4，6-三-叔丁基苯酚、1，6-己二醇-双[3-(3，5-二-叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯]、三乙二醇-双-[3-(3-叔丁基-5-甲基-4-羟基苯基)丙酸酯]、2，2-硫代-二亚乙基-双-[3-(3，5-二-叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯]、3，9-双[1，1-二甲基-2-[β-(3-叔丁基-4-羟基-5-甲基苯基)丙酰氧基乙基-2，4，8，10-四氧杂螺[5，5]十一烷、2，2′-亚乙基-双-(2，4-二-叔丁基苯酚)、1，1，3-三-(2-甲基-4-羟基-5-叔丁基苯基)丁烷、1，3，5-三甲基-2，4,6-三-(3，5-二-叔丁基-4-羟基苄基)苯、三(3，5-二-叔丁基-4-羟基苄基)异氰酸酯、三[2-(3′，5′-二-叔丁基-4′-羟基苯丙酰氧基)乙基]异氰酸酯、三(4-叔丁基-2，6-二-甲基-3-羟基苄基)异氰酸酯、四[亚甲基-3-(3′，5′-二-叔丁基-4′-羟基苯基)丙酸酯]甲烷等酚类，2，4-二硝基苯酚、邻硝基苯酚、间硝基苯酚、对硝基苯酚等硝基苯酚类，没食子酸、没食子酸甲酯、没食子酸丙酯、没食子酸异戊酯等没食子酸类，亚甲基蓝、孔雀绿等色素类，β-萘基胺、N-亚硝基环己基胺盐、二-对氟苯基胺等胺类，邻苯三酚、单苄醚、苯醌、三苯基膦、氯化亚铜、吩噻嗪、氯醌(chloranil)、吡啶、硝基苯、二硝基苯、对甲苯胺、苦味酸、水杨酸甲酯等。

聚合抑制剂特别优选的是例示选自由吩噻嗪、吩噁嗪、受阻胺及这些化合物的衍生物所组成的组群中的至少一种，更优选的是含有选自由吩噻嗪、吩噁嗪、及这些化合物的衍生物所组成的组群中的至少一种。

吩噻嗪及其衍生物可例示：吩噻嗪、双-(α-甲基苄基)吩噻嗪、3，7-二辛基吩噻嗪、双-(α-二甲基苄基)吩噻嗪、氟非那嗪(fluphenazine)、硫利哒嗪(thioridazine)，优选吩噻嗪(phenothiazine)。

吩噁嗪及其衍生物可例示：吩噁嗪、3，7-双(二乙基氨基)吩噁嗪-5-高氯酸盐、5-氨基-9-(二甲基氨基)-10-甲基苯并[a]吩噁嗪-7-氯酸盐、7-(戊氧基)-3H-吩噁嗪-3-酮、5，9-二氨基苯并[a]吩噁嗪-7-乙酸盐、7-乙氧基-3H-吩噁嗪-3-酮，优选吩噁嗪。

受阻胺及其衍生物可例示：智玛索布(CHIMASSORB)2020FDL、地奴彬(TINUVIN)144、地奴彬(TINUVIN)765、地奴彬(TINUVIN)770(以上为巴斯夫(BASF)公司制造)，优选地奴彬(TINUVIN)144。

成分F：烷氧基硅烷化合物

本发明的感光性组合物优选含有烷氧基硅烷化合物作为成分F。若使用烷氧基硅烷化合物，则可提高由本发明的感光性组合物形成的膜与基板的密接性。

烷氧基硅烷化合物只要为具有至少一个烷氧基与硅原子直接键合而成的基团的化合物，则并无特别限制，优选具有二烷氧基硅烷基和/或三烷氧基硅烷基的化合物，更优选具有三烷氧基硅烷基的化合物。

本发明中可使用的烷氧基硅烷化合物优选使基材、例如硅、氧化硅、氮化硅等硅化合物、金、铜、钼、钛、铝等金属与硬化膜的密接性提高的化合物。具体来说，众所周知的硅烷偶合剂等也有效。优选具有乙烯性不饱和键的硅烷偶合剂。

硅烷偶合剂例如可举出：γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基三烷氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基二烷氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三烷氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基二烷氧基硅烷、γ-氯丙基三烷氧基硅烷、γ-巯基丙基三烷氧基硅烷、β-(3，4-环氧环己基)乙基三烷氧基硅烷、乙烯基三烷氧基硅烷。这些化合物中，更优选γ-甲基丙烯酰氧基丙基三烷氧基硅烷、γ-丙烯酰氧基丙基三烷氧基硅烷、乙烯基三烷氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基三烷氧基硅烷。这些化合物可单独使用一种或组合使用两种以上。

市售品可例示信越化学工业(股)制造的KBM-403或KBM-5103。

相对于感光性组合物的总固体成分，本发明的感光性组合物中的烷氧基硅烷化合物的含量优选0.1质量％～30质量％，更优选2质量％～20质量％，进而优选3质量％～10质量％。烷氧基硅烷化合物可仅使用一种，也可含有两种以上。在含有两种以上的情况下，优选的是合计量成为所述范围。

成分G：无机粒子

本发明的感光性组合物优选的是含有无机粒子作为成分G。通过含有无机粒子，硬化膜的硬度变得更优异。

本发明中所用的无机粒子的平均粒径优选1nm～200nm，更优选5nm～100nm，进而优选5nm～50nm。平均粒径是指利用电子显微镜测定任意200个粒子的粒径并加以算术平均所得的值。另外，在粒子的形状并非球形的情况下，将最长的边设为直径。

另外，从硬化膜的硬度的观点来看，无机粒子的空隙率优选的是小于10％，更优选的是小于3％，最优选的是无空隙。粒子的空隙率为由电子显微镜所得的截面图像的空隙部分与粒子总体的面积比的200个的算术平均。

无机粒子优选的是含有铍(Be)、镁(Mg)、钙(Ca)、锶(Sr)、钡(Ba)、钪(Sc)、钇(Y)、镧(La)、铈(Ce)、钆(Gd)、铽(Tb)、镝(Dy)、镱(Yb)、镥(Lu)、钛(Ti)、锆(Zr)、铪(Hf)、铌(Nb)、钼(Mo)、钨(W)、锌(Zn)、硼(B)、铝(Al)、硅(Si)、锗(Ge)、锡(Sn)、铅(Pb)、锑(Sb)、铋(Bi)、碲(Te)等的原子的金属氧化物粒子，更优选氧化硅、氧化钛、钛复合氧化物、氧化锌、氧化锆、铟/锡氧化物、锑/锡氧化物，进而优选氧化硅、氧化钛、钛复合氧化物、氧化锆，从粒子的稳定性、获取容易性、硬化膜的硬度、透明性、折射率调整等观点来看，特别优选氧化硅、氧化钛、氧化锆。

氧化硅可优选地举出二氧化硅，可更优选地举出二氧化硅粒子。

二氧化硅粒子只要为含有二氧化硅的无机氧化物的粒子，则并无特别问题，优选的是含有二氧化硅或其水合物作为主成分(优选80质量％以上)的粒子。所述粒子也可含有铝酸盐作为少量成分(例如小于5质量％)。有时作为少量成分而含有的铝酸盐可举出铝酸钠、铝酸钾等。另外，二氧化硅粒子也可含有氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化锂、氢氧化铵等无机盐类或氢氧化四甲基铵等有机盐类。这种化合物的例子可例示胶体二氧化硅。

胶体二氧化硅的分散介质并无特别限制，可为水、有机溶剂及这些物质的混合物的任一种。这些分散介质可单独使用一种，也可并用两种以上。

本发明中，粒子也能以分散液的形式供使用，所述分散液是通过在适当的分散剂及溶剂中使用球磨机、棒磨机等混合装置进行混合·分散而制备。此外，本发明的感光性组合物中，胶体二氧化硅无需以胶体状态而存在。

关于无机粒子的含量，在调配无机粒子的情况下，从硬度的观点来看，相对于感光性组合物的总固体成分，优选1质量％以上，更优选5质量％以上，进而优选10质量％以上。另外，优选80质量％以下，更优选50质量％以下，进而优选40质量％以下，特别优选30质量％以下。

无机粒子可仅含有一种，也可含有两种以上。在含有两种以上的情况下，优选的是其合计量成为所述范围。

-其他成分-

本发明的感光性组合物除了所述成分以外，也可含有其他成分。其他成分可使用众所周知的成分，可优选地例示以下表示的各成分。

<溶剂>

本发明的感光性组合物也可含有溶剂。本发明的感光性组合物优选的是制备成将作为必需成分的成分A～成分D及所述及后述的任意成分溶解和/或分散在溶剂中而成的组合物。

溶剂优选有机溶剂。本发明的感光性组合物中所使用的有机溶剂可使用众所周知的溶剂，可例示：乙二醇单烷基醚类、乙二醇二烷基醚类、乙二醇单烷基醚乙酸酯类、丙二醇单烷基醚类、丙二醇二烷基醚类、丙二醇单烷基醚乙酸酯类、二乙二醇二烷基醚类、二乙二醇单烷基醚乙酸酯类、二丙二醇单烷基醚类、丁二醇二乙酸酯类、二丙二醇二烷基醚类、二丙二醇单烷基醚乙酸酯类、醇类、酯类、酮类、酰胺类、内酯类等。这些有机溶剂的具体例可参考日本专利特开2009-098616号公报的段落0062。

具体来说，优选丙二醇单甲醚乙酸酯、二乙二醇二乙醚、二乙二醇乙基甲基醚、丙二醇单甲醚、1，3-丁二醇二乙酸酯、环己醇乙酸酯、丙二醇二乙酸酯、四氢糠醇。

从涂布性的观点来看，有机溶剂的沸点优选100℃～300℃，更优选120℃～250℃。

本发明中可使用的溶剂可单独使用一种或并用两种以上。也优选的是将沸点不同的溶剂并用。

关于本发明的感光性组合物中的溶剂的含量，从调整为适于涂布的粘度的观点来看，相对于组合物的总固体成分100质量份，所述含量优选100质量份～3,000质量份，更优选200质量份～2,000质量份，进而优选250质量份～1,000质量份。

感光性组合物的固体成分浓度优选3质量％～50质量％，更优选20质量％～40质量％。

感光性组合物的粘度优选1mPa·s～200mpa·s，更优选2mpa·s～100mPa·s，进而优选3mpa·s～80mPa·s。粘度例如优选的是使用东机产业(股)制造的RE-80L型旋转粘度计在25℃±0.2℃下进行测定。关于测定时的旋转速度，粘度小于5mPa·s时优选的是以100rpm的旋转速度进行测定，粘度为5mPa·s以上且小于10mPa·s时优选的是以50rpm的旋转速度进行测定，粘度为10mPa·s以上且小于30mPa·s时优选的是以20rpm的旋转速度进行测定，粘度为30mpa·s以上时优选的是以10rpm的旋转速度进行测定。

<粘合剂聚合物>

从提高分辨性及皮膜特性等观点来看，本发明的感光性组合物优选含有粘合剂聚合物。

所述粘合剂聚合物优选碱显影性聚合物。

所谓碱显影性聚合物是指可进行碱显影的聚合物，且在与碱性水溶液接触的情况下显现出溶解性和/或膨润性的聚合物。

碱显影性聚合物所具有的碱显影性基团并无特别限制，可优选地举出羧基或羟基，可更优选地举出羧基。

另外，所述粘合剂聚合物优选使用线状有机聚合物。这种线状有机聚合物可任意地使用众所周知的线状有机聚合物，优选丙烯酸系树脂。线状有机聚合物是根据不仅作为皮膜形成剂，而且作为水、弱碱性水或有机溶剂显影剂的用途而选择使用。例如若使用水可溶性有机聚合物则可进行水显影。这种线状有机聚合物可举出：在侧链上具有羧酸基的自由基聚合物，例如日本专利特开昭59-44615号公报、日本专利特公昭54-34327号公报、日本专利特公昭58-12577号公报、日本专利特公昭54-25957号公报、日本专利特开昭54-92723号公报、日本专利特开昭59-53836号公报、日本专利特开昭59-71048号公报中记载的化合物，即，使具有羧基的单体单独或共聚合而成的树腊、将使具有酸酐的单体单独或共聚合而成的酸酐单元水解或半酯化或半酰胺化而成的树脂、以不饱和单羧酸及酸酐将环氧树脂改性而成的环氧丙烯酸酯等。

具有羧基的单体可举出：丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、丁烯酸、马来酸、富马酸、4-羧基苯乙烯等。

具有酸酐的单体可举出马来酸酐等。

另外，可举出同样地在侧链上具有羧酸基的酸性纤维素衍生物。除此以外，在具有羟基的聚合物上加成环状酸酐而成的化合物等有用。

另外，粘合剂聚合物优选具有交联性基，更优选含有具有交联性基的结构单元。

所述交联性基只要为通过加热处理而引起硬化反应的基团，则并无特别限定。

交联性基优选环氧基、氧杂环丁基、-NH-CH₂-O-R(R表示氢原子或碳数1～20的烷基)所表示的基团或乙烯性不饱和基，更优选环氧基或氧杂环丁基。

用于形成具有环氧基的结构单元的单体的具体例例如可举出：丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、α-乙基丙烯酸缩水甘油酯、α-正丙基丙烯酸缩水甘油酯、α-正丁基丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酸-3，4-环氧丁酯、甲基丙烯酸-3，4-环氧丁酯、丙烯酸-3，4-环氧环己基甲酯、甲基丙烯酸-3，4-环氧环己基甲酯、α-乙基丙烯酸-3，4-环氧环己基甲酯、邻乙烯基苄基缩水甘油醚、间乙烯基苄基缩水甘油醚、对乙烯基苄基缩水甘油醚、日本专利第4168443号公报的段落0031～段落0035中记载的含有脂环式环氧骨架的化合物等。

用于形成具有氧杂环丁基的结构单元的单体的具体例例如可举出日本专利特开2001-330953号公报的段落0011～段落0016中记载的具有氧杂环丁基的(甲基)丙烯酸酯等。

另外，粘合剂聚合物的聚合中使用的单体具体来说可举出：苯乙烯、叔丁氧基苯乙烯、甲基苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙酰氧基苯乙烯、甲氧基苯乙烯、乙氧基苯乙烯、氯苯乙烯、乙烯基苯甲酸甲酯、乙烯基苯甲酸乙酯、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、丙烯腈、乙二醇单乙酰乙酸酯单(甲基)丙烯酸酷等的结构单元。除此此外，可举出日本专利特开2004-264623号公报的段落0021～段落0024中记载的化合物。

另外，从电特性的观点来看，粘合剂聚合物优选含有源自苯乙烯类或具有脂肪族环式骨架的单体的结构单元，更优选含有源自具有脂肪族环式骨架的单体的结构单元。这些单体，具体来说可举出：苯乙烯、叔丁氧基苯乙烯、甲基苯乙烯、α-甲基苯乙烯、(甲基)丙烯酸二环戊酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸苄酯等。

进而，关于粘合剂聚合物，从密接性的观点来看，优选源自(甲基)丙烯酸烷基酯的结构单元。(甲基)丙烯酸烷基酯具体可举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯等，更优选(甲基)丙烯酸甲酯。

粘合剂聚合物可单独含有一种，也可含有两种以上。

本发明的感光性组合物中的粘合剂聚合物的含量并无特别限制，相对于感光性组合物的总固体成分而言，优选1质量％～70质量％，更优选5质量％～60质量％，进而优选10质量％～55质量％，特别优选20质量％～50质量％。

<表面活性剂>

本发明的感光性组合物也可含有表面活性剂。

表面活性剂可使用阴离子系、阳离子系、非离子系或两性的任一种，优选的表面活性剂为非离子系表面活性剂。表面活性剂优选非离子系表面活性剂，更优选氟系表面活性剂。

本发明中可使用的表面活性剂例如可举出：作为市售品的美佳法(Megafac)F142D、美佳法(Megafac)F172、美佳法(Megafac)F173、美佳法(Megafac)F176、美佳法(Megafac)F177、美佳法(Megafac)F183、美佳法(Megafac)F479、美佳法(Megafac)F482、美佳法(Megafac)F554、美佳法(Megafac)F780、美佳法(Megafac)F781、美佳法(Megafac)F781-F、美佳法(Megafac)R30、美佳法(Megafac)R08、美佳法(Megafac)F-472SF、美佳法(Megafac)BL20、美佳法(Megafac)R-61、美佳法(Megafac)R-90(迪爱生(DIC)(股)制造)，弗拉德(Fluorad)FC-135、弗拉德(Fluorad)FC-170C、弗拉德(Fluorad)FC-430、弗拉德(Fluorad)FC-431、诺贝克(Novec)FC-4430(住友3M(股)制造)，旭嘉德(Asahi Guard)AG7105、旭嘉德(Asahi Guard)7000、旭嘉德(Asahi Guard)950、旭嘉德(Asahi Guard)7600、沙福隆(Surflon)S-112、沙福隆(Surflon)S-113、沙福隆(Surflon)S-131、沙福隆(Surflon)S-141、沙福隆(Surflon)S-145、沙福隆(Surflon)S-382、沙福隆(Surflon)SC-101、沙福隆(Surflon)SC-102、沙福隆(Surflon)SC-103、沙福隆(Surflon)SC-104、沙福隆(Surflon)SC-105、沙福隆(Surflon)SC-106(旭硝子(股)制造)，艾福拓(Eftop)EF351、艾福拓(Eftop)EF352、艾福拓(Eftop)EF801、艾福拓(Eftop)EF802(三菱材料电子化成(股)制造)，福吉特(Ftergent)250(尼奥斯(Neos)(股)制造)。另外，除了所述以外，也可举出：KP(信越化学工业(股)制造)，宝理弗洛(Polyflow)(共荣社化学(股)制造)，艾福拓(Eftop)(三菱材料电子化成(股)制造)，美佳法(Megafac)(迪爱生(DIC)(股)制造)，弗拉德(Fluorad)(住友3M(股)制造)，旭嘉德(Asahi Guard)、沙福隆(Surflon)(旭硝子(股)制造)，宝理佛斯(PolyFox)(欧诺瓦(OMNOVA)公司制造)等的各系列。

另外，表面活性剂也可举出日本专利特开2014-238438号公报的段落0119～段落0123中所记载的化合物作为优选例。

关于本发明的感光性组合物中的表面活性剂的含量，在进行调配的情况下，相对于组合物的总固体成分而言，优选0.001质量％～5.0质量％，更优选0.01质量％～2.0质量％。

界面活性剂可仅含有一种，也可含有两种以上。在含有两种以上的情况下，优选其合计量成为所述范围。

<抗氧化剂>

本发明的感光性组合物除了所述成分以外，也可含有抗氧化剂。

关于抗氧化剂，可含有众所周知的抗氧化剂。通过添加抗氧化剂，有可防止硬化膜的着色、或可减少由分解所致的膜厚变薄、且耐热透明性优异的优点。

这种抗氧化剂例如可举出：磷系抗氧化剂、酰胺类、酰肼类、受阻酚系抗氧化剂、抗坏血酸类、硫酸锌、糖类、亚硝酸盐、亚硫酸盐、硫代硫酸盐、羟基胺衍生物等。这些化合物中，从硬化膜的着色、膜厚变薄的观点来看，特别优选受阻酚系抗氧化剂、磷系抗氧化剂，最优选受阻酚系抗氧化剂。这些抗氧化剂可单独使用一种，也可混合两种以上。

优选的市售品可举出：艾迪科斯塔波(Adekastab)AO-60、艾迪科斯塔波(Adekastab)AO-80(以上为艾迪科(ADEKA)(股)制造)，艳佳诺(Irganox)1098(以上为巴斯夫(BASF)公司制造)。

抗氧化剂的含量并无特别限制，相对于感光性组合物的总固体成分，优选0.1质量％～10质量％，更优选0.2质量％～5质量％，进而优选0.5质量％～4质量％。

本发明的感光性组合物中，也可在不偏离本发明的主旨的范围内含有所述以外的其他化合物(例如含有烷氧基甲基的化合物等)。含有烷氧基甲基的化合物可举出日本专利特开2011-221494号公报的段落0192～段落0194中记载的化合物。

[其他成分]

本发明的感光性组合物中，视需要除了所述化合物以外，也可添加具有环氧基的化合物、具有氧杂环丁基的化合物、塑化剂、热酸产生剂、及酸增殖剂等其他成分。关于这些成分，例如可使用日本专利特开2014-235216号公报的段落0102～段落0104、日本专利特开2014-235216号公报的段落0106～段落0108、日本专利特开2009-98616号公报、日本专利特开2009-244801号公报中记载的化合物、其他众所周知的化合物。另外，也可将“高分子添加剂的新展开(日刊工业新闻(股))”中记载的各种紫外线吸收剂或金属钝化剂等添加到本发明的感光性组合物中。

<硬化膜、硬化物及其制造方法>

本发明的硬化物为使本发明的感光性组合物硬化而成的硬化物。所述硬化物优选硬化膜。另外，本发明的硬化膜优选通过本发明的硬化膜的制造方法而得的硬化膜。

本发明的硬化膜的制造方法只要为使本发明的感光性组合物硬化而制造硬化膜的方法，则并无特别限制，优选依序包括以下的工序1～工序3。

工序1：将本发明的感光性组合物涂布在基板上的涂布工序

工序3：利用水性显影液对经曝光的感光性组合物进行显影的显影工序

另外，本发明的硬化膜的制造方法更优选在以上的工序3之后包括以下的工序4。

工序4：对经显影的感光性组合物进行热处理的热处理工序

进而，本发明的硬化膜的制造方法进而优选在以上的工序3之后、工序4之前包括以下的工序3′。

工序3′：对经显影的感光性组合物进一步照射光化射线的工序

所述涂布工序中，优选的是将本发明的感光性组合物涂布在基板上而制成含有溶剂的湿润膜。可在将感光性组合物涂布到基板上之前，进行碱清洗或等离子体清洗等基板的清洗。进而可在基板清洗后利用六甲基二硅氮烷等对基板表面进行处理。通过进行该处理，有感光性组合物对基板的密接性提高的倾向。

所述基板可举出：无机基板、树脂、树脂复合材料等。

无机基板例如可举出：玻璃、石英、硅、氮化硅及在像这些基板上蒸镀钼、钛、铝、铜等而成的复合基板。

关于树脂，可举出包含以下树腊的基板：聚对苯二甲酸丁二酯、聚对苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸丁二酯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚砜、聚醚砜、聚芳酷、烯丙基二甘醇碳酸酯、聚酰胺、聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺、聚醚酰亚胺、聚苯并唑、聚苯硫醚、聚环烯烃、降冰片烯树脂、聚氯三氟乙烯等氟树脂、液晶聚合物、丙烯酸系树脂、环氧树脂、硅酮树脂、离子聚合物树脂、氰酸酯树脂、交联富马酸二酯、环状聚烯烃、芳香族聚醚树脂、马来酰亚胺-烯烃共聚物、纤维素、环硫树脂等合成树脂。

这些基板很少以所述形态直接使用，通常根据最终产品的形态而形成例如薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)元件那样的多层积层结构。

另外，在外嵌结构的触摸屏等那样的情况下，也可在作为屏而暂且制成的液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)单元或有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，OLED)单元上，应用本发明的感光性组合物。

本发明的感光性组合物对通过溅镀制造出来的金属膜或金属氧化物的密接良好，因此基板优选的是含有通过溅镀制造出来的金属膜。金属优选钛、铜、铝、铟、锡、锰、镍、钴、钼、钨、铬、银、钕及这些金属的氧化物或合金，进而优选钼、钛、铝、铜及这些金属的合金。此外，金属或金属氧化物可单独使用一种，也可并用多种。

对基板的涂布方法并无特别限定，例如可使用喷墨法、狭缝涂布法、喷雾法、辊涂法、旋转涂布法、流延涂布法、狭缝及旋转法、印刷法等方法。

另外，在本发明的感光性组合物含有溶剂的情况下，本发明的硬化膜的制造方法优选在工序1之后、工序2之前包含从经涂布的感光性组合物去除溶剂的溶剂去除工序。

在所述溶剂去除工序中，优选的是通过减压(真空)和/或加热等从所涂布的所述膜中去除溶剂而在基板上形成干燥涂膜。溶剂去除工序的加热条件优选70℃～130℃且30秒钟～300秒钟左右。另外，所述溶剂去除工序中，无需将感光性组合物中的溶剂完全去除，只要将至少一部分去除即可。

所述曝光工序中，优选的是对所得的涂膜以既定的图案状照射波长300nm以上且450nm以下的光化射线。所述工序中，聚合性单体通过光聚合引发剂的作用而聚合硬化。

曝光光源可使用低压水银灯、高压水银灯、超高压水银灯、化学灯、发光二极管(LightEmitting Diode，LED)光源、准分子激光产生装置等，可优选地使用i射线(365nm)、h射线(405nm)、g射线(436nm)等具有300nm以上且450nm以下的波长的光化射线。另外，视需要也可通过长波长截止滤波器、短波长截止滤波器、带通滤波器(band pass filter)那样的分光滤波器而调整照射光。

曝光装置可使用：镜面投影对准器(mirror projection aligner)、步进机(stepper)、扫描仪(scanner)、近接式(proximity)、接触式(contact)、微透镜阵列(microlens array)、透镜扫描仪(lens scanner)、激光曝光等各种方式的曝光机。

另外，所述曝光工序中的曝光量也无特别限制，优选1mJ/cm²～3,000mJ/cm²，更优选1mJ/cm²～500mJ/cm²。

从促进硬化的观点来看，所述曝光工序中的曝光优选的是在经氧阻断的状态下进行。阻断氧的方法可例示在氮气环境下进行曝光、或设置氧阻断膜。

另外，所述曝光工序中的曝光只要对经溶剂去除的感光性组合物的至少一部分进行即可，例如可为全面曝光，也可为图案曝光。本发明中，曝光工序优选图案曝光，更优选经由光掩模进行曝光的工序。

另外，所述曝光工序后，可进行曝光后加热处理(曝光后烘烤(Post Exposure Bake，以下也称为“PEB”)。进行PEB的情况的温度优选30℃以上且130℃以下，更优选40℃以上且120℃以下，特别优选50℃以上且110℃以下。

加热的方法并无特别限定，可使用众所周知的方法。例如可举出加热板、烘箱、红外线加热器等。

另外，关于加热时间，加热板的情况下优选1分钟～30分钟左右，除此以外的情况下优选20分钟～120分钟左右。在所述范围内，可不对基板、装置造成损伤(damage)地进行加热。

显影工序中，使用水性显影液将经曝光为图案状的感光性组合物的未硬化部显影去除，形成负型图像。显影工序中使用的显影液优选的是碱性的水性显影液。

显影工序中使用的显影液优选碱性化合物的水溶液。碱性化合物例如可使用：氢氧化锂、氢氧化钠、氢氧化钾等碱金属氢氧化物类；碳酸钠、碳酸钾、碳酸铯等碱金属碳酸盐类；重碳酸钠、重碳酸钾等碱金属重碳酸盐类；氢氧化四甲基铵、氢氧化四乙基铵、氢氧化四丙基铵、氢氧化四丁基铵、氢氧化二乙基二甲基铵等氢氧化四烷基铵类；胆碱等氢氧化(羟基烷基)三烷基铵类；硅酸钠、偏硅酸钠等硅酸盐类；乙胺、丙胺、二乙胺、三乙胺等烷基胺类；二甲基乙醇胺、三乙醇胺等醇胺类；1，8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯、1，5-二氮杂双环[4.3.0]-5-壬烯等脂环式胺类。

这些化合物中，优选氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化四甲基铵、氢氧化四乙基铵、氢氧化四丙基铵、氢氧化四丁基铵、胆碱(氢氧化-2-羟基乙基三甲基铵)。

另外，也可将在所述碱类的水溶液中添加有适当量的甲醇或乙醇等水溶性有机溶剂或者表面活性剂的水溶液用作显影液。

优选的显影液可举出氢氧化四甲基铵的0.4质量％～2.5质量％水溶液。

显影液的pH值优选10.0～14.0。

显影时间优选30秒钟～500秒钟，且，显影的方法可为盛液法(覆液法)、喷淋法、浸渍法等的任一种。

显影工序后，也可进行淋洗工序。淋洗工序中，以纯水等清洗显影后的基板，由此进行附着的显影液的去除、显影残渣的去除。淋洗方法可使用众所周知的方法。例如可举出喷淋淋洗(shower rinse)或浸渍淋洗等。

关于图案曝光及显影，可使用众所周知的方法或众所周知的显影液。例如可合适地使用日本专利特开2011-186398号公报、日本专利特开2013-83937号公报中记载的图案曝光方法及显影方法。

另外，从提高膜硬度的观点来看，在显影工序后、热处理工序前，优选的是包括对经显影的感光性组合物进一步照射光化射线的工序(后曝光)。

所述情况下，优选的是利用水银灯或LED灯等进行50mJ/cm²～3,000mJ/cm²左右的能量曝光。另外，后曝光优选的是进行全面曝光。

通过进行后曝光，可进一步促进膜的硬化反应，膜硬度提高。

本发明的硬化膜的制造方法优选的是在所述显影工序后，包括对经显影的感光性组合物进行热处理的工序(后烘烤)。通过在对本发明的感光性组合物进行显影后进行热处理，可获得强度更优异的硬化膜。

热处理温度优选180℃以下，更优选150℃以下，进而优选130℃以下。下限值优选80℃以上，更优选90℃以上。加热的方法并无特别限定，可使用众所周知的方法。例如可举出加热板、烘箱、红外线加热器等。

另外，关于加热时间，加热板的情况下优选1分钟～30分钟左右，除此以外的情况下优选20分钟～120分钟左右。在所述范围内，可不对基板、装置造成损伤地进行硬化。

另外，所述本发明的硬化膜的制造方法中的由光和/或热所致的硬化可连续进行，也可依序进行。

另外，在进行热处理时，通过在氮气环境下进行处理，可进一步提高透明性。

从加热后的形状调整的观点来看，也可在热处理工序(后烘烤)之前，在相对较低的温度下进行烘烤后进行热处理工序(追加中烘烤工序)。例如可例示首先在90℃下加热30分钟(中烘烤)、之后在120℃下加热30分钟(后烘烤)的方法等。另外，也可将中烘烤、后烘烤分为三个阶段以上的多阶段来进行加热。通过设置这种中烘烤、后烘烤，可调整图案的锥角。这些加热可使用加热板、烘箱、红外线加热器等众所周知的加热方法。

本发明的硬化膜为使本发明的感光性组合物硬化而获得的硬化膜

本发明的硬化膜可合适地用作外涂膜(保护膜)或层间绝缘膜。另外，本发明的硬化膜优选的是通过本发明的硬化膜的制造方法所得的硬化膜。

通过本发明的感光性组合物，即便在低温下硬化也可获得具有充分硬度的硬化膜。例如可获得铅笔硬度为2H以上的硬化膜。使本发明的感光性组合物硬化而形成的保护膜由于硬化膜物性优异，因此在触摸屏、触摸屏显示装置、有机EL显示装置、液晶显示装置等的用途中有用。其中，本发明的硬化膜优选的是触摸屏配线用保护膜，特别优选的是外嵌结构触摸屏中的配线用保护膜。

本发明的感光性组合物由于硬化性及硬化膜特性优异，因此是作为微机电系统(MicroElectro Mechanical Systems，MEMS)用器件的结构构件，将使本发明的感光性组合物硬化而成的硬化物或抗蚀剂图案作为隔离壁，或作为机械驱动零件的一部分组入而使用。这种MEMS用器件例如可举出：表面声波(Surface Acoustic Wave，SAW)滤波器、体声波(Bulk AcousticWave，BAW)滤波器、陀螺传感器(gyro sensor)、显示器用微快门(microshutter)、图像传感器(image sensor)、电子纸、喷墨头、生物芯片(Bio-chip)、密封剂等零件。更具体的例子是例示在日本专利特表2007-522531号公报、日本专利特开2008-250200号公报、日本专利特开2009-263544号公报等中。

本发明的感光性组合物由于平坦性或透明性优异，因此也可用于形成例如日本专利特开2011-107476号公报的图2中记载的岸堤(bank)层(16)及平坦化膜(57)、日本专利特开2010-9793号公报的图4(a)中记载的隔离壁(12)及平坦化膜(102)、日本专利特开2010-27591号公报的图10中记载的岸堤层(221)及第3层间绝缘膜(216b)、日本专利特开2009-128577号公报的图4(a)中记载的第2层间绝缘膜(125)及第3层间绝缘膜(126)、日本专利特开2010-182638号公报的图3中记载的平坦化膜(12)及像素分离绝缘膜(14)等。除此以外，也可合适地用于液晶显示装置中用来将液晶层保持于一定厚度的间隔件(spacer)、液晶显示装置的彩色滤光片或彩色滤光片保护膜、传真机(facsimile)、电子复印机、固体撮像元件等的芯片上彩色滤光片(on-chip color filter)的成像光学系统或光纤连接器的微透镜(microlens)。

<有机EL显示装置>

本发明的有机EL显示装置具有本发明的硬化膜。

本发明的有机EL显示装置除了具有使用所述本发明的感光性组合物所形成的平坦化膜或层间绝缘膜以外，并无特别限制，可举出采用各种结构的众所周知的各种有机EL显示装置或液晶显示装置。

例如，本发明的有机EL显示装置所具有的TFT(Thin-Film Transistor)的具体例可举出：非晶硅-TFT、低温多晶硅-TFT、氧化物半导体TFT等。本发明的硬化膜由于电特性优异，因此可组合到这些TFT中而优选地使用。

图1为有机EL显示装置的一例的构成概念图。且表示底部发光型的有机EL显示装置中的基板的示意性截面图，具有平坦化膜4。

在玻璃基板6上形成底部栅极型的TFT1，以覆盖该TFT1的状态而形成包含Si₃N₄的绝缘膜3。在绝缘膜3中形成这里省略图示的接触孔后，在绝缘膜3上形成经由该接触孔而连接于TFT1的配线2(高度1.0μm)。配线2是用来将TFT1间连接、或将后续工序中形成的有机EL元件与TFT1连接的配线。

进而，为了使因形成配线2所致的凹凸平坦化，以嵌埋由配线2所致的凹凸的状态在绝缘膜3上形成平坦化膜4。

在平坦化膜4上，形成有底部发光型的有机EL元件。即，在平坦化膜4上，经由接触孔7与配线2连接而形成包含ITO的第一电极5。另外，第一电极5相当于有机EL元件的阳极。

形成覆盖第一电极5的边缘的形状的绝缘膜8，通过设置该绝缘膜8，可防止第一电极5与其后续工序中形成的第二电极之间的短路。

进而，图1中虽未图示，但可隔着所需的图案掩模依序蒸镀设置空穴传输层、有机发光层、电子传输层，然后在基板上方的整个面上形成包含Al的第二电极，使用密封用玻璃板及紫外线硬化型环氧树脂进行贴合，由此进行密封，获得对各有机EL元件连接用来驱动该有机EL元件的TFT1而成的有源矩阵型有机EL显示装置。

<液晶显示装置>

本发明的液晶显示装置具有本发明的硬化膜。

本发明的液晶显示装置除了具有使用所述本发明的感光性组合物所形成的保护膜、平坦化膜或层间绝缘膜以外，并无特别限制，可举出采用各种结构的众所周知的液晶显示装置。

另外，本发明的液晶显示装置可取的液晶驱动方式可举出：扭转向列(Twisted Nematic，TN)方式、垂直排列(Vertical Alignment，VA)方式、面内切换(In-Place-Switching，IPS)方式、边缘场切换(Fringe Field Switching，FFS)方式、光学补偿弯曲(Optically CompensatedBend，OCB)方式等。

在屏构成中，在彩色滤光片阵列(Color Filter on Array，COA)方式的液晶显示装置中也可使用本发明的硬化膜，例如可用作日本专利特开2005-284291号公报的有机绝缘膜(115)、或日本专利特开2005-346054号公报的有机绝缘膜(212)。另外，本发明的液晶显示装置可取的液晶取向膜的具体取向方式可举出摩擦取向法、光取向法等。另外，也可通过日本专利特开2003-149647号公报或日本专利特开2011-257734号公报中记载的聚合物支持取向(Polymer Sustained Alignment，PSA)技术来进行聚合物取向支持。

另外，本发明的感光性组合物及本发明的硬化膜不限定于所述用途，可用于各种用途。例如除了平坦化膜或层间绝缘膜以外，也可合适地用于保护膜、或液晶显示装置中用来将液晶层保持于一定厚度的间隔件或固体撮像元件中设置在彩色滤光片上的微透镜等。

图2为表示有源矩阵方式的液晶显示装置10的一例的概念性截面图。该彩色液晶显示装置10为在背面上具有背光单元12的液晶屏，并且液晶屏中，配置着与在贴附着偏光膜的2片玻璃基板14、玻璃基板15之间配置的所有像素相对应的TFT16的元件。对于形成在玻璃基板上的各元件，通过硬化膜17中形成的接触孔18而将形成像素电极的ITO透明电极19配线。在ITO透明电极19上，设有液晶20的层及配置有黑色矩阵的红绿蓝(Red Green Blue，RGB)彩色滤光片22。

背光的光源并无特别限定，可使用众所周知的光源。例如可举出：白色LED、蓝色·红色·绿色等的多色LED、荧光灯(冷阴极管)、有机EL等。

另外，液晶显示装置可设定为三维(three dimensional，3D)(立体视)型，也可设定为触摸屏型。进而也可设定为软性型，可用作日本专利特开2011-145686号公报中记载的第2层间绝缘膜(48)、或日本专利特开2009-258758号公报中记载的层间绝缘膜(520)。

<触摸屏及触摸屏显示装置>

本发明的触摸屏为绝缘层和/或保护层的全部或一部分包含本发明的感光性组合物的硬化物的触摸屏。另外，本发明的触摸屏优选的是至少具有透明基板、电极及绝缘层和/或保护层。

本发明的触摸屏显示装置优选的是具有本发明的触摸屏的触摸屏显示装置。本发明的触摸屏可为电阻膜方式、静电电容方式、超声波方式、电磁感应方式等众所周知的方式的任一种。其中，优选静电电容方式。

静电电容方式的触摸屏可举出日本专利特开2010-28115号公报中公开的触摸屏、或国际公开第2012/057165号中公开的触摸屏。其他触摸屏可举出：所谓内嵌(in-cell)型(例如日本专利特表2012-517051号公报的图5、图6、图7、图8)、所谓外嵌型(例如日本专利特开2013-168125号公报的图19、日本专利特开2012-89102号公报的图1或图5)、单片式玻璃触控面板(One Glass Solution，OGS)型或覆盖层触摸(Touch on Lens，TOL)型(例如日本专利特开2013-54727号公报的图2、日本专利特开2015-15042号公报的图2、图3、图4、图5)、其他构成(例如日本专利特开2013-164871号公报的图6)、各种外挂(out-cell)型(所谓GG、所谓G1·G2、所谓GFF、所谓GF2、所谓GF1、所谓G1F等)。

另外，图3表示具有触摸屏的功能的液晶显示装置的一例的构成概念图。

例如，本发明的硬化膜适合应用于图3中的各层之间的保护膜，且，也适合应用于将触摸屏的检测电极间隔开的层间绝缘膜。此外，触摸屏的检测电极优选银、铜、铝、钛、钼、及这些金属的合金。

图3中，110表示像素基板，140表示液晶层，120表示相向基板，130表示传感部。像素基板110从图3的下侧开始依序具有偏光板111、透明基板112、共通电极113、绝缘层114、像素电极115、取向膜116。相向基板120从图3的下侧开始依序具有取向膜121、彩色滤光片122、透明基板123。传感部130分别具有相位差膜124、接着层126、偏光板127。另外，图3中，125为传感用检测电极。本发明的硬化膜可用于像素基板部分的绝缘层114(也称为层间绝缘膜)或各种保护膜(未图示)、像素基板部分的各种保护膜(未图示)、相向基板部分的各种保护膜(未图示)、传感部分的各种保护膜(未图示)等。

进而，即便在静态驱动方式的液晶显示装置中，也可通过应用本发明而显示设计性高的图案。关于其例子，可应用本发明作为日本专利特开2001-125086号公报中记载那样的聚合物网路型液晶的绝缘膜。

另外，图4为具有触摸屏的功能的液晶显示装置的另一例的构成概念图。

触摸屏显示装置包含：下部显示板200，具备薄膜晶体管(TFT)440，相当于薄膜晶体管显示板；上部显示板300，与下部显示板200相向，在与下部显示板200相向的面上具备多个彩色滤光片330，相当于彩色滤光片显示板；以及液晶层400，形成在下部显示板200与上部显示板300之间。液晶层400含有液晶分子(未图示)。

下部显示板200包含第1绝缘基板210、配置在第1绝缘基板210上的薄膜晶体管(TFT)、形成在薄膜晶体管(TFT)的上表面上的绝缘膜280、及配置在绝缘膜280上的像素电极290。薄膜晶体管(TFT)可含有栅极电极220、覆盖栅极电极220的栅极绝缘膜240、半导体层250、欧姆接触层260、欧姆接触层262、源极电极270及漏极电极272。

绝缘膜280中，以薄膜晶体管(TFT)的漏极电极272露出的方式形成有接触孔282。

上部显示板300包含：配置在第2绝缘基板310的一个面上且以矩阵状排列的遮光构件320、配置在第2绝缘基板310上的取向膜350、配置在取向膜上的彩色滤光片330、及配置在彩色滤光片330上且与下部显示板200的像素电极290相对应而对液晶层400施加电压的共通电极370。

在图4所示的液晶显示装置中，在第2绝缘基板310的另一面上配置传感电极410、绝缘膜420、驱动电极430及绝缘膜280。像这样，在图4所示的液晶显示装置的制造中，在形成上部显示板300时，可一起形成作为触控屏(touch screen)的构成要素的传感电极410、绝缘膜420及驱动电极430等。尤其使本发明的感光性组合物硬化而成的硬化膜可合适地用于绝缘膜280或绝缘膜420。

[实施例]

以下举出实施例对本发明加以更具体说明。以下的实施例中所示的材料、使用量、比例、处理内容、处理顺序等只要不偏离本发明的主旨，则可适当变更。因此，本发明的范围不限定于以下所示的具体例。此外，只要无特别说明，则“份”、“％”为质量基准。

<化合物1(C-1)的合成>

[化合物A的合成]

将乙基咔唑(100.0g，0.512mol)溶解在260ml的氯苯中，冷却到0℃后，添加氯化铝(70.3g，0.527mol)。然后，用40分钟滴加邻甲苯酰氯(81.5g，0.527mol)，升温到室温(25℃，以下相同)并搅拌3小时。然后，冷却到0℃后，添加氯化铝(75.1g，0.563mol)。用40分钟滴加4-氯丁酰氯(79.4g，0.563mol)，升温到室温并搅拌3小时。将156ml的35质量％的盐酸水溶液与392ml的蒸馏水的混合溶液冷却到0℃，滴加反应溶液。将析出的固体抽吸过滤后，以蒸馏水及甲醇进行清洗，以乙腈进行再结晶后，获得下述结构的化合物A(产量164.4g，产率77％)。

[化14]

[化合物B的合成]

将所述获得的化合物A(20.0g，47.9mmol)溶解在64ml的四氢呋喃(THF)中，添加4-氯苯硫醇(7.27g，50.2mmol)及碘化钠(0.7g，4.79mmol)。然后在反应液中添加氢氧化钠(2.0g，50.2mmol)，回流2小时。然后冷却到0℃后，用20分钟滴加SM-28(11.1g，57.4mmol，甲氧化钠的28％甲醇溶液，和光纯药工业(股)制造)，升温到室温并搅拌2小时。然后冷却到0℃后，用20分钟滴加亚硝酸异戊酯(6.73g，57.4mmol)，升温到室温并搅拌3小时。将反应液稀释至120ml丙酮中，滴加到经冷却至0℃的0.1N盐酸水溶液中。将析出的固体抽吸过滤后，以蒸馏水清洗。然后以乙腈进行再结晶，获得下述结构的化合物B(产量17.0g，产率64％)。

[化15]

[化合物1的合成]

将化合物B(18.0g，32.4mmol)溶解在90ml的N-甲基吡咯烷酮(NMP)中，添加三乙胺(Et₃N，3.94g，38.9mmol)。然后冷却到0℃后，用20分钟滴加乙酰氯(AcCl，3.05g，38.9mmol)后，升温到室温并搅拌2小时。将反应液滴加到150ml的经冷却至0℃的蒸馏水中，将析出的固体抽吸过滤后，以200ml的经冷却至0℃的异丙醇清洗，加以干燥后，获得化合物1(产量19.5g，产率99％)。

[化16]

另外，所得的化合物1的结构是利用核磁共振(Nuclear Magnetic Resonance，NMR)来鉴定。

¹H-NMR(400MHz，CDCl₃)：δ＝8.86(s，1H)，8.60(s，1H)，8.31(d，1H，J＝8.0Hz)，8.81(d，1H，J＝8.0Hz)，7.51-7.24(m，10H)，7.36(q，2H，7.4Hz)，3.24-3.13(m，4H)，2.36(s，3H)，2.21(s，3H)，1.50(t，3H，7.4Hz)。

实施例及比较例中使用的各成分如以下所述。

(成分A：分子内具有三个以上的(甲基)丙烯酰基与一个以上的羧基的聚合性单体)

A-1：亚罗尼斯(Aronix)TO-2359(东亚合成(股)制造)、具有羧基的五官能丙烯酸酯化合物、下述化合物a-1

A-2：亚罗尼斯(Aronix)M-510(东亚合成(股)制造)、具有羧基的三官能丙烯酸酷化合物、下述化合物a-2

A-3：具有羧基的七官能丙烯酸酯化合物、下述化合物a-3

A′-1(比较例)：亚罗尼斯(Aronix)M-5300(东亚合成(股)制造)、ω-羧基-聚己内酯单丙烯酸酯、一官能

[化17]

(成分B：分子内具有三个以上的(甲基)丙烯酰基且不具有羧基的聚合性单体)

B-1：二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA，日本化药(股)制造)、六官能

B-2：季戊四醇四丙烯酸酯(A-TMMT，新中村化学工业(股)制造)、四官能

B-3：三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(M309，东亚合成(股)制造)、三官能

B-4：NK寡聚(NK OLIGO)U-15HA(新中村化学工业(股)制造)、十五官能

B-5：UA-306H(共荣社化学(股)制造)、六官能

B′-1(比较例)：1，9-壬二醇二丙烯酸酯(A-NOD-N，新中村化学工业(股)制造)、二官能

(成分C：光聚合引发剂)

C-1：化合物1(合成品，参考所述)、肟酯化合物

C-2：艳佳固(IRGACURE)OXE-01(巴斯夫(BASF)公司制造)、肟酯化合物、下述结构

C-3：艳佳固(IRGACURE)OXE-02(巴斯夫(BASF)公司制造)、肟酯化合物、下述结构

[化18]

(成分D：羟甲基化合物)

D-1：尼卡拉库(NIKALAC)MX-270(三和化学(股)制造，下述化合物)

D-2：尼卡拉库(NIKALAC)MW-100LM(三和化学(股)制造，下述化合物)

D-3：尼卡拉库(NIKALAC)MX-280(三和化学(股)制造，下述化合物)

D-4：尼卡拉库(NIKALAC)MX-290(三和化学(股)制造，下述化合物)

D′-1：三嗪

[化19]

(成分E：聚合抑制剂)

E-1：吩噻嗪(东京化成工业(股)制造)

E-2：吩噁嗪(东京化成工业(股)制造)

(成分F：烷氧基硅烷化合物)

SC-1：KBM-403(3-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷，信越化学工业(股)制造)

SC-2：KBM-5103(3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷，信越化学工业(股)制造)

(成分G：无机粒子)

G-1：PMA-ST(日产化学工业(股)制造)，二氧化硅粒子，平均粒径10nm～15nm

G-2：MIBK-ST-L(日产化学工业(股)制造)，二氧化硅粒子，平均粒径40nm～50nm(溶剂)

S-1：丙二醇单甲醚乙酸酯(大赛璐(Daicel)(股)制造)

S-2：甲基乙二醇(大赛璐(Daicel)(股)制造)

S-3：1，3-丙二醇二乙酸酯(大赛璐(Daicel)(股)制造)

S-4：四氢糠醇(关东化学(股)制造)

(表面活性剂)

W-1：美佳法(Megafac)F554(迪爱生(DIC)(股)制造，氟系表面活性剂)

(其他成分)

<粘合剂聚合物>

P-1：庄克丽(Joncryl)581(巴斯夫(BASF)公司制造，羟基改性丙烯酸系聚合物)

P-2：日本专利第5201066号公报中记载的聚合物A-1

<增感色素>

I-1：DBA(川崎化成工业(股)制造，下述结构的二丁氧基蒽)

[化20]

(实施例1～实施例92、及比较例1～比较例14)

<感光性组合物的制备>

像下述表1～表4中记载那样，将各成分调配·搅拌而制成溶剂的溶液和/或分散液，利用孔径0.3μm的聚四氟乙烯制过滤器进行过滤，分别获得实施例1～实施例92及比较例1～比较例14的各感光性组合物。下述表1～表4的各成分的添加量的单位为质量份。

另外，表中的“-”的记载是指并不含有符合条件的成分。

使用所得的各感光性组合物进行以下的评价。将评价结果示于表1～表4中。

<图案化性的评价>

将玻璃基板(伊格尔(EAGLE)XG，0.7mm厚(康宁(Corning)公司制造))在六甲基二硅氮烷(HMDS)蒸气下暴露30秒钟，旋涂涂布各负型感光性树脂组合物后，在90℃下在加热板上预烘烤120秒钟使溶剂挥发，形成膜厚3.0μm的感光性组合物层。

然后，使用佳能(Canon)(股)制造的MPA 5500CF(高压水银灯)，隔着既定的掩模对所得的感光性组合物层进行曝光。接着，利用碱性显影液(2.38％的氢氧化四甲基铵水溶液)在23℃下对曝光后的感光性组合物层进行60秒钟显影后，以超纯水淋洗20秒钟。将通过这些操作而分辨50μm的孔时的最适i射线曝光量(Eopt)作为感度。

对以分辨各掩模径的最适当曝光量来制作具有孔图案的永久膜时的孔径进行评价。以下的评价中，实孔图案径是以抗蚀剂的底部(底面)的尺寸来规定。孔径与掩模径之差越小(即，掩模线性高)，则屏设计越变容易而优选。

评价基准如以下所述。

5：掩模径与实孔图案径之比为±10％以内

4：掩模径与实孔图案径之比超过±10％、且为±20％以内

3：掩模径与实孔图案径之比超过±20％、且为±30％以内

2：掩模径与实孔图案径之比超过±30％、且为±40％以内

1：掩模径与实孔图案径之比超过±40％

此外，孔径是将底部(底面)的尺寸规定为基准。

另外，关于曝光量，以针对各掩模径进行分辨的最适当的曝光量进行曝光。

<密接性的评价>

将所述调配的各组合物旋涂在经铜蒸镀的基板上，在100℃下进行120秒钟的预烘烤，获得膜厚2.0μm的涂布膜。然后，利用高压水银灯进行500mJ/cm²(i射线换算)的光照射，进而利用烘箱在120℃下进行60分钟烘烤，由此制作硬化膜。对所得的硬化膜利用依据日本工业标准(Japanese Industrial Standard，JIS)K5600的方法进行100格的交叉切割(cross-cut)试验，并对密接性进行评价。

另外，将所述调配的各组合物旋涂在经ITO蒸镀的基板上，对在与上文所述相同的条件下制作的硬化膜，也利用依据JIS K5600的方法进行100格的交叉切割试验，并对密接性进行评价。以下的评价中，评价等级5、4、3为实用范围。将评价结果示于表1～表4。

5：完全未见剥离

4：稍有剥离，剥离的比例小于2％

3：剥离的比例为2％以上且小于5％

2：剥离的比例为5％以上且小于15％

1：剥离的比例为15％以上

<耐汗性的评价>

将所述制备的各感光性组合物旋涂在形成有10μm宽的铜配线的玻璃基板上，在90℃下进行120秒钟的预烘烤，获得膜厚2.0μm的涂布膜。然后，利用高压水银灯进行500mJ/cm²(i射线换算)的光照射，进而利用烘箱在120℃下进行60分钟烘烤，由此制作硬化膜，获得人工汗液耐性评价用试样。

然后，以JIS标准(Z 2371：2000)为参照，使用盐水喷雾试验机(须贺试验机(股)制造的STP-90V2)并将所述试样载置于试验槽内，以试验槽温度35℃、喷雾量1.5mL/h喷雾48小时浓度为50g/L的盐水(pH＝6.7)。喷雾结束后，擦去盐水，观察评价用试样的表面状态，依照以下评分进行评价。

5：保护膜表面完全无变化

4：在保护膜表面发现极少的痕迹，但铜无变化

3：在保护膜表面发现痕迹，但铜无变化

2：在保护膜表面存在痕迹，且铜稍微变为绿色

1：在保护膜表面存在痕迹，且铜明显变为绿色

<显示装置的制作>

在图4所示的显示装置中，将本发明的各实施例中所得的感光性组合物用于触摸检测电极保护膜(绝缘膜420)，分别制作显示装置。具体来说，通过以下方式形成保护膜(绝缘膜420)：狭缝涂布各实施例中所得的感光性组合物，在90℃下进行120秒钟的预烘烤，利用高压水银灯进行500mJ/cm²(i射线换算)的光照射，进而利用烘箱在120℃下进行60分钟烘烤。显示装置的其他部分是按照日本专利特开2013-168125号公报中作为图19而记载的制造方法而制作。所制作的显示装置的显示性能、触摸检测性能均优异。

Claims

1.一种感光性组合物，其特征在于，含有：

作为成分A的分子内具有三个以上的(甲基)丙烯酰基与一个以上的羧基的聚合性单体；

作为成分B的分子内具有三个以上的(甲基)丙烯酰基且不具有羧基的聚合性单体；

作为成分C的光聚合引发剂；以及

作为成分D的羟甲基化合物；并且

所述成分A及所述成分B相对于组合物中的总有机固体成分的总含量为60质量％以上，

所述成分A相对于所述组合物中的所述成分A及所述成分B的总含量的含量为10质量％～50质量％。

2.根据权利要求1所述的感光性组合物，其特征在于，所述成分D相对于所述组合物中的总有机固体成分的含量为0.1质量％～20质量％。

3.根据权利要求1或2所述的感光性组合物，其特征在于，所述成分D相对于所述组合物中的总有机固体成分的含量为1质量％～10质量％。

4.根据权利要求1或2所述的感光性组合物，其特征在于，还含有聚合抑制剂作为成分E。

5.根据权利要求1或2所述的感光性组合物，其特征在于，所述成分D为羟甲基三聚氰胺化合物和/或羟甲基脲化合物。

6.根据权利要求1或2所述的感光性组合物，其特征在于，还含有烷氧基硅烷化合物作为成分F。

7.根据权利要求1或2所述的感光性组合物，其特征在于，还含有无机粒子作为成分G。

8.一种硬化膜的制造方法，其特征在于，至少依序包括工序1～工序3：

工序1：将根据权利要求1或2所述的感光性组合物涂布在基板上的涂布工序；

工序2：利用光化射线对经涂布的所述感光性组合物的至少一部分进行曝光的曝光工序；以及

工序3：利用水性显影液对经曝光的所述感光性组合物进行显影的显影工序。

9.一种硬化膜，其特征在于，是使根据权利要求1或2所述的感光性组合物硬化而成。

10.根据权利要求9所述的硬化膜，其特征在于，所述硬化膜为层间绝缘膜或保护膜。

11.根据权利要求9或10所述的硬化膜，其特征在于，所述硬化膜为触摸屏配线用保护膜。

12.根据权利要求9或10所述的硬化膜，其特征在于，所述硬化膜为外嵌结构触摸屏中的配线用保护膜。

13.一种触摸屏，其特征在于，具有根据权利要求9至12中任一项所述的硬化膜。

14.一种触摸屏显示装置，其特征在于，具有根据权利要求9至12中任一项所述的硬化膜。

15.一种液晶显示装置，其特征在于，具有根据权利要求9或10所述的硬化膜。

16.一种有机电致发光显示装置，其特征在于，具有根据权利要求9或10所述的硬化膜。