CN105892084A - 一种镀铝分划元件制作方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开一种镀铝分划元件制作方法，该方法的步骤是：S1、将抛光后的玻璃光坯，采用镀铝的工艺方法进行加工，镀铝工艺为：清扫真空室—装填膜料—清擦基片—加热—保温—预熔膜料—真空度达到—一次镀制铝膜—一次镀制Al₂O₃—取件—清扫真空室—装填膜料—清擦基片—加热—保温—预熔膜料—二次镀制铝膜—二次镀制Al₂O₃—取件—照相复制补镀；两次镀铝膜后铝膜的厚度为1064nm；S2、取20～25质量份数的三氧化铬、35～40质量份数的氟化钠、40质量份数的溴化镉、1质量份数的可溶淀粉和500质量份数的蒸馏水配制玻璃腐蚀液；S3、光刻胶：正性光刻胶；其工艺流程为：涂胶→前烘→曝光→中烘→显影→后烘→腐蚀→清洗→去胶→检验零件技术要求→转下道工序；在腐蚀工序中，用玻璃腐蚀液进行腐蚀。

Description

一种镀铝分划元件制作方法

技术领域

本发明属于光学设备元件的制备技术领域，具体地说涉及一种镀铝分划元件制作方法。

背景技术

在我公司的一种光学产品中要用到一种分划板，在装配调试过程中屡次出现分划铬层和玻璃基底被激光打坏的现象。该产品要求激光光束（能量约为800瓦，波长为1064nm）聚焦在分划面上，因此分划面膜层需要有一定的抗激光损伤的能力。

该零件是镀铬分划板，铬膜密度要求不低于23号密度样板，23号密度的铬膜，在1064nm处的反射率R为40%左右，透过率T几乎为零，那么吸收率即达到了60%左右，膜层在吸收率高的情况下，其抗激光损伤能力一定很差，不适合用作激光环境中。

发明内容

本发明的目的在于针对上述现有技术的缺陷，提高昼夜两用分划元件的的线条质量、分划精度和加工效率。克服机械刻度法制造昼夜两用分划元件存在的分划线条质量差、分划精度不高以及加工效率低的问题。

为了实现上述目的，本发明的技术方案是：

一种镀铝分划元件制作方法，该镀铝分划元件制作方法的步骤是：

S1、将抛光后的玻璃光坯，采用镀铝的工艺方法进行加工，镀铝工艺为：清扫真空室—装填膜料—清擦基片—加热—保温—预熔膜料—真空度达到—一次镀制铝膜—一次镀制Al₂O₃—取件—清扫真空室—装填膜料—清擦基片—加热—保温—预熔膜料—二次镀制铝膜—二次镀制Al₂O₃—取件—（照相复制后）补镀；两次镀铝膜后铝膜的厚度为1064nm；

S2、取20～25质量份数的三氧化铬、35～40质量份数的氟化钠、40质量份数的溴化镉、1质量份数的可溶淀粉和500质量份数的蒸馏水配制玻璃腐蚀液；

S3、光刻胶：正性光刻胶；其工艺流程为：涂胶→前烘→曝光→中烘→显影→后烘→腐蚀→清洗→去胶→检验零件技术要求→转下道工序；在腐蚀工序中，用玻璃腐蚀液进行腐蚀。

作为对上述技术方案的改进，工艺过程中控制环境温度为22℃～26℃，相对湿度为360%～70%，洁净度6级。

与现有技术相比，本发明所取得有改进和有益效果是：

使用本发明的镀铝分划元件制作方法，所制造的镀铝分划元件达到如下指标：分划图案线条整齐，经检测，分划图案（暗背景，亮分划）指标达到：铝层密度不低于23号光密度样板，刻线宽度精度达到0.03±0.005，图中亮孔尺寸精度φ0.013±0.002。

该方法解决了镀铬分划板易被激光打坏的难题，在玻璃光坯上制作出的铝层分划图案，满足产品的使用要求。

该方法对分划元件的制作具有很好的推广应用价值。可广泛应用于光学仪器镀铝分划元件的加工。

附图说明

图1为本发明的工艺流程图。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式对本发明技术作进一步详细说明。

如图1所示，本发明的镀铝分划元件制作方法，该镀铝分划元件制作方法的步骤是：

S1、将抛光后的玻璃光坯，采用镀铝的工艺方法进行加工，镀铝工艺为：清扫真空室—装填膜料—清擦基片—加热—保温—预熔膜料—真空度达到—一次镀制铝膜—一次镀制Al₂O₃—取件—清扫真空室—装填膜料—清擦基片—加热—保温—预熔膜料—二次镀制铝膜—二次镀制Al₂O₃—取件—（照相复制后）补镀；两次镀铝膜后铝膜的厚度为1064nm；

S2、取20～25质量份数的三氧化铬、35～40质量份数的氟化钠、40质量份数的溴化镉、1质量份数的可溶淀粉和500质量份数的蒸馏水配制玻璃腐蚀液；

S3、光刻胶：正性光刻胶；其工艺流程为：涂胶→前烘→曝光→中烘→显影→后烘→腐蚀→清洗→去胶→检验零件技术要求→转下道工序；在腐蚀工序中，用玻璃腐蚀液进行腐蚀。

镀铝工艺方法：铝膜在1064nm激光点处的反射率高于80%，因此吸收率较低，且性能稳定，在铝膜上制作分划图案，既能保证分划板的功用，又有抗激光（能量约为800瓦，波长为1064nm）光束损伤能力。通过采用两次镀制铝膜+氧化铝保护层的办法，有效的解决了针孔问题。

玻璃腐蚀液：

以质量份数计的配方为：三氧化铬20～25、氟化钠35～40、溴化镉40、可溶淀粉1、蒸馏水500。

三氧化铬主要作氧化剂，把铝氧化成三价铝。

2Al+CrO₃=Al₂O₃+Cr

氟化钠主要作铬合剂，铝被氧化成三价铝后与氟离子结合 有利于反应向右进行：Al³⁺+6F^-=(AlF₆)^3-

溴化镉主要作为去极化剂，主要是消除原电池和电解里面对电极的影响，就是三氧化铬和铝可以形成好多微型的原电池（原电池作用），加速铝和三氧化铬的氧化还原。

淀粉主要作增稠剂和粘合剂，使液体具有粘性，从而不会从腐蚀的地方流下来。

在工艺过程中控制环境温度为22℃～26℃，相对湿度为360%～70%，洁净度6级。

使用本发明的镀铝分划元件制作方法，所制造的镀铝分划元件达到如下指标：分划图案线条整齐，经检测，分划图案（暗背景，亮分划）指标达到：铝层密度不低于23号光密度样板，刻线宽度精度达到0.03±0.005，图中亮孔尺寸精度φ0.013±0.002。

该方法解决了镀铬分划板易被激光打坏的难题，在玻璃光坯上制作出的铝层分划图案，满足产品的使用要求。

该方法对分划元件的制作具有很好的推广应用价值。可广泛应用于光学仪器镀铝分划元件的加工。

实施例1：口径为φ43mm，中心厚度为4mm的平凸透镜分划板，在玻璃光坯的平面上镀上铝膜后，涂正性光刻胶，放入烘箱进行前烘后取出，暗室自然冷却，曝光，放入烘箱进行中烘，暗室自然冷却，然后放入显影液显影后，进行后烘，暗室自然冷却，再放入腐蚀液，清洗零件，去胶，检验图形、指标符合要求，转下一道工序真空镀膜。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (2)

1.一种镀铝分划元件制作方法，其特征在于：该镀铝分划元件制作方法的步骤是：

S1、将抛光后的玻璃光坯，采用镀铝的工艺方法进行加工，镀铝工艺为：清扫真空室—装填膜料—清擦基片—加热—保温—预熔膜料—真空度达到—一次镀制铝膜—一次镀制Al₂O₃—取件—清扫真空室—装填膜料—清擦基片—加热—保温—预熔膜料—二次镀制铝膜—二次镀制Al₂O₃—取件—照相复制补镀；两次镀铝膜后铝膜的厚度为1064nm；

S2、取20～25质量份数的三氧化铬、35～40质量份数的氟化钠、40质量份数的溴化镉、1质量份数的可溶淀粉和500质量份数的蒸馏水配制玻璃腐蚀液；

S3、光刻胶：正性光刻胶；其工艺流程为：涂胶→前烘→曝光→中烘→显影→后烘→腐蚀→清洗→去胶→检验零件技术要求→转下道工序；在腐蚀工序中，用玻璃腐蚀液进行腐蚀。

2.根据权利要求1所述的镀铝分划元件制作方法，其特征在于：工艺过程中控制环境温度为22℃～26℃，相对湿度为360%～70%，洁净度6级。