CN105874549A - 铝电解电容器用电极箔及其制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种在生产线这样易于施加应力的条件下进行化成处理也不易引起断裂，而且可以确保高静电容量的铝电解电容器用电极箔及其制造方法。本发明的铝电解电容器用电极箔具备铝及铝合金中至少一种粉末的烧结体、以及支承所述烧结体的基材。所述基材为含有50重量ppm以上且不足20000重量ppm的Mn的铝箔。由于在上述铝电解电容器用电极箔中具有作为基材的含有规定量的Mn的铝箔，因此即使进行化成处理也不易引起断裂。
Description
技术领域
本发明涉及一种用于铝电解电容器的电极箔，尤其涉及用于铝电解电容器的阳极电极箔及其制造方法。
背景技术
铝电解电容器由于能够以低价获得大容量，因此被广泛应用于各种领域。以往，将铝箔用于铝电解电容器的电极材料。铝箔通过实施蚀刻处理形成蚀刻坑，能够增大表面积。另外，通过在表面上实施阳极氧化处理、即所谓的化成处理，从而在表面形成氧化膜，该氧化膜作为电介质发挥作用。因此，若对铝箔进行蚀刻处理，并以对应于使用电压的各种电压在其表面形成氧化膜，则能够制造对应各种用途的用于电解电容器的铝阳极用电极材料(箔)。
近年来，提出有一种用层叠铝粉而成的烧结体来代替实施蚀刻处理使表面积增大后的铝阳极用电极箔的方法(例如，参照专利文献1等)。证实通过用本方法获得的铝电解电容器用电极箔，其表面积大于等于通过蚀刻处理形成的坑面积。而且，由于上述专利文献1中公开的方法，不需要在蚀刻处理中所使用的含有硫酸、磷酸、硝酸等的盐酸，因此相较于蚀刻处理，具有大幅降低对环境方面的负荷、工序上或经济上的负担的优点。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本专利公开2008-98279号公报
发明内容
(一)要解决的技术问题
但是，本申请发明人等在制造上述专利文献1中所公开的铝电解电容器用电极箔时，尝试在生产线下对该铝电解电容器用电极箔进行化成处理，却发生了在电极箔产生开裂或裂缝等并断裂的问题。尤其是发现了，用于形成烧结体的铝粉的粒径越小，则越容易引起如上所述的断裂。在生产线下的化成处理中，由于通过轧辊使电极箔连续流动(所谓的轧辊到轧辊方式)，因此易于在电极箔上产生较大应力。可以认为，若在电极箔上产生这样的应力，则会在电极箔产生裂缝或开裂，其结果为，电极箔会断裂。由于铝粉的粒径越小，在铝箔表面所形成的覆膜的表面积越会增大，因此能够有助于提高铝电解电容器的静电容量，虽然在该方面十分有利，但铝粉的粒径越小，越容易产生上述问题。这样，难以使能够赋予高静电容量的铝电解电容器用电极箔在生产线下无断裂地进行化成处理。
本发明是鉴于上述技术问题而完成的，其目的在于提供一种即使在生产线这样易于施加应力的条件下进行化成处理也不易引起断裂，而且可以确保高静电容量的铝电解电容器用电极箔及其制造方法。
(二)技术方案
本发明人为实现上述目的进行了深入研究，结果发现，通过将铝电解电容器用电极箔的基材做成含有特定量的锰(Mn)的铝箔，能够实现上述目的，从而完成了本发明。
即，本发明涉及下述的铝电解电容器用电极箔及其制造方法。
1.一种铝电解电容器用电极箔，具备铝及铝合金中至少一种粉末的烧结体、以及支承所述烧结体的基材，其特征在于，
所述基材为含有50重量ppm以上且不足20000重量ppm的Mn的铝箔。
2.根据技术方案1所述的铝电解电容器用电极箔，所述基材为含有110重量ppm以上且不足20000重量ppm的Mn的铝箔。
3.根据技术方案1或2所述的铝电解电容器用电极箔，所述粉末的平均粒径(D50)为1.5μm以上且20μm以下。
4.根据技术方案1至3中任意一项所述的铝电解电容器用电极箔，
在所述基材的两面形成有所述烧结体；
所述基材的厚度为15μm以上且80μm以下；
所述烧结体的总厚度为40μm以上且600μm以下。
5.一种铝电解电容器用电极箔的制造方法，其特征在于，包括第一工序和第二工序，并且不包括蚀刻工序，所述第一工序在含有50重量ppm以上且不足20000重量ppm的Mn的铝箔的至少一个表面，形成含有铝及铝合金中至少一种粉末的组合物的覆膜；所述第二工序在560℃以上660℃以下的温度下将所述覆膜烧结。
6.根据技术方案5所述的制造方法，在所述第一工序中，在所述铝箔的两面分别形成所述覆膜。
(三)有益效果
根据本发明的铝电解电容器用电极箔，由于基材为含有50重量ppm以上且不足20000重量ppm的Mn的铝箔，因此即使在生产线下连续进行铝电解电容器用电极箔的化成处理，也不易产生断裂。并且，即使减小构成铝电解电容器用电极箔的烧结体的铝粉的粒径，在进行化成处理时也仍然不易产生断裂。因此，本发明的铝电解电容器用电极箔优选作为用于获得具有高静电容量的铝电解电容器的电极材料。
具体实施方式
下面，对本发明的实施方式详细地进行说明。
1.铝电解电容器用电极箔
本发明的铝电解电容器用电极箔具备铝及铝合金中至少一种粉末的烧结体、以及支承烧结体的基材。
将铝箔作为基材使用，尤其在本发明中，使用相对于铝箔总重量含有50重量ppm以上且不足20000重量ppm的Mn(锰)的铝箔。即使在将这种铝箔作为基材的铝电解电容器用电极箔中实施后述的化成处理，也易于防止铝电解电容器用电极箔断裂。尤其是若上述Mn的含量为110ppm以上，则将更容易地防止上述的化成处理时的断裂。特别优选的Mn的含量为150ppm以上。另一方面，若Mn的含量为20000重量ppm以上，则可以防止化成处理时的断裂，但铝电解电容器的漏电流会变大，因此有可能会使铝电解电容器的性能降低。
上述铝箔中可以含有除Mn之外不可避免地含有的杂质，或者，也可以人为添加除Mn之外的元素。作为除Mn之外的元素，可列举为从铁(Fe)、铜(Cu)、硅(Si)、镁(Mg)、铬(Cr)、锌(Zn)、钛(Ti)、钒(V)、镓(Ga)、镍(Ni)及硼(B)的群中选择的至少一种。这些元素的含量为不会妨碍本发明的效果的程度。例如，若除Mn之外的元素的总重量相对于铝箔为1000重量ppm以下，则有时也易于防止铝电解电容器的漏电流的产生。
上述铝箔的厚度并未作特别限定，但可以使其为10μm以上且200μm以下，优选为15μm以上且80μm以下。
上述的铝箔可以通过公知的方法进行制造，其制造方法并未作特别限定。例如配制Mn及其他根据需要所添加的元素的铝合金的熔融金属，将对其进行铸造而得到的铸锭进行适当地均质化处理。然后，通过对该铸锭实施热轧和冷轧，可以得到作为基材的铝箔。
此外，在上述的冷轧工序的途中，也可以在50～500℃、尤其是150～400℃的范围内实施中间退火处理。另外，也可以在上述的冷轧工序之后，在150～650℃、尤其是350～550℃的范围内实施退火处理形成软箔。
铝电解电容器用电极箔的烧结体由含有铝及铝合金中至少一种粉末的烧结体构成。
铝粉优选为铝纯度为99.8重量％以上。另一方面，作为铝合金粉，例如例示有如下合金粉末，其含有从铁、硅、铜、锰、镁、铬、锌、钛、钒、镓、镍、硼及锆的群中选择的至少一种以上的元素。这些元素各自的含量优选为相对于铝合金粉的总重量分别为1000重量ppm以下，尤其为300重量ppm以下。
另外，铝粉及铝合金粉的平均粒径(D50)均优选为1.5μm以上且20μm以下。若平均粒径(D50)在上述的范围内，则可以获得高静电容量的铝电解电容器。特别地，上述粉末的平均粒径(D50)更优选为1.5μm以上且5.0μm以下。在这样范围的平均粒径(D50)下，即使与以往已知的蚀刻箔相比，也可以确保同等以上的静电容量。此外，本说明书中的平均粒径(D50)表示通过激光衍射法所测定的值。具体而言，平均粒径(D50)表示在求出粒径与符合该粒径的颗粒数的关系而得到的粒度分布曲线中，相当于总颗粒数的50％的颗粒的粒径。
上述铝粉或铝合金粉的形状例如可以为球状、不定形状、鳞片状、纤维状等任意形状，但在其中特别优选由球状颗粒组成的粉末。
另外，上述的铝粉及铝合金粉可以使用通过公知的方法制造的粉末。例如，可以列举通过雾化法、熔体快淬法、旋转圆盘法、旋转电极法、快速凝固法等制造的粉末，但在工业生产上优选雾化法，尤其是气体雾化法的制造方法。即，希望所述粉末为通过将熔融金属雾化而得到的粉末。
上述烧结体优选形成为多孔的烧结体。多孔烧结体通过在上述的粉末等相互维持空隙的同时进行烧结来形成。在具有这样的多孔烧结体的铝电解电容器用电极箔中，即使不实施蚀刻处理，也可以获得所希望的静电容量，在这一方面十分有利。铝电解电容器用电极箔的静电容量依赖于多孔烧结体的孔隙率，但如果例如在孔隙率至少在10％以上的范围内对孔隙率的大小进行调整，则能够使其为所希望的静电容量。烧结体的孔隙率可以使用任意的方法进行调整。例如，对烧结体的原料、即粉末的平均粒径(D50)、向含有原料粉末的糊状组合物添加的材料的种类(树脂粘合剂等)或组成比例等进行调整等，能够控制烧结体的孔隙率。
上述烧结体可以在烧结体中含有氧化铝、二氧化钛及二氧化硅等中的任意一种以上的绝缘颗粒。
烧结体可以仅形成在基材即铝箔的单面上，也可以形成在两面上，在形成在两面上的情况下，优选为烧结体通过铝箔被对称地配置。
烧结体的厚度优选为40μm以上且600μm以下。在烧结体形成在铝箔的两面上的情况下，形成在两面的烧结体的总厚度优选在所述范围内。若以这样的厚度形成烧结体，且如上所述，铝箔的厚度为15μm以上且80μm以下，则在化成处理时，在铝电解电容器用电极箔上不易产生断裂，从而能够容易地进行化成处理工序。特别地，铝箔的厚度为15μm以上且80μm以下，烧结体的总厚度更优选为40μm以上且200μm以下。此外，用千分尺对烧结体的任意位置进行7点测定，将除去这些测定值中的最大值和最小值的5点的测定值的平均值称为上述烧结体的厚度。
2.铝电解电容器用电极箔的制造方法
接着，对制造上述铝电解电容器用电极箔的方法的一个例子进行说明。
电解电容器用电极箔通过包括第一工序和第二工序的工序进行制造，所述第一工序在含有50重量ppm以上且不足20000重量ppm的Mn的铝箔的至少一个表面，形成含有铝及铝合金中至少一种粉末的组合物的覆膜；所述第二工序以560℃以上660℃以下的温度将所述覆膜烧结。
在第一工序中，在含有50重量ppm以上且不足20000重量ppm的Mn的铝箔的单面或两面上，形成含有铝粉的组合物的覆膜。在第一工序中使用的铝箔与上述的铝箔的结构相同。此外，制造并准备铝箔的工序可以在第一工序前预先进行，也可以在第一工序内进行。
含有铝粉的组合物除了铝粉之外，还可以通过混合根据需要所添加的粘合剂或溶剂来进行制备。另外，还可以向含有铝粉的组合物中混合其他材料，例如公知的烧结助剂、表面活性剂等。尤其是在铝箔上易于形成覆膜的这一方面，优选上述组合物中作为必需成分含有铝粉、粘合剂及溶剂。另外，除了铝粉之外也可以将上述的铝合金粉混合至上述组合物中。此外，对含有上述铝粉的组合物的制备可以在第一工序前预先进行，也可以在第一工序内进行。
上述组合物中含有的铝粉与上述铝粉的结构相同。
作为粘结剂，例如，可以适当使用羧基改性聚烯烃树脂、醋酸乙烯酯树脂、氯乙烯树脂、氯乙烯醋酸乙烯酯共聚物树脂、乙烯醇树脂、缩丁醛树脂、聚氟乙烯树脂、丙烯酸树脂、聚酯树脂、聚氨酯树脂、环氧树脂、尿素树脂、酚醛树脂、丙烯腈树脂、纤维素树脂、石蜡、聚乙烯蜡等合成树脂、动物胶、天然漆、松脂、蜂蜡等天然树脂或蜡、焦油等。这些粘结剂中，根据其分子量、材料种类等，有的在加热时挥发，有的通过热解，其残渣与铝粉一起残留，可以根据所希望的特性等分开使用。
溶剂例如可以使用水或乙醇、甲苯、酮类、酯类等有机溶剂。溶剂可以为单独一种，也可以为组合有两种以上的混合溶剂。
含有上述铝粉的组合物被用作用于在铝箔上形成覆膜的涂敷液。该涂敷液可以涂敷在铝箔的单面上，也可以涂敷在两面上。若将涂敷液涂布在铝箔的两面上，则最终得到的铝电解电容器用电极箔会在两面形成烧结体。这样的铝电解电容器用电极箔，能够制造使每块投影面积的静电容量有更高容量的铝电解电容器。
通过将上述涂敷液涂敷在铝箔上，会在铝箔的单面或两面形成含有铝粉的组合物的覆膜。在涂布涂敷液后，可以根据需要进行干燥处理，从而形成覆膜。干燥处理在适当的条件下进行，例如可以在干燥温度为20～300℃的范围内进行。此外，在铝箔上形成覆膜之前，也可以预先将铝箔的表面进行表面粗化。该表面粗化方法并未作特别限定，例如可以使用洗净、蚀刻、喷砂等公知的方法。
只要调整在铝箔上所形成的覆膜的厚度，以使在之后的第二工序中对覆膜进行烧结所得到的烧结体的总厚度为40μm以上且600μm以下即可。若以这样的厚度形成覆膜，则易于抑制化成处理时的铝电解电容器用电极箔的断裂。
在第二工序中，将第一工序中在铝箔上形成的覆膜在560℃以上660℃以下的温度范围内进行烧结。由此，在铝箔上形成烧结体。烧结时间根据烧结温度等而不同，但通常可以在5～24小时左右的范围内适当设定。另外，烧结气氛并未作特别限制，可以为例如真空气氛、惰性气体气氛、氧化性气体气氛(大气)、还原性气氛等中的任一个，但尤其优选为真空气氛或还原性气氛。烧结时的压力可以为常压、减压或加压中的任一条件。
此外，在所述组合物中含有粘合剂等有机成分的情况下，可以在第一工序后且第二工序前预先在100℃以上600℃以下的温度范围内进行5小时以上的加热处理，并进行脱脂等处理。此时的加热处理气氛并未作特别限定。
通过进行上述的第二工序，可以制造在铝箔上形成有烧结体的铝电解电容器用电极箔。
根据上述的制造方法，可以无需实施蚀刻处理，直接用作铝电解电容器用电极(电极箔)。因此，上述的铝电解电容器用电极箔的制造方法，在无需增加蚀刻处理所涉及的设备和工时方面十分有利，而且，还能够降低对环境的负荷。
通过上述方法所制造的铝电解电容器用电极箔，能够根据需要实施阳极氧化处理等化成处理，由此能够形成电介质。即，在制造铝电解电容器用电极箔的时候，除第一工序及第二工序之外，还可以包括上述化成处理的工序来作为第三工序。通过经历该第三工序，可以将铝电解电容器用电极箔用作铝电解电容器用电极。
化成处理的条件并未作特别限定，但通常只要在浓度0.01摩尔以上5摩尔以下、温度30℃以上100℃以下的硼酸溶液中，施加5分钟以上的10mA/cm2以上400mA/cm2以下左右的电流即可。硼酸溶液中可以含有五硼酸铵等。另外，可以在使用上述的硼酸溶液进行处理前根据需要进行电极箔的水合处理，也可以在使用硼酸溶液处理后进行通过草酸二水合物溶液来处理的中间处理。在此之后，可以进一步在450～550℃的温度范围内进行干燥处理。如上所述的化成处理，在生产线下通常在通过一个或多个轧辊输送铝电解电容器用电极箔的同时来进行。
本发明的铝电解电容器用电极箔中，具有作为基材的含有50重量ppm以上且不足20000重量ppm的Mn的铝箔。若具有作为基材的这种铝箔，则烧结体会牢固地粘合并形成在铝箔上。其结果为，即使在如生产线下那样的易于在电极箔上产生应力的条件下进行化成处理，也不易在电极箔上产生裂缝或开裂，从而不易引起断裂。可以推测这是因为，在发生铝箔与铝粉的烧结时，由于铝箔中含有的Mn的作用，而易于促进与铝粉的烧结，其结果是烧结体牢固地粘合在铝箔上。
实施例
下面，通过实施例对本发明进行更具体的说明，但本发明并不限定于这些实施例的方式。
首选，在实施例之前，先对烧结体的原料即铝粉的平均粒径(D50)，与得到的铝电解电容器用电极箔在化成处理时产生断裂的相关性进行试验(参照下述参考例1～9)。
(参考例1)
将60重量份的平均粒径(D50)为1.5μm的铝粉和40重量份的乙基纤维素类粘合剂进行混合，得到混合物后，通过使该混合物在溶剂即甲苯中分散，来制备固体成分浓度为60重量％的涂敷液。在使用逗点式涂布器将这样制备好的涂敷液涂敷在Mn含量为6重量ppm且厚度为30μm的铝箔的单面之后，使其干燥并形成覆膜，接着，同样也在铝箔的另一侧的面将涂敷液涂敷/干燥并形成覆膜。然后，如上所述，将在两面形成有覆膜的铝箔在空气气氛中，以温度300℃进行加热处理2小时后，使其在氩气气氛中以温度635℃烧结7小时。通过该烧结，得到在铝箔的两面形成烧结体的电极箔。使用千分尺测定烧结后的铝粉层(烧结层)的平均厚度，结果发现每一单面都为50μm。
(参考例2～9)
如后述的表1所示，除了改变铝粉的平均粒径(D50)之外，通过与参考例1相同的方法得到参考例2～9的电极箔。烧结后的铝粉层(烧结层)的平均厚度均与参考例1相同。
使用在上述参考例1～9中得到的电极箔，在生产线上通过轧辊使电极箔流动，同时实施化成处理。
并且，对于在该化成处理时电极箔有无断裂，根据下述判定标准进行评价。
○：在化成电压为200V及700V中的任一个条件下，未在电极箔整个宽度上产生断裂，并通过化成处理线。
×：在化成电压为200V及700V中的任一个条件下，在电极箔整个宽度上产生断裂，并无法通过化成处理线。
△：在化成电压为200V时不会断裂并通过化成处理线，在700V时断裂并无法通过化成处理线。
将上述评价的结果示于表1。另外，表2中示出了化成处理的条件。
(表1)
(表2)
从表1的结果可知在铝粉的平均粒径(D50)小的情况下(参考例1～8)，在化成处理时，电极箔产生断裂。从提高电容器的静电容量这一观点考虑，铝粉的平均粒径(D50)越小则越有利，但会如表1的结果那样，具有在化成处理时产生断裂的问题。另一方面，如参考例9那样，在铝粉的平均粒径(D50)大的情况下(20μm)，不会出现化成处理时的断裂，但在这样大的平均粒径(D50)下，无法获得具有高静电容量的电极箔。如上所述，可知在任意参考例中均无法获得在化成处理时不会产生断裂且为高容量的电极箔。
因此，如以下实施例及比较例所示，使用可以获得高容量的电极的、平均粒径(D50)为1.5μm的铝粉及含有特定量的Mn的铝箔来制作电极箔，从而对于化成处理时有无断裂，进行与上述参考例同样的评价。
(实施例1)
将60重量份的平均粒径(D50)为1.5μm的铝粉与40重量份的乙基纤维素类粘合剂进行混合，得到混合物后，通过使该混合物在溶剂即甲苯中分散，来制备固体成分浓度为60重量％的涂敷液。
另一方面，如表3所示，准备Mn含量在50～21000重量ppm的范围内且不同的10种铝箔。任意铝箔的厚度均为30μm。在这10种铝箔中的每一个上，使用逗点式涂布器将如上所述制备好的涂敷液涂敷在铝箔的单面，然后使其干燥并形成覆膜，接着，同样也在铝箔的另一侧的面将涂敷液涂敷/干燥并形成覆膜。然后，如上所述，将在两面形成有覆膜的各个铝箔在空气气氛中以温度300℃进行加热处理2小时后，使其在氩气气氛中以温度635℃烧结7小时。通过该烧结，得到在铝箔的两面形成有烧结体的10种电极箔。使用千分尺测定烧结后的铝粉层(烧结层)的平均厚度，结果发现10种电极箔均为每一单面都为20μm的厚度。
(实施例2)
如表3所示，除了将铝箔的厚度改变为15μm之外，使用与实施例1相同的方法得到10种电极箔。任意电极箔的烧结后的铝粉层(烧结层)的平均厚度均与实施例1相同。
(实施例3、4及6)
除了以使烧结后的铝粉层(烧结层)的平均厚度为如表3所示的厚度的方式形成覆膜之外，使用与实施例1同样的方法得到10种电极箔。
(实施例5)
除了以使铝箔的厚度为80μm，且使烧结后的铝粉层(烧结层)的平均厚度为如表3所示的厚度的方式形成覆膜之外，使用与实施例1同样的方法得到10种电极箔。
(比较例1)
除了使铝箔的Mn含量为10重量ppm及40重量ppm两种之外，通过与实施例1同样的方法得到两种电极箔。
(比较例2)
除了将铝箔的厚度改变为15μm之外，使用与比较例1同样的方法得到共计两种电极箔。
(比较例3、4及6)
除了以使烧结后的铝粉层(烧结层)的平均厚度为如表4所示的厚度的方式形成覆膜之外，使用与比较例1同样的方法得到两种电极箔。
(比较例5)
除了以使铝箔的厚度为80μm，且使烧结后的铝粉层(烧结层)的平均厚度为如表3所示的厚度的方式形成覆膜之外，使用与比较例1同样的方法得到两种电极箔。
(表3)
(表4)
使用在上述实施例及比较例得到的电极箔，通过与在上述参考例得到的电极箔同样的方法进行化成处理，以同样的评价方法及评价标准，对电极箔在化成处理时有无断裂进行评价。将实施例的电极箔的评价结果示于表3，将比较例的电极箔的评价结果示于表4。
由表3可知，由于在作为基材的铝箔中含有50重量ppm以上的Mn，从而至少在200V的化成电压下不会出现电极箔断裂的现象。进而可以确认，若基材即铝箔中的Mn浓度110重量ppm以上，则700V的化成电压下电极箔断裂的可能性会降低。进而，若基材即铝箔中的Mn浓度为150重量ppm以上，则无论在化成电压为200V或700V的哪个条件下，都不会出现电极箔断裂的现象。
由以上的实施例1～6可知，在Mn含量为50重量ppm或110重量ppm条件下，会出现一部分电极箔在高化成电压下断裂，但若Mn含量超过150重量ppm，则即使在高化成电压下，也会抑制电极箔的断裂。而且，在实施例1～6中，由于是使用平均粒径(D50)为1.5μm的铝粉制作而成的电极箔，因此能够获得高静电容量的电极。
另一方面，由表4可知，在比较例1～5中得到的电极箔，Mn含量不足50重量ppm，因此即使化成电压为200V，也可以确认在所有的电极箔上有断裂。
(实验例1)
接着，对于使用与实施例6相同结构的电极箔制作而成的电容器，根据以JIS C 5101-1为依据的方法，对漏电流值(μA/cm2)进行测定，对铝箔中所含有的Mn量与漏电流值的关系进行调查。
表5中示出漏电流的测定结果。
由表5可知，随着Mn浓度增加，漏电流会增大，特别是若Mn浓度超过20000重量ppm，则漏电流会变得非常大。可以说，表现出这样大的漏电流的电极箔并不适用于作为铝电解电容器。可以认为，若Mn过多，则在通过实施化成处理而在电极箔的表面形成的氧化膜上易于产生缺陷，所以漏电流会变得非常大。因此，需要使Mn的含量不超过20000重量ppm。
(表5)
Claims (6)
1.一种铝电解电容器用电极箔，具备铝及铝合金中至少一种粉末的烧结体、以及支承所述烧结体的基材，其特征在于，
所述基材为含有50重量ppm以上且不足20000重量ppm的Mn的铝箔。
2.根据权利要求1所述的铝电解电容器用电极箔，其特征在于，所述基材为含有110重量ppm以上且不足20000重量ppm的Mn的铝箔。
3.根据权利要求1或2所述的铝电解电容器用电极箔，其特征在于，所述粉末的平均粒径(D50)为1.5μm以上且20μm以下。
4.根据权利要求1至3中任意一项所述的铝电解电容器用电极箔，其特征在于，
在所述基材的两面形成有所述烧结体；
所述基材的厚度为15μm以上且80μm以下；
所述烧结体的总厚度为40μm以上且600μm以下。
5.一种铝电解电容器用电极箔的制造方法，其特征在于，包括第一工序和第二工序，并且不包括蚀刻工序，所述第一工序在含有50重量ppm以上且不足20000重量ppm的Mn的铝箔的至少一个表面，形成含有铝及铝合金中至少一种粉末的组合物的覆膜；所述第二工序在560℃以上660℃以下的温度下将所述覆膜烧结。
6.根据权利要求5所述的铝电解电容器用电极箔的制造方法，其特征在于，在所述第一工序中，在所述铝箔的两面分别形成所述覆膜。
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Cited By (7)
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|---|---|---|---|---|
| CN109036852A (zh) * | 2018-08-13 | 2018-12-18 | 浙江华义瑞东新材料有限公司 | 一种新型三维多孔铝电极箔及其制备方法 |
| CN110993348A (zh) * | 2019-12-25 | 2020-04-10 | 西安交通大学 | 一种烧结式铝电解电容器超高压阳极箔及其制备方法 |
| CN112045191A (zh) * | 2020-08-27 | 2020-12-08 | 中南大学 | 一种浆料分散均匀的铝电解电容器阳极箔的烧结方法 |
| CN113557583A (zh) * | 2019-03-01 | 2021-10-26 | 内蒙古乌兰察布东阳光化成箔有限公司 | 一种电极结构体及其制备方法 |
| CN113874971A (zh) * | 2019-05-24 | 2021-12-31 | 日本轻金属株式会社 | 铝化成箔、铝电解电容器用电极和铝化成箔的制造方法 |
| CN114523112A (zh) * | 2021-12-30 | 2022-05-24 | 浙江洪量新材科技有限公司 | 一种多孔电极箔及其制备工艺 |
| CN116453864A (zh) * | 2023-04-06 | 2023-07-18 | 浙江洪量新材科技有限公司 | 一种高折弯强度的电极箔及其制备工艺 |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107610935A (zh) * | 2017-08-30 | 2018-01-19 | 丰宾电子（深圳）有限公司 | 铝电解电容器用电极箔制备方法、电极箔及铝电解电容器 |
| JP6953265B2 (ja) | 2017-10-10 | 2021-10-27 | 東洋アルミニウム株式会社 | アルミニウム電解コンデンサ用電極材及びその製造方法 |
| CN116325049A (zh) * | 2020-09-30 | 2023-06-23 | 松下知识产权经营株式会社 | 成膜装置、电解电容器用电极箔的制造方法以及电解电容器的制造方法 |
| JP2022121214A (ja) * | 2021-02-08 | 2022-08-19 | 東洋アルミニウム株式会社 | アルミニウム電解コンデンサ用電極材及びその製造方法 |
| CN113593911A (zh) * | 2021-09-02 | 2021-11-02 | 西安稀有金属材料研究院有限公司 | 一种高比表面积、高比容的烧结阳极材料的制备方法 |
| CN115172061B (zh) * | 2022-08-02 | 2024-01-30 | 南通海星电子股份有限公司 | 一种高介电复合粉末烧结箔的制备方法 |
| CN115172059A (zh) * | 2022-08-09 | 2022-10-11 | 西安稀有金属材料研究院有限公司 | 一种结合气溶胶喷涂法制备铝电解电容器阳极箔的方法 |
| CN115188596A (zh) * | 2022-08-30 | 2022-10-14 | 西安稀有金属材料研究院有限公司 | 一种基于电沉积制备铝电解电容器阳极箔的方法 |
| CN115331966A (zh) * | 2022-08-30 | 2022-11-11 | 西安稀有金属材料研究院有限公司 | 一种基于光固化制备铝电解电容器阳极箔的方法 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3899723A (en) * | 1971-01-21 | 1975-08-12 | Alusuisse | Cathode foil for electrolytic condensers |
| JP2009057579A (ja) * | 2007-08-08 | 2009-03-19 | Toyo Aluminium Kk | アルミニウム合金ならびにそれを用いた包装材および電気電子構造部材 |
| JP2009081110A (ja) * | 2007-09-27 | 2009-04-16 | Toyo Aluminium Kk | 集電体用アルミニウム合金箔 |
| JP2009098279A (ja) * | 2007-10-15 | 2009-05-07 | Fuji Xerox Co Ltd | 消耗品管理装置、プログラム及び消耗量推定方法 |
| US20120231262A1 (en) * | 2009-12-08 | 2012-09-13 | Toyo Aluminium Kabushiki Kaisha | Electrode material for aluminum electrolytic capacitor and production method therefor |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5160839B2 (ja) * | 2006-08-29 | 2013-03-13 | 東洋アルミニウム株式会社 | 集電体用アルミニウム合金箔 |
| JP4874039B2 (ja) * | 2006-09-20 | 2012-02-08 | 日本軽金属株式会社 | 電解コンデンサ陰極用アルミニウム合金箔及びそれに用いる合金箔地 |
| JP4958510B2 (ja) * | 2006-10-10 | 2012-06-20 | 東洋アルミニウム株式会社 | アルミニウム電解コンデンサ用電極材及びその製造方法 |
| WO2009130765A1 (ja) * | 2008-04-22 | 2009-10-29 | 東洋アルミニウム株式会社 | アルミニウム電解コンデンサ用電極材及びその製造方法 |
| JP5570263B2 (ja) * | 2010-03-24 | 2014-08-13 | 日立エーアイシー株式会社 | 電解コンデンサ用陽極 |
-
2013
- 2013-12-27 JP JP2013273418A patent/JP6355920B2/ja active Active
-
2014
- 2014-12-17 EP EP14873930.3A patent/EP3089181B1/en active Active
- 2014-12-17 US US15/106,877 patent/US20170040115A1/en not_active Abandoned
- 2014-12-17 CN CN201480070731.1A patent/CN105874549A/zh active Pending
- 2014-12-17 WO PCT/JP2014/083381 patent/WO2015098644A1/ja active Application Filing
- 2014-12-23 TW TW103144960A patent/TWI651742B/zh active
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3899723A (en) * | 1971-01-21 | 1975-08-12 | Alusuisse | Cathode foil for electrolytic condensers |
| JP2009057579A (ja) * | 2007-08-08 | 2009-03-19 | Toyo Aluminium Kk | アルミニウム合金ならびにそれを用いた包装材および電気電子構造部材 |
| JP2009081110A (ja) * | 2007-09-27 | 2009-04-16 | Toyo Aluminium Kk | 集電体用アルミニウム合金箔 |
| JP2009098279A (ja) * | 2007-10-15 | 2009-05-07 | Fuji Xerox Co Ltd | 消耗品管理装置、プログラム及び消耗量推定方法 |
| US20120231262A1 (en) * | 2009-12-08 | 2012-09-13 | Toyo Aluminium Kabushiki Kaisha | Electrode material for aluminum electrolytic capacitor and production method therefor |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109036852A (zh) * | 2018-08-13 | 2018-12-18 | 浙江华义瑞东新材料有限公司 | 一种新型三维多孔铝电极箔及其制备方法 |
| CN109036852B (zh) * | 2018-08-13 | 2020-09-18 | 浙江华义瑞东新材料有限公司 | 一种三维多孔铝电极箔及其制备方法 |
| CN113557583A (zh) * | 2019-03-01 | 2021-10-26 | 内蒙古乌兰察布东阳光化成箔有限公司 | 一种电极结构体及其制备方法 |
| CN113557583B (zh) * | 2019-03-01 | 2023-07-18 | 内蒙古乌兰察布东阳光化成箔有限公司 | 一种电极结构体及其制备方法 |
| CN113874971A (zh) * | 2019-05-24 | 2021-12-31 | 日本轻金属株式会社 | 铝化成箔、铝电解电容器用电极和铝化成箔的制造方法 |
| CN113874971B (zh) * | 2019-05-24 | 2024-02-20 | 日本轻金属株式会社 | 铝化成箔、铝电解电容器用电极和铝化成箔的制造方法 |
| CN110993348A (zh) * | 2019-12-25 | 2020-04-10 | 西安交通大学 | 一种烧结式铝电解电容器超高压阳极箔及其制备方法 |
| CN112045191A (zh) * | 2020-08-27 | 2020-12-08 | 中南大学 | 一种浆料分散均匀的铝电解电容器阳极箔的烧结方法 |
| CN114523112A (zh) * | 2021-12-30 | 2022-05-24 | 浙江洪量新材科技有限公司 | 一种多孔电极箔及其制备工艺 |
| CN114523112B (zh) * | 2021-12-30 | 2024-03-22 | 浙江洪量新材科技有限公司 | 一种多孔电极箔及其制备工艺 |
| CN116453864A (zh) * | 2023-04-06 | 2023-07-18 | 浙江洪量新材科技有限公司 | 一种高折弯强度的电极箔及其制备工艺 |
| CN116453864B (zh) * | 2023-04-06 | 2024-05-07 | 浙江洪量新材科技有限公司 | 一种高折弯强度的电极箔及其制备工艺 |
Also Published As
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