CN105865495A - 位置检知装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种位置检知装置，通过设置纵向磁头、及横向磁头，增强磁头与信号线感应端之间的磁感应，使磁头反复翘起及落下后与信号线感应端的相对位置产生偏移时，信号线感应端能够正常对磁头进行感测；通过设置一端能转动连接于杠杆靠近磁头一端的联动杆、及能转动连接于联动杆另一端的磁屏蔽板，当磁头翘起时杠杆带动联动杆使磁屏蔽板盖于信号线感应端之上对感测进行屏蔽，能够防止因磁头磁力过大导致的始终存在感应信号的感应不良；通过设置清洁单元对磁头及信号线感应端进行清洁，防止磁头及信号线感应端产生结晶而产生感应不良，从而减少感应不良几率，进而减少位置检知装置的当机次数，提升产品良率及产能，降低生产成本。

Description

位置检知装置
技术领域
本发明涉及显示面板生产制造技术领域，尤其涉及一种位置检知装置。
背景技术
液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用，如：移动电话、个人数字助理(PDA)、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等。
薄膜晶体管液晶显示器一般包括壳体、设于壳体内的液晶面板及设于壳体内的背光模组(Backlight module)。其中，液晶面板的结构是由一薄膜晶体管阵列基板(Thin Film Transistor Array Substrate，TFT Array Substrate)、一彩色滤光片基板(Color Filter，CF)、以及一配置于两基板间的液晶层(Liquid Crystal Layer)所构成，其工作原理是通过在两片玻璃基板上施加驱动电压来控制液晶层的液晶分子的旋转，将背光模组的光线折射出来产生画面。
上述TFT-LCD的制程过程一般包括：前段阵列(Array)制程，主要是制造TFT基板及CF基板；中段成盒(Cell)制程，主要是将TFT基板与CF基板贴合，在二者之间添加液晶，形成液晶面板；及后段模组组装制程，主要是将液晶面板与背光模组、PCB等其它零部件进行组装。
前段阵列制程又包括：玻璃基板的清洗与干燥、镀膜、涂光刻胶、曝光、显影、蚀刻、去除光刻胶等制程。蚀刻制程分为干法蚀刻与湿法蚀刻。湿法蚀刻是使用液体化学试剂，即蚀刻药液以化学腐蚀的方式去除无光刻胶覆盖的薄膜，以在玻璃基板上形成所需的电路图案。
现有技术中，一般会在清洗机及蚀刻设备中设置位置检知装置，以感测该位置检知装置所在的位置是否有玻璃基板进入。请参阅图1，为一种现有的位置检知装置的结构示意图，包括：基座1’、位于基座1’上的安装部3’、能转动安装于安装部3’上的杠杆2’、安装于杠杆2’一端的磁头4’、设于杠杆2’另一端的滚轮5’、及安装于基座1’上的信号线感应端6’。由于所述磁头4’的重量大于滚轮5’，当该位置检知装置所在的位置无玻璃基板经过时，磁头4’与信号线感应端6’保持接触状态，信号线感应端6’将感应信号传输至显示机台，显示为off状态，代表玻璃基板不在此位置；当玻璃基板到达位置检知装置所在位置时，滚轮5’被下压，磁头4’翘起与信号线感应端6’分离，感应信号消失，显示机台显示为on状态，代表玻璃基板位置在此。
这种位置检知装置存在几个缺陷：第一，信号线感应端6’因不能与酸、及有机物等接触，需在外表面包裹保护塑料，使得磁头4’与信号线感应端6’不能直接接触，容易造成感应不良；第二，不能使用强磁力的磁头，因为强磁力的磁头会导致玻璃基板下压滚轮5’时，磁头4’与信号线感应端6’分离却仍保持感应状态，造成感应不良；第三，因磁头4’反复翘起落下，磁头4’与信号线感应端6’的相对位置易发生改变，导致磁头4’虽然落下，信号线感应端6’却感应不到信号的情况，造成感应不良；第四，当该位置检知装置用于氧化铟锡(ITO)蚀刻机台时，由于该机台易结晶，当机台处于闲置状态时，位置检知装置的磁头4’与信号线感应端6’会析出晶体，造成感应不良。上述几种感应不良的状况均会造成当机，致使产品报废，同时，每次当机均需要重新调节位置检知装置的磁头4’和信号线感应端6’的相对位置，耗费大量时间，从而影响产能。
发明内容
本发明的目的在于提供一种位置检知装置，能够减少位置检知装置的感应不良几率，进而减少位置检知装置的当机次数，提升产品良率及产能，降低生产成本。
为实现上述目的，本发明提供一种位置检知装置，包括：基座、位于基座上的安装部、能转动安装于安装部上的杠杆、安装于杠杆一端的磁头、一端能转动连接于杠杆靠近磁头一端的联动杆、能转动连接于联动杆另一端的磁屏蔽板、及安装于基座上的信号线感应端；在没有外力施加于杠杆时，杠杆一端因重力朝下，磁头与信号线感应端产生磁感应；当杠杆另一端受外力作用，杠杆一端转动，磁头朝远离信号线感应端方向运动，所述联动杆带动磁屏蔽板盖于信号线感应端上，所述磁头与信号线感应端未产生感应，通过磁头与信号线感应端的感应与否来实现两个不同位置状态指示。
所述基座设有收容槽，所述信号线感应端容纳于收容槽内，当杠杆另一端受外力作用，杠杆一端转动，所述联动杆带动磁屏蔽板盖于基座对应信号线感应端的收容槽上。
所述杠杆另一端设有滚轮，以在杠杆另一端受外力作用时外力施加于滚轮上。
所述磁头的数量为两个，分别定义为纵向磁头与横向磁头。
所述纵向磁头设于所述杠杆一端的一侧面上；所述横向磁头邻近纵向磁头设置，以在没有外力施加于杠杆，杠杆一端因重力朝下时，增强磁头与信号线感应端产生磁感应。
所述磁屏蔽板包括一屏蔽板部、连接于屏蔽板部的连接部、及设于连接部上的转轴，所述联动杆另一端设有一轴孔，其能转动容纳该转轴；所述杠杆一端设有枢轴，所述联动杆一端设有一枢孔，其能转动容纳该枢轴。
在没有外力施加于杠杆时，杠杆一端因重力朝下，磁头与信号线感应端接触产生磁感应。
所述位置检知装置还包括设于所述基座上与信号线感应端及磁头对应的清洁单元，以用于对信号线感应端及磁头进行清洁。
所述清洁单元为CDA吹扫气管。
所述位置检知装置用于湿法蚀刻设备。
本发明的有益效果：本发明提供的一种位置检知装置，通过设置纵向磁头、及横向磁头，增强磁头与信号线感应端之间的磁感应，使磁头反复翘起及落下后与信号线感应端的相对位置产生偏移时，信号线感应端能够正常对磁头进行感测；通过设置一端能转动连接于杠杆靠近磁头一端的联动杆、及能转动连接于联动杆另一端的磁屏蔽板，当磁头翘起时杠杆带动联动杆使磁屏蔽板盖于信号线感应端之上对感测进行屏蔽，当磁头落下时杠杆带动联动杆使磁屏蔽板从信号线感应端上移开，能够防止因磁头磁力过大导致的始终存在感应信号的感应不良；通过设置清洁单元对磁头及信号线感应端进行清洁，防止磁头及信号线感应端产生结晶而产生感应不良，从而减少感应不良几率，进而减少位置检知装置的当机次数，提升产品良率及产能，降低生产成本。
附图说明
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
附图中，
图1为一种现有的位置检知装置的结构示意图；
图2为本发明的位置检知装置无外力作用时的结构示意图；
图3为本发明的位置检知装置有外力作用时的结构示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请参阅图2及图3，本发明提供一种位置检知装置，可用于湿法蚀刻设备中的基板位置检知，包括：基座1、位于基座1上的安装部3、能转动安装于安装部3上的杠杆2、安装于杠杆2一端的磁头4、一端能转动连接于杠杆2靠近磁头4一端的联动杆5、能转动连接于联动杆5另一端的磁屏蔽板7、及安装于基座1上的信号线感应端6。
具体地，请参阅图2，在没有外力施加于杠杆2时，杠杆2一端因重力朝下，磁头4与信号线感应端6产生磁感应，信号线感应端6将感应信号传输至位置检知装置外部的显示机台，显示为off状态，代表基板不在此位置；请参阅图3，当杠杆2另一端受外力作用，杠杆2一端转动，磁头4朝远离信号线感应端6方向运动，所述联动杆5带动磁屏蔽板7盖于信号线感应端6上，所述磁头4与信号线感应端6未产生感应，外部的显示机台显示为on状态，代表基板在此位置，进而通过磁头4与信号线感应端6的感应与否来实现两个不同位置状态指示。
具体地，在本实施例中，在没有外力施加于杠杆2时，杠杆2一端因重力朝下，磁头4与信号线感应端6接触产生磁感应。
需要说明的是，请参阅图3，当杠杆2另一端受外力作用时，磁屏蔽板7盖于信号线感应端6上，能够有效地对信号线感应端6与磁头4之间的磁感应进行屏蔽，可防止因磁头4的磁力过强而产生的即使杠杆2受到外力，即有基板位于该位置检知装置所在位置时，信号线感应端6仍能感测到感应信号的情况发生，从而减少感应不良的几率，提升产品良率。
具体地，所述基座1设有收容槽12，所述信号线感应端6容纳于收容槽12内，当杠杆2另一端受外力作用，杠杆2一端转动，所述联动杆5带动磁屏蔽板7盖于基座1对应信号线感应端6的收容槽12上。
具体地，所述杠杆2另一端设有滚轮8，以在杠杆2另一端受外力作用时外力施加于滚轮8上。
具体地，所述磁头4的数量为一个或多个。优选地，在本实施例中，所述磁头4的数量为两个，分别定义为纵向磁头42与横向磁头44。
具体地，所述纵向磁头42设于所述杠杆2一端的一侧面上；所述横向磁头44邻近纵向磁头42设置，以在没有外力施加于杠杆2，杠杆2一端因重力朝下时，增强磁头4与信号线感应端6产生磁感应。
需要说明的是，由于本发明的位置检知装置的磁头4包括纵向磁头42、及横向磁头44，相较于传统技术中只设置一个纵向磁头的位置检知装置，能够增强信号线感应端6与磁头4之间的磁感应，当磁头4反复翘起落下后，即使磁头4与信号线感应端6之间的相对位置产生偏移，信号线感应端6也能够在磁头4落下后对其进行感应，从而减少感应不良的几率，提升产品良率，同时可降低对位置检知装置的调试次数，提升产能。
具体地，所述磁屏蔽板7包括一屏蔽板部72、连接于屏蔽板部72的连接部74、及设于连接部74上的转轴76，所述联动杆5另一端设有一轴孔52，其能转动容纳该转轴76；所述杠杆2一端设有枢轴22，所述联动杆5一端设有一枢孔54，其能转动容纳该枢轴22。当所述杠杆2另一端受力，使杠杆2的一端翘起时，杠杆2带动联动杆5将磁屏蔽板7平移覆盖在信号线感应端6上；当所述杠杆2一端受重力落下时，杠杆2带动联动杆5将磁屏蔽板7从信号线感应端6上方移开。
具体地，所述位置检知装置还包括设于所述基座1上与信号线感应端6及磁头4对应的清洁单元9，以用于对信号线感应端6及磁头4进行清洁。
优选地，所述清洁单元9为CDA吹扫气管。
需要说明的是，由于设有能够对信号线感应端6及磁头4进行清洁的清洁单元9，可防止所述位置检知装置应用于氧化铟锡蚀刻机台时，磁头4与信号线感应端6的表面产生结晶，降低产生不良的几率。清洁单元9进行清洁的时间可根据机台工作状态设置而定。进一步地，当清洁单元9对信号线感应端6及磁头4进行清洁时，可对位置检知装置进行设置使其不进行感测，避免因清洁造成感测异常误报警。
综上所述，本发明的位置检知装置，通过设置纵向磁头、及横向磁头，增强磁头与信号线感应端之间的磁感应，使磁头反复翘起及落下后与信号线感应端的相对位置产生偏移时，信号线感应端能够正常对磁头进行感测；通过设置一端能转动连接于杠杆靠近磁头一端的联动杆、及能转动连接于联动杆另一端的磁屏蔽板，当磁头翘起时杠杆带动联动杆使磁屏蔽板盖于信号线感应端之上对感测进行屏蔽，当磁头落下时杠杆带动联动杆使磁屏蔽板从信号线感应端上移开，能够防止因磁头磁力过大导致的始终存在感应信号的感应不良；通过设置清洁单元对磁头及信号线感应端进行清洁，防止磁头及信号线感应端产生结晶而产生感应不良，从而减少感应不良几率，进而减少位置检知装置的当机次数，提升产品良率及产能，降低生产成本。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明后附的权利要求的保护范围。

Claims (10)

1.一种位置检知装置，其特征在于，包括：基座(1)、位于基座(1)上的安装部(3)、能转动安装于安装部(3)上的杠杆(2)、安装于杠杆(2)一端的磁头(4)、一端能转动连接于杠杆(2)靠近磁头(4)一端的联动杆(5)、能转动连接于联动杆(5)另一端的磁屏蔽板(7)、及安装于基座(1)上的信号线感应端(6)；在没有外力施加于杠杆(2)时，杠杆(2)一端因重力朝下，磁头(4)与信号线感应端(6)产生磁感应；当杠杆(2)另一端受外力作用，杠杆(2)一端转动，磁头(4)朝远离信号线感应端(6)方向运动，所述联动杆(5)带动磁屏蔽板(7)盖于信号线感应端(6)上，所述磁头(4)与信号线感应端(6)未产生感应，通过磁头(4)与信号线感应端(6)的感应与否来实现两个不同位置状态指示。
2.如权利要求1所述的位置检知装置，其特征在于，所述基座(1)设有收容槽(12)，所述信号线感应端(6)容纳于收容槽(12)内，当杠杆(2)另一端受外力作用，杠杆(2)一端转动，所述联动杆(5)带动磁屏蔽板(7)盖于基座(1)对应信号线感应端(6)的收容槽(12)上。
3.如权利要求1所述的位置检知装置，其特征在于，所述杠杆(2)另一端设有滚轮(8)，以在杠杆(2)另一端受外力作用时外力施加于滚轮(8)上。
4.如权利要求1所述的位置检知装置，其特征在于，所述磁头(4)的数量为两个，分别定义为纵向磁头(42)与横向磁头(44)。
5.如权利要求4所述的位置检知装置，其特征在于，所述纵向磁头(42)设于所述杠杆(2)一端的一侧面上；所述横向磁头(44)邻近纵向磁头(42)设置，以在没有外力施加于杠杆(2)，杠杆(2)一端因重力朝下时，增强磁头(4)与信号线感应端(6)产生磁感应。
6.如权利要求1所述的位置检知装置，其特征在于，所述磁屏蔽板(7)包括一屏蔽板部(72)、连接于屏蔽板部(72)的连接部(74)、及设于连接部(74)上的转轴(76)，所述联动杆(5)另一端设有一轴孔(52)，其能转动容纳该转轴(76)；所述杠杆(2)一端设有枢轴(22)，所述联动杆(5)一端设有一枢孔(54)，其能转动容纳该枢轴(22)。
7.如权利要求1所述的位置检知装置，其特征在于，在没有外力施加于杠杆(2)时，杠杆(2)一端因重力朝下，磁头(4)与信号线感应端(6)接触产生磁感应。
8.如权利要求1所述的位置检知装置，其特征在于，还包括设于所述基座(1)上与信号线感应端(6)及磁头(4)对应的清洁单元(9)，以用于对信号线感应端(6)及磁头(4)进行清洁。
9.如权利要求8所述的位置检知装置，其特征在于，所述清洁单元(9)为CDA吹扫气管。
10.如权利要求1所述的位置检知装置，其特征在于，用于湿法蚀刻设备。
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