CN205289077U - 玻璃基板摆动检测装置和玻璃基板清洗系统 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种玻璃基板摆动检测装置和玻璃基板清洗系统,该玻璃基板摆动检测装置包括用于固定到清洗箱体下方的支架,可转动地安装在所述支架上的摆杆,固定到所述摆杆上端的滚轮,固定到所述摆杆下端的磁铁,以及固定到所述支架上的磁性传感器,该磁性传感器位于所述磁铁的下方,以检测所述摆杆的位置,所述摆杆的位置包括所述滚轮未接触玻璃基板的原始位置和所述滚轮接触所述玻璃基板的摆动位置。因此,通过磁性传感器和磁铁之间电磁感应,能够在存有水雾和水珠的传输环境下,将玻璃基板的位置和移动信号准确地传递给控制器,有效规避了玻璃基板的叠片和碎片现象,降低了设备停机时间,提高了玻璃基板的良品率和生产效率。
Description
技术领域
本实用新型涉及玻璃基板生产设备领域,具体地,涉及一种玻璃基板摆动检测装置和包括该玻璃基板摆动检测装置的玻璃基板清洗系统。
背景技术
玻璃基板在进入清洗机设备各单元后,由于各单元的上下喷淋水,会使密封的箱体内充满水雾和水珠。使用光纤传感器或者接近开关,很容易受到水雾和水珠的影响,造成传感器错误的判断,从而使玻璃基板出现叠片、碎片造成设备停机;使用行程开关很容易造成玻璃的划伤、破碎等缺陷。当玻璃基板出现划伤、碎片时,成品玻璃将会判为废品,降低了产品的良品率,提高了生产成本。
实用新型内容
本实用新型的一个目的是提供一种玻璃基板摆动检测装置,该玻璃基板摆动检测装置能够在存有水雾和水珠的清洗箱体内部准确判断玻璃基板是否出现叠片和碎片现象。
本实用新型的另一个目的是提供一种玻璃基板清洗系统,该玻璃基板清洗系统能够提高玻璃基板的良品率。
根据本实用新型的一个方面,提供一种玻璃基板摆动检测装置,该玻璃基板摆动检测装置包括用于固定到清洗箱体下方的支架,可转动地安装在所述支架上的摆杆,固定到所述摆杆上端的滚轮,固定到所述摆杆下端的磁铁,以及固定到所述支架上的磁性传感器,该磁性传感器位于所述磁铁的下方,以检测所述摆杆的位置,所述摆杆的位置包括所述滚轮未接触玻璃基板的原始位置和所述滚轮接触所述玻璃基板的摆动位置。
优选地,所述支架包括第一支架和可沿高度方向可调地固定到该第一支架上的第二支架。
优选地,所述第一支架和第二支架上的一者形成有沿高度方向延伸的长圆孔,另一者上形成有通孔,紧固件穿过所述长圆孔和所述通孔以紧固所述第一支架和第二支架。
优选地,所述第一支架上具有间隔设置的第一立板和第二立板,所述摆杆的下部位于所述第一立板和第二立板之间,且通过转轴可转动地安装到所述第一立板和第二立板上。
优选地,所述第一立板和第二立板上设置有限位挡板以防止所述摆杆向相反方向摆动。
优选地,所述第一支架上形成有安装孔,所述磁性传感器放置于所述安装孔中,并与所述摆杆的下端对应。
优选地,所述滚轮为陶瓷轴承。
根据本实用新型的另一方面,提供一种玻璃基板清洗系统,包括间隔设置的多个玻璃基板传送辊,罩在该多个玻璃基板传送辊上方的清洗箱体,以及控制器,其中,所述玻璃基板清洗系统为本实用新型提供的玻璃基板摆动检测装置。
通过上述技术方案,当玻璃基板流经摆动检测装置时,滚轮会在移动的玻璃基板的带动下促使摆杆摆动至摆动位置,固定在摆杆下端的磁铁脱离磁性传感器的感应范围,此时磁性传感器将不会给控制器传递光电信号。当玻璃基板流过摆动检测装置后,滚轮会自动归位至原点位置,固定在摆杆下端的磁铁重新落回到磁性传感器的感应范围,此时磁性传感器将会给控制器传递光电信号。因此,通过磁性传感器和磁铁之间电磁感应,能够在存有水雾和水珠的传输环境下,如在清洗箱体内部,将玻璃基板的位置和移动信号准确地传递给控制器,有效规避了玻璃基板的叠片和碎片现象,降低了设备停机时间,提高了玻璃基板的良品率和生产效率。
本实用新型的其他特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。
附图说明
附图是用来提供对本实用新型的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与下面的具体实施方式一起用于解释本实用新型,但并不构成对本实用新型的限制。在附图中:
图1是本实用新型优选实施方式提供的玻璃基板摆动检测装置的主视图,其中水平箭头方向代表玻璃基板的输送方向;
图2是本实用新型优选实施方式提供的玻璃基板摆动检测装置的侧视图
附图标记说明
10支架11第一支架110通孔
12第二支架120长圆孔13紧固件
14第一立板15第二立板16转轴
17限位挡板20摆杆30滚轮
40磁铁50磁性传感器
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是,此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本实用新型,并不用于限制本实用新型。
在本实用新型中,在未作相反说明的情况下,使用的方位词如“上、下、左、右”通常是指相对于附图的图面方向而言的,“内、外”是指相应部件轮廓的内和外。
如图1和图2所示,本实用新型提供一种玻璃基板摆动检测装置,其中,包括用于固定到清洗箱体下方的支架10,可转动地安装在支架10上的摆杆20,固定到摆杆20上端的滚轮30,固定到摆杆20下端的磁铁40,以及固定到支架10上的磁性传感器50,该磁性传感器50位于磁铁40的下方,以检测摆杆20的位置,摆杆20的位置包括滚轮30未接触玻璃基板的原始位置和滚轮30接触玻璃基板的摆动位置。
因此,当玻璃基板流经摆动检测装置时,滚轮30会在移动的玻璃基板的带动下促使摆杆20摆动至摆动位置,固定在摆杆20下端的磁铁40脱离磁性传感器50的感应范围,此时磁性传感器50将不会给控制器传递光电信号。当玻璃基板流过摆动检测装置后,滚轮30会自动归位至原点位置,固定在摆杆20下端的磁铁40重新落回到磁性传感器50的感应范围,此时磁性传感器50将会给控制器传递光电信号。因此,通过磁性传感器50和磁铁40之间电磁感应,能够在存有水雾和水珠的传输环境下,如在清洗箱体内部,将玻璃基板的位置和移动信号准确地传递给控制器,有效规避了玻璃基板的叠片和碎片现象,降低了设备停机时间,提高了玻璃基板的良品率和生产效率。
为便于调节滚轮30的高度,以保护玻璃基板,支架10包括第一支架11和可沿高度方向可调地固定到该第一支架11上的第二支架12。
本文中的“沿高度方向可调地固定”指的是相应的两个部件具有两种状态,即相对调节状态和相对固定状态。例如,在相对调节状态中,第二支架12可以相对于第一支架11沿高度方向调节,在相对固定状态中,第二支架12相对于第一支架11的位置固定。
因此,可以调节第二支架12相对于第一支架11的高度方向的距离,直至滚轮30能与玻璃基板接触并能带动摆杆20摆动摆动,且同时不对玻璃基板造成划伤。
具体地,第一支架11和第二支架12上的一者形成有沿高度方向延伸的长圆孔120,另一者上形成有通孔110,紧固件13穿过长圆孔120和通孔110以紧固第一支架11和第二支架12。
即具有两种情况:第一种情况,如图1和图2所示,第一支架11上形成有长圆孔120,第二支架12上形成有通孔110;第二种情况未示出,第一支架11上形成有通孔110,第二支架12上形成有长圆孔120。
另外,还有一种变形方式,第一支架11和第二支架12上均形成有沿高度方向延伸的长圆孔120,紧固件13穿过两个长圆孔120以进第一支架11和第二支架12。
如图2所示,具体地,第一支架11上具有间隔设置的第一立板14和第二立板15,摆杆20的下部位于第一立板14和第二立板15之间,且通过转轴16可转动地安装到第一立板14和第二立板15上。换言之,第一支架11的上部形成为U形结构,摆杆20的下部容纳在第一立板14和第二立板15所形成的夹槽中。
为保证摆杆20的摆动方向始终和玻璃基板的移动方向相对应,第一立板14和第二立板15上设置有限位挡板17以防止摆杆20向相反方向摆动。具体地,在图1中,玻璃基板的传输方向从右至左,当玻璃基板移动时,可以带动摆杆20的位于转轴16的下部朝向右侧转动,此时,磁铁40脱离磁性传感器50的感应范围,磁性传感器50将不会给控制器传递光电信号。同样地,当其他外力带动摆杆20的位于转轴16的下部朝向左侧转动时,磁性传感器50也将不会给控制器传递光电信号。为了防止其他外界因素对玻璃基板的位置信号的反馈造成干扰,第一立板14和第二立板15的位于转轴16的下方部分的左侧固定有限位挡板17,从而可以规避上述非由玻璃基板移动造成的摆杆20摆动的情形。
为方便安装磁性传感器50,第一支架11上形成有安装孔,磁性传感器50放置于安装孔中,并与摆杆20的下端对应。为便于磁性传感器50感应到磁铁所形成的磁场。安装孔优选为和上述的第一立板14和第二立板15所形成的夹槽相贯通。另外,为防止清洗液对磁性传感器50的性能造成不利影响,优选地,安装孔的两端设置有密封胶带,以进行密封处理。
为保证玻璃基板的洁净度,同时防止滚轮30对玻璃基板造成划伤,滚轮30为陶瓷轴承。
本实用新型还提供一种玻璃基板清洗系统,该玻璃基板清洗系统包括间隔设置的多个玻璃基板传送辊,罩在该多个玻璃基板传送辊上方的清洗箱体,以及控制器,其中,玻璃基板清洗系统还包括上文的玻璃基板摆动检测装置。
这样,通过将玻璃基板摆动检测装置安装在多个玻璃基板传送辊中的任意两个相邻的传送辊之间,且保证滚轮30稍微凸出于传送辊的上表面。这样,当一个玻璃基板流经摆动检测装置的滚轮30时,控制器不会收到磁性传感器50传递的光电信号,在下一个玻璃基板流经摆动检测装置的滚轮30之前,控制器会收到磁性传感器50传递的光电信号。因此,当控制器接收的光电信号的时间间隔与其预先设置的程序时间相一致,表明玻璃基板正常运行,当控制器接收的光电信号的时间间隔与其预先设置的程序时间不相同时,表明玻璃基板的输送出现异常,可能会出现叠片或碎片的现象,此时,可以通过控制器控制传送辊停止运行,并同时控制报警器报警,以提醒工作人员,核查并修复清洗箱体的异常情况。
以上结合附图详细描述了本实用新型的优选实施方式,但是,本实用新型并不限于上述实施方式中的具体细节,在本实用新型的技术构思范围内,可以对本实用新型的技术方案进行多种简单变型,这些简单变型均属于本实用新型的保护范围。
另外需要说明的是,在上述具体实施方式中所描述的各个具体技术特征,在不矛盾的情况下,可以通过任何合适的方式进行组合,为了避免不必要的重复,本实用新型对各种可能的组合方式不再另行说明。
此外,本实用新型的各种不同的实施方式之间也可以进行任意组合,只要其不违背本实用新型的思想,其同样应当视为本实用新型所公开的内容。
Claims (8)
1.一种玻璃基板摆动检测装置,其特征在于,包括用于固定到清洗箱体下方的支架(10),可转动地安装在所述支架(10)上的摆杆(20),固定到所述摆杆(20)上端的滚轮(30),固定到所述摆杆(20)下端的磁铁(40),以及固定到所述支架(10)上的磁性传感器(50),该磁性传感器(50)位于所述磁铁(40)的下方,以检测所述摆杆(20)的位置,所述摆杆(20)的位置包括所述滚轮(30)未接触玻璃基板的原始位置和所述滚轮(30)接触所述玻璃基板的摆动位置。
2.根据权利要求1所述的玻璃基板摆动检测装置,其特征在于,所述支架(10)包括第一支架(11)和可沿高度方向可调地固定到该第一支架(11)上的第二支架(12)。
3.根据权利要求2所述的玻璃基板摆动检测装置,其特征在于,所述第一支架(11)和第二支架(12)上的一者形成有沿高度方向延伸的长圆孔(120),另一者上形成有通孔(110),紧固件(13)穿过所述长圆孔(120)和所述通孔(110)以紧固所述第一支架(11)和第二支架(12)。
4.根据权利要求2所述的玻璃基板摆动检测装置,其特征在于,所述第一支架(11)上具有间隔设置的第一立板(14)和第二立板(15),所述摆杆(20)的下部位于所述第一立板(14)和第二立板(15)之间,且通过转轴(16)可转动地安装到所述第一立板(14)和第二立板(15)上。
5.根据权利要求4所述的玻璃基板摆动检测装置,其特征在于,所述第一立板(14)和第二立板(15)上设置有限位挡板(17)以防止所述摆杆(20)向相反方向摆动。
6.根据权利要求4所述的玻璃基板摆动检测装置,其特征在于,所述第一支架(11)上形成有安装孔,所述磁性传感器(50)放置于所述安装孔中,并与所述摆杆(20)的下端对应。
7.根据权利要求1所述的玻璃基板摆动检测装置,其特征在于,所述滚轮(30)为陶瓷轴承。
8.一种玻璃基板清洗系统,包括间隔设置的多个玻璃基板传送辊,罩在该多个玻璃基板传送辊上方的清洗箱体,以及控制器,其特征在于,所述玻璃基板清洗系统还包括权利要求1至7中任一项所述的玻璃基板摆动检测装置。
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